專利名稱：空間光變頻器的檢查裝置及檢查方法、照明光學系統(tǒng)、照明光學系統(tǒng)的調(diào)整方法、曝光裝 ...的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種空間光變頻器的檢查裝置及檢查方法、照明光學系統(tǒng)、照明光學 系統(tǒng)的調(diào)整方法、曝光裝置、以及器件制造方法。更具體來說，本發(fā)明涉及一種對適用于曝 光裝置的照明光學系統(tǒng)中的空間光變頻器的檢查，上述曝光裝置用于利用光刻工序來制造 半導體元件、攝像元件、液晶顯示元件、薄膜磁頭等器件。
背景技術：
在這種典型的曝光裝置中，從光源射出的光束穿過作為光學積分器的蠅眼透鏡， 形成由多個光源構(gòu)成的實質(zhì)上作為面光源的二次光源(一般來說是照明光瞳的給定的光 強度分布)。以下說明中，將照明光瞳中的光強度分布稱作“光瞳強度分布”。另外，所謂照 明光瞳，是被作為如下的位置定義的，即，利用照明光瞳與被照射面(在曝光裝置的情況下 是掩?；蚓?之間的光學系統(tǒng)的作用，被照射面成為照明光瞳的傅立葉變換面的位置。來自二次光源的光束在被利用聚光透鏡聚光后，對形成有給定的圖案的掩模重疊 地進行照明。透過掩模的光穿過投影光學系統(tǒng)在晶片上成像，向晶片上投影曝光(轉(zhuǎn)印) 掩模圖案。形成于掩模上的圖案被高集成化，為了將該微細圖案向晶片上正確地轉(zhuǎn)印，在晶 片上獲得均勻的照度分布是不可缺少的。以往，人們提出過可以連續(xù)地變更光瞳強度分布(進而是照明條件)而不使用變 焦光學系統(tǒng)的照明光學系統(tǒng)(參照專利文獻1)。專利文獻1中公開的照明光學系統(tǒng)中，通 過使用由以陣列狀排列且可以被獨立驅(qū)動控制傾斜角及傾斜方向的多個微小反射鏡部件 構(gòu)成的可動多反射鏡，將入射光束分割為每個反射面的微小單位地偏轉(zhuǎn)，而將光束的截面 變換為所需的形狀或所需的大小，進而實現(xiàn)所需的光瞳強度分布。專利文獻1 日本特開2002-353105號公報在專利文獻1中記載的照明光學系統(tǒng)中，由于使用具有被獨立控制姿勢的多個微 小的反射鏡部件的反射型的空間光變頻器，因此就光瞳強度分布的形狀及大小的變更相關 的自由度高。但是，例如由鋁制成的反射鏡部件的反射面的反射率因光照射而隨時間推移 地降低，受該反射率降低的影響，有可能很難形成所需的光瞳強度分布。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述的問題而完成的，其目的在于，提供可以隨時檢查例如配置于 照明光學系統(tǒng)的光路中的空間光變頻器的反射鏡部件的反射率的檢查裝置及檢查方法。另 外，本發(fā)明的目的在于，提供一種照明光學系統(tǒng)，其可以使用檢查例如配置于光路中的空間 光變頻器的反射鏡部件的反射率，來實現(xiàn)所需的光瞳強度分布。另外，目的還在于，提供一 種曝光裝置，其可以使用實現(xiàn)所需的光瞳強度分布的照明光學系統(tǒng)，基于恰當?shù)恼彰鳁l件 來進行良好的曝光。為了解決上述問題，本發(fā)明的第一方式中，提供一種檢查裝置，是對具有被二維地排列且獨立地控制的多個光學部件的空間光變頻器進行檢查的檢查裝置，其特征在于，具備共軛光學系統(tǒng)，其配置于上述空間光變頻器的光學上的下游側(cè)，形成與上述多個 光學部件所被排列的排列面在光學上共軛的共軛面；光檢測器，其具有配置于上述共軛面或其附近的檢測面；檢查部，其基于上述光檢測器的檢測結(jié)果，檢查上述多個光學部件的光學特性。本發(fā)明的第二方式中，提供一種檢查裝置，是對具有被二維地排列且獨立地控制 的多個光學部件的空間光變頻器進行檢查的檢查裝置，其特征在于，上述檢查裝置具備傅立葉變換光學系統(tǒng)，其配置于上述空間光變頻器的光學上的下游側(cè)，形成與上 述多個光學部件所被排列的排列面在光學上處于傅立葉變換的關系的傅立葉變換面；光檢測器，其具有配置于上述傅立葉變換面或其附近的檢測面；檢查部，其基于上述光檢測器的檢測結(jié)果，檢查上述多個光學部件的光學特性。本發(fā)明的第三方式中，提供一種檢查方法，是對具有被二維地排列且獨立地控制 的多個光學部件的空間光變頻器進行檢查的檢查方法，其特征在于，基于經(jīng)過上述多個光學部件的光在與上述多個光學部件所被排列的排列面在光 學上共軛的共軛面上形成的光強度分布，檢查上述多個光學部件的光學特性。本發(fā)明的第四方式中，提供一種檢查方法，是對具有被二維排列且獨立地控制的 多個光學部件的空間光變頻器進行檢查的檢查方法，其特征在于，基于經(jīng)過上述多個光學部件的光在與上述多個光學部件所被排列的排列面在光 學上處于傅立葉變換的關系的傅立葉變換面上形成的光強度分布，檢查上述多個光學部件 的光學特性。本發(fā)明的第五方式中，提供一種照明光學系統(tǒng)，是具備具有被二維地排列且獨立 地控制的多個光學部件的空間光變頻器，并基于來自光源的光將被照射面照明的照明光學 系統(tǒng)，其特征在于，上述照明光學系統(tǒng)具備第一方式或第二方式的檢查裝置，上述檢查裝置用于檢查上述空間光變頻器；分布形成光學系統(tǒng)，其基于穿過上述空間光變頻器的光，在上述照明光學系統(tǒng)的 照明光瞳中形成給定的光強度分布。本發(fā)明的第六方式中，提供一種調(diào)整方法，是具備具有被二維地排列且獨立地控 制的多個光學部件的空間光變頻器，并基于來自光源的光將被照射面照明的照明光學系統(tǒng) 的調(diào)整方法，其特征在于，包括檢查工序，使用第一方式或第二方式的檢查裝置或者第三方式或第四方式的檢查 方法，檢查上述多個光學部件的光學特性；光學調(diào)整工序，基于上述檢查工序的檢查結(jié)果，在光學上調(diào)整上述照明光學系統(tǒng)。本發(fā)明的第七方式中，提供一種曝光裝置，其特征在于，具備用于將給定的圖案照 明的第五方式的照明光學系統(tǒng)，將上述給定的圖案向感光性基板上曝光。本發(fā)明的第八方式中，提供一種器件制造方法，其特征在于，包括曝光工序，使用第七方式的曝光裝置，將上述給定的圖案向上述感光性基板上曝光；顯影工序，將轉(zhuǎn)印有上述給定的圖案的上述感光性基板顯影，在上述感光性基板 的表面形成與上述給定的圖案對應的形狀的掩模層；加工工序，夾隔著上述掩模層對上述感光性基板的表面進行加工。本發(fā)明的檢查裝置中，在例如配置于照明光學系統(tǒng)的光路中的反射型的空間光變 頻器的光學上的下游側(cè)設置共軛光學系統(tǒng)，利用該共軛光學系統(tǒng)，將空間光變頻器的多個 反射鏡部件的排列面與光檢測器的檢測面在光學上大致共軛地配置。所以如參照實施方 式地詳細敘述所示，例如可以基于在反射鏡部件的排列面的基準狀態(tài)下由多個反射鏡部件 反射的光穿過共軛光學系統(tǒng)在檢測面上形成的光強度分布，來檢查多個反射鏡部件的反射 率。S卩，本發(fā)明的檢查裝置中，可以隨時檢查例如配置于照明光學系統(tǒng)的光路中的空 間光變頻器的反射鏡部件的反射率。所以，本發(fā)明的照明光學系統(tǒng)中，可以使用檢查例如配 置于光路中的空間光變頻器的反射鏡部件的反射率，來實現(xiàn)所需的光瞳強度分布。另外，本 發(fā)明的曝光裝置中，可以使用實現(xiàn)所需的光瞳強度分布的照明光學系統(tǒng)，基于恰當?shù)恼彰?條件來進行良好的曝光，進而可以制造良好的器件。


