專利名稱：制造具有防眩性能的光學(xué)制品的方法
制造具有防眩性能的光學(xué)制品的方法本發(fā)明涉及一種制造包括在任選被涂覆的有機(jī)或無(wú)機(jī)玻璃制成的透明基底上的至少雙層的抗反射疊層的光學(xué)制品，例如眼科透鏡的方法，以及涉及由此獲得的具有抗反射性能的光學(xué)制品。一般說(shuō)來(lái)，抗反射涂層(在本申請(qǐng)中也被稱為AR)通常不直接沉積在透明基底，例如透鏡上，而是沉積在耐磨涂層上，該耐磨涂層已經(jīng)預(yù)先沉積在裸基底上或涂有粘合底涂層和/或抗沖底涂層的基底上。公知的是，抗反射涂層最經(jīng)常通過(guò)真空沉積，按照如下技術(shù)之一進(jìn)行施涂通過(guò)蒸發(fā)，任選地在離子輔助下；通過(guò)用離子束噴霧；通過(guò)陰極濺射；或通過(guò)等離子體輔助化學(xué)氣相沉積。同樣由現(xiàn)有技術(shù)已知的是，通過(guò)溶膠-凝膠法制備抗反射涂層。這些抗反射涂層可以通過(guò)旋涂或浸涂沉積。這樣的抗反射涂層例如描述在美國(guó)專利5，104，692和4，590，117中。這些專利中描述的方法都不能提供在眼科光學(xué)領(lǐng)域中普遍接受的產(chǎn)品。這些專利中所描述的技術(shù)的一個(gè)缺點(diǎn)是難于獲得適當(dāng)?shù)暮穸瓤刂坪瞳@得外觀可接受，也就是說(shuō)不具有視覺(jué)可見(jiàn)的光學(xué)缺陷的抗反射涂層，特別是當(dāng)它們通過(guò)浸涂沉積時(shí)。與那些利用傳統(tǒng)技術(shù)(蒸發(fā))獲得的那些抗反射涂層相比，使用液體技術(shù)，特別是通過(guò)溶膠-凝膠法沉積的這些抗反射涂層的光學(xué)或機(jī)械性能通常較差。由于這些不同的缺點(diǎn)，通過(guò)溶膠-凝膠法沉積的抗反射涂層在眼科光學(xué)領(lǐng)域發(fā)展的仍然不充分。因此，在眼科光學(xué)領(lǐng)域內(nèi)，市場(chǎng)上可買到的通過(guò)溶膠-凝膠法獲得的抗反射涂層并不多，而且它們是通過(guò)旋涂沉積的，這是一種較貴的方法。專利申請(qǐng)W02006/0%469描述了從二氧化硅中空顆粒獲得的單層AR涂層。合意的是改進(jìn)這種AR涂層的耐磨性和抗劃傷性能、耐濕性，和對(duì)所有這些處理的組合的耐受性， 以及光學(xué)性能。在相關(guān)領(lǐng)域，本申請(qǐng)人的專利申請(qǐng)WO 03/056366中已經(jīng)建議，為了解決在基底和聚合物層之間的界面處形成的干涉帶的問(wèn)題，在所述基底和所述聚合物性質(zhì)的層之間插入基于膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物顆粒的起始多孔的四分之一波片(λ/4)，其孔隙率被聚合物層的材料或當(dāng)基底的材料是聚合物性質(zhì)時(shí)被基底的材料至少部分填充，通常全部或幾乎全部地填充。這種結(jié)構(gòu)有效地降低了干涉帶強(qiáng)度。在專利申請(qǐng)WO 03/056366的發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案中，四分之一波片的一面直接接觸基底，另一面直接接觸抗沖底涂層，抗沖底涂層有涂有耐磨涂層。在該疊層中，四分之一波片的機(jī)械表面性質(zhì)并不重要，因?yàn)樵搶邮侵虚g層，其表面不直接暴露于外部物理環(huán)境下。在該申請(qǐng)中描述的四分之一波片不是抗反射疊層。根據(jù)定義，抗反射涂層是指提供在透鏡外鏡面上，也就是說(shuō)距離基底最遠(yuǎn)處的降低空氣/透鏡界面處的反射的抗反射疊層。
抗反射涂層與空氣接觸或者通過(guò)薄附加層與空氣隔開(kāi)并且用于抵抗外部物理作用。因此，抗反射疊層可在其外表面上涂有厚度通常小于50nm，優(yōu)選地小于lOnm，甚至更優(yōu)選地小于5nm的薄附加層，改變其機(jī)械表面性質(zhì)，例如現(xiàn)有技術(shù)已知的疏水和/或疏油層，其因此提高防污性能。如果這樣的話，這些薄外層會(huì)形成透鏡-空氣界面。這種層不會(huì)改變或者僅會(huì)非常輕微地改變AR疊層的光學(xué)性能。為了便于修邊操作的實(shí)施，還可以在防污層的表面上沉積臨時(shí)層并且在修邊過(guò)程之后去除。本發(fā)明的第一個(gè)目的是提供一種制造抗反射涂層的方法，抗反射涂層的疊層通過(guò)液體方法獲得，也就是說(shuō)通過(guò)相繼沉積溶液獲得，特別是溶膠-凝膠型方法，溶膠-凝膠型方法可以使用液體方法沉積容易地進(jìn)行，特別是通過(guò)浸涂，尤其是不必在沉積溶液之后和在沉積下一溶液之前加熱溶液。