專利名稱：液體處理裝置和液體處理方法
技術領域：
本發(fā)明涉及用于將清洗液供給到由半導體晶圓等構成的被處理體的周緣部的液體處理裝置和液體處理方法。
背景技術：
以往公知有一種基板處理裝置(液體處理裝置)(參照日本特開2006-41444號公 報)，該基板處理裝置包括用于保持半導體晶圓等基板(被處理體)的基板保持部件(保 持部)；使由基板保持部件保持的基板旋轉的旋轉部件(旋轉驅(qū)動部)；以及用于將處理液 供給到旋轉的基板的上正面周緣部的噴嘴。不過，在日本特開2006-41444號公報所示那樣的現(xiàn)有技術的結構中，用于處理邊 緣部的處理空間被開放。因此，難以控制處理空間內(nèi)的氣氛，并且，清洗液的蒸發(fā)量變多。另 夕卜，需要用能夠包圍晶圓的周緣外方這樣的大小設置用于回收被甩出的處理液的回收罩， 導致液體處理裝置的大小變大。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種能夠容易控制被處理體的周緣部的處理空間的氣氛、并且能夠使水平方向的大小變小，還能夠縮小用于處理被處理體的處理空間的液體處理裝置以及使用 了這樣的液體處理裝置的液體處理方法。本發(fā)明的液體處理裝置，包括第二殼體；第一殼體，其與上述第二殼體相對配置；保持部，其被配置在上述第二殼體的內(nèi)方，用于保持被處理體；旋轉驅(qū)動部，其用于使由上述保持部保持的上述被處理體旋轉；正面?zhèn)忍幚硪汗┙o噴嘴，其用于將處理液供給到由上述保持部保持的上述被處理體的正面的周緣部，以及存儲部，其被配置在由上述保持部保持的上述被處理體的背面?zhèn)?，用于存儲?jīng)過了該被處理體的處理液，上述第一殼體和上述第二殼體分別能向一個方向移動，該第一殼體和該第二殼體能抵接和分離開。本發(fā)明的液體處理方法是使用液體處理裝置的液體處理方法，該液體處理裝置包括第二殼體；第一殼體，其與上述第二殼體相對配置；保持部，其被配置在上述第二殼體 的內(nèi)方，用于保持被處理體；以及存儲部，其被配置在由該保持部保持的上述被處理體的背 面?zhèn)?，該液體處理方法包括上述第一殼體和上述第二殼體互相分離開；由上述保持部保持上述被處理體；上述第一殼體和上述第二殼體分別互相接近而抵接；
使由上述保持部保持的上述被處理體旋轉，將處理液供給到由上述保持部保持的上述被處理體的正面的周緣部；由上述存儲部存儲經(jīng)過了上述被處理體的處理液。根據(jù)本發(fā)明，第一殼體和第二殼體分別能向一個方向移動，第一殼體和第二殼體 能夠抵接和分離開。因此，能夠縮小液體處理裝置的水平方向的大小。另外，通過使第一殼 體和第二殼體抵接，形成用于處理晶圓的周緣部的處理空間，因此能縮小處理空間。因此， 能容易地控制處理空間內(nèi)的氣氛，并且，也能減少清洗液的蒸發(fā)量。


圖1是表示本發(fā)明的實施方式的液體處理裝置的概略縱剖視圖。圖2是表示本發(fā)明的實施方式的液體處理裝置的俯視剖視圖。圖3是表示本發(fā)明的實施方式的液體處理裝置的驅(qū)動狀態(tài)的概略縱剖視圖。
具體實施例方式實施方式下面參照附圖對本發(fā)明的液體處理裝置的實施方式進行說明。在此，圖1 圖 3(a)、(b)是表示本發(fā)明的實施方式的圖。如圖1所示，液體處理裝置包括下方罩(第二殼體)20;上方罩(第一殼體)10， 其與下方罩20相對配置，能與下方罩20抵接；保持部1，其被配置在下方罩20的內(nèi)方，用 于保持作為被處理體的半導體晶圓W(以下稱為晶圓W)；旋轉軸5，其從保持部1向下方延 伸；旋轉驅(qū)動部60，其通過使該旋轉軸5旋轉而使由保持部1保持的晶圓W旋轉。另外，保 持部1利用真空吸附來保持晶圓W。其中，如圖1所示，旋轉驅(qū)動部60包括被配置在旋轉軸5的周緣外方的皮帶輪 62 ；卷繞在該皮帶輪62上的驅(qū)動帶63 ；通過對驅(qū)動帶63施加驅(qū)動力而借助皮帶輪62使旋 轉軸5旋轉的電動機61。另外，在旋轉軸5的周緣外方配置有軸承66。另外，如圖1所示，在上方罩10上設有由0型密封圈等構成的密封構件30。另外， 上方罩10和下方罩20分別能向上下方向移動，上方罩10和下方罩20能相抵接、也能相離 開(參照圖3的(a)、(b))。另外，上方罩10和下方罩20相抵接時，上方罩10和下方罩20 之間被密封構件30密封。