專利名稱：薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料。
背景技術(shù)：
一般而言，作為薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料，通常使用干膜型光敏轉(zhuǎn)印材料(下文，稱為 “干膜光致抗蝕劑”)。通常，干膜光致抗蝕劑一般用于形成印刷線路板、印刷電路板以及集成電路組件， 其包括支持膜、光致抗蝕劑層和覆蓋膜三層。依據(jù)光學(xué)原理的不同，干膜光致抗蝕劑包括負(fù)型干膜光致抗蝕劑和正型干膜光致 抗蝕劑。對(duì)于負(fù)型干膜光致抗蝕劑，在其曝光部位進(jìn)行光交聯(lián)反應(yīng)，用堿洗去其未曝光部 位，從而在其上形成光致抗蝕劑圖形。對(duì)于正型干膜光致抗蝕劑，在其曝光部位進(jìn)行光降解 反應(yīng)，并用堿顯影，從而光致抗蝕劑圖形在未曝光部位上形成。對(duì)于正型干膜光致抗蝕劑，光致抗蝕劑層包括通過(guò)光反應(yīng)的光敏化合物和堿溶性 樹(shù)脂，并因?yàn)楣庵驴刮g劑所制成的溶液形成膜而具有預(yù)定的粘合性。在干膜光致抗蝕劑中，支持膜用于支撐光致抗蝕劑層，并使具有粘合性的光致抗 蝕劑層在光致抗蝕劑層曝光時(shí)易于處理。進(jìn)一步地，在干膜光致抗蝕劑中，覆蓋膜在未形成 有支持膜的光致抗蝕劑層上形成，且用于防止光致抗蝕劑層被損壞。根據(jù)使用干膜光致抗蝕劑形成圖形的方法，例如正型干膜光致抗蝕劑，當(dāng)此方法 應(yīng)用于印刷電路板時(shí)，首先，將覆蓋膜從正型干膜光致抗蝕劑上分離，然后使正型干膜光致 抗蝕劑在覆銅層壓板(Copper Clad Laminate,CCL)上成層，然后使用具有預(yù)定圖形的掩模 通過(guò)使用UV照射層疊有覆蓋膜的CCL而使其曝光，而后曝光過(guò)的CCL通過(guò)用適當(dāng)溶劑洗滌 而顯影。通常，在光致抗蝕劑層粘合有支持膜的情況下進(jìn)行曝光。因此，在這種情形下，由 于光致抗蝕劑層和掩模由于支持膜的厚度彼此之間相隔開(kāi)，而存在分辨率降低的問(wèn)題。隨著印刷電路板的致密化和半導(dǎo)體封裝技術(shù)的發(fā)展，電路線寬致密化，從而強(qiáng)烈 地需要可應(yīng)用于這種精細(xì)印刷電路板的具有高分辨率的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料。同時(shí)，對(duì)于一些正型干膜光致抗蝕劑，由于形成膜的溶劑殘留在光致抗蝕劑層中， 所以在將支持膜分離后，該正型干膜光致抗蝕劑被曝光。然而，在這種情形中，存在在接觸 型曝光時(shí)掩模和光致抗蝕劑層相互粘著的問(wèn)題。進(jìn)一步地，通常，在光敏性方面，當(dāng)光致抗蝕劑層進(jìn)行光反應(yīng)時(shí)，因?yàn)閷?duì)防止干膜 光致抗蝕劑曝露于空氣中有利，所以考慮到分辨率，在支持膜分離后，使干膜光致抗蝕劑曝 光。然而，在此情形中，存在光敏性變差的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問(wèn)題因此，為解決上述問(wèn)題而完成本發(fā)明，本發(fā)明意圖提供一種薄膜型可光降解的轉(zhuǎn) 印材料，通過(guò)該薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，在去除支持膜后，可以進(jìn)行曝光。
本發(fā)明還意圖提供一種薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，其通過(guò)在曝光時(shí)使掩模與光 敏樹(shù)脂層間的距離最小化而可以提高分辨率。此外，本發(fā)明意圖提供一種薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，其可消除在曝光時(shí)由包 含在支持膜內(nèi)的粒子所引起的不良影響。技術(shù)方案本發(fā)明一方面提供一種薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，包括支持膜、樹(shù)脂保護(hù)層、 可光降解的光致抗蝕劑層和覆蓋膜，其中，所述樹(shù)脂保護(hù)層的粘合力為0. 05k&或小于 0. 05k^，該粘合力定義為，在所述支持膜已從樹(shù)脂保護(hù)層上分離出，然后將一單獨(dú)的PET膜 層壓于樹(shù)脂保護(hù)層上后，將該P(yáng)ET膜從樹(shù)脂保護(hù)層上由距起始剝離點(diǎn)5cm剝離到距起始剝 離點(diǎn)8cm所需要的力。在薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料中，所述樹(shù)脂保護(hù)層可包含重均分子量為5，000 300, 000的丙烯酸聚合物。所述樹(shù)脂保護(hù)層可包含丙烯酸聚合物和聚亞烷基二醇，其中所述丙烯酸聚合物的 重均分子量為5，000 300，000。所述樹(shù)脂保護(hù)層可具有0. 001 10 μ m的厚度。所述樹(shù)脂保護(hù)層可為堿性可顯影層。所述可光降解的光致抗蝕劑層可包含堿溶性樹(shù)脂和二疊氮化物光敏化合物。所述堿溶性樹(shù)脂可為酚醛清漆樹(shù)脂。所述堿溶性樹(shù)脂可為甲酚酚醛清漆樹(shù)脂。該甲酚酚醛清漆樹(shù)脂可具有重均分子量 2，000 30，000(基于凝膠滲透色譜法(Gel Permeation Chromatography, GPC)測(cè)定)。 進(jìn)一步地，該甲酚酚醛清漆樹(shù)脂可具有間甲酚和對(duì)甲酚重量比為4 6 6 4的混合比。 進(jìn)一步地，該甲酚酚醛清漆樹(shù)脂可為一種重均分子量為8，000 30，000 (基于GPC測(cè)定) 的甲酚酚醛清漆樹(shù)脂與重均分子量為2，000 8，000 (基于GPC測(cè)定)的酚醛清漆樹(shù)脂按 重量7 3 9 1的混合比混合的樹(shù)脂。所述二疊氮化物光敏化合物可包括選自2，3，4，4'-四羥基二苯甲酮_1，2_萘醌 二疊氮-5-磺酸酯、2，3,4-三羥基二苯甲酮-1，2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯和(1-[1_ (4-羥 苯基)異丙基]-4-[l，l-雙(4-羥苯基)乙基]苯)-1，2_萘醌二疊氮-5-磺酸酯中的一 種或多種。所述可光降解的光致抗蝕劑層可包含選自2，3，4_三羥基二苯甲酮、2，3，4， 4'-四羥基二苯甲酮和1-[1-(4_羥苯基)異丙基]-4-[l，l-雙(4-羥苯基)乙基]苯中 的一種或多種敏感性增強(qiáng)劑。所述覆蓋膜可具有15 30 μ m的厚度。本發(fā)明的另一方面提供一種用于顯示裝置的基板，在該基板上使用所述薄膜型可 光降解的轉(zhuǎn)印材料來(lái)形成圖形。有益效果跟據(jù)本發(fā)明的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，通過(guò)在曝光時(shí)使掩模與光敏樹(shù)脂層間 的距離最小化，而可以提高分辨率。進(jìn)一步地，跟據(jù)本發(fā)明的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，可防止由于去除支持膜而 導(dǎo)致的光敏性劣化，并可進(jìn)一步提高分辨率。
進(jìn)一步地，跟據(jù)本發(fā)明的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，在曝光前可將支持膜分離 開(kāi)，可以片單元的方式進(jìn)行加工而不損壞光致抗蝕劑層，或卷對(duì)卷的工藝可以應(yīng)用。更進(jìn)一步地，跟據(jù)本發(fā)明的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，因?yàn)閷⒌讓尤コ缓罅?即進(jìn)行曝光過(guò)程，在可不進(jìn)行外體去除過(guò)程的情況下進(jìn)行曝光過(guò)程，從而工序可簡(jiǎn)化，并降 低生產(chǎn)成本。


本發(fā)明的上述和其它目的、特征和優(yōu)點(diǎn)從下面結(jié)合附圖的詳細(xì)描述中將更清楚地被理解默U圖ι為顯示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料的層壓結(jié)構(gòu)的截面圖；和圖2為顯示在曝光時(shí)應(yīng)用了薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料的顯示裝置基板的截面圖。附圖中附圖標(biāo)記的說(shuō)明10覆蓋膜20光致抗蝕劑層30樹(shù)脂保護(hù)層40支持膜50撓性覆銅層壓板(FCCL)60掩模
