專利名稱：攝像設(shè)備的手抖校正設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種攝像設(shè)備的手抖校正設(shè)備，更具體地講，涉及一種能夠校正由用 戶手的抖動(dòng)引起的圖像模糊的手抖校正設(shè)備。
背景技術(shù)：
數(shù)字相機(jī)捕捉對(duì)象的圖像，將圖像轉(zhuǎn)換為圖像數(shù)據(jù)，并以適當(dāng)?shù)奈募袷接涗泩D 像數(shù)據(jù)。如果捕捉的圖像受到用戶手的抖動(dòng)或外部振動(dòng)的影響，則捕捉的圖像可能模糊，從 而具有差的品質(zhì)。目前，已開(kāi)發(fā)了用于自動(dòng)校正相機(jī)抖動(dòng)的各種圖像穩(wěn)定技術(shù)。例如，已考慮這樣的 方法通過(guò)驅(qū)動(dòng)并控制光學(xué)透鏡使其移動(dòng)與相機(jī)抖動(dòng)對(duì)應(yīng)的適當(dāng)量，來(lái)固定圖像傳感器上 的成像位置。在這種情況下，可使用基于磁體與驅(qū)動(dòng)線圈之間的電磁相互作用而操作的音 圈電機(jī)(voice coil motor,VCM)致動(dòng)器來(lái)驅(qū)動(dòng)光學(xué)透鏡。然而，如果在磁體和驅(qū)動(dòng)線圈之 間或者磁體和磁軛(yoke)之間發(fā)生未對(duì)準(zhǔn)(misalignment)，則校正操作的控制性能變差。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種手抖校正設(shè)備，該設(shè)備能夠通過(guò)確保包括磁體和磁軛的裝配部件 之間的對(duì)準(zhǔn)來(lái)改善校正操作的控制性能。根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供一種手抖校正設(shè)備，所述設(shè)備包括透鏡支撐板，支撐 校正透鏡并沿垂直于光軸的方向操作；基座，支撐透鏡支撐板使其能夠運(yùn)動(dòng)；磁體和驅(qū)動(dòng) 線圈，所述磁體和驅(qū)動(dòng)線圈被裝配在透鏡支撐板和基座上以彼此面對(duì)，其中，磁體被緊配合 在透鏡支撐板的裝配槽中，在裝配槽中形成有一個(gè)或多個(gè)突起，所述突起從裝配槽的內(nèi)壁 朝著磁體突出并對(duì)磁體彈性施壓。裝配槽的面對(duì)所述一個(gè)或多個(gè)突起的內(nèi)壁可用作平坦的基準(zhǔn)表面。所述一個(gè)或多個(gè)突起可形成在沿不同方向面對(duì)磁體的內(nèi)壁上。裝配槽可具有矩形，所述矩形由兩個(gè)水平壁和兩個(gè)垂直壁限定，所述兩個(gè)水平壁 和兩個(gè)垂直壁分別相互平行，所述一個(gè)或多個(gè)突起可形成在水平壁之一和垂直壁之一上， 另一水平壁和另一垂直壁可用作平坦的基準(zhǔn)表面。所述一個(gè)或多個(gè)突起可形成在裝配槽的所有內(nèi)壁上并圍繞磁體。所述一個(gè)或多個(gè)突起可包括一個(gè)或多個(gè)第一突起，相對(duì)容易彈性變形；一個(gè)或 多個(gè)第二突起，相對(duì)難以彈性變形。在這種情況下，所述一個(gè)或多個(gè)第一突起可形成為具有 中空形狀。所述一個(gè)或多個(gè)突起可包括一個(gè)或多個(gè)第一突起，具有朝著磁體的相對(duì)小的突 出厚度；一個(gè)或多個(gè)第二突起，具有朝著磁體的相對(duì)大的突出厚度。
所述一個(gè)或多個(gè)突起可與裝配槽的內(nèi)壁一體地形成?；蛘?，所述一個(gè)或多個(gè)突起 可包括設(shè)置在磁體和裝配槽的內(nèi)壁之間的彈性構(gòu)件。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種手抖校正設(shè)備，所述設(shè)備包括透鏡支撐板，支 撐校正透鏡，并沿垂直于光軸的方向工作；基座，支撐透鏡支撐板使其能夠運(yùn)動(dòng)；磁體和磁 軛，所述磁體和磁軛被裝配在透鏡支撐板和基座上以彼此面對(duì)；驅(qū)動(dòng)線圈，被設(shè)置在磁體和 磁軛之間，其中，磁軛被緊配合在基座的裝配槽中，其中，在裝配槽中形成有一個(gè)或多個(gè)突 起，所述突起從裝配槽的內(nèi)壁朝著磁軛突出并對(duì)磁軛彈性施壓。裝配槽的面對(duì)所述一個(gè)或多個(gè)突起的內(nèi)壁可用作平坦的基準(zhǔn)表面。