本發(fā)明的第二個(gè)目的是提供主要通過(guò)液體方法而獲得的抗反射涂層，其光學(xué)和/ 或機(jī)械性能與現(xiàn)有技術(shù)已知的抗反射涂層相比得以提高。本發(fā)明的進(jìn)一步目的是提供不存在任何外觀缺陷的抗反射涂層。根據(jù)本發(fā)明，所述抗反射涂層通過(guò)沉積具有一定孔隙度的單層或多層疊層，并且在該疊層的表面上施加由可固化組合物制成的上層而獲得，至少部分可固化組合物會(huì)散布到一個(gè)或多個(gè)多孔層內(nèi)并且填充其孔隙率。通過(guò)調(diào)整在該可固化組合物的層內(nèi)擴(kuò)散之后剩余的可固化組合物層的厚度，可以形成抗反射涂層，例如高折射率/低折射率(HI/LI)雙層型抗反射涂層，相應(yīng)的光學(xué)深度為 λ/2-λ/4 或 λ/2-3 λ/4。HI和LI層的相應(yīng)的定義將在下文描述各種特定層時(shí)給出，但是可概括成任意抗反射HI或LI涂層。因此，本發(fā)明涉及一種制造具有抗反射性能的光學(xué)制品的方法，包括以下步驟a)在載體的至少一個(gè)主表面上，通過(guò)施涂包含至少一種折射率大于或等于1. 80 的膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物以及任選的粘結(jié)劑的溶膠，形成第一下層，該第一下層包含至少一種折射率大于或等于1. 80的膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物以及任選的粘結(jié)劑，具有初始孔隙率；b)任選地，在所述第一下層上，通過(guò)施涂包含至少一種折射率小于1. 65的膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物以及任選的粘結(jié)劑的溶膠，形成第二下層，該第二下層具有至少等于，優(yōu)選大于所述第一層的初始孔隙率的初始孔隙率；c)在所述一個(gè)或多個(gè)下層上施涂上層組合物，該上層組合物含折射率小于或等于 1. 50的光學(xué)透明聚合物材料；d)通過(guò)至少部分在步驟(C)中形成的上層組合物的材料和任選地部分所述粘結(jié)劑滲入所述一個(gè)或多個(gè)下層，填充所述一個(gè)或多個(gè)下層的孔隙率，以及形成固化的上層，該固化的上層的厚度的確定要使得所述上層和所述一個(gè)或多個(gè)下層，在所述一個(gè)或多個(gè)下層的初始孔隙率已被填充后，形成雙層抗反射涂層，其在400至700nm的范圍內(nèi)，優(yōu)選450至 650nmo本文所使用的，“抗反射涂層”或“抗反射疊層”是指每個(gè)面的Rv值低于或等于2. 5%的涂層。標(biāo)記為Rv的“平均光反射系數(shù)”如標(biāo)準(zhǔn)ISO 13666 :1998中所定義，并且按標(biāo)準(zhǔn)ISO 8980-4測(cè)量，換句話說(shuō)，它是在380至780nm的整個(gè)可見(jiàn)光譜范圍內(nèi)的光譜反射率加權(quán)平均值。根據(jù)本發(fā)明的方法獲得的抗反射涂層能夠達(dá)到每面小于2%，并且更優(yōu)選地每面小于或等于1.5%，甚至更優(yōu)選地每面小于或等于值。優(yōu)選地，所述雙層抗反射涂層形成對(duì)于500至600nm范圍內(nèi)的波長(zhǎng)λ的光學(xué)深度為 λ/2-λ/4 或 λ/2-3 λ/4 的疊層。優(yōu)選地，所述第一下層在其初始孔隙率已被填充后的物理厚度在100至ieOnm范圍內(nèi)。在本發(fā)明的第一實(shí)施方案中，該方法不包括任何形成第二下層的步驟b)，并且所述雙層抗反射涂層包括初始孔隙率已被填充后的所述第一下層和所述上層。根據(jù)上層是否屬于λ/2-λ/4或λ/2-3 λ/4型的抗反射涂層，上層的物理厚度在 70至90nm的優(yōu)選范圍內(nèi)或250至^Onm。在本發(fā)明的第二實(shí)施方案中，進(jìn)行該方法的步驟b)，也就是說(shuō)沉積第二下層。隨后，沉積上層組合物并且上層組合物的所有材料被允許滲入所述下層以便填充它們。在這一實(shí)施方案中，形成具有孔隙已被填充后的所述第一層和第二層的雙層抗反射涂層。在本發(fā)明的這一實(shí)施方案中，“允許上層組合物的所有材料滲入”是指上層的材料在滲入并且填充下層孔隙率之后，沒(méi)有殘留厚度或形成幾nm的非常薄的層，而不會(huì)導(dǎo)致由此獲得的AR疊層的光學(xué)性能的顯著變化。