具體實(shí)施例方式在下文中，將參考附圖詳細(xì)地描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案。圖1為顯示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料的層壓結(jié)構(gòu)的截面圖。根 據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料具有覆蓋膜10、光致抗蝕劑層20、樹(shù)脂保護(hù)層30 和支持膜40順序?qū)盈B的層壓結(jié)構(gòu)。圖2為顯示在曝光時(shí)應(yīng)用了薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料的顯示裝置基板的截面圖。當(dāng)該 薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料應(yīng)用于顯示裝置的基板如印刷電路板或印刷線路板等時(shí)，將覆蓋膜10 從薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料上去除，然后將去除了覆蓋膜10的薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料層壓于覆 銅層壓板50上，使得光致抗蝕劑層20設(shè)置于覆銅層壓板50上，然后從薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材 料上去除支持膜40，將掩模60放置于樹(shù)脂保護(hù)層30上，而后可進(jìn)行曝光過(guò)程和顯影過(guò)程。在薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料層壓于覆銅層壓板50上之后，如果需要，可進(jìn)行預(yù)烘焙工 序。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料包括形成于支持膜40之下的樹(shù)脂保 護(hù)層30。因此，與在支持膜40上直接進(jìn)行曝光時(shí)相比，在去除支持膜40后，樹(shù)脂保護(hù)層30 能夠進(jìn)行接觸式曝光，用于提高分辨率。為此，樹(shù)脂保護(hù)層30必須易于從支持膜40上釋放，且必須不與掩模粘著。進(jìn)一步 地，樹(shù)脂保護(hù)層30要求具有低粘著性，從而在曝光后片單元加工或卷對(duì)卷加工時(shí)，即使當(dāng) 樹(shù)脂保護(hù)層相互層疊或覆銅層壓板和樹(shù)脂保護(hù)層相互接觸時(shí)，也不出現(xiàn)質(zhì)量低劣。特別地，在支持膜已從樹(shù)脂保護(hù)層上分離后樹(shù)脂保護(hù)層被暴露，當(dāng)在這種情況下 進(jìn)行曝光時(shí)，需要防止樹(shù)脂保護(hù)層與掩模粘著。聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜或玻璃膜等可用作掩模。因此，本發(fā)明的樹(shù)脂保護(hù)層要求易于從用作曝光用掩模的PET膜上釋放出， 該P(yáng)ET膜在支持膜從樹(shù)脂保護(hù)層上分離后層疊于樹(shù)脂保護(hù)層上。為此，在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料中，優(yōu)選所述樹(shù)脂保護(hù)層的 粘合力等于或小于0. 05k&，該粘合力定義為在所述支持膜已從樹(shù)脂保護(hù)層上分離出，然 后將一單獨(dú)的PET膜層壓于樹(shù)脂保護(hù)層上后，將該P(yáng)ET膜從樹(shù)脂保護(hù)層上由距起始剝離點(diǎn) 5cm剝離到距起始剝離點(diǎn)8cm所需要的力。具體地，所述樹(shù)脂保護(hù)層的粘合力按如下測(cè)定。 首先，將保護(hù)層從具有寬度3cm、長(zhǎng)度20cm的薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料樣品中去除，然后將薄膜 型光敏轉(zhuǎn)印材料樣品在溫度110°C和壓力4kgf/cm2下以速率2m/min層壓于覆銅層壓板上， 而后從層壓的薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料樣品中去除支持膜。接著，具有寬度4cm、長(zhǎng)度25cm、厚 度19 μ m用作曝光掩模的PET膜，在溫度110°C和壓力4kgf/cm2下以速率2m/min層壓于已 去除支持膜的薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料樣品上，然后將該用作曝光掩模的PET膜開(kāi)始從薄膜型 光敏轉(zhuǎn)印材料樣品上剝離，其中使用萬(wàn)能試驗(yàn)機(jī)測(cè)定將該P(yáng)ET膜從樹(shù)脂保護(hù)層上由距起始 剝離點(diǎn)5cm剝離到距起始剝離點(diǎn)8cm所需要的力。在本發(fā)明中，上述用作曝光掩模的PET膜可以是在曝光工序時(shí)用來(lái)獲得電路并由 PET制成的掩模。