所述一個(gè)或多個(gè)突起可形成在沿不同方向面對(duì)磁軛的內(nèi)壁上。裝配槽可具有矩形，所述矩形由兩個(gè)水平壁和兩個(gè)垂直壁限定，所述兩個(gè)水平壁 和兩個(gè)垂直壁分別相互平行，所述一個(gè)或多個(gè)突起可形成在水平壁之一和垂直壁之一上， 另一水平壁和另一垂直壁可用作平坦的基準(zhǔn)表面。所述一個(gè)或多個(gè)突起可形成在裝配槽的所有內(nèi)壁上并圍繞磁軛。所述一個(gè)或多個(gè)突起可包括一個(gè)或多個(gè)第一突起，相對(duì)容易彈性變形；一個(gè)或 多個(gè)第二突起，相對(duì)難以彈性變形。在這種情況下，所述一個(gè)或多個(gè)第一突起形成為具有中 空形狀。所述一個(gè)或多個(gè)突起可包括一個(gè)或多個(gè)第一突起，具有朝著磁軛的相對(duì)小的突 出厚度；一個(gè)或多個(gè)第二突起，具有朝著磁軛的相對(duì)大的突出厚度。所述一個(gè)或多個(gè)突起可與裝配槽的內(nèi)壁一體地形成?；蛘撸鲆粋€(gè)或多個(gè)突起 可包括設(shè)置在磁軛和裝配槽的內(nèi)壁之間的彈性構(gòu)件。


通過(guò)參照附圖對(duì)本發(fā)明的示例性實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述，本發(fā)明的上述和其他特點(diǎn) 和優(yōu)點(diǎn)將變得更加清楚，其中圖1是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的手抖校正設(shè)備的分解透視圖；圖2是圖1所示的手抖校正設(shè)備的裝配剖視圖；圖3是裝配有圖1所示的磁體的圖1所示的透鏡支撐板的平面圖；圖4是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于磁體的裝配槽的平面圖；圖5是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的用于磁體的裝配槽的平面圖；圖6是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的用于磁體的裝配槽的平面圖；圖7是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的用于磁體的裝配槽的平面圖；圖8是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的用于磁體的裝配槽的平面圖；圖9是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于磁軛的裝配槽的平面圖；圖10是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的用于磁軛的裝配槽的平面圖；圖11是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的用于磁軛的裝配槽的平面圖；圖12是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的用于磁軛的裝配槽的平面圖；以及圖13是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的用于磁軛的裝配槽的平面圖。
具體實(shí)施例方式以下，將通過(guò)參照附圖解釋本發(fā)明的實(shí)施例來(lái)詳細(xì)描述本發(fā)明。圖1是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的手抖校正設(shè)備100的分解透視圖。圖2是圖1所示的 手抖校正設(shè)備100的裝配剖視圖。參照?qǐng)D1和圖2，手抖校正設(shè)備100包括校正透鏡120、安裝校正透鏡120的透鏡 支撐板130以及用于支撐透鏡支撐板130的基座150。