另外，在本實施方式中，采用在上方罩10上設置密封構件30的 方式來進行說明(參照圖3的(a))，但不限于此，也可以在下方罩20上設置密封構件30。另外，如圖1所示，上方罩10在與由保持部1保持的晶圓W的正面的周緣部相對 的位置具有正面?zhèn)葍A斜部11，該正面?zhèn)葍A斜部11以隨著朝向晶圓W的周緣方向去越來越遠 離晶圓W的方式向上方傾斜。另外，在該正面?zhèn)葍A斜部11上設有長孔10a、10b，在該長孔 IOaUOb內(nèi)設有用于將清洗液(處理液)供給到晶圓W的正面的周緣部的正面?zhèn)忍幚硪汗?給噴嘴51a、52a。另外，在圖1中，晶圓W的正面位于上方側，晶圓W的背面位于下方側。另外，如圖2所示，在正面?zhèn)忍幚硪汗┙o噴嘴51a、52a上設有水平方向驅(qū)動部41a、 41b。并且，正面?zhèn)忍幚硪汗┙o噴嘴51a、52a能利用該水平方向驅(qū)動部41a、41b在長孔10a、 IOb內(nèi)沿水平方向移動。 不過，在本申請中所謂清洗液是指藥液、沖洗(rinse)液。并且，作為藥液，例如能采用稀氟酸等。另一方面，作為沖洗液例如能采用純水(DIW)等。
另外，如圖2所示，該正面?zhèn)忍幚硪汗┙o噴嘴51a、52a由用于將從藥液供給部(未圖示)供給的藥液供給到晶圓W的正面上的正面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴51a、以及用于將從沖洗 液供給部(未圖示)供給的沖洗液供給到晶圓W的正面上的正面?zhèn)葲_洗液供給噴嘴52a構 成。另外，如圖2所示，正面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴51a借助連結構件51與水平方向驅(qū)動部 41a相連結，通過使該連結構件51沿水平方向移動，使正面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴51a沿水平方向 移動。另外同樣，正面?zhèn)葲_洗液供給噴嘴52a借助連結構件52與水平方向驅(qū)動部41b相連 結，通過使該連結構件52沿水平方向移動，使正面?zhèn)葲_洗液供給噴嘴52a沿水平方向移動。 并且，正面?zhèn)葲_洗液供給噴嘴52a能比正面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴51a移動到更靠晶圓W的內(nèi)側 (長孔IOb比長孔IOa延伸到晶圓W的內(nèi)側)。因此，正面?zhèn)葲_洗液供給噴嘴52a能夠?qū)_ 洗液供給到比正面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴51a將藥液供給到晶圓W上的位置更靠晶圓W的內(nèi)側的 位置。另外，如圖1所示，下方罩20在與由保持部1保持的晶圓W的背面的周緣部相對 的位置具有背面?zhèn)葍A斜部27，該背面?zhèn)葍A斜部27以隨著朝向晶圓W的周緣方向去越來越遠 離晶圓W的方式向下方傾斜。另外，在該背面?zhèn)葍A斜部27中設有長孔20a、20b，在該長孔 20a、20b內(nèi)設有用于將清洗液供給到晶圓W的背面的周緣部的背面?zhèn)忍幚硪汗┙o噴嘴56a、 57a0另外，背面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴56a借助連結構件56與水平方向驅(qū)動部42a相連結， 通過使該連結構件56沿水平方向移動，使背面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴56a沿水平方向移動。另外， 同樣地，背面?zhèn)葲_洗液供給噴嘴57a借助連結構件57與水平方向驅(qū)動部42b相連結，通過 使該連結構件57沿水平方向移動，使背面?zhèn)葲_洗液供給噴嘴57a沿水平方向移動。另外，該背面?zhèn)忍幚硪汗┙o噴嘴56a、57a也由用于將從藥液供給部(未圖示)供 給的藥液供給到晶圓W的背面的背面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴56a、以及用于將從沖洗液供給部(未 圖示)供給的沖洗液供給到晶圓W的背面的背面?zhèn)葲_洗液供給噴嘴57a構成。