當(dāng)由上述測(cè)定方法所得到的樹(shù)脂保護(hù)層的粘合力大于0. 05kgf時(shí)，用作曝光掩模 的PET膜不易于從樹(shù)脂保護(hù)層剝離，且樹(shù)脂保護(hù)層被撕破，從而很難獲得由在去除支持膜 之后曝光所帶來(lái)的有益效果。同時(shí)，優(yōu)選在曝光過(guò)程后的顯影過(guò)程中，樹(shù)脂保護(hù)層與曝光的光致抗蝕劑層一起 去除。也就是，優(yōu)選樹(shù)脂保護(hù)層為堿性可顯影層。在此，所述“堿性可顯影層”意思是，當(dāng)樹(shù) 脂保護(hù)層使用氫氧化四甲銨(tetramethyl ammoniumhydroxide, TMAH)或碳酸鈉等來(lái)顯影 時(shí)，對(duì)于10秒或少于10秒每1 μ m樹(shù)脂保護(hù)層厚度具有100%可顯影性的層。如果樹(shù)脂保護(hù)層滿足上述要求，則樹(shù)脂保護(hù)層的組成不特別限定。例如，所述樹(shù)脂 保護(hù)層可由選自聚乙烯醚順丁烯二酸酐、纖維素醚、羧烷基纖維素、羧烷基淀粉、聚乙烯醇、 聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯酰胺、聚酰胺、聚丙烯酸、聚乙二醇、聚丙二醇、明膠、環(huán)氧乙烷聚合 物、淀粉及其水溶性鹽中的水溶性聚合物形成。特別地，就吸濕、光敏性和分辨率的穩(wěn)定性而言，所述樹(shù)脂保護(hù)層由聚丙烯酸(即 丙烯酸聚合物)形成是有利的。更特別地，考慮到保護(hù)層的穩(wěn)定性和成膜性能，所述樹(shù)脂保 護(hù)層由重均分子量為5，000 300，000的丙烯酸聚合物形成是更有利的。就粘著性提高而言，所述樹(shù)脂保護(hù)層可包含丙烯酸聚合物(其重均分子量為 5，000 300，000)和聚亞烷基二醇。在本發(fā)明中，所述聚亞烷基二醇可為聚乙二醇或聚丙 二醇等。同時(shí)，在使用根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料的情況中，在薄膜型光 敏轉(zhuǎn)印材料上形成有樹(shù)脂保護(hù)層的狀態(tài)下進(jìn)行曝光過(guò)程。因此，為了提高分辨率，優(yōu)選樹(shù)脂 保護(hù)層的厚度很薄，更優(yōu)選為0. 001 ΙΟμπι。不特別限制形成樹(shù)脂保護(hù)層的方法。所述樹(shù)脂保護(hù)層可通過(guò)如下方法形成將形 成樹(shù)脂保護(hù)層的組合物溶解在有機(jī)溶劑和水的混合溶劑中而形成混合溶液，將該混合溶液 涂布于支持膜上，而后干燥所涂布的混合溶液，從而形成樹(shù)脂保護(hù)層。在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料中，光致抗蝕劑層20可包含堿溶性樹(shù)脂和二疊氮化物光敏化合物。具體地，所述光致抗蝕劑層可由堿溶性樹(shù)脂的酚醛清漆 樹(shù)脂、更優(yōu)選甲酚酚醛清漆樹(shù)脂制成。所述酚醛清漆樹(shù)脂可通過(guò)僅酚或醛、酸催化劑和酚的混合物縮聚而制得。在這種情況下，所述酚可包括但不限于一元酚，例如苯酚、鄰甲酚、間甲酚、對(duì)甲 酚、2，3-二甲苯酚、2，5-二甲苯酚、3，4-二甲苯酚、3，5-二甲苯酚、2，3，5-三甲基苯酚、 4-叔丁基苯酚、2-叔丁基苯酚、3-叔丁基苯酚和4-甲基-2-叔丁基苯酚等；多元酚，例如 2-萘酚、1，3-二羥基萘、1，7-二羥基萘、1，5-二羥基萘、間苯二酚、鄰苯二酚、對(duì)苯二酚、雙 酚A、間苯三酚和1，2，3_苯三酚等。它們可單獨(dú)使用或組合使用，優(yōu)選的是，間甲酚和對(duì)甲 酚的組合。所述醛可包括但不限于甲醛，三聚甲醛，多聚甲醛，苯甲醛，乙醛，丙醛，苯乙醛， α -或β -苯丙醛，鄰、間或?qū)αu基苯甲醛、戊二醛和對(duì)苯二甲醛等。它們可單獨(dú)使用或組合 使用。所述甲酚酚醛清漆樹(shù)脂可具有重均分子量2，000 30，000 (基于GPC測(cè)定)。因 為甲酚酚醛清漆樹(shù)脂的材料性質(zhì)如光敏性和膜保持率(film remaining rate)等取決于間 甲酚和對(duì)甲酚的混合比而變化，所以間甲酚和對(duì)甲酚可以按重量4 6 6 4的混合比混合ο當(dāng)間甲酚在甲酚酚醛清漆樹(shù)脂中的含量偏離上述范圍時(shí)，存在光敏性提高而膜保 持率快速下降的問(wèn)題。當(dāng)對(duì)甲酚在甲酚酚醛清漆樹(shù)脂中的含量偏離上述范圍時(shí)，存在光敏 性下降的問(wèn)題。在甲酚酚醛清漆樹(shù)脂中，具有間甲酚和對(duì)甲酚按重量4 6 6 4混合比的甲 酚酚醛清漆樹(shù)脂可單獨(dú)地使用，更優(yōu)選地，其可與另一樹(shù)脂一起使用。