磁體135被裝配在透鏡支撐板130的兩側(cè)(左側(cè)/右側(cè))，驅(qū)動(dòng)線圈155和磁軛 160被裝配在基座150的垂直方向上以面對(duì)磁體135。例如，驅(qū)動(dòng)線圈155和磁軛160可分 別被裝配在基座150的上表面和下表面上以面對(duì)磁體135。磁體135和驅(qū)動(dòng)線圈155被設(shè)置為彼此面對(duì)，并且形成例如基于電磁相互作用 而 工作的音圈電機(jī)(VCM)致動(dòng)器。驅(qū)動(dòng)線圈155的兩端可連接到施加受控驅(qū)動(dòng)電壓的電路基 底(未示出)?；诖朋w135和驅(qū)動(dòng)線圈155之間的電磁相互作用，沿垂直于光軸(Z軸) 的X-Y平面驅(qū)動(dòng)透鏡支撐板130，透鏡支撐板130執(zhí)行校正操作。為了實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的控制性能，磁體135和驅(qū)動(dòng)線圈155應(yīng)該對(duì)準(zhǔn)以使得它們的中心彼 此對(duì)應(yīng)。在這種情況下，獲得關(guān)于磁體135的中心位置水平對(duì)稱(而不會(huì)朝校正透鏡120的 任一側(cè)偏移)的驅(qū)動(dòng)力，從而保持線性驅(qū)動(dòng)輸入/輸出校正。例如，如果磁體135和驅(qū)動(dòng)線圈 155之間發(fā)生未對(duì)準(zhǔn)，則驅(qū)動(dòng)力朝校正透鏡120的一側(cè)水平偏移，除了 X和Y軸方向上的驅(qū)動(dòng) 力之外還產(chǎn)生不期望的旋轉(zhuǎn)分量，校正透鏡120的左側(cè)和右側(cè)具有不同的校正性能。這樣有 缺陷的校正操作使得圖像模糊。磁體135被裝配為被配合在透鏡支撐板130中形成的裝配槽 130’中。由于磁體135被緊配合在裝配槽130’中以保持與驅(qū)動(dòng)線圈155的對(duì)準(zhǔn)，所以可防 止任意錯(cuò)位，并且可以以幾微米內(nèi)的高精度保持對(duì)準(zhǔn)，這將在隨后詳細(xì)描述。磁體135和磁軛160被裝配為彼此面對(duì)，并因此彼此施加磁引力。通過(guò)將磁體135 的中心與磁軛160的中心對(duì)準(zhǔn)，透鏡支撐板130由于磁體135和磁軛160之間的磁引力而 緊密地靠近基座150，并在驅(qū)動(dòng)功率被切斷時(shí)返回其平衡位置。因?yàn)榛诖跑?60的位置來(lái)確定校正透鏡120的平衡位置，所以要求磁軛160以 高精度保持其位置。磁軛160被裝配為被配合在基座150中形成的裝配槽150’(見(jiàn)圖2) 中。由于磁軛160被緊配合在裝配槽150’中，所以可防止任意錯(cuò)位，并且可以以高精度保 持位置，這將在隨后詳細(xì)描述。同時(shí)，透鏡支撐板130和基座150被設(shè)置為彼此面對(duì)，使得 球軸承140 (見(jiàn)圖2)介于透鏡支撐板130和基座150之間?；?50通過(guò)球軸承140來(lái)支 撐透鏡支撐板130在X-Y平面上的運(yùn)動(dòng)。蓋110可設(shè)置在校正透鏡120上。蓋110被裝配在基座150上，使得透鏡支撐 板130介于蓋110和基座150之間。用于檢測(cè)校正透鏡120的位置的霍爾傳感器(Hall sensor) 115被裝配在蓋110中?；魻杺鞲衅?15可通過(guò)感測(cè)磁體135的磁場(chǎng)的改變來(lái)檢測(cè) 與磁體135 —起整體地移動(dòng)的校正透鏡120的位移。圖3是裝配有圖1所示的磁體135的圖1所示的透鏡支撐板130的平面圖。參照?qǐng)D3，磁體135被配合到其中的裝配槽130’形成在透鏡支撐板130中，在每一 裝配槽130’中形成有朝磁體135突出的一個(gè)或多個(gè)突起131。通過(guò)使用緊配合方法來(lái)將磁 體135裝配到裝配槽130’中，突起131對(duì)磁體135彈性地施壓，從而將磁體135牢固地固 定在裝配槽130’中。
