技術(shù)編號:2750430
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種空間光變頻器的檢查裝置及檢查方法、照明光學系統(tǒng)、照明光學 系統(tǒng)的調(diào)整方法、曝光裝置、以及器件制造方法。更具體來說,本發(fā)明涉及一種對適用于曝 光裝置的照明光學系統(tǒng)中的空間光變頻器的檢查,上述曝光裝置用于利用光刻工序來制造 半導體元件、攝像元件、液晶顯示元件、薄膜磁頭等器件。背景技術(shù)在這種典型的曝光裝置中,從光源射出的光束穿過作為光學積分器的蠅眼透鏡, 形成由多個光源構(gòu)成的實質(zhì)上作為面光源的二次光源(一般來說是照明光瞳的給定的光 強度分布)。以下...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。