除了上面描述的雙層抗反射涂層之外，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以想到其他厚度范圍， 例如具有10至30nm的HI下層和80至120nm的LI上層的雙層AR涂層。下面更詳細(xì)地描述下層組合物。在本申請(qǐng)中，除非另作說(shuō)明，折射率在25°C下以589nm的波長(zhǎng)測(cè)定。具有初始孔隙率的第一下層組合物通過(guò)如下方式獲得將基底浸入包含至少一種折射率大于或等于1. 80的膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物和任選的粘結(jié)劑的溶膠中，或旋涂所述溶膠，優(yōu)選浸涂。對(duì)于浸涂，沉積的厚度取決于溶膠的固體含量、粒度以及去濕率(Landau-Levich 定律)。因此，考慮到溶膠組成、粒度、由上層組合物獲得的并且將擴(kuò)散到所述下層中填充其孔隙率的材料的折射率，以及由于這種填充基本上不會(huì)改變沉積的下層的厚度，可確定膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物層需要的厚度以及適合獲得所需厚度的去濕率。在沉積的層干燥之后，獲得具有預(yù)期厚度的多孔膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物層。層孔隙率是重要的參數(shù)并且在不存在任何粘結(jié)劑的情況下應(yīng)優(yōu)選為至少40體積％，更優(yōu)選至少50體積％，在存在粘結(jié)劑的情況下優(yōu)選為至少25體積％，更優(yōu)選至少30 體積％。在沉積之后可以在20至130°C范圍內(nèi)的溫度干燥該層，優(yōu)選地20°C至120°C，干燥時(shí)間通常短于15分鐘。優(yōu)選地，在室溫Q0-25°C )進(jìn)行干燥。在室溫下的該處理的優(yōu)選持續(xù)時(shí)間為大約 3至5分鐘。層的孔隙率可以根據(jù)由橢圓光度法測(cè)得的層的折射率來(lái)計(jì)算。
對(duì)于沒(méi)有粘結(jié)劑的層多孔膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物層的孔隙率為ρ = Vp/ (V。+Vp)，其中Vp是層內(nèi)的孔體積，V。是層內(nèi)的無(wú)機(jī)氧化物的體積。這里，層的孔隙率ρ與沒(méi)有粘結(jié)劑時(shí)的孔隙率一樣。層的孔隙率值ρ可以由折射率計(jì)算-n (通過(guò)橢圓光度法測(cè)量)，是多孔無(wú)機(jī)層的折射率，-nc是無(wú)機(jī)氧化物顆粒(如果使用多種氧化物，任選為混合物)的平均折射率，并且存在這樣的關(guān)系n2 = p+n。2 (I-P)，其中P是孔體積分?jǐn)?shù)，假定孔被空氣填充，并且無(wú)機(jī)氧化物體積分?jǐn)?shù)是I-P。對(duì)于有粘結(jié)劑的層層孔隙率ρ通過(guò)下面的關(guān)系式計(jì)算(l)n2 = p+x^^+x^!2其中η是無(wú)機(jī)氧化物多孔層的折射率，層的孔隙率ρ = Vp/V總，xc是層內(nèi)無(wú)機(jī)氧化物的體積分?jǐn)?shù)& =、/V 總X1是層內(nèi)粘結(jié)劑的體積分?jǐn)?shù)X1 = V1A 總Vp、V。、Vp 分別表示孔(空氣)、無(wú)機(jī)氧化物、粘結(jié)劑以及整個(gè)層所占據(jù)的體積， nc是無(wú)機(jī)氧化物顆粒的平均折射率，H1是粘結(jié)劑的折射率，(2)p+x!+xc = 1(3) Xl/Xc = (Hi1Aic) · (ClcZd1)dc =無(wú)機(jī)氧化物密度Cl1 =粘結(jié)劑密度，Hi1 =層內(nèi)粘結(jié)劑的固體含量mc =層內(nèi)無(wú)機(jī)氧化物的固體含量。在沒(méi)有任何粘結(jié)劑的情況下，根據(jù)定義，孔隙率是p' = p+Xl，也就是說(shuō)該孔隙率對(duì)應(yīng)于若粘結(jié)劑體積被空氣占據(jù)則該層會(huì)具有的孔隙率。ρ和ρ'的值通過(guò)橢圓光度法測(cè)量η而獲得，η。和Ii1折射率是已經(jīng)已知的并且Hi1/ mc的比值通過(guò)實(shí)驗(yàn)設(shè)置。各種折射率在25°C下以589nm波長(zhǎng)進(jìn)行測(cè)定(《 )。