圖4是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于磁體135的裝配槽130’的平面圖。參照?qǐng)D4，裝配槽130 ’可由四個(gè)內(nèi)壁限定，這四個(gè)內(nèi)壁包括兩個(gè)水平壁H和兩個(gè)垂 直壁V，用于容納并固定磁體135，兩個(gè)水平壁H和兩個(gè)垂直壁V按照矩形形狀分別彼此平 行。由于磁體135被緊配合到裝配槽130’中，所以可抑制磁體135在裝配槽130’中的運(yùn) 動(dòng)，并保持由裝配槽130’確定的磁體135的位置。裝配槽130’包括突起131，突起131從內(nèi)壁朝著磁體135突出并對(duì)磁體135彈性 施壓。如圖4所示，水平壁H之一和垂直壁V之一用作其上形成有突起131的緊配合表面 TFP，另一水平壁H和另一垂直壁V用作平坦的基準(zhǔn)裝配表面SP。兩個(gè)基準(zhǔn)裝配表面SP沿 X和Y軸方向穩(wěn)定地支撐磁體135的兩個(gè)完整的表面，從而磁體135可被牢固地固定在二維 X-Y表面上。形成在緊配合表面TFP上的突起131面對(duì)基準(zhǔn)裝配表面SP并提供彈性壓力， 以使得磁體135沿X和Y軸方向與基準(zhǔn)裝配表面SP緊密接觸?；鶞?zhǔn)裝配表面SP與磁體135的兩個(gè)完整的表面緊密接觸，并確定磁體135的位置 和方向。更詳細(xì)地講，磁體135被施壓以與基準(zhǔn)裝配表面SP緊密接觸，并因此被固定到與 基準(zhǔn)裝配表面SP接觸的位置和方向。朝磁體135突出的一個(gè)或多個(gè)突起131可形成在每個(gè)緊配合表面TFP上，以對(duì)磁 體135施壓使其與基準(zhǔn)裝配表面SP緊密接觸。當(dāng)裝配磁體135時(shí)，突起131被壓縮并在彈 性偏置狀態(tài)下對(duì)磁體135施壓使其與基準(zhǔn)裝配表面SP緊密接觸。突起131由能 夠提供適 當(dāng)?shù)膹椥詨毫Φ膹椥圆牧闲纬伞＠?，突?31可由與透鏡支撐板130成一體的注塑成形 塑料形成。例如，由于突起131提供與裝配磁體135時(shí)的壓縮水平和彈性強(qiáng)度對(duì)應(yīng)的壓力， 所以可適當(dāng)?shù)卦O(shè)計(jì)形成突起131的材料的突出厚度tl。如果突起131的彈性強(qiáng)度過(guò)大，磁 體135可能不容易裝配。另一方面，如果突起131的彈性強(qiáng)度不足，則磁體135可能不容易 被固定。要求突起131沿壓縮方向彈性偏置并向磁體135連續(xù)地提供均勻的彈力，因此突 起131可由耐疲勞性高的材料形成。同時(shí)，除了半球的圓形之外，設(shè)置在緊配合表面TFP上 的突起131還可形成為有角的形狀，例如三角形或矩形。圖5是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的用于磁體135的裝配槽230’的平面圖。參照?qǐng)D5，裝配槽230’由兩個(gè)平坦的基準(zhǔn)裝配表面SP和其上形成有突起231的兩 個(gè)緊配合表面TFP限定。如圖5所示，兩個(gè)水平壁H之一和兩個(gè)垂直壁V之一用作其上形 成有突起231的緊配合表面TFP，另一水平壁H和另一垂直壁V用作平坦的基準(zhǔn)裝配表面 SP0在這種情況下，可在每個(gè)緊配合表面TFP上形成一個(gè)或多個(gè)突起231，突起231的數(shù)量 不限于圖5所示的數(shù)量。圖6是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的用于磁體135的裝配槽330’的平面圖。參照?qǐng)D6，裝配槽330’由一個(gè)平坦的基準(zhǔn)裝配表面SP和其上形成有突起331的 三個(gè)緊配合表面TFP限定。如圖6所示，兩個(gè)水平壁H中的一個(gè)用作平坦的基準(zhǔn)裝配表面 SP，另一水平壁H和兩個(gè)垂直壁V用作其上形成有突起331的緊配合表面TFP。在這種情況 下，可在每個(gè)緊配合表面TFP上形成一個(gè)或多個(gè)突起331，突起331的數(shù)量不限于圖6所示 的數(shù)量。由于基準(zhǔn)裝配表面SP沿Y軸方向穩(wěn)定地支撐磁體135的一個(gè)完整表面，所以可沿 Y軸方向牢固地固定磁體135。形成在緊配合表面TFP上的突起331提供彈性壓力以使得磁體135與基準(zhǔn)裝配表面SP緊密接觸，或者沿X軸方向提供彈性壓力以固定磁體135。