在這種情況下，優(yōu)選 具有重均分子量8，000 30，000的甲酚酚醛清漆樹(shù)脂與具有重均分子量2，000 8，000 的酚醛清漆樹(shù)脂以混合比73 91混合。在本發(fā)明中，“重均分子量”定義為聚苯乙烯當(dāng)量的轉(zhuǎn)換值，其由凝膠滲透色譜法 (GPC)測(cè)定。同時(shí)，包含于光致抗蝕劑層中的二疊氮化物光敏化合物作為溶解抑制劑，用來(lái)降 低堿溶性樹(shù)脂在堿中的溶解度。當(dāng)用光照射光致抗蝕劑層時(shí)，二疊氮化物光敏化合物轉(zhuǎn)變 成堿溶性物質(zhì)，從而二疊氮化物光敏化合物用于降低堿溶性樹(shù)脂在堿中的溶解度。這樣， 由于因光照射而引起的溶解度變化，本發(fā)明的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料的曝光部位被顯影。所述二疊氮化物光敏化合物可通過(guò)多羥化合物和醌二疊氮磺酸化合物 (quinonediazide sulfonic acid)的酯化反應(yīng)來(lái)合成。在酯化反應(yīng)中，所述二疊氮化物光 敏化合物可通過(guò)如下方法得到使用堿性催化劑，例如二氧雜環(huán)己烷、丙酮、四氫呋喃、甲基 乙基甲酮、N-甲基吡咯烷酮、氯仿、三乙胺、N-甲基嗎啉、N-甲基哌嗪或4-二甲基氨基吡 啶，使多羥基化合物和醌二疊氮磺酸化合物縮聚，然后洗滌、精制和干燥縮聚產(chǎn)物。在這種情況下，醌二疊氮磺酸化合物的例子可包括鄰-醌二疊氮磺酸化合物，例 如1，2-苯醌二疊氮-4-磺酸、1，2-萘醌二疊氮-4-磺酸、1，2-苯醌二疊氮-5-磺酸和1， 2-萘醌二疊氮-5-磺酸等，以及其衍生物。所述醌二疊氮磺酸化合物用作溶解抑制劑，用來(lái)降低堿溶性樹(shù)脂在堿中的溶解8度。然而，醌二疊氮磺酸化合物在曝光時(shí)分解以具有堿可溶解性，從而促進(jìn)堿溶性樹(shù)脂在堿 中的溶解。所述多羥基化合物的例子可包括三羥基二苯甲酮，例如2，3，4_三羥基二苯甲 酮、2，2'，3-三羥基二苯甲酮、2，3，4'-三羥基二苯甲酮等；四羥基二苯甲酮，例如2，3，4， 4'-四羥基二苯甲酮、2，2' ,4,4'-四羥基二苯甲酮、2，3，4，5_四羥基二苯甲酮等；五羥 基二苯甲酮，例如2，2' ,3,4,4'-五羥基二苯甲酮、2，2'，3，4，5-五羥基二苯甲酮等；六 羥基二苯甲酮，例如2，3，3' ,4,4' ,5'-六羥基二苯甲酮、2，2' ,3,3' ,4,5'-六羥基二 苯甲酮等；沒(méi)食子酸烷基酯；和羥基黃酮(oxyflavone)等。所述二疊氮化物光敏化合物的具體實(shí)例可包括選自2，3，4，4'-四羥基二苯甲 酮-1，2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、2，3,4-三羥基二苯甲酮-1，2-萘醌二疊氮_5_磺酸酯和 (1-[1-(4_羥苯基)異丙基]-4-[l，l-雙(4-羥苯基)乙基]苯)-1，2_萘醌二疊氮-5-磺 酸酯中的一種或多種就可顯影性和溶解性而言，基于100重量份的堿溶性樹(shù)脂，包含于光致抗蝕劑層 中的二疊氮化物光敏化合物的量為30 80重量份是有利的。同時(shí)，在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料中，所述光致抗蝕劑層可進(jìn) 一步包含敏感性增強(qiáng)劑以提高其敏感性。所述敏感性增強(qiáng)劑可為選自2，3，4_三羥基二苯 甲酮、2，3，4，4'-四羥基二苯甲酮和1-[1-(4_羥苯基)異丙基]-4-[l，l-雙(4-羥苯基) 乙基]苯中的一種或多種。就光敏性提高和窗口處理邊緣(window process margin)而言，基于100重量份 的堿溶性樹(shù)脂，包含于光致抗蝕劑層中的敏感性增強(qiáng)劑的量為3 15重量份是有利的。此外，所述光致抗蝕劑層可進(jìn)一步包含均化劑、填充劑、抗氧化劑和其它成分或添 加劑。同時(shí)，包含堿溶性樹(shù)脂和二疊氮化物光敏化合物等的組合物分散于溶劑中而形成 溶液，而后將該溶液涂布于基板上。在這種情況下，所述溶劑可以為選自由乙酸乙酯、乙酸 丁酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、二甘醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙酮、甲基乙基甲 酮、乙醇、甲醇、丙醇、異丙醇、苯、甲苯、環(huán)戊酮、環(huán)己酮、乙二醇、二甲苯、乙二醇單乙醚和二 甘醇單乙醚組成的組中的一種或多種。