圖1是概略性地表示本發(fā)明的實施方式的曝光裝置的構(gòu)成的圖。圖2是概略性地表示空間光變頻組件的內(nèi)部構(gòu)成的圖。圖3是空間光變頻組件具備的空間光變頻器的局部立體圖。圖4是概略性地表示空間光變頻器的多個反射鏡部件中的1個反射鏡部件的構(gòu)成 例的圖。圖5是圖4的AA，剖面圖。圖6是概略性地表示本實施方式的檢查裝置的內(nèi)部構(gòu)成的圖。圖7是概略性地表示本實施方式的變形例的檢查裝置的內(nèi)部構(gòu)成的圖。圖8是說明圖7的變形例的檢查裝置的第二檢查系統(tǒng)的作用的圖。圖9是表示半導體器件的制造工序的流程圖。圖10是表示液晶顯示元件等液晶器件的制造工序的流程圖。附圖標記說明1-光源，2-光束送光部，3-空間光變頻組件，3a_空間光變頻器， 3b-棱鏡，3c-驅(qū)動部，4-棱鏡光學系統(tǒng)，5-蠅眼透鏡，6-聚光光學系統(tǒng)，7-照明視場光闌 (掩模遮簾)，8_視場光闌成像光學系統(tǒng)，9-光束分離器，10-檢查裝置，13、24、26-(XD，14、 25-信號處理部，IL-照明光學系統(tǒng)，CR-控制部，M-掩模，PL-投影光學系統(tǒng)，W-晶片。
具體實施例方式基于附圖對本發(fā)明的實施方式進行說明。圖1是概略性地表示本發(fā)明的實施方式 的曝光裝置的構(gòu)成的圖。圖1中，沿著作為感光性基板的晶片W的曝光面的法線方向設定 Z軸，沿著在晶片W的曝光面內(nèi)平行于圖1的紙面的方向設定X軸，沿著在晶片W的曝光面 內(nèi)垂直于圖1的紙面的方向設定Y軸。參照圖1，本實施方式的曝光裝置具備沿著裝置的光軸AX供應照明光(曝光光)的光源1、包含空間光變頻組件3的照明光學系統(tǒng)IL、支承掩模M的掩模載臺MS、投影光學 系統(tǒng)PL、支承晶片W的晶片載臺WS。在本實施方式的曝光裝置中，來自光源1的光穿過照 明光學系統(tǒng)IL將掩模M照明。透過掩模M的光穿過投影光學系統(tǒng)PL，在晶片W上形成掩模 M的圖案的像?；趤碜怨庠?的光將掩模M的圖案面(被照射面)照明的照明光學系統(tǒng)IL，利 用空間光變頻組件3的作用，進行多極照明(2極照明、4極照明等)、環(huán)形照明等變形照明。 照明光學系統(tǒng)IL沿著光軸AX從光源1側(cè)開始順次具備光束送光部2、空間光變頻組件3、 變焦光學系統(tǒng)4、蠅眼透鏡5、聚光光學系統(tǒng)6、照明視場光闌(掩模遮簾)7、視場光闌成像 光學系統(tǒng)8。而且，在空間光變頻組件3與變焦光學系統(tǒng)4之間的光路中(空間光變頻組件3 與光學積分器(蠅眼透鏡5)之間的光路中)，配置將來自空間光變頻組件3的照明光分支 的光束分離器9，由該光束分離器9導向照明光路外的光射入檢查裝置10。對于檢查裝置 10的構(gòu)成及作用將在后面敘述。 空間光變頻組件3基于穿過光束送光部2的來自光源1的光，在其遠視場區(qū)域(夫 瑯和費衍射區(qū)域)形成所需的光強度分布(光瞳強度分布)。對于空間光變頻組件3的構(gòu) 成及作用將在后面敘述。光束送光部2具有如下的功能，即，一邊將來自光源1的入射光束 變換為具有恰當?shù)拇笮〖靶螤畹慕孛娴墓馐?，一邊導向空間光變頻組件3，并且主動地修正 射入空間光變頻組件3的光束的位置變動及角度變動。變焦光學系統(tǒng)4將來自空間光變頻 組件3的光聚光，導向蠅眼透鏡5。蠅眼透鏡5例如是由稠密地排列的多個透鏡元件構(gòu)成的波面分割型的光學積分 器。蠅眼透鏡5對入射的光束進行波面分割，在其后側(cè)焦點面形成由與透鏡元件相同數(shù)目 的光源像構(gòu)成的二次光源(實質(zhì)上的面光源)。蠅眼透鏡5的入射面配置于變焦光學系統(tǒng) 4的后側(cè)焦點位置或其附近。作為蠅眼透鏡5例如可以使用柱面微型蠅眼透鏡。柱面微型 蠅眼透鏡的構(gòu)成及作用例如公開于美國專利第6913373號公報中。在本實施方式中，以由蠅眼透鏡5形成的二次光源為光源，對配置于照明光學系 統(tǒng)IL的被照射面上的掩模M進行柯拉照明。由此，二次光源所形成的位置與投影光學系統(tǒng) PL的孔徑光闌AS的位置在光學上是共軛的，可以將二次光源的形成面稱作照明光學系統(tǒng) IL的照明光瞳面。典型地講，相對于照明光瞳面，被照射面(是掩模M所被配置的面，或在 包括投影光學系統(tǒng)PL地看作照明光學系統(tǒng)的情況下是晶片W所被配置的面)成為光學上 的傅立葉變換面。而且，所謂光瞳強度分布，是指照明光學系統(tǒng)IL的照明光瞳面或與該照明光瞳面 在光學上共軛的面中的光強度分布(亮度分布)。在利用蠅眼透鏡5的波面分割數(shù)比較大 的情況下，形成于蠅眼透鏡5的入射面中的大局性的光強度分布、與二次光源整體的大局 性的光強度分布(光瞳強度分布)顯示出高相關性。由此，對于蠅眼透鏡5的入射面及與 該入射面在光學上共軛的面的光強度分布也可以稱作光瞳強度分布。聚光光學系統(tǒng)6將從蠅眼透鏡5中射出的光聚光，對照明視場光闌7重疊地進行 照明。通過了照明視場光闌7的光穿過視場光闌成像光學系統(tǒng)8，在掩模M的圖案形成區(qū)域 的至少一部分形成作為照明視場光闌7的開口部的像的照明區(qū)域。而且，圖1中，雖然省略 用于將光軸(進而是光路)折曲的光路折曲反射鏡的設置，然而根據(jù)需要可以在照明光路中適當?shù)嘏渲霉饴氛矍瓷溏R。在掩模載臺MS上沿著XY平面(例如水平面)載放著掩模M，在晶片載臺WS上沿著 XY平面載放著晶片W。投影光學系統(tǒng)PL基于由照明光學系統(tǒng)IL形成于掩模M的圖案面上 的來自照明區(qū)域的光，在晶片W的曝光面(投影面)上形成掩模M的圖案的像。這樣，通過 一邊在與投影光學系統(tǒng)PL的光軸AX正交的平面(XY平面)內(nèi)二維驅(qū)動控制晶片載臺WS， 進一步說是一邊二維驅(qū)動控制晶片W，一邊進行一次性曝光或掃描曝光，從而在晶片W的各 曝光區(qū)域中將掩模M的圖案順次曝光。下面，參照圖2及圖3對空間光變頻組件3的構(gòu)成及作用進行說明。圖2是概略 性地表示空間光變頻組件3的內(nèi)部構(gòu)成的圖。圖3是空間光變頻組件3中的空間光變頻器 3a的局部立體圖。而且，圖2中，為了圖面的清楚化，省略了光束分離器9的圖示。如圖2所示，空間光變頻組件3具備例如由螢石之類的光學材料形成的棱鏡3b、 與棱鏡3b的平行于YZ平面的側(cè)面3ba相鄰地安裝的反射型的空間光變頻器3a。形成棱鏡 3b的光學材料并不限定于螢石，根據(jù)光源1所供應的光的波長等，既可以是石英，也可以是 其他的光學材料。