優(yōu)選地，所述第一下層，在其初始孔隙率已經(jīng)被填充后，具有至少1. 70，優(yōu)選至少 1.75，更優(yōu)選1.75至1.85范圍內(nèi)的高折射率。當(dāng)沉積第二下層并且其初始孔隙率已經(jīng)被填充，其通常具有70至90nm或250至 290nm的物理厚度。下層中的一種或多種膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物的粒度在5nm至SOnm范圍內(nèi)，優(yōu)選10至 30nmo特別地，無(wú)機(jī)氧化物可以由小尺寸顆粒，S卩10至15nm范圍內(nèi)的顆粒，以及大尺寸顆粒，即30至SOnm范圍內(nèi)的顆粒的混合物組成。
第一下層中的所述一種或多種膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物優(yōu)選選自Ti02、ZrO2, SnO2, Sb203> 103、Tei2O5，以及它們的組合。在一個(gè)具體的實(shí)施方案中，分散的顆粒具有基于Ti02、Sn02、^O2和SW2的復(fù)合結(jié)構(gòu)。在這種結(jié)構(gòu)中，鈦TiO2優(yōu)選來(lái)自金紅石，因?yàn)殁伣鸺t石相具有比銳鈦礦相更小的光活性。選自由 ZnO> IrO2, WO3> Fe203> FeTi03、BaTi4O9, SrTiO3> ZrTiO4, MoO3> C0304、SnO2、祕(mì)基三元氧化物、RuO2、Sb2O4、BaTi409、MgO、CaTiO3、V2O5、Mn2O3、CeO2、Nb2O5、RuS2 組成的組中的其他氧化物或硫?qū)倩镆部杀挥米鞲哒凵渎蕦拥募{米顆粒。特別推薦的膠體實(shí)例包括1120 Z 9 RS_7 A15膠體(折射率為2. 48的復(fù)合TW2 顆粒)或1120 Z膠體(8RX7-A15)(折射率為2. 34的復(fù)合TW2顆粒)。兩種膠體可以從 CCIC公司獲得。粘結(jié)劑通常為不影響所述下層的光學(xué)性能并增強(qiáng)無(wú)機(jī)氧化物顆粒對(duì)基底表面的粘合和粘附的聚合物材料。優(yōu)選的粘結(jié)劑是聚氨酯膠乳以及(甲基)丙烯酸系膠乳，尤其特別是聚氨酯型膠乳。粘結(jié)劑優(yōu)選為聚氨酯膠乳。粘結(jié)劑，當(dāng)存在時(shí)，通常占下層內(nèi)干無(wú)機(jī)氧化物總重量的0. 1至10重量％，更優(yōu)選
0. 1至5重量％。優(yōu)選地，第一和第二下層都不含粘結(jié)劑。第二下層，如果存在，包含至少一種折射率小于1.65的膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物，并且具有至少等于，優(yōu)選大于所述第一下層的初始孔隙率的初始孔隙率。如果第二下層的孔隙率大于第一下層的孔隙率，則會(huì)導(dǎo)致與第一下層相比更多量的上層組合物滲入到第二下層中并填充該第二下層。由于上層的折射率低，因此填充已有的這樣的兩個(gè)下層內(nèi)的不同孔隙率會(huì)造成這兩個(gè)層之間的折射率不同，第二下層的折射率小于第一下層。第二下層，如果存在，優(yōu)選地包含至少一種低折射率膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物
權(quán)利要求
1.一種制造具有抗反射性能的光學(xué)制品的方法，包括以下步驟a)在載體的至少一個(gè)主表面上，通過(guò)施涂包含至少一種折射率大于或等于1.80的膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物以及任選的粘結(jié)劑的溶膠，形成第一下層，該第一下層包含至少一種折射率大于或等于1. 80的膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物以及任選的粘結(jié)劑，具有初始孔隙率；b)任選地，在所述第一下層上，通過(guò)施涂包含至少一種折射率小于1.65的膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物以及任選的粘結(jié)劑的溶膠，形成第二下層，該第二下層具有至少等于，優(yōu)選大于所述第一層的初始孔隙率的初始孔隙率；c)在所述一個(gè)或多個(gè)下層上施涂上層組合物，該上層組合物含折射率小于或等于 1. 