圖7是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的用于磁體135的裝配槽430’的平面圖。參照?qǐng)D7，在裝配槽430’的所有內(nèi)壁(兩個(gè)水平壁H和兩個(gè)垂直壁V)上均形成有突起431，這些突起431圍繞磁體135。由于從四個(gè)方向?qū)ε浜显谘b配槽430’中的磁體 135彈性施壓，所以磁體135被牢固地固定。在這種情況下，通過(guò)對(duì)突起431進(jìn)行不同的設(shè)計(jì)，可指定一些內(nèi)壁為基準(zhǔn)裝配表 面SP，可指定其它內(nèi)壁為緊配合表面TFP。例如，通過(guò)將突起431設(shè)計(jì)為具有不同的突出厚 度t2或者通過(guò)將一些突起431設(shè)計(jì)為具有中空形狀，突起431可具有不同的壓縮特性。在 這種情況下，不容易變形的突起431可用作基準(zhǔn)裝配表面SP，容易變形的突起431可用作緊 配合表面TFP。圖8是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的用于磁體135的裝配槽530’的平面圖。參照?qǐng)D8，在磁體135和裝配槽530’的內(nèi)壁之間設(shè)置附加彈性構(gòu)件532。彈性構(gòu) 件532通過(guò)向磁體135的相應(yīng)表面提供彈性壓力來(lái)固定磁體135。例如，彈性構(gòu)件532可通 過(guò)沿X和Y軸方向?qū)Υ朋w135施壓來(lái)在二維X-Y平面中穩(wěn)定地固定磁體135。為此，可在 裝配槽530’的水平壁H和垂直壁V上形成與彈性構(gòu)件532匹配的凹槽530”，彈性構(gòu)件532 可設(shè)置在凹槽530”中。例如，彈性構(gòu)件532可形成為具有圓截面的棒形。同時(shí)，可與裝配 槽530’的內(nèi)壁一體形成的突起531可面對(duì)彈性構(gòu)件532。現(xiàn)在將參照?qǐng)D9至圖13描述用于磁軛的裝配槽的結(jié)構(gòu)。圖9是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于磁軛160的裝配槽150’的平面圖。參照?qǐng)D9，裝配槽150’包括突起151，突起151從內(nèi)壁(兩個(gè)水平壁H和兩個(gè)垂直 壁V)朝著磁軛160突出并對(duì)磁軛160彈性施壓。如圖9所示，水平壁H之一和垂直壁V之 一用作其上形成有突起151的緊配合表面TFP，另一水平壁H和另一垂直壁V用作平坦的 基準(zhǔn)裝配表面SP。兩個(gè)基準(zhǔn)裝配表面SP沿X和Y軸方向穩(wěn)定地支撐磁軛160的兩個(gè)完整 表面，從而磁軛160可被牢固地固定在二維X-Y表面中。形成在緊配合表面TFP上的突起 151被設(shè)置為面對(duì)基準(zhǔn)裝配表面SP并提供彈性壓力，以使得磁軛160沿X和Y軸方向與基 準(zhǔn)裝配表面SP緊密接觸。同時(shí)，突起151的技術(shù)特征與圖4所示的突起131的技術(shù)特征基 本上相同，因此這里將省略其詳細(xì)描述。圖10是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的用于磁軛160的裝配槽250’的平面圖。參照?qǐng)D10，裝配槽250’由兩個(gè)平坦的基準(zhǔn)裝配表面SP和形成有突起251的兩個(gè) 緊配合表面TFP限定。如圖10所示，可在每個(gè)緊配合表面TFP上形成一個(gè)或多個(gè)突起251， 突起251的數(shù)量不限于圖10所示的數(shù)量。圖11是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的用于磁軛160的裝配槽350’的平面圖。參照?qǐng)D11，裝配槽350’由一個(gè)平坦的基準(zhǔn)裝配表面SP和其上形成有突起351的 三個(gè)緊配合表面TFP限定。如圖11所示，兩個(gè)水平壁H中的一個(gè)用作平坦的基準(zhǔn)裝配表面 SP，另一水平壁H和兩個(gè)垂直壁V用作其上形成有突起351的緊配合表面TFP。由于基準(zhǔn)裝 配表面SP沿Y軸方向穩(wěn)定地支撐磁軛160的整個(gè)表面，所以可沿Y軸方向牢固地固定磁軛 160。形成在緊配合表面TFP上的突起351提供彈性壓力以使得磁軛160與基準(zhǔn)裝配表面SP緊密接觸，或者沿X軸方向提供彈性壓力以固定磁軛160。圖12是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的用于磁軛160的裝配槽450’的平面圖。