棱鏡3b具有通過將長方體的一個側(cè)面(與相鄰地安裝空間光變頻器3a的側(cè)面 3ba相面對的側(cè)面)置換為以V字形凹陷的側(cè)面3bb及3bc而得的形態(tài)，因沿著XZ平面的 截面形狀也被稱作K棱鏡。棱鏡3b的以V字形凹陷的側(cè)面3bb及3bc，由形成鈍角地交叉 的2個平面Pl及P2規(guī)定。2個平面Pl及P2都與XZ平面正交，沿著XZ平面呈現(xiàn)V字形。在2個平面Pl與P2的接線(沿Y方向延伸的直線)P3處相接的2個側(cè)面3bb及 3bc的內(nèi)面作為反射面Rl及R2發(fā)揮作用。即，反射面Rl位于平面Pl上，反射面R2位于平 面P2上，反射面Rl與R2的夾角為鈍角。作為一例，可以將反射面Rl與R2的夾角設為120 度，將垂直于光軸AX的棱鏡3b的入射面IP與反射面Rl的夾角設為60度，將垂直于光軸 AX的棱鏡3b的射出面OP與反射面R2的夾角設為60度。棱鏡3b中，相鄰地安裝空間光變頻器3a的側(cè)面3ba與光軸AX平行，并且反射面 Rl位于光源1側(cè)(曝光裝置的上游側(cè)圖2中左側(cè))，反射面R2位于蠅眼透鏡5側(cè)(曝光 裝置的下游側(cè)圖2中右側(cè))。具體來說，反射面Rl被相對于光軸AX傾斜地設置，反射面 R2就穿過接線P3并且平行于XY平面的面而言被與反射面Rl對稱地相對于光軸AX傾斜地 設置。棱鏡3b的側(cè)面3ba如后所述，是與空間光變頻器3a的多個反射鏡部件SE所被排列 的面相面對的光學面。棱鏡3b的反射面Rl，將穿過入射面IP射入的光朝向空間光變頻器3a反射?？臻g 光變頻器3a配置于反射面Rl與反射面R2之間的光路中，將經(jīng)過反射面Rl入射的光反射。 棱鏡3b的反射面R2將經(jīng)過空間光變頻器3a入射的光反射，穿過射出面OP導向變焦光學 系統(tǒng)4。圖2中給出用1個光學塊一體化地形成棱鏡3b的例子，然而也可以使用多個光學 塊來構(gòu)成棱鏡3b?？臻g光變頻器3a對于經(jīng)過反射面Rl入射的光，賦予與其入射位置對應的空間的 變頻而射出。如圖3所示，空間光變頻器3a具備被二維排列的多個微小的反射鏡部件(光 學部件)SE。為了將說明及圖示簡化，圖2及圖3中給出空間光變頻器3a具備4X4 = 16 個反射鏡部件SE的構(gòu)成例，然而實際上具備遠多于16個的多個反射鏡部件SE。參照圖2，沿著與光軸AX平行的方向射入空間光變頻組件3的光線組當中，光線
10Ll射入多個反射鏡部件SE中的反射鏡部件SEa，光線L2射入與反射鏡部件SEa不同的反 射鏡部件SEb。同樣地，光線L3射入與反射鏡部件SEa、SEb不同的反射鏡部件SEc，光線L4 射入與反射鏡部件SEa SEc不同的反射鏡部件SEd。反射鏡部件SEa SEd向光Ll L4賦予與其位置對應地設定的空間的變頻?？臻g光變頻組件3中如下所示構(gòu)成，即，在空間光變頻器3a的所有反射鏡部件SE 的反射面被設定為平行于YZ平面的基準狀態(tài)下，沿著與光軸AX平行的方向射入反射面Rl 的光線在經(jīng)過空間光變頻器3a后，由反射面R2朝向與光軸AX平行的方向反射。另外，空 間光變頻組件3被如下所示構(gòu)成，即，從棱鏡3b的入射面IP經(jīng)過反射鏡部件SEa SEd直 到射出面OP的空氣換算長度、和在光路中沒有配置棱鏡3b時的從與入射面IP相當?shù)奈恢?直到與射出面OP相當?shù)奈恢玫目諝鈸Q算長度相等。這里，所謂空氣換算長度是將光學系統(tǒng) 中的光路長度換算為折射率為1的空氣中的光路長度的值，折射率η的介質(zhì)中的空氣換算 長度是在其光路長度上乘以1/η的值。空間光變頻器3a配置于變焦光學系統(tǒng)4的前側(cè)焦點位置或其附近。由空間光變 頻器3a的多個反射鏡部件SEa SEd反射而賦予了給定的角度分布的光，在變焦光學系統(tǒng) 4的后側(cè)焦點面4a中形成給定的光強度分布SPl SP4。即，變焦光學系統(tǒng)4將空間光變 頻器3a的多個反射鏡部件SEa SEd對射出光賦予的角度變換為作為空間光變頻器3a的 遠視場區(qū)域(夫瑯和費衍射區(qū)域)的面4a上的位置。再次參照圖1，蠅眼透鏡5的入射面被定位于作為聚光光學系統(tǒng)發(fā)揮作用的變焦 光學系統(tǒng)4的后側(cè)焦點面4a的位置或其附近。所以，蠅眼透鏡5所形成的二次光源的光強 度分布(亮度分布)為與空間光變頻器3a及變焦光學系統(tǒng)4所形成的光強度分布SPl SP4對應的分布。如圖3所示，空間光變頻器3a是包含反射鏡部件SE的可動多反射鏡，上 述反射鏡部件SE是以將平面形狀的反射面設為上面的狀態(tài)沿著1個平面規(guī)則地并且二維 地排列的多個微小的反射元件。各反射鏡部件SE是可動的，其反射面的傾斜，即，反射面的傾斜角及傾斜方向被 利用遵照來自控制部CR(圖3中未圖示)的指令動作的驅(qū)動部3c (圖3中未圖示)的作用 獨立控制。各反射鏡部件SE可以將作為平行于其反射面的兩個方向的相互正交的兩個方 向(Y方向及Z方向)作為旋轉(zhuǎn)軸，以所需的旋轉(zhuǎn)角度連續(xù)地或離散地旋轉(zhuǎn)。S卩，可以二維 地控制各反射鏡部件SE的反射面的傾斜。圖4是概略性地表示空間光變頻器3a的多個反射鏡部件SE中的1個反射鏡部件 SE的構(gòu)成例的圖。另外，圖5是圖4的AA’剖面圖。參照圖4及圖5，反射鏡部件SE具備 基座(底盤)30、設于基座30上的支柱31、在與基座30側(cè)相反一側(cè)與支柱31連接的板狀 構(gòu)件32、由形成于板狀構(gòu)件32上的反射膜構(gòu)成的反射面33、在基座30上將支柱31包圍地 配置的4個電極34a 34d。板狀構(gòu)件32能夠按照使與支柱31的連接部位成為支點的方式，在與基座30平行 的面上繞著相互正交的2條軸線傾斜。電極34a 34d分別配置于與板狀構(gòu)件32的4個 角部對應的基座30上的位置。這樣，通過對電極34a 34d賦予電位，而使各電極34a 34d與板狀構(gòu)件32之間產(chǎn)生靜電力，使各電極34a 34d與板狀構(gòu)件32的間隔變化。這 樣，板狀構(gòu)件32就會以支柱31的一端為支點傾斜，進而使形成于板狀構(gòu)件32上的反射面 33傾斜。