并且，背面 側沖洗液供給噴嘴57a能夠比背面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴56a移動到更靠晶圓W的內(nèi)側，能夠?qū)?沖洗液供給到比背面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴56a將藥液供給到晶圓W上的位置更靠晶圓W的內(nèi)側 的位置。另外，如圖1所示，下方罩20包括正面?zhèn)纫龑Р?2，其被配置在由保持部1保持 的晶圓W的正面?zhèn)龋糜趯?jīng)過了晶圓W的正面的清洗液進行引導；背面?zhèn)纫龑Р?1，其被 配置在由保持部1保持的晶圓W的背面?zhèn)?，對?jīng)過了晶圓W的背面的清洗液進行引導；存儲 部23，其用于在該背面?zhèn)纫龑Р?1的下方側(與上方罩10側相反的一側)對由正面?zhèn)纫?導部22和背面?zhèn)纫龑Р?1引導的清洗液進行存儲。另外，背面?zhèn)纫龑Р?1朝著周緣外方 突出，使得背面?zhèn)纫龑Р?1與下方罩20的內(nèi)壁20i之間的間隙G變小。另外，在本實施方式中，做成使背面?zhèn)葍A斜部27同時作為背面?zhèn)纫龑Р?1的結 構。不過，不限于此，也可以使背面?zhèn)葍A斜部27和背面?zhèn)纫龑Р?1獨立地構成，在這種情 況下，背面?zhèn)纫龑Р?1位于背面?zhèn)葍A斜部27的周緣外方。另外，如圖1所示，在下方罩20的正面?zhèn)纫龑Р?2的內(nèi)方設有突起部29，該突起 部29用于防止被供給到晶圓W上的清洗液濺起而飛散。
另外，如圖1所示，在下方罩20上設有背面?zhèn)鹊獨夤┙o部(氮氣供給部)47，該背面?zhèn)鹊獨夤┙o部(氮氣供給部)47用于將氮氣供給到由保持部1保持的晶圓W的背面?zhèn)取Ａ硗?，在背面?zhèn)鹊獨夤┙o部47上設有加熱部31，該加熱部31用于對從該背面?zhèn)鹊獨夤┙o部47供給的氮氣進行加熱。另外，如圖1所示，在上方罩10的中央部設有正面?zhèn)鹊獨夤┙o口 46a，該正面?zhèn)鹊獨夤┙o口46a用于將氮氣供給到由保持部1保持的晶圓W的正面?zhèn)?。并且，該正面?zhèn)鹊獨夤┙o口 46a與用于供給氮氣的正面?zhèn)鹊獨夤┙o部46相連結。另外，上方罩10具有下方傾斜部12，該下方傾斜部12的下表面向下方傾斜，使晶圓W和上方罩10之間的間隙縮小。另外，如圖2所示，下方罩20上連結有排出管(排出部)36，該排出管(排出部)36在上方罩10和下方罩20之間被密封時，對由上方罩10和下方罩20形成的空間內(nèi)的氣體(氮氣等)進行排氣，并且對藥液、沖洗液等清洗液進行排液。另外，在該排出管36的下游側設有氣液分離部(未圖示)，該氣液分離部用于對氮氣等氣體以及藥液、沖洗液等清洗液(液體)進行分離。接著，對由這樣的結構構成的本實施方式的作用進行說明。首先，上方罩10移動到上方而位于上方位置，并且下方罩20移動到下方而位于下方位置(參照圖3的(a))(離隔工序)。之后，晶圓W被晶圓輸送機械手(未圖示)載置到保持部1上，由該保持部1保持(參照圖3的(a))(保持工序)。這樣，在本實施方式中，上方罩10移動到上方，并且，下方罩20移動到下方，因此能利用晶圓輸送機械手容易地將晶圓W載置在保持部1上。因此，能容易地使晶圓W的周緣部位于規(guī)定的處理位置(與正面?zhèn)忍幚硪汗┙o噴嘴51a、52a和背面?zhèn)忍幚硪汗┙o噴嘴56a、57a相對的位置)。接著，上方罩10移動到下方而位于下方位置，并且下方罩20移動到上方而位于上方位置，上方罩10和下方罩20抵接(參照圖3的(b))(抵接工序)。此時，上方罩10和下方罩20之間被設置在上方罩10上的密封構件30密封。接著，旋轉軸5被旋轉驅(qū)動部60驅(qū)動而旋轉，從而被保持部1保持的晶圓W被旋轉(參照圖3的(b))(旋轉工序)。此時，從電動機61借助驅(qū)動帶63對皮帶輪62施加驅(qū)動力，由此旋轉軸5被驅(qū)動而旋轉。接著，從正面?zhèn)鹊獨夤┙o部46供給的氮氣經(jīng)由被設置在上方罩10上的正面?zhèn)鹊獨夤┙o口 46a朝向晶圓W的正面?zhèn)裙┙o氮氣。