參照?qǐng)D12，在裝配槽450’的所有內(nèi)壁(兩個(gè)水平壁H和兩個(gè)垂直壁V)上均形成 有突起451，這些突起451圍繞磁軛160。由于從四個(gè)方向?qū)ε浜显谘b配槽450’中的磁軛 160彈性施壓，所以磁軛160被牢固地固定。在這種情況下，通過(guò)對(duì)突起451進(jìn)行不同的設(shè) 計(jì)，一些內(nèi)壁可以被指定為基準(zhǔn)裝配表面SP，其它內(nèi)壁可以被指定為緊配合表面TFP。例 如，通過(guò)將突起451設(shè)計(jì)為具有不同的突出厚度t3或者通過(guò)將一些突起451設(shè)計(jì)為具有中 空形狀，突起451可具有不同的壓縮特性。在這種情況下，不容易變形的突起451可用作基 準(zhǔn)裝配表面SP，容易變形的突起451可用作緊配合表面TFP。圖13是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的用于磁軛160的裝配槽550’的平面圖。 參照?qǐng)D13，在磁軛160和裝配槽550’的內(nèi)壁之間插入附加彈性構(gòu)件552。彈性構(gòu) 件552通過(guò)向磁軛160的相應(yīng)表面提供彈性壓力來(lái)固定磁軛160。例如，彈性構(gòu)件552可通 過(guò)沿X和Y軸方向?qū)Υ跑?60施壓來(lái)在二維X-Y平面中穩(wěn)定地固定磁軛160。為此，可在 裝配槽550’的水平壁H和垂直壁V上形成與彈性構(gòu)件552匹配的凹槽550”，彈性構(gòu)件552 可設(shè)置在凹槽550”中。例如，彈性構(gòu)件552可形成為具有圓截面的棒形。同時(shí)，可與裝配 槽550’的內(nèi)壁一體形成的突起551可面對(duì)彈性構(gòu)件552。同時(shí)，圖1所示的手抖校正設(shè)備100可被設(shè)置在具有鏡頭筒(barrel)結(jié)構(gòu)的相機(jī) 中。鏡頭筒結(jié)構(gòu)可以是可縮進(jìn)鏡頭筒結(jié)構(gòu)或內(nèi)部變焦(inner zoom)鏡頭筒結(jié)構(gòu)，其中，在 可縮進(jìn)鏡頭筒結(jié)構(gòu)中，鏡頭筒組件根據(jù)相機(jī)的開(kāi)/關(guān)狀態(tài)被移動(dòng)到相機(jī)中/從相機(jī)向外移 動(dòng)，內(nèi)部變焦鏡頭筒結(jié)構(gòu)具有基于從對(duì)象反射的光的入射方向而垂直布置的光學(xué)系統(tǒng)。如上所述，根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)改善包括磁體和磁軛的裝配部件的裝配結(jié)構(gòu)，可防止 所述裝配部件從其位置任意錯(cuò)位，并可以以高精度將所述裝配部件固定在其位置。這樣，通 過(guò)確保磁體和磁軛之間以及用于電磁交互作用的磁體、磁軛和驅(qū)動(dòng)線圈之間的對(duì)準(zhǔn)，可消 除由未對(duì)準(zhǔn)引起的驅(qū)動(dòng)輸入和輸出之間的非線性特性，并且可確保均衡的校正性能而不管 驅(qū)動(dòng)方向如何。為了幫助理解本發(fā)明的原理，將說(shuō)明附圖中示出的優(yōu)選實(shí)施例，并已使用特定語(yǔ) 言來(lái)描述這些實(shí)施例。然而，該特定語(yǔ)言非意在限制本發(fā)明的范圍，本發(fā)明應(yīng)該被理解為包 含本領(lǐng)域普通技術(shù)人員通常將想到的所有實(shí)施例?？梢园凑展δ軌K組件和各種處理步驟來(lái)描述本發(fā)明。這些功能塊可由被構(gòu)造為執(zhí) 行特定功能的任何數(shù)量的組件實(shí)現(xiàn)。本文中示出并描述的特定實(shí)現(xiàn)方式是本發(fā)明的示意性實(shí)例，而非意在以任何方式 限制本發(fā)明的范圍。