而且，在使各反射鏡部件SE的反射面離散地旋轉(zhuǎn)的情況下，最好將旋轉(zhuǎn)角以多個 狀態(tài)(例如...、_2.5度、-2.0度、...0度、+0.5度...+2.5度、...)切換控制。圖3中給 出外形為正方形的反射鏡部件SE，然而反射鏡部件SE的外形形狀并不限定于正方形。但 是，從光利用效率的觀點考慮，優(yōu)選能夠使反射鏡部件SE的間隙變少地排列的形狀(可以 最緊密填充的形狀)。另外，從光利用效率的觀點考慮，優(yōu)選地將相鄰的2個反射鏡部件SE 的間隔壓縮為必需的最小限度。本實施方式中，作為空間光變頻器3a，使用使二維排列的多個反射鏡部件SE的 朝向分別連續(xù)地(或離散地)變化的空間光變頻器。作為此種空間光變頻器，例如可以使 用日本特表平10-503300號公報及與之對應的歐洲專利公開第779530號公報、日本特開 2004-78136號公報及與之對應的美國專利第6，900，915號公報、日本特表2006-524349號 公報及與之對應的美國專利第7，095，546號公報、以及日本特開2006-113437號公報中公 開的空間光變頻器。在空間光變頻器3a中，通過與來自控制部CR的控制信號對應地動作的驅(qū)動部3c 的作用，使多個反射鏡部件SE的姿勢分別變化，各反射鏡部件SE分別被設定為給定的朝 向。由空間光變頻器3a的多個反射鏡部件SE分別以給定的角度反射的光經(jīng)由變焦光學 系統(tǒng)4，在蠅眼透鏡5的后側(cè)焦點位置或其附近的照明光瞳處，形成多極狀(2極狀、4極狀 等)、環(huán)形等光強度分布(光瞳強度分布)。該光瞳強度分布因變焦光學系統(tǒng)4的作用，相 似地(各向同性地)發(fā)生變化。S卩，變焦光學系統(tǒng)4及蠅眼透鏡5構(gòu)成如下的分布形成光學系統(tǒng)，即，基于穿過空 間光變頻組件3中的空間光變頻器3a的光束，在照明光學系統(tǒng)IL的照明光瞳處形成給定 的光強度分布。此外，在與蠅眼透鏡5的后側(cè)焦點位置或其附近的照明光瞳在光學上共軛 的其他照明光瞳位置，即在視場光闌成像光學系統(tǒng)8的光瞳位置及投影光學系統(tǒng)PL的光瞳 位置(孔徑光闌AS的位置)，也形成與光瞳強度分布對應的光強度分布。在曝光裝置中，為了將掩模M的圖案高精度并且忠實地向晶片W上轉(zhuǎn)印，例如，基 于與掩模M的圖案特性對應的恰當?shù)恼彰鳁l件來進行曝光十分重要。在本實施方式中，由 于使用具備多個反射鏡部件SE的姿勢分別獨立地變化的空間光變頻器3a的空間光變頻組 件3，因此可以使利用空間光變頻器3a的作用形成的光瞳強度分布自由并且迅速地變化。但是，例如由鋁形成的反射鏡部件的反射面因光照射而氧化，由此使得反射鏡部 件的反射面的反射率隨時間推移地降低，受該反射率降低的影響，有可能很難形成所需的 光瞳強度分布。另外，反射鏡部件會因某種理由而不能正常地動作，受該動作異常(或機械 性劣化)的影響，有可能難以形成所需的光瞳強度分布。具體來說，在動作異常的反射鏡部 件中，即使對電極施加例如設計上的所需電壓，也無法將對應的反射鏡部件的反射面傾斜 所需的角度。所以，本實施方式的曝光裝置具備用于檢查配置于照明光學系統(tǒng)IL的光路中的 空間光變頻器3a的反射鏡部件SE的反射率降低及動作異常的檢查裝置10。如圖6所示， 本實施方式的檢查裝置10依照來自光束分離器9的光的入射順序，具備一對透鏡11、12和 (XD13。另外，檢查裝置10具備與(XD13連接的信號處理部14。在檢查裝置10中，由光束分離器9導向照明光路外的來自光源1的光穿過沿著1 條光軸配置的一對透鏡11、12，射入(XD13。這里，(XD13的檢測面被按照與下述共軛面大致一致的方式，相對于YZ平面傾斜地配置，該共軛面利用一對透鏡11、12與空間光變頻器3a 的多個反射鏡部件SE所被排列的排列面在光學上共軛。換而言之，一對透鏡11、12配置于 空間光變頻器3a的光學上的下游側(cè)，構(gòu)成與光學部件SE的排列面形成光學上共軛的共軛 面的共軛光學系統(tǒng)。另外，(XD13構(gòu)成光檢測器，其具有配置于利用一對透鏡11、12形成的光學部件SE 的排列面的共軛面或其附近的檢測面。換言之，在共軛光學系統(tǒng)與檢測面之間的光路中，未 配置具有光學放大率的光學元件(具有有限的焦點距離的光學元件)。更具體來說，CCD12 具有空間光變頻器3a的反射鏡部件SE的數(shù)目以上的像素數(shù)(pixel數(shù))，1個反射鏡部件 SE的反射面與(XD13的1個或多個像素對應。但是，對于(XD13的檢測面的構(gòu)成，更一般性 地說是對于光檢測器的構(gòu)成，可以采用各種形態(tài)。CCD13的輸出信號被向信號處理部14供 應。在本實施方式中，例如在空間光變頻器3a的所有反射鏡部件SE的反射面被設定 為平行于YZ平面的基準狀態(tài)(通常對應于施加在所有的電極上的電壓的值為0的初期狀 態(tài)以下也簡稱為“基準狀態(tài)“)下，將具有相同的光強度分布的光束向所有的反射鏡部件 SE照射。在該情況下，如果只是某一個反射鏡部件SE發(fā)生反射率降低，則與該反射鏡部件 SE對應的1個或多個像素的檢測信號就會不同于與其他反射鏡部件SE對應的像素的檢測 信號。S卩，與反射率降低的反射鏡部件SE對應的像素的檢測信號會小于與反射率實質(zhì) 上沒有降低的其他反射鏡部件SE對應的像素的檢測信號。這樣，檢測裝置10的信號處理 部14中，例如基于基準狀態(tài)的CCD13的輸出信號，即基于與各反射鏡部件SE對應的像素的 檢測信號，檢查各反射鏡部件SE的反射率的降低的程度。而且，在上述的說明中，為了使理解更容易，在基準狀態(tài)下將具有相同的光強度分 布的光束向所有的反射鏡部件SE照射。但是，并不限定于此，也可以在基準狀態(tài)以外的給 定的狀態(tài)下，將具有并不相同的給定的光強度分布的光束向一部分的多個反射鏡部件SE 照射。一般來說，信號處理部14中，例如在基準狀態(tài)那樣的第一狀態(tài)下，將具有給定的光強 度分布的光束向多個反射鏡部件SE照射，基于由多個反射鏡部件SE反射的光經(jīng)由共軛光 學系統(tǒng)(11、12)在CCD13的檢測面上形成的光強度分布，來檢查多個反射鏡部件SE的反射 率。另外，在本實施方式中，例如進行如下的控制，S卩，在基準狀態(tài)下將具有相同的光 強度分布的光束向所有的反射鏡部件SE照射，從該狀態(tài)起使所有反射鏡部件SE的反射面 相互以相同的角度相同的朝向統(tǒng)一地變化。在該情況下，如果只是某一個反射鏡部件SE發(fā) 生動作異常，則與該反射鏡部件SE對應的像素的檢測信號就會不同于與其他反射鏡部件 SE對應的像素的檢測信號。S卩，在動作異常的反射鏡部件SE中，由于其反射面的傾斜角度小于其他反射鏡部 件SE，因此與動作異常的反射鏡部件SE對應的像素的檢測信號就會小于或大于與動作正 常的反射鏡部件SE對應的像素的檢測信號。像這樣，檢查裝置10的信號處理部14中，基 于基準狀態(tài)下的CCD13的輸出信號、和從基準狀態(tài)起使所有的反射鏡部件SE的姿勢統(tǒng)一變 化后的狀態(tài)下的CCD13的輸出信號，來檢查各反射鏡部件SE的動作異常。而且，在上述的說明中，為了使理解更容易，進行如下的控制，即，從基準狀態(tài)起使所有反射鏡部件SE的反射面相互以相同的角度相同的朝向統(tǒng)一變化。但是，并不限定于 此，也可以進行如下的控制，即，從基準狀態(tài)以外的給定的狀態(tài)起，使至少一個反射鏡部件 SE的反射面的姿勢變化。一般來說，在信號處理部14中，例如在基準狀態(tài)那樣的第一狀態(tài)下，將具有給定 的光強度分布的光束向多個反射鏡部件SE照射，基于由多個反射鏡部件SE反射的光在 CCD13的檢測面上形成的光強度分布、和從第一狀態(tài)起使至少一個反射鏡部件SE的反射面 的姿勢變化后的第二狀態(tài)下由多個反射鏡部件SE反射的光在CCD13的檢測面上形成的光 強度分布，來檢查上述至少一個反射鏡部件SE的動作。