50的光學(xué)透明聚合物材料；d)通過(guò)至少部分在步驟(c)中形成的上層組合物的材料和任選地部分所述粘結(jié)劑滲入所述一個(gè)或多個(gè)下層，填充所述一個(gè)或多個(gè)下層的孔隙率，以及形成固化的上層，該固化的上層的厚度的確定要使得所述上層和所述一個(gè)或多個(gè)下層，在所述一個(gè)或多個(gè)下層的初始孔隙率已被填充后，形成雙層抗反射涂層，提供反射系數(shù)Rv <2. 5%的光學(xué)制品。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述雙層抗反射涂層形成疊層，對(duì)于500至600nm 范圍的波長(zhǎng)λ，該疊層的光學(xué)厚度為λ/2-λ/4或λ/2-3 λ/4。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中所述第一下層在其初始孔隙率已被填充后的物理厚度在100至160nm范圍內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的方法，其不包括任何形成第二下層的步驟，并且所述雙層抗反射涂層包括初始孔隙率已被填充的所述第一下層以及所述上層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中所述上層具有的物理厚度在70至90nm范圍內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中所述上層具有的物理厚度在250至^K)nm范圍內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的方法，其包括實(shí)施步驟b)，并且其中上層組合物的所有材料滲入至所述一個(gè)或多個(gè)下層之內(nèi)，以及形成具有孔已被填充的所述第一層和第二層的雙層抗反射涂層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中所述第二下層在其初始孔隙率已被填充后的物理厚度在70至90nm范圍內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中所述第二下層在其初始孔隙率已被填充后的物理厚度在250至^Onm范圍內(nèi)。
10.根據(jù)在前權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的方法，其中所述第一下層在其初始孔隙率已被填充后具有至少1. 70，優(yōu)選至少1. 75的高折射率。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10任一項(xiàng)所述的方法，其中在不存在任何粘結(jié)劑的情況下，所述第一層或第二層的初始孔隙率為至少40體積％。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中在不存在任何粘結(jié)劑的情況下，所述第一層或第二層的初始孔隙率為至少50體積％。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至12任一項(xiàng)所述的方法，其中所述一種或多種膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物的粒度在5至80nm范圍內(nèi)，優(yōu)選10至30nm。
14.根據(jù)權(quán)利要求1至13任一項(xiàng)所述的方法，其中至少一種膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物的溶膠進(jìn)一步包含粘結(jié)劑，其占下層中干無(wú)機(jī)氧化物總重量的0. 1至10重量％。
15.根據(jù)權(quán)利要求1至13任一項(xiàng)所述的方法，其中所述第一下層和第二下層都不含有粘結(jié)劑。
16.根據(jù)權(quán)利要求1至14任一項(xiàng)所述的方法，其中所述粘結(jié)劑是聚氨酯膠乳。
17.根據(jù)在前權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的方法，其中所述第一下層的至少一種膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物選自Ti02、ZrO2, SnO2, Sb2O3> Y2O3> Ta2O5,以及它們的組合。
