專利名稱：光刻設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種光刻設(shè)備。
背景技術(shù)：
半導(dǎo)體制作是指通過光刻，刻蝕，離子注入，封裝等工藝在半導(dǎo)體晶片上制作出集成電路的工藝。而光刻工藝處于半導(dǎo)體晶片加工過程的中心，通常被認(rèn)為是IC制造中最關(guān)鍵的步驟，需要高性能以便結(jié)合其他工藝獲得高成品率，光刻成本在整個晶片加工成本中幾乎占到三分之一。光刻工藝是指通過光掩膜將掩膜圖形轉(zhuǎn)移到晶片上的工藝。光掩膜的形成工藝?yán)鐬橥ㄟ^噴嘴(Nozzle)將光刻膠旋涂在光掩膜支撐板上，通過烘烤(baker)等工藝最終形成光掩膜層(mask)，然后對光掩膜進行曝光，顯影等工藝形成掩膜圖案。形成光掩膜層的工藝通常在反應(yīng)腔(chamber)內(nèi)完成。在噴涂光刻膠的過程中，可能會有部分光刻膠黏附在反應(yīng)腔的內(nèi)壁并殘留在反應(yīng)腔內(nèi)壁，在執(zhí)行下一次光掩膜層的涂布工藝時，由于反應(yīng)腔內(nèi)壁光刻膠殘留的存在，會在形成的光掩膜層上形成污染物粒子，所述的污染物粒子會影響光掩膜的性能，在隨后通過曝光顯影形成光掩膜圖案的過程中，具有污染物粒子的部位會產(chǎn)生光刻膠圖形的缺陷，參考附圖1所示，被圓圈圈出的部分即為光掩膜圖案上不應(yīng)該存在的不透明缺陷。對于現(xiàn)有的光掩膜層制作設(shè)備來說，由于反應(yīng)腔內(nèi)沒有對反應(yīng)腔壁的清洗設(shè)備， 如果反應(yīng)腔的內(nèi)壁產(chǎn)生了污染物粒子，就需要進行人工清洗，這不僅浪費了人力，而且，由于采用的清洗劑的原因，會對清洗設(shè)備的工程師的身體造成一定的傷害。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的問題是提供一種用于形成光掩膜層的光刻設(shè)備，避免現(xiàn)有的光刻設(shè)備無法清洗反應(yīng)腔內(nèi)壁的缺陷。本發(fā)明提供了一種光刻設(shè)備，包括反應(yīng)腔；位于反應(yīng)腔內(nèi)，用于在其上形成光掩膜層的卡盤；設(shè)置在反應(yīng)腔內(nèi)用于固定卡盤的固定盤，連接固定盤和卡盤并用于支撐卡盤的支撐柱，還包括連接至固定盤，具有多個噴嘴的清洗裝置。所述的噴嘴至少為6個，均勻設(shè)置在固定盤上。所述的清洗裝置包括用于儲存清洗液的儲液槽；與儲液槽連接，用于調(diào)節(jié)儲液槽內(nèi)壓強的調(diào)壓裝置；與儲液槽連接，用于調(diào)節(jié)清洗液流量的流量計；通過管路與流量計連通并連接至固定盤的多個噴嘴；與噴嘴連接用于控制噴嘴開合的控制閥。進一步，所述的清洗裝置還包括總儲液槽，通過壓力調(diào)節(jié)泵與儲液槽連接。進一步，所述的多個噴嘴通過一個連接器與所述管路連接。進一步，所述的多個噴嘴均勻分布在固定盤的邊緣。進一步，所述的噴嘴為兩端開口的球形。由于采用了上述技術(shù)方案，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點
相對現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明所述的光刻設(shè)備在反應(yīng)腔內(nèi)設(shè)置了清洗裝置，在反應(yīng)腔內(nèi)產(chǎn)生污染物粒子之后，可以通過所述清洗裝置清洗所述反應(yīng)腔，避免了采用人工清洗造成的人力浪費，并且避免對人體產(chǎn)生傷害。進一步，所述的清洗裝置的多個噴嘴設(shè)置在固定盤上，清洗液供給裝置一起其它流量控制裝置可設(shè)置在其它位置，并可以根據(jù)需要單獨控制，使用方便，并且沒有對現(xiàn)有的光刻設(shè)備結(jié)構(gòu)造成其它影響。