這樣信號處理部14就構(gòu)成如下的 檢查部，即，基于作為光檢測器的CCD13的檢測結(jié)果，檢查多個反射鏡部件SE的反射率或動 作之類的光學特性。在本實施方式的檢查裝置10中，在配置于照明光學系統(tǒng)IL的光路中的反射型的 空間光變頻器3a的下游側(cè)，設有共軛光學系統(tǒng)(11、12)，利用該共軛光學系統(tǒng)(11、12)，將 反射鏡部件(光學部件)SE的排列面與作為光檢測器的CCD13的檢測面在光學上大致共 軛地配置。所以，如上所述，例如可以基于在基準狀態(tài)下由多個反射鏡部件SE反射的光在 CCD13的檢測面上形成的光強度分布，來檢查多個反射鏡部件SE的反射率。另外，如上所述，例如可以基于在基準狀態(tài)那樣的第一狀態(tài)下由多個反射鏡部件 SE反射的光在CCD13的檢測面上形成的光強度分布、和從基準狀態(tài)起 使至少一個反射鏡部 件SE的反射面的姿勢變化后的第二狀態(tài)下由多個反射鏡部件SE反射的光在CCD13的檢測 面上形成的光強度分布，來檢查上述至少一個反射鏡部件SE的動作。即，本實施方式的檢 查裝置10中，可以隨時檢查配置于照明光學系統(tǒng)IL的光路中的反射型的空間光變頻器3a 的反射鏡部件SE的反射率或動作之類的光學特性(或光學的狀態(tài))。檢查裝置10的檢測結(jié)果，即有關各反射鏡部件SE的反射率降低的程度的信息、以 及有關各反射鏡部件SE的動作異常的信息被向控制部CR供應。在控制部CR中，參照有關 各反射鏡部件SE的反射率及動作的信息，按照可以在照明光學系統(tǒng)IL的照明光瞳面中得 到所需的光瞳強度分布的方式，借助驅(qū)動部3c分別控制空間光變頻器3a的各反射鏡部件 SE的姿勢。具體來說，控制部CR例如按照僅使用動作正常的反射鏡部件SE，將反射率降低 了的反射鏡部件SE的部分用其他反射鏡部件SE覆蓋的方式，分別控制(或調(diào)整)各反射 鏡部件SE的姿勢。這樣，在本實施方式中，通過基于檢查裝置10的檢查結(jié)果，分別控制空間光變頻 器3a的各反射鏡部件SE的姿勢，進而對照明光學系統(tǒng)IL進行光學上的調(diào)整，就可以抑制 反射鏡部件SE的反射率降低或動作異常的影響，實現(xiàn)所需的光瞳強度分布。其結(jié)果是，本 實施方式的曝光裝置中，可以使用實現(xiàn)所需的光瞳強度分布的照明光學系統(tǒng)IL，基于例如 與掩模M的圖案的特性對應地實現(xiàn)的恰當?shù)恼彰鳁l件來進行良好的曝光。圖7是概略性地表示本實施方式的變形例的檢查裝置的內(nèi)部構(gòu)成的圖。在圖7的 變形例的檢查裝置10中，由光束分離器9導向照明光路外的光，穿過透鏡21射入光束分離 器22。由光束分離器22反射的光，穿過透鏡23射入(XD24。(XD24的輸出信號被向信號處 理部25供應。(XD24的檢測面與圖6的實施方式的(XD13相同，被按照與下述的共軛面大致一 致的方式，相對于XY平面傾斜地配置，該共軛面利用沿著折曲的1條光軸配置的一對透鏡21,23與空間光變頻器3a的多個反射鏡部件SE所被排列的排列面在光學上共軛。與圖6 的實施方式的情況相同，CCD24被如下所示構(gòu)成，即，具有空間光變頻器3a的反射鏡部件SE 的數(shù)目以上的像素數(shù)，1個反射鏡部件SE的反射面與(XD24的1個或多個像素對應。另一方面，透過了光束分離器22的光，射入(XD26。(XD26的輸出信號與(XD24的 輸出信號相同，被向信號處理部25供應。CCD26的檢測面被按照與下述的傅立葉變換面大 致一致的方式，相對于YZ平面傾斜地配置，該傅立葉變換面利用透鏡21與空間光變頻器3a 的多個反射鏡部件SE所被排列的排列面在光學上處于傅立葉變換的關系。換而言之，透鏡21配置于空間光變頻器3a的光學上的下游側(cè)，構(gòu)成形成與光學部 件SE的排列面在光學上處于傅立葉變換的關系的傅立葉變換面的傅立葉變換光學系統(tǒng)。 另外，(XD26構(gòu)成具有配置于由透鏡21形成的光學部件SE的排列面的傅立葉變換面或其 附近的檢測面的光檢測器。這樣，在圖7的變形例中，由一對透鏡構(gòu)成的共軛光學系統(tǒng)(21、23)、(XD24和信號 處理部25構(gòu)成第一檢查系統(tǒng)，該第一檢查系統(tǒng)具有與圖6的實施方式的檢查裝置相同的構(gòu) 成，進而具有相同的作用。即，第一檢查系統(tǒng)的信號處理部25中，可以基于CCD24的輸出信 號，檢查配置于照明光學系統(tǒng)IL的光路中的空間光變頻器3a的反射鏡部件SE的反射率降 低的程度，可以根據(jù)需要隨時檢查反射鏡部件SE的動作異常。另一方面，透鏡21、(XD26和信號處理部25構(gòu)成第二檢查系統(tǒng)。第二檢查系統(tǒng)中， 例如進行如下的控制，即，在基準狀態(tài)下將具有相同的光強度分布的光束向所有的反射鏡 部件SE照射，從該狀態(tài)起使某一個反射鏡部件SE的反射面的角度變化。在該情況下，基準 狀態(tài)下，由所有的反射鏡部件SE反射的光如圖8所示，聚光在CCD26的檢測面的一點(例 如中心點)。此外，如果通過使施加在某一個反射鏡部件SE的電極上的電壓V變化而使其反射 面的角度變化，來自該反射鏡部件SE的反射光就會在CCD26的檢測面中與點P相距距離D 的位置形成光分布27。這里，在距離D與反射面的角度變化α之間，例如成立比例關系。 另外，在該反射鏡部件SE的動作正常的情況下，在距離D與電壓V之間，例如也成立比例關 系。換而言之，一旦該反射鏡部件SE發(fā)生動作異常，則距離D與電壓V的關系就會脫離比 例關系。這樣，在第二檢查系統(tǒng)中，基于基準狀態(tài)下的(XD26的輸出信號、和從基準狀態(tài)起 使某一個反射鏡部件SE的姿勢變化后的狀態(tài)下的CCD26的輸出信號，來檢查該反射鏡部件 SE的距離D與電壓V的關系，進而檢查該反射鏡部件SE的反射面的角度變化α與電壓V 的關系。這里，求出反射鏡部件SE的反射面的角度變化α與電壓V的關系即是求出反射 鏡部件SE的姿勢的變化特性。而且，在上述的說明中，為了使理解更容易，從基準狀態(tài)起使某一個反射鏡部件的 姿勢變化。但是，并不限定于此，也可以從基準狀態(tài)以外的給定的狀態(tài)起，使多個反射鏡部 件(例如形成一列的多個反射鏡部件)的姿勢同時變化，同時檢查這些多個反射鏡部件的 姿勢的變化特性。一般來說，在第二檢查系統(tǒng)的信號處理部25中，基于(XD26的輸出信號，例如在基 準狀態(tài)那樣的第三狀態(tài)下，將具有給定的光強度分布的光束向多個反射鏡部件SE照射，基 于由多個反射鏡部件SE反射的光在CCD26的檢測面上形成的光強度分布、和在從第三狀態(tài)起使至少一個反射鏡部件SE的反射面的姿勢變化后的第四狀態(tài)下由多個反射鏡部件SE反 射的光在CCD26的檢測面上形成的光強度分布，來檢查上述至少一個反射鏡部件SE的姿勢 的變化特性。