18.根據(jù)權(quán)利要求1至3和7至17任一項(xiàng)所述的方法，其包括在所述第一下層上通過(guò)施涂包含至少一種折射率小于1. 65的膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物以及任選的粘結(jié)劑的溶膠形成第二下層的步驟，該第二下層具有至少等于所述第一下層的初始孔隙率的初始孔隙率，所述第二下層包含至少一種低折射率膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物^5 $1.50)。
19.根據(jù)在前權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的方法，其中所述上層組合物包含至少一種環(huán)氧烷氧基硅烷水解產(chǎn)物。
20.根據(jù)在前權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的方法，其中所述一個(gè)或多個(gè)下層和所述上層通過(guò)浸涂和/或旋涂沉積，優(yōu)選地通過(guò)浸涂沉積。
21.根據(jù)在前權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的方法，其包括額外的沉積防污層的步驟。
22.根據(jù)在前權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的方法，其中所述載體是有機(jī)或無(wú)機(jī)玻璃基底。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的方法，其中所述有機(jī)玻璃基底選自二甘醇雙(碳酸烯丙酯)的聚合物和共聚物，均聚碳酸酯和共聚碳酸酯，聚(甲基)丙烯酸酯，聚硫代(甲基) 丙烯酸酯，聚氨酯，聚硫氨酯，聚環(huán)氧化物，聚環(huán)硫化物，以及它們的組合。
24.根據(jù)權(quán)利要求22或23所述的方法，其中所述基底的折射率在1.50至1. 80范圍內(nèi)，優(yōu)選1. 60至1. 75。
25.根據(jù)在前權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的方法，其中所述載體在沉積所述下層之前在其至少一個(gè)主表面上涂有耐磨涂層。
26.根據(jù)在前權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的方法，其中所述載體涂有具有初始孔隙率和初始厚度的初始層，在該初始層上直接沉積形成所述第一下層的膠態(tài)無(wú)機(jī)金屬氧化物溶膠，并且所述上層組合物的材料填充該初始層的孔隙率，由此所述層在其孔隙率已被填充后形成具有中間折射率的層，與所述一個(gè)或多個(gè)下層和所述上層形成三層MI/HI/LI抗反射涂層。
27.一種光學(xué)制品，其包含在其至少一個(gè)主表面上的通過(guò)根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的方法獲得的抗反射涂層。
28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的光學(xué)制品，其中該制品是眼科透鏡，特別是眼鏡。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種制造具有防眩性能的光學(xué)制品的方法，包括以下步驟a)在介質(zhì)的至少一個(gè)主表面上通過(guò)施涂至少一種折射率大于或等于1.80的膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物的基質(zhì)形成具有初始孔隙率；b)任選地，在第一下層上，通過(guò)施涂至少一種折射率小于1.65的膠態(tài)無(wú)機(jī)氧化物的基質(zhì)，形成第二下層，該第二下層具有至少等于所述第一層的初始孔隙率的初始孔隙率；c)在底層上施涂上層組合物，該上層組合物含折射率小于或等于1.50的光學(xué)透明聚合物材料；d)通過(guò)至少部分在步驟(c)中形成的上層組合物的材料滲入所述底層，填充所述底層的孔隙率，以及形成固化的上層，該固化的上層的厚度的確定要使得上層和所述底層，在底層的初始孔隙率被填充后，形成雙層防眩涂層，在400至700nm的范圍內(nèi)，優(yōu)選450至650nm。
文檔編號(hào)G02B1/11GK102227653SQ200980147786
公開(kāi)日2011年10月26日 申請(qǐng)日期2009年11月26日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月27日
發(fā)明者A·克雷捷, G·凱勒, P·瓦尼克豪特 申請(qǐng)人:埃西勒國(guó)際通用光學(xué)公司