此外，在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料中，所述支持膜40必須具有 適于正型干膜光致抗蝕劑的材料性質(zhì)。支持膜40的例子可包括但不限于聚碳酸酯膜、聚 乙烯(PE)膜、聚丙烯(PP)膜、定向聚丙烯(OrientedPolypropylene, 0ΡΡ)膜、聚對(duì)苯二甲 酸乙二醇酯(PET)膜、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)膜、乙烯醋酸乙烯酯(Ethylene Vinyl Acetate,EVA)膜、聚乙烯基類(polyvinyl)膜、其它適合的聚烯烴膜和環(huán)氧樹(shù)脂膜等。特別 地，優(yōu)選聚烯烴膜包括聚丙烯(PP)膜、聚乙烯(PE)膜和乙烯醋酸乙烯酯(EVA)膜等。優(yōu)選 所述聚乙烯基類膜包括聚氯乙烯(PVC)膜、聚醋酸乙烯酯(PVA)膜和聚乙烯醇(Polyvinyl Alcohol,PV0H)膜等。優(yōu)選地，聚苯乙烯膜包括聚苯乙烯(Polystyrene，PQ膜和丙烯腈-丁 二烯-苯乙烯(ABQ膜等。特別地，所述支持膜40可為透明的，從而光可透過(guò)而作用于光 致抗蝕劑層。支持膜40可具有約10 50 μ m厚度，優(yōu)選約15 50 μ m，更優(yōu)選約15 25 μ m,從而作為支撐正型干膜光致抗蝕劑形狀的框架。此外，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料可進(jìn)一步包括在光致抗蝕劑層20另一面上的覆蓋膜10。該覆蓋膜10用于阻擋空氣并保護(hù)光致抗蝕劑層10免受異物。覆 蓋膜10可由聚乙烯膜、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯膜或聚丙烯膜等形成。進(jìn)一步地，覆蓋膜10 可具有15 30 μ m的厚度。同時(shí)，不特別限制根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料的制造方 法。例如，提供一種制造薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料的方法，該方法包括將用于形成樹(shù)脂 保護(hù)層30的組合物涂布在支持膜40上，然后干燥該組合物而形成樹(shù)脂保護(hù)層30 ；將包含 堿溶性樹(shù)脂和二疊氮化物光敏化合物的組合物與預(yù)定量的溶劑混合，以形成混合溶液，將 該混合溶液涂布于樹(shù)脂保護(hù)層30上以形成光致抗蝕劑層20 ；和將覆蓋膜10施加到光致抗 蝕劑層20上。另外，提供另一種制造薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料的方法，該方法包括在 支持膜40上形成樹(shù)脂保護(hù)層30 ；在覆蓋膜10上形成光致抗蝕劑層20 ；和將樹(shù)脂保護(hù)層30 與光致抗蝕劑層20粘合以使它們相互面對(duì)。在本發(fā)明中，用于形成樹(shù)脂保護(hù)層的組合物涂 布在支持膜上的方法，或用于形成光致抗蝕劑層的混合溶液涂布在樹(shù)脂保護(hù)層上的方法可 包括但不限于滾涂法、麥耶棒涂法(Meyerrod coatng method)、凹版印刷法和噴涂法等。 在這些方法中，使涂布于各自膜上的組合物干燥，以使溶劑從組合物中去除，從而形成相應(yīng) 層。如果需要，所涂布的組合物可以進(jìn)行加熱和固化。此外，使用本發(fā)明的光致抗蝕劑樹(shù)脂膜形成圖形的方法包括以下步驟(I)在玻 璃基板上形成干膜光致抗蝕劑，以使干膜光致抗蝕劑層的光致抗蝕劑層面對(duì)玻璃基板，同 時(shí)將支持膜從光致抗蝕劑層上分離出；(II)用UV透過(guò)掩?；蛑苯诱丈涓赡す庵驴刮g劑；和 (III)去除樹(shù)脂保護(hù)層和被照射的光致抗蝕劑層通過(guò)顯影工序而形成圖形化的光致抗蝕劑膜。在步驟(I)中，正型干膜光致抗蝕劑的光致抗蝕劑層粘合于玻璃基板上，以使它 們相互面對(duì)，從而形成正型光致抗蝕劑樹(shù)脂膜。在這種情況下，將支持膜從正型干膜光致抗 蝕劑中分離出，使得樹(shù)脂保護(hù)層露出在正型干膜光致抗蝕劑的表面上。如果需要，在步驟(II)前或后可進(jìn)一步進(jìn)行烘焙工序，以提高圖形化光致抗蝕劑 膜與基板之間的粘著性，使得在步驟(III)中進(jìn)行顯影過(guò)程時(shí)圖形化光致抗蝕劑膜不會(huì)被 洗去。更具體而言，在步驟(II)之前，在基板上形成正型光致抗蝕劑樹(shù)脂膜，然后將支 持膜從正型光致抗蝕劑樹(shù)脂膜中分離出，而后可進(jìn)行烘焙工序以提高正型光致抗蝕劑樹(shù)脂 膜與基板之間的粘著性。