圖7的變形例中的檢查裝置10的檢測結(jié)果，即，有關各反射鏡部件SE的反射鏡降 低的程度的信息、以及有關各反射鏡部件SE的姿勢的變化特性的信息被向控制部CR供應。 在控制部CR中，參照有關各反射鏡部件SE的反射率及姿勢變化特性的信息，按照可以得到 所需的光瞳強度分布的方式，借助驅(qū)動部3c分別控制空間光變頻器3a的各反射鏡部件SE 的姿勢。具體來說，控制部CR按照將反射率降低了的反射鏡部件SE的部分用其他反射鏡 部件SE覆蓋，并且使各反射鏡部件SE的反射面的傾斜角度達到所需的角度的方式，分別控 制對各反射鏡部件SE的電極施加的電壓。而且，在圖7的變形例中，也可以利用第一檢查系統(tǒng)檢查各反射鏡部件SE的動作 異常，僅使用動作正常的反射鏡部件SE來形成光瞳強度分布。這樣，在圖7的變形例中，通 過基于檢查裝置10的檢查結(jié)果，分別控制對空間光變頻器3a的各反射鏡部件SE的電極施 加的電壓，進而對照明光學系統(tǒng)IL進行光學上的調(diào)整，就可以抑制反射鏡部件SE的反射率 降低或姿勢變化特性的影響，實現(xiàn)所需的光瞳強度分布。另外，在圖7的變形例中，可以利用向空間光變頻器照射的光能的總量、有關各反 射鏡部件的反射率降低的程度的信息、有關各反射鏡部件的姿勢的變化特性的信息、根據(jù) 需要使用的有關各反射鏡部件的動作異常的信息，來判斷空間光變頻器的壽命。同樣地，在 圖6的實施方式中，可以利用向空間光變頻器照射的光能的總量、有關各反射鏡部件的反 射率降低的程度的信息、有關各反射鏡部件的動作異常的信息，來判斷空間光變頻器的壽 命。另外，在圖7的變形例中，構(gòu)成第一檢查系統(tǒng)中的共軛光學系統(tǒng)(21、23)的多個光 學構(gòu)件(透鏡21、23)中的一部分(透鏡21)屬于傅立葉變換光學系統(tǒng)。利用該構(gòu)成，可以 將第一及第二檢查系統(tǒng)的構(gòu)成簡化，還可以減少誤差產(chǎn)生要因。另外，雖然圖7的變形例的檢查裝置具備檢查反射鏡部件的反射率降低及動作 異常的第一檢查系統(tǒng)、檢查反射鏡部件的姿勢的變化特性的第二檢查系統(tǒng)，然而對于僅由 第二檢查系統(tǒng)構(gòu)成的檢查裝置，當然也屬于本發(fā)明的范圍內(nèi)。而且，在上述的說明中，作為具有與空間光變頻器3a的多個反射鏡部件所被排列 的面相面對的光學面的棱鏡構(gòu)件，使用以1個光學塊一體化形成的K棱鏡3b。但是，并不 限定于此，可以利用一對棱鏡來構(gòu)成具有與K棱鏡3b相同的功能的棱鏡構(gòu)件。另外，可以 利用1個平行平面板和一對三角棱鏡，來構(gòu)成具有與K棱鏡3b相同的功能的棱鏡構(gòu)件。另 外，可以利用1個平行平面板和一對平面反射鏡，來構(gòu)成具有與K棱鏡3b相同的功能的組 合光學構(gòu)件。另外，在上述的說明中，作為具有被二維排列且被獨立控制的多個光學部件的空 間光變頻器，使用可以獨立地控制被二維地排列的多個反射面的朝向(角度傾斜)的空 間光變頻器。但是，并不限定于此，例如也可以使用可以獨立地控制被二維地排列的多個反 射面的高度(位置)的空間光變頻器。作為此種空間光變頻器，例如可以使用日本特開平 6-281869號公報及與之對應的美國專利第5，312，513號公報、以及日本特表2004-520618 號公報及與之對應的美國專利第6，885，493號公報的圖Id中公開的空間光變頻器。這些空間光變頻器中，通過形成二維的高度分布，可以對入射光賦予與衍射面相同的作用。而 且，對于上述的具有被二維地排列的多個反射面的空間光變頻器，例如也可以依照日本特 表2006-513442號公報及與之對應的美國專利第6，891，655號公報、日本特表2005-524112 號公報及與之對應的美國專利公開第2005/0095749號公報的公開進行變形。另外，雖然在上述的說明中使用具有多個反射鏡部件的反射型的空間光變頻器， 然而并不限定于此，例如也可以使用美國專利第5，229，872號公報中公開的透過型的空間 光變頻器。而且，在上述的實施方式中，在使用空間光變頻組件形成光瞳強度分布時，可以一 邊用光瞳亮度分布計測裝置計測光瞳強度分布，一邊與該計測結(jié)果對應地控制空間光變頻 組件中的空間光變頻器。此種技術例如公開于日本特開2006-54328號公報或日本特開 2003-22967號公報及與之對應的美國專利公開第2003/0038225號公報中。另外，上述的實施方式中，可以取代掩模，而使用基于給定的電子數(shù)據(jù)形成給定圖 案的可變圖案形成裝置。如果使用此種可變圖案形成裝置，則即使圖案面是豎放的，也可以 將對同步精度造成的影響設為最低限度。而且，作為可變圖案形成裝置，例如可以使用包含 基于給定的電子數(shù)據(jù)驅(qū)動的多個反射元件的DMD(數(shù)字微鏡器件)。使用了 DMD的曝光裝置 例如公開于日本特開2004-304135號公報、國際專利公開第2006/080285號小冊子中。另 外，除了 DMD之類的非發(fā)光型的反射型空間光變頻器以外，還可以使用透過型空間光變頻 器，還可以使用自發(fā)光型的圖像顯示元件。而且，即使在圖案面是橫放的情況下，也可以使 用可變圖案形成裝置。上述的實施方式的曝光裝置可以通過如下操作來制造，即，將包含本申請技術方 案的范圍中舉出的各構(gòu)成部件的各種子系統(tǒng)按照保持給定的機械精度、電氣性精度、光學 精度的方式組裝。為了確保這些各種精度，在該組裝的前后，對各種光學系統(tǒng)進行用于達成 光學的精度的調(diào)整，對各種機械系統(tǒng)進行用于達成機械的精度的調(diào)整，對各種電氣系統(tǒng)進 行用于達成電氣性精度的調(diào)整。從各種子系統(tǒng)到曝光裝置的組裝工序包括各種子系統(tǒng)相互 的機械的連接、電路的配線連接、氣壓回路的配管連接等。在該從各種子系統(tǒng)到曝光裝置的 組裝工序之前，當然也可以有各子系統(tǒng)各自的組裝工序。如果各種子系統(tǒng)到曝光裝置的組 裝工序結(jié)束，則進行綜合調(diào)整，確保作為曝光裝置整體的各種精度。而且，曝光裝置的制造 最好是在溫度及潔凈度等受到管理的無塵室中進行。下面，對使用上述的實施方式的曝光裝置的器件制造方法進行說明。圖9是表示 半導體器件的制造工序的流程圖。如圖9所示，在半導體器件的制造工序中，在成為半導體 器件的基板的晶片W上蒸鍍金屬膜(步驟S40)，在該蒸鍍好的金屬膜上涂布作為感光性材 料的光刻膠(步驟S42)。然后，使用上述的實施方式的投影曝光裝置，將形成于掩模(標線 片)M上的圖案向晶片W上的各拍攝區(qū)域轉(zhuǎn)印(步驟S44:曝光工序)，進行結(jié)束了該轉(zhuǎn)印的 晶片W的顯影，也就是進行轉(zhuǎn)印有圖案的光刻膠的顯影(步驟S46 顯影工序)。其后，將利 用步驟S46在晶片W的表面生成的抗蝕劑圖案作為掩模，對晶片W的表面進行蝕刻等加工 (步驟S48 加工工序)。這里，所謂抗蝕劑圖案是生成了與利用上述的實施方式的投影曝光裝置轉(zhuǎn)印的圖 案對應的形狀的凹凸的光刻膠層，其凹部貫穿光刻膠層。在步驟S48中，夾隔著該抗蝕劑圖 案進行晶片W的表面的加工。在步驟S48中進行的加工中，例如包括晶片W的表面的蝕刻