圖1為現(xiàn)有光刻設(shè)備內(nèi)壁產(chǎn)生污染物粒子之后在光掩膜層上產(chǎn)生的缺陷。圖2為本發(fā)明實施例提供的光刻設(shè)備反應(yīng)腔及其噴嘴的俯視圖。圖3為本發(fā)明實施例提供的光刻設(shè)備反應(yīng)腔及其噴嘴的截面結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為本發(fā)明實施例提供的光刻設(shè)備的清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖5為本發(fā)明實施例所述的光刻設(shè)備在對反應(yīng)腔進行清洗時清洗液噴射的示意圖。圖6為本發(fā)明實施例所述噴嘴的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式本發(fā)明提供一種光刻設(shè)備，包括反應(yīng)腔；位于反應(yīng)腔內(nèi)，用于在其上形成光掩膜層的卡盤；設(shè)置在反應(yīng)腔內(nèi)用于固定卡盤的固定盤，連接固定盤和卡盤并用于支撐卡盤的支撐柱，還包括連接至固定盤，具有多個噴嘴的清洗裝置。下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施方式
做詳細的說明。參考附圖2和附圖3所示，分別為反應(yīng)腔以及與其相連的噴嘴的俯視圖和截面結(jié)構(gòu)示意圖，由于本實施例對所述反應(yīng)腔內(nèi)的其它部件沒有任何改進，因此，在附圖以及描述中，都不涉及其它部件。參考附圖2和3，所述光刻設(shè)備包括反應(yīng)腔；卡盤1，所述卡盤1設(shè)置在反應(yīng)腔內(nèi)， 是光刻設(shè)備的主要部件，在形成光掩膜層時，將光刻膠通過旋涂的方式噴涂在卡盤1上，隨后進行烘焙等工藝去除光掩膜層中的水分，使其固化，然后再轉(zhuǎn)移至其它反應(yīng)腔內(nèi)進行曝光和顯影等工藝。所述卡盤可根據(jù)需要在反應(yīng)腔內(nèi)旋轉(zhuǎn)，并可以根據(jù)需要進行升降調(diào)節(jié)。所述光刻設(shè)備還包括固定盤2，現(xiàn)有技術(shù)中，所述的固定盤2設(shè)置在反應(yīng)腔內(nèi)，通過支撐柱4與卡盤1連接，并用于固定卡盤1。本實施例所述的光刻裝置在光刻設(shè)備上增加一套清洗設(shè)備，主要將清洗設(shè)備的多個噴嘴3連接至固定盤2上，在需要對反應(yīng)腔進行清洗時，通過噴嘴在反應(yīng)腔內(nèi)壁均勻噴涂清洗液，以實現(xiàn)自動清洗所述反應(yīng)腔內(nèi)壁的作用。在本實施例中，所述的噴嘴均勻分布在所述的固定盤上，較好的，所述噴嘴至少為 6個，例如為8個或者10個，設(shè)置在固定盤的外緣。下面結(jié)合附圖4，對所述的清洗裝置進行詳細的描述，如附圖4所示，所述的清洗裝置包括用于儲存清洗液的儲液槽11，所述的儲液槽內(nèi)盛放丙酮等用于清洗反應(yīng)腔內(nèi)壁的清洗溶液；與儲液槽11連接，用于調(diào)節(jié)儲液槽內(nèi)壓強的調(diào)壓裝置12，所述的調(diào)壓裝置例如為氣動真空管，在需要執(zhí)行對反應(yīng)腔的清洗工藝時，通過向所述的氣動真空管中沖入惰性氣體以調(diào)節(jié)所述真空管，使與其連接的儲液槽中的壓強增加，從而使儲液槽中的清洗溶液在壓力作用下向反應(yīng)腔內(nèi)流動；與儲液槽11連接，用于調(diào)節(jié)清洗液流量的流量計13，所述的流量計用于根據(jù)清洗工藝的需要調(diào)整并控制清洗液的流量，本實施例對其并無過多限制，可以是任何市售流量計。清洗液通過流量計13調(diào)節(jié)流量之后，通過管路到達所述的多個噴嘴3 ；優(yōu)選的，所述的管路連接至一個連接器18，所述的連接器具有多個連接口，如附圖4中所示的連接器， 具有8個連接口，可分別與所述的噴嘴連接，在清洗工藝中，清洗液從管路到達連接器18之后，被連接器18分成8個支路，所述的8個支路上都連接有噴嘴3，從而實現(xiàn)在反應(yīng)腔內(nèi)的各個方向都能被清洗液清洗到。在噴嘴3與所述的流量計之間，還設(shè)置有用于控制噴嘴開合的控制閥15和氣動閥門14。所述的控制閥15可以為手動控制閥，自動控制閥等，所述氣動閥門14通過氣體加壓或者卸壓控制閥門地開合，由此控制清洗液體的噴出與否。進一步，參考附圖4所示，為了控制清洗液的總量，以及清洗時清洗液的連續(xù)供應(yīng)，所述的儲液槽11連接至總儲液槽16，通過壓力調(diào)節(jié)泵17與儲液槽11連接。在儲液槽 11和總儲液槽16之間設(shè)置壓力調(diào)節(jié)泵17，通過壓力調(diào)節(jié)泵17將總儲液槽中的清洗液補充至儲液槽11中。參考附圖5所示，為所述的清洗裝置在對反應(yīng)腔進行清洗時清洗液噴射的示意圖的結(jié)構(gòu)示意圖，從圖中可以看出，進行清洗時，從噴嘴3中噴出的清洗液6成扇面形狀噴向反應(yīng)腔5內(nèi)壁，達到對反應(yīng)腔內(nèi)壁的完全清洗，并且，基本上沒有清洗的死角。