為了簡(jiǎn)明起見(jiàn)，可不詳細(xì)描述傳統(tǒng)的電子器件和系統(tǒng)的其它功能方面 (以及系統(tǒng)的各個(gè)操作組件的組件)。另外，呈現(xiàn)的各個(gè)附圖中示出的連接線或連接器意在 表示各個(gè)元件之間的示例性功能關(guān)系和/或物理或邏輯連接。應(yīng)該注意的是，實(shí)際裝置中 可存在許多可替換的或附加的功能關(guān)系、物理連接或邏輯連接。另外，除非元件被具體地描 述為“必不可少的”或“關(guān)鍵的”，否則沒(méi)有零件或組件對(duì)本發(fā)明的實(shí)踐而言是必不可少的。描述本發(fā)明的上下文中(特別是權(quán)利要求的上下文中)使用的單數(shù)術(shù)語(yǔ)將被解釋 為覆蓋單數(shù)和復(fù)數(shù)形式。此外，除非本文中另外指明，否則本文中數(shù)值范圍的列舉僅意在用 作個(gè)別地引用落入該范圍內(nèi)的每一離散值的縮略方法，每一離散值在本文中像被個(gè)別引用 一樣并入本說(shuō)明書(shū)中。最后，除非本文中另外指明，或者與上下文明顯矛盾，否則本文中描 述的所有方法的步驟可以按照任何適合的順序執(zhí)行。
在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，各種改變和修改將是明顯的。
權(quán)利要求
一種手抖校正設(shè)備，所述設(shè)備包括透鏡支撐板，所述透鏡支撐板支撐校正透鏡，并沿垂直于光軸的方向操作；基座，所述基座支撐透鏡支撐板的運(yùn)動(dòng)；磁體和驅(qū)動(dòng)線圈，所述磁體和驅(qū)動(dòng)線圈被裝配在透鏡支撐板和基座上以彼此面對(duì)；其中，磁體被緊配合在透鏡支撐板的裝配槽中，其中，在裝配槽中形成有一個(gè)或多個(gè)突起，所述突起從裝配槽的內(nèi)壁朝著磁體突出并對(duì)磁體彈性施壓。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，裝配槽的面對(duì)所述一個(gè)或多個(gè)突起的內(nèi)壁用作平 坦的基準(zhǔn)表面。
3.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述一個(gè)或多個(gè)突起形成在沿不同方向面對(duì)磁體 的內(nèi)壁上。
4.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，裝配槽具有矩形，所述矩形由兩個(gè)水平壁和兩個(gè)垂 直壁限定，所述兩個(gè)水平壁和兩個(gè)垂直壁分別相互平行，其中，所述一個(gè)或多個(gè)突起形成在水平壁之一和垂直壁之一上， 其中，另一水平壁和另一垂直壁用作平坦的基準(zhǔn)表面。
5.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述一個(gè)或多個(gè)突起形成在裝配槽的所有內(nèi)壁上， 圍繞磁體。
6.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述一個(gè)或多個(gè)突起包括 一個(gè)或多個(gè)第一突起，相對(duì)容易彈性變形；一個(gè)或多個(gè)第二突起，相對(duì)難以彈性變形。
7.如權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其中，所述一個(gè)或多個(gè)第一突起形成為具有中空形狀。
8.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述一個(gè)或多個(gè)突起包括 一個(gè)或多個(gè)第一突起，具有朝著磁體的相對(duì)小的突出厚度； 一個(gè)或多個(gè)第二突起，具有朝著磁體的相對(duì)大的突出厚度。
9.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述一個(gè)或多個(gè)突起與裝配槽的內(nèi)壁一體地形成。
10.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述一個(gè)或多個(gè)突起包括設(shè)置在磁體和裝配槽的 內(nèi)壁之間的彈性構(gòu)件。
