技術(shù)編號(hào)：2750958
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種薄膜型可光降解的轉(zhuǎn)印材料。 背景技術(shù)一般而言，作為薄膜型光敏轉(zhuǎn)印材料，通常使用干膜型光敏轉(zhuǎn)印材料(下文，稱為 “干膜光致抗蝕劑”)。通常，干膜光致抗蝕劑一般用于形成印刷線路板、印刷電路板以及集成電路組件， 其包括支持膜、光致抗蝕劑層和覆蓋膜三層。依據(jù)光學(xué)原理的不同，干膜光致抗蝕劑包括負(fù)型干膜光致抗蝕劑和正型干膜光致 抗蝕劑。對于負(fù)型干膜光致抗蝕劑，在其曝光部位進(jìn)行光交聯(lián)反應(yīng)，用堿洗去其未曝光部 位，從而在其上形成光致抗蝕劑圖形。對于正型干膜光...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。