17或金屬膜等的成膜的至少一方。而且，在步驟S44中，上述的實施方式的投影曝光裝置將涂 布有光刻膠的晶片W作為感光性基板，也就是作為平板P來進行圖案的轉(zhuǎn)印。圖10是表示液晶顯示元件等液晶器件的制造工序的流程圖。如圖10所示，在液 晶器件的制造工序中，順次進行圖案形成工序(步驟S50)、濾色片形成工序(步驟S52)、單 元組裝工序(步驟S54)及模塊組裝工序(步驟S56)。在步驟S50的圖案形成工序中，作為平板P在涂布有光刻膠的玻璃基板上，使用上 述的實施方式的投影曝光裝置形成電路圖案及電極圖案等給定的圖案。該圖案形成工序 中，包含使用上述的實施方式的投影曝光裝置向光刻膠層轉(zhuǎn)印圖案的曝光工序；進行轉(zhuǎn) 印有圖案的平板P的顯影，即玻璃基板上的光刻膠層的顯影，生成與圖案對應的形狀的光 刻膠層的顯影工序；夾隔著該顯影過的光刻膠層對玻璃基板的表面進行加工的加工工序。在步驟S52的濾色片形成工序中，形成將與R(Red)、G(Green)、B(Blue)對應的3 個點的組以矩陣狀排列多個；或者將R、G、B的3條條紋的濾片沿水平掃描方向排列多列的 濾色片。在步驟S54的單元組裝工序中，使用利用步驟S50形成了給定圖案的玻璃基板、利 用步驟S52形成的濾色片來組裝液晶面板(液晶單元)。具體來說，例如通過向玻璃基板與 濾色片之間注入液晶，來形成液晶面板。在步驟S56的模塊組裝工序中，針對利用步驟S54 組裝的液晶面板，安裝進行該液晶面板的顯示動作的電路及背光燈等各種部件。另外，本發(fā)明并不限定于應用在半導體器件制造用的曝光裝置中，例如也可以廣 泛地應用在例如以方形的玻璃板形成的液晶顯示元件、或者等離子體顯示器等顯示器裝置 用的曝光裝置；用于制造攝像元件(CCD等)、微型機器、薄膜磁頭、以及DNA芯片等各種器 件的曝光裝置中。此外，本發(fā)明還可以應用在使用光刻工序制造形成有各種器件的掩模圖 案的掩模(光掩模、標線片等)時的曝光工序(曝光裝置)中。而且，在上述的實施方式中，作為曝光光可以使用ArF準分子激光(波長193nm) 或KrF準分子激光(波長248nm)。另外，并不限定于此，也可以使用其他的適當?shù)募す庠矗?例如可以使用供應波長157nm的激光的F2激光源等。另外，雖然在上述的實施方式中針對在曝光裝置中將掩模照明的照明光學系統(tǒng)應 用本發(fā)明，然而并不限定于此，對于將掩模以外的被照射面照明的普通的照明光學系統(tǒng)也 可以應用本發(fā)明。
權利要求
一種檢查裝置，是對具有被二維排列且被獨立控制的多個光學部件的空間光變頻器進行檢查的檢查裝置，其特征在于，所述檢查裝置具備共軛光學系統(tǒng)，其配置于所述空間光變頻器的光學上的下游側(cè)，形成與所述多個光學部件所被排列的排列面在光學上共軛的共軛面；光檢測器，其具有配置于所述共軛面或其附近的檢測面；檢查部，其基于所述光檢測器的檢測結(jié)果，檢查所述多個光學部件的光學特性。
2.根據(jù)權利要求1所述的檢查裝置，其特征在于，所述光學部件是反射鏡部件。
3.根據(jù)權利要求2所述的檢查裝置，其特征在于，所述檢查部基于由多個所述反射鏡部件反射的光穿過所述共軛光學系統(tǒng)在所述檢測 面上形成的光強度分布，檢查所述多個反射鏡部件的反射率。
4.根據(jù)權利要求2或3所述的檢查裝置，其特征在于，所述檢查部基于在所述多個反射鏡部件的第一狀態(tài)下由所述多個反射鏡部件反射的 光在所述檢測面上形成的光強度分布、和在從所述第一狀態(tài)起使至少一個反射鏡部件的反 射面的姿勢變化后的所述多個反射鏡部件的第二狀態(tài)下由所述多個反射鏡部件反射的光 在所述檢測面上形成的光強度分布，檢查所述至少一個反射鏡部件的動作。
5.根據(jù)權利要求2至4中任意一項所述的檢查裝置，其特征在于，所述檢查部基于在所述多個反射鏡部件的第三狀態(tài)下由所述多個反射鏡部件反射的 光在所述第二檢測面上形成的光強度分布、和在從所述第三狀態(tài)起使至少一個反射鏡部件 的反射面的姿勢變化后的所述多個反射鏡部件的第四狀態(tài)下由所述多個反射鏡部件反射 的光在所述第二檢測面上形成的光強度分布，檢查所述至少一個反射鏡部件的姿勢的變化 特性。
6.根據(jù)權利要求1至5中任意一項所述的檢查裝置，其特征在于，還具備傅立葉變換光學系統(tǒng)，其配置于所述空間光變頻器的光學上的下游側(cè)，形成與所述多 個光學部件所被排列的排列面在光學上處于傅立葉變換的關系的傅立葉變換面；第二光檢測器，其具有配置于所述傅立葉變換面或其附近的第二檢測面，所述檢查部基于所述第二光檢測器的檢測結(jié)果，檢查所述多個光學部件的光學特性。
7.根據(jù)權利要求6所述的檢查裝置，其特征在于，所述光學部件是反射鏡部件。
8.根據(jù)權利要求7所述的檢查裝置，其特征在于，所述檢查部基于在所述多個反射鏡部件的第一狀態(tài)下由所述多個反射鏡部件反射的 光在所述檢測面上形成的光強度分布、和在從所述第一狀態(tài)起使至少一個反射鏡部件的反 射面的姿勢變化后的所述多個反射鏡部件的第二狀態(tài)下由所述多個反射鏡部件反射的光 在所述檢測面上形成的光強度分布，檢查所述至少一個反射鏡部件的姿勢的變化特性。
9.根據(jù)權利要求6至8中任意一項所述的檢查裝置，其特征在于，構(gòu)成所述共軛光學系 統(tǒng)的多個光學構(gòu)件中的一部分屬于所述傅立葉變換光學系統(tǒng)。
10.根據(jù)權利要求1至9中任意一項所述的檢查裝置，其特征在于，在所述共軛光學系 統(tǒng)與所述檢測面之間的光路中，未配置具有光學放大率的光學元件。
11.根據(jù)權利要求1至10中任意一項所述的檢查裝置，其特征在于，構(gòu)成所述共軛光學系統(tǒng)的光學構(gòu)件被沿著1條光軸配置。
12.根據(jù)權利要求1至11中任意一項所述的檢查裝置，其特征在于，能夠與照明光學系 統(tǒng)組合，所述照明光學系統(tǒng)具備具有被二維排列且被獨立控制的多個光學部件的空間光變 頻器，基于來自光源的照明光將被照射面照明，基于穿過所述空間光變頻器的所述多個光學部件中的至少一部分的所述照明光，檢查 所述空間光變頻器。
13.根據(jù)權利要求12所述的檢查裝置，其特征在于，還具備分支光學構(gòu)件，所述分支光學構(gòu)件能夠配置于所述空間光變頻器與所述被照射面之間的光路中，將穿 過所述空間光變頻器的所述多個光學部件中的至少一部分的所述照明光分支。
14.根據(jù)權利要求13所述的檢查裝置，其特征在于，所述分支光學構(gòu)件能夠配置于所述照明光學系統(tǒng)所具備的變焦光學系統(tǒng)與所述空間 光變頻器之間的光路中。
15.根據(jù)權利要求13或14所述的檢查裝置，其特征在于，所述分支光學構(gòu)件能夠配置于所述照明光學系統(tǒng)所具備的積分器與所述空間光變頻 器之間的光路中。