另外，在步驟(II)之后，將支持膜從正型光致抗蝕劑樹(shù)脂膜中分 離出，然后可進(jìn)行烘焙工序以提高正型光致抗蝕劑樹(shù)脂膜與基板之間的粘著性。此外，將所 述支持膜從正型光致抗蝕劑樹(shù)脂膜中分離出，然后對(duì)分離后的正型光致抗蝕劑樹(shù)脂膜進(jìn)行 烘焙，以提高正型光致抗蝕劑樹(shù)脂膜與基板之間的粘著性。即，取決于正型光致抗蝕劑樹(shù)脂 膜的要求、溶劑體系的復(fù)雜性和沸點(diǎn)的不同，可重復(fù)地進(jìn)行烘焙工序。如上所述，通過(guò)步驟(I)、(II)和(III)，所希望的圖形化光致抗蝕劑膜可形成。作為用于本發(fā)明的正型光致抗蝕劑樹(shù)脂膜顯影的顯影劑，可使用2. 38%的氫氧化 四甲銨(TMAH)。實(shí)施例下文，參考以下實(shí)施例將更詳細(xì)地描述本發(fā)明。然而，本發(fā)明的范圍不局限于下面 的實(shí)施例中。
<實(shí)施例1 3>(a)重均分子量為70，000和固體含量為40%的丙烯酸聚合物通過(guò)使甲基丙烯酸、 甲基丙烯酸甲酯(methylmethacrylate，MMA)和苯乙烯聚合而制備，其中，甲基丙烯酸、甲 基丙烯酸甲酯和苯乙烯按重量以20 70 10的混合比彼此混合，反應(yīng)條件是，甲基乙基 甲酮(MEK)用作溶劑，的偶氮二異丁腈(AIBN)用作聚合引發(fā)劑，反應(yīng)溫度為80V，反應(yīng) 時(shí)間為4小時(shí)，且3%的偶氮二異丁腈(AIBN)用作后引發(fā)劑。(b)如表1所示，將上述丙烯酸聚合物與PEG400和MEK混合，而后采用機(jī)械攪拌器 攪拌，得到用于樹(shù)脂保護(hù)層的組合物。接著，使用涂布棒將用于樹(shù)脂保護(hù)層的組合物涂布于 厚度為19 μ m的支持膜(PET)上，然后使用熱空氣烘箱在80°C溫度下干燥10分鐘，而形成 厚度為2ym的樹(shù)脂保護(hù)層。(c)溶液制備，該溶液包含作為堿溶性樹(shù)脂的甲酚酚醛清漆樹(shù)脂，其中間甲酚和 對(duì)甲酚的混合比按重量為4 6，重均分子量為8，000的甲酚酚醛清漆樹(shù)脂和重均分子量 為2，000酚醛清漆樹(shù)脂以按重量7 3的混合比混合；基于100重量份的堿溶性樹(shù)脂，34 重量份的2，3，4-三羥基二苯甲酮-1，2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯作為光敏化合物，3. 6重量 份的2，3，4_三羥基二苯甲酮作為敏感性增強(qiáng)劑，165重量份的甲基乙基甲酮作為低沸點(diǎn)溶 劑，和0. 5重量份的含氟硅樹(shù)脂作為脫模劑。使用孔隙尺寸為0. 2 μ m的微孔鐵氟隆過(guò)濾器 來(lái)過(guò)濾所制備的溶液，以去除不溶性物質(zhì)，從而制備用于形成光致抗蝕劑層的溶液。(d)使用涂布棒將用于形成光致抗蝕劑層的溶液涂布于步驟(b)中所形成的樹(shù)脂 保護(hù)層上，然后使用熱空氣烘箱在80°C溫度下干燥6分鐘，形成厚度為5 μ m的光致抗蝕劑 層。接著，該光致抗蝕劑層用厚度為23 μ m的聚乙烯膜覆蓋，以保護(hù)包含于光致抗蝕劑層中 的光敏樹(shù)脂組合物，從而制成薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料。[表 1]
權(quán)利要求
1.一種薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，包括支持膜；樹(shù)脂保護(hù)層；可光降解的光致抗蝕劑層；和覆蓋膜，其中，所述樹(shù)脂保護(hù)層的粘合力為0. 05k&或小于0. 05kgf，該粘合力定義為，在所述支 持膜已從樹(shù)脂保護(hù)層上分離出，然后將一單獨(dú)的PET膜層壓于樹(shù)脂保護(hù)層上后，將該P(yáng)ET膜 從樹(shù)脂保護(hù)層上由距起始剝離點(diǎn)5cm剝離到距起始剝離點(diǎn)8cm所需要的力。
2.如權(quán)利要求1所述的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，其中，所述樹(shù)脂保護(hù)層包含重均 分子量為5，000 300，000的丙烯酸聚合物。
3.如權(quán)利要求1所述的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，其中，所述樹(shù)脂保護(hù)層包含丙烯 酸聚合物和聚亞烷基二醇，所述丙烯酸聚合物的重均分子量為5，000 300，000。
4.如權(quán)利要求1所述的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，其中，所述樹(shù)脂保護(hù)層的厚度為 0. 001 ΙΟμ 。