11.一種手抖校正設(shè)備，所述設(shè)備包括透鏡支撐板，所述透鏡支撐板支撐校正透鏡，并沿垂直于光軸的方向操作； 基座，所述基座支撐透鏡支撐板的運(yùn)動(dòng)；磁體和磁軛，所述磁體和磁軛被裝配在透鏡支撐板和基座上以彼此面對(duì)； 驅(qū)動(dòng)線圈，被設(shè)置在磁體和磁軛之間， 其中，磁軛被緊配合在基座的裝配槽中，其中，在裝配槽中形成有一個(gè)或多個(gè)突起，所述突起從裝配槽的內(nèi)壁朝著磁軛突出并 對(duì)磁軛彈性施壓。
12.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中，裝配槽的面對(duì)所述一個(gè)或多個(gè)突起的內(nèi)壁用作 平坦的基準(zhǔn)表面。
13.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中，所述一個(gè)或多個(gè)突起形成在沿不同方向面對(duì)磁 軛的內(nèi)壁上。
14.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中，裝配槽具有矩形，所述矩形由兩個(gè)水平壁和兩個(gè) 垂直壁限定，所述兩個(gè)水平壁和兩個(gè)垂直壁分別相互平行，其中，所述一個(gè)或多個(gè)突起形成在水平壁之一和垂直壁之一上， 其中，另一水平壁和另一垂直壁用作平坦的基準(zhǔn)表面。
15.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中，所述一個(gè)或多個(gè)突起形成在裝配槽的所有內(nèi)壁 上，圍繞磁軛。
16.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中，所述一個(gè)或多個(gè)突起包括 一個(gè)或多個(gè)第一突起，相對(duì)容易彈性變形；一個(gè)或多個(gè)第二突起，相對(duì)難以彈性變形。
17.如權(quán)利要求16所述的設(shè)備，其中，所述一個(gè)或多個(gè)第一突起形成為具有中空形狀。
18.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中，所述一個(gè)或多個(gè)突起包括 一個(gè)或多個(gè)第一突起，具有朝著磁軛的相對(duì)小的突出厚度； 一個(gè)或多個(gè)第二突起，具有朝著磁軛的相對(duì)大的突出厚度。
19.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中，所述一個(gè)或多個(gè)突起與裝配槽的內(nèi)壁一體地形成。
20.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中，所述一個(gè)或多個(gè)突起包括設(shè)置在磁軛和裝配槽 的內(nèi)壁之間的彈性構(gòu)件。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種攝像設(shè)備的手抖校正設(shè)備。所述手抖校正設(shè)備包括透鏡支撐板，支撐校正透鏡并沿垂直于光軸的方向操作；基座，支撐透鏡支撐板使其能夠運(yùn)動(dòng)；磁體和驅(qū)動(dòng)線圈，所述磁體和驅(qū)動(dòng)線圈被裝配在透鏡支撐板和基座上以彼此面對(duì)，其中，磁體被緊配合在透鏡支撐板的裝配槽中，在裝配槽中形成有一個(gè)或多個(gè)突起，所述突起從裝配槽的內(nèi)壁朝著磁體突出并對(duì)磁體彈性施壓。通過(guò)確保包括磁體和磁軛的裝配部件的裝配結(jié)構(gòu)之間的對(duì)準(zhǔn)，可提高手抖校正設(shè)備的校正操作的控制性能。
文檔編號(hào)G03B5/00GK101840128SQ20101013442
公開(kāi)日2010年9月22日 申請(qǐng)日期2010年3月16日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月17日
發(fā)明者李勝煥 申請(qǐng)人:三星數(shù)碼影像株式會(huì)社