16.根據(jù)權利要求1至15中任意一項所述的檢查裝置，其特征在于，能夠與照明光學系 統(tǒng)組合，所述照明光學系統(tǒng)具備具有被二維排列且被獨立控制的多個光學部件的空間光變 頻器，基于來自光源的照明光將被照射面照明，借助配置于所述空間光變頻器與所述共軛光學系統(tǒng)之間并相對于所述照明光學系統(tǒng) 的光軸傾斜設置的反射面，檢查所述空間光變頻器。
17.根據(jù)權利要求16所述的檢查裝置，其特征在于，所述光檢測器相對于所述共軛光 學系統(tǒng)的光軸被傾斜設置。
18.根據(jù)權利要求1至17中任意一項所述的檢查裝置，其特征在于，所述光檢測器具備 多個像素，相對于所述空間光變頻器的所述光學部件的1個對應多個像素。
19.根據(jù)權利要求1至18中任意一項所述的檢查裝置，其特征在于，基于向所述空間 光變頻器的所述多個光學部件供應的具有相同的光強度分布的光束，檢查所述空間光變頻ο
20.根據(jù)權利要求1至18中任意一項所述的檢查裝置，其特征在于，基于相對于所述空 間光變頻器的所述多個光學部件的一部分供應的具有并不相同的光強度分布的光束，檢查 所述空間光變頻器。
21.一種檢查裝置，是對具有被二維排列且被獨立控制的多個光學部件的空間光變頻 器進行檢查的檢查裝置，其特征在于，所述檢查裝置具備傅立葉變換光學系統(tǒng)，其配置于所述空間光變頻器的光學上的下游側(cè)，形成與所述多 個光學部件所被排列的排列面在光學上處于傅立葉變換的關系的傅立葉變換面；光檢測器，其具有配置于所述傅立葉變換面或其附近的檢測面；檢查部，其基于所述光檢測器的檢測結(jié)果，檢查所述多個光學部件的光學特性。
22.根據(jù)權利要求21所述的檢查裝置，其特征在于，所述光學部件是反射鏡部件。
23.根據(jù)權利要求22所述的檢查裝置，其特征在于，所述檢查部基于在所述多個反射鏡部件的第一狀態(tài)下由所述多個反射鏡部件反射的 光在所述檢測面上形成的光強度分布、和在從所述第一狀態(tài)起使至少一個反射鏡部件的反 射面的姿勢變化后的所述多個反射鏡部件的第二狀態(tài)下由所述多個反射鏡部件反射的光 在所述檢測面上形成的光強度分布，檢查所述至少一個反射鏡部件的姿勢的變化特性。
24.一種檢查方法，是對具有被二維排列且被獨立控制的多個光學部件的空間光變頻 器進行檢查的檢查方法，其特征在于，基于經(jīng)過所述多個光學部件的光在與所述多個光學部件所被排列的排列面在光學上 共軛的共軛面上形成的光強度分布，檢查所述多個光學部件的光學特性。
25.根據(jù)權利要求24所述的檢查方法，其特征在于，所述光學部件是反射鏡部件。
26.根據(jù)權利要求25所述的檢查方法，其特征在于，基于由所述多個反射鏡部件反射的光在所述共軛面上形成的光強度分布，檢查所述多 個反射鏡部件的反射率。
27.根據(jù)權利要求25或26所述的檢查方法，其特征在于，基于在所述多個反射鏡部件的第一狀態(tài)下由所述多個反射鏡部件反射的光在與所述 多個光學部件所被排列的排列面在光學上處于傅立葉變換的關系的傅立葉變換面上形成 的光強度分布、和在從所述第一狀態(tài)起使至少一個反射鏡部件的反射面的姿勢變化后的所 述多個反射鏡部件的第二狀態(tài)下由所述多個反射鏡部件反射的光在所述傅立葉變換面上 形成的光強度分布，檢查所述至少一個反射鏡部件的姿勢的變化特性。
28.—種檢查方法，是對具有被二維排列且被獨立控制的多個光學部件的空間光變頻 器進行檢查的檢查方法，其特征在于，基于經(jīng)過所述多個光學部件的光在與所述多個光學部件所被排列的排列面在光學上 處于傅立葉變換的關系的傅立葉變換面上形成的光強度分布，檢查所述多個光學部件的光 學特性。
29.根據(jù)權利要求28所述的檢查方法，其特征在于，所述光學部件是反射鏡部件。
30.根據(jù)權利要求29所述的檢查方法，其特征在于，基于在所述多個反射鏡部件的第一狀態(tài)下由所述多個反射鏡部件反射的光在所述傅 立葉變換面上形成的光強度分布、和在從所述第一狀態(tài)起使至少一個反射鏡部件的反射面 的姿勢變化后的所述多個反射鏡部件的第二狀態(tài)下由所述多個反射鏡部件反射的光在所 述傅立葉變換面上形成的光強度分布，檢查所述至少一個反射鏡部件的姿勢的變化特性。
31.一種照明光學系統(tǒng)，是具備具有被二維排列且被獨立控制的多個光學部件的空間 光變頻器，并基于來自光源的光將被照射面照明的照明光學系統(tǒng)，其特征在于，所述照明光學系統(tǒng)具備權利要求1至23中任意一項所述的檢查裝置，所述檢查裝置用于檢查所述空間光變頻器；分布形成光學系統(tǒng)，其基于穿過所述空間光變頻器的光，在所述照明光學系統(tǒng)的照明 光瞳中形成給定的光強度分布。
32.根據(jù)權利要求31所述的照明光學系統(tǒng)，其特征在于，所述分布形成光學系統(tǒng)具有光學積分器、配置于該光學積分器與所述空間光變頻器之 間的光路中的聚光光學系統(tǒng)。
33.根據(jù)權利要求31或32所述的照明光學系統(tǒng)，其特征在于，和形成與所述被照射面在光學上共軛的面的投影光學系統(tǒng)組合使用，所述照明光瞳是 與所述投影光學系統(tǒng)的孔徑光闌在光學上共軛的位置。
34.一種曝光裝置，其特征在于，具備用于將給定的圖案照明的權利要求31至33中任意一項所述的照明光學系統(tǒng)，將 所述給定的圖案向感光性基板上曝光。
35.一種器件制造方法，其特征在于，包括 >曝光工序，使用權利要求34所述的曝光裝置，將所述給定的圖案向所述感光性基板上 曝光；顯影工序，將轉(zhuǎn)印有所述給定的圖案的所述感光性基板顯影，在所述感光性基板的表 面上形成與所述給定的圖案對應的形狀的掩模層；加工工序，隔著所述掩模層對所述感光性基板的表面進行加工。
36.一種調(diào)整方法，是對具備具有被二維排列且被獨立控制的多個光學部件的空間光 變頻器，并基于來自光源的光將被照射面照明的照明光學系統(tǒng)調(diào)整的調(diào)整方法，其特征在 于，包括檢查工序，使用權利要求1至23中任意一項所述的檢查裝置或者權利要求24至30中 任意一項所述的檢查方法，檢查所述多個光學部件的光學特性；光學調(diào)整工序，基于所述檢查工序的檢查結(jié)果，在光學上調(diào)整所述照明光學系統(tǒng)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種檢查裝置，其能夠隨時檢查例如配置于照明光學系統(tǒng)的光路中的空間光變頻器的反射鏡部件的反射率。本發(fā)明是對具有被二維排列且被獨立控制的多個光學部件的空間光變頻器進行檢查的檢查裝置(10)，其具備共軛光學系統(tǒng)(11、12)，其配置于空間光變頻器的光學上的下游側(cè)，形成與多個光學部件所被排列的排列面在光學上共軛的共軛面；光檢測器(13)，其具有配置于上述共軛面或其附近的檢測面；檢查部(14)，其基于光檢測器的檢測結(jié)果檢查多個光學部件的光學特性。
文檔編號G03F7/20GK101910817SQ20098010154
公開日2010年12月8日 申請日期2009年5月12日 優(yōu)先權日2008年5月28日
發(fā)明者田中裕久, 谷津修 申請人:株式會社尼康