5.如權(quán)利要求1 4中任一項(xiàng)所述的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，其中，所述樹(shù)脂保護(hù) 層為堿性可顯影層。
6.如權(quán)利要求1 4中任一項(xiàng)所述的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，其中，所述可光降解 的光致抗蝕劑層包括堿溶性樹(shù)脂和二疊氮化物光敏化合物。
7.如權(quán)利要求6所述的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，其中，所述堿溶性樹(shù)脂為酚醛清 漆樹(shù)脂。
8.如權(quán)利要求6所述的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，其中，所述堿溶性樹(shù)脂為甲酚酚 醛清漆樹(shù)脂。
9.如權(quán)利要求8所述的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，其中，所述甲酚酚醛清漆樹(shù)脂的 重均分子量為2，000 30，000，是基于GPC測(cè)定的。
10.如權(quán)利要求9所述的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，其中，所述甲酚酚醛清漆樹(shù)脂具 有間甲酚和對(duì)甲酚按重量4 6 6 4的混合比。
11.如權(quán)利要求10所述的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，其中，所述甲酚酚醛清漆樹(shù)脂 為一種基于GPC測(cè)定重均分子量為8，000 30，000的甲酚酚醛清漆樹(shù)脂和基于GPC測(cè)定重 均分子量為2，000 8，000的酚醛清漆樹(shù)脂按重量7 3 9 1的混合比混合的樹(shù)脂。
12.如權(quán)利要求6所述的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，其中，所述二疊氮化物光敏化合 物包括選自2，3，4，4'-四羥基二苯甲酮-1，2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、2，3,4-三羥基二 苯甲酮-1，2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯和(1-[1-(4_羥苯基)異丙基]-4-[1，1-雙(4-羥苯 基)乙基]苯)-1，2_萘醌二疊氮-5-磺酸酯中的一種或多種。
13.如權(quán)利要求1或6所述的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，其中，所述可光降解的光致 抗蝕劑層包括選自2，3，4_三羥基二苯甲酮、2，3，4，4'-四羥基二苯甲酮和1_[1_(4_羥苯 基)異丙基]-4-[1，1-雙(4-羥苯基)乙基]苯中的一種或多種敏感性增強(qiáng)劑。
14.如權(quán)利要求1所述的薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，其中，所述覆蓋膜的厚度為15 30 μ m0
15.一種用于顯示裝置的基板，在該基板上采用如權(quán)利要求1 4中任一項(xiàng)所述的薄膜CN 型可光降解的轉(zhuǎn)印材料來(lái)形成圖形。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料，其包括支持膜、樹(shù)脂保護(hù)層、可光降解的光致抗蝕劑層和覆蓋膜，其中所述樹(shù)脂保護(hù)層的粘合力小于或等于0.05kgf。當(dāng)該薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料用于形成精細(xì)電路圖形例如印刷電路板等時(shí)，通過(guò)在曝光時(shí)使掩模與光敏樹(shù)脂層間的距離最小化，而提高圖形的分辨率，且即使在曝光過(guò)程前去除支持膜，也可以片狀進(jìn)行加工，或者卷對(duì)卷工藝可用于加工中。
文檔編號(hào)G03F7/004GK102047180SQ200980119958
公開(kāi)日2011年5月4日 申請(qǐng)日期2009年5月20日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月30日
發(fā)明者文熙岏, 李炳逸 申請(qǐng)人:可隆工業(yè)株式會(huì)社