本實施例中， 所述的噴嘴為兩端開口的球形，如附圖6所示，采用所述的形狀，可以根據(jù)需要隨意調(diào)整所述噴嘴的噴出方向，進一步實現(xiàn)對反應(yīng)腔內(nèi)壁的完全清洗。由于采用了上述技術(shù)方案，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點相對現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明所述的光刻設(shè)備在反應(yīng)腔內(nèi)設(shè)置了清洗裝置，在反應(yīng)腔內(nèi)產(chǎn)生污染物粒子之后，可以通過所述清洗裝置清洗所述反應(yīng)腔，避免了采用人工清洗造成的人力浪費，并且避免對人體產(chǎn)生傷害。進一步，所述的清洗裝置的多個噴嘴設(shè)置在固定盤上，清洗液供給裝置一起其它流量控制裝置可設(shè)置在其它位置，并可以根據(jù)需要單獨控制，使用方便，并且沒有對現(xiàn)有的光刻設(shè)備結(jié)構(gòu)造成其它影響。雖然本發(fā)明己以較佳實施例披露如上，但本發(fā)明并非限定于此。任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動與修改，因此本發(fā)明的保護范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求所限定的范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種光刻設(shè)備，包括反應(yīng)腔；位于反應(yīng)腔內(nèi)，用于在其上形成光掩膜層的卡盤；設(shè)置在反應(yīng)腔內(nèi)用于固定卡盤的固定盤，連接固定盤和卡盤并用于支撐卡盤的支撐柱，其特征在于，還包括連接至固定盤，具有多個噴嘴的清洗裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其特征在于，所述的噴嘴至少為6個，均勻設(shè)置在固定盤上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其特征在于，所述的清洗裝置包括用于儲存清洗液的儲液槽；與儲液槽連接，用于調(diào)節(jié)儲液槽內(nèi)壓強的調(diào)壓裝置；與儲液槽連接，用于調(diào)節(jié)清洗液流量的流量計；通過管路與流量計連通并連接至固定盤的多個噴嘴；與噴嘴連接用于控制噴嘴開合的控制閥。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光刻設(shè)備，其特征在于，所述的清洗裝置還包括總儲液槽， 通過壓力調(diào)節(jié)泵與儲液槽連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光刻設(shè)備，其特征在于，所述的多個噴嘴通過一個連接器與所述管路連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光刻設(shè)備，其特征在于，所述的多個噴嘴均勻分布在固定盤的邊緣。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光刻設(shè)備，其特征在于，所述的噴嘴為兩端開口的球形。
全文摘要
一種光刻設(shè)備，包括反應(yīng)腔；位于反應(yīng)腔內(nèi)，用于在其上形成光掩膜層的卡盤；設(shè)置在反應(yīng)腔內(nèi)用于固定卡盤的固定盤，連接固定盤和卡盤并用于支撐卡盤的支撐柱，還包括連接至固定盤，具有多個噴嘴的清洗裝置。所述的光刻設(shè)備在反應(yīng)腔內(nèi)設(shè)置了清洗裝置，在反應(yīng)腔內(nèi)產(chǎn)生污染物粒子之后，可以通過所述清洗裝置清洗所述反應(yīng)腔，避免了采用人工清洗造成的人力浪費，并且避免對人體產(chǎn)生傷害。
文檔編號G03F7/20GK102338987SQ20101022924
公開日2012年2月1日 申請日期2010年7月16日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月16日
發(fā)明者郭勃琳 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司