此時，從背面?zhèn)鹊獨夤┙o部47也朝向晶圓W的背面?zhèn)裙┙o氮氣。另外，以下的工序在朝向晶圓W的正面和背面供給氮氣的期間進行。接著，從正面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴51a朝向晶圓W的正面供給藥液(正面?zhèn)人幰汗┙o工序)。另外，在這樣地從正面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴51a供給藥液之前，能夠利用水平方向驅(qū)動部41a使正面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴51a沿著長孔IOa移動來進行定位(參照圖2)。另外，不限于此，在從正面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴51a供給藥液期間，也可以利用水平方向驅(qū)動部41a使正面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴51a沿著長孔IOa移動。在此，上方罩10在與由保持部1保持的晶圓W的正面的周緣部相對的位置具有正面?zhèn)葍A斜部11，該正面?zhèn)葍A斜部11隨著朝向晶圓W的周緣方向越來越遠離晶圓W地向上方傾斜，并且，在該正面?zhèn)葍A斜部11上設有正面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴51a (參照圖1)。
這樣，正面?zhèn)葍A斜部11隨著朝向晶圓W的周緣方向越來越遠離W地向上方傾斜(隨著朝向晶圓W的中心接近晶圓W地向下方傾斜)，因此能使從正面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴51a 供給的藥液以晶圓W的周緣部充滿液體的狀態(tài)處理該晶圓W的周緣部。因此，能防止處理 液通過與上方罩10接觸而進入到比規(guī)定的范圍更靠晶圓W的中心側。結果，能高精度地對 晶圓W的正面中的、僅對預先規(guī)定的范圍進行處理。另外，通常在晶圓W的正面?zhèn)刃纬捎袌D 案，因此在處理晶圓W的周緣部時，要求不對預先規(guī)定的范圍之外進行誤處理，根據(jù)本實施 方式，能可靠地應對這樣的要求。另外，能夠在晶圓W的正面和上方罩10之間形成朝著晶圓W的周緣變寬的間隙(參照圖1)，因此能以保持使藥液附著在晶圓W的正面上的狀態(tài)使晶圓W旋轉。因此，能用 藥液處理晶圓W的正面一定時間，能可靠地處理晶圓W的正面。另外，清洗液的液膜在作用 在晶圓W上的離心力的作用下而使厚度隨著朝向周緣方向逐漸變厚，因此如本實施方式這 樣優(yōu)選形成隨著朝向晶圓W的周緣變寬的間隙。并且，晶圓W的正面上的藥液附著在上方罩10上，由此能夠防止對下次以后處理的晶圓W帶來不良影響。即，附著在晶圓W的正面上的藥液附著在上方罩10的底面等上 時，就作為垃圾而殘留，有時會對下次以后處理的晶圓W帶來不良影響。不過，在本實施方 式中，在晶圓W的正面和上方罩10之間能形成隨著朝向晶圓W的周緣變寬的間隙，因此，能 夠防止晶圓W的正面上的藥液附著在上方罩10上。因此，能防止對下次以后處理的晶圓W 帶來不良影響。另外，能使正面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴51a沿著長孔IOa移動，但該長孔IOa只設置在正面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴51a移動的范圍內(nèi)即可。因此，能夠縮小設置在上方罩10上的長孔IOa 的大小。結果，能防止因晶圓W旋轉而產(chǎn)生的氣流的流動在晶圓W的正面?zhèn)任蓙y，進而能夠 高精度地對晶圓W進行處理。在上述的正面?zhèn)人幰汗┙o工序期間，也從背面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴56a朝著晶圓W的 背面供給藥液(背面?zhèn)人幰汗┙o工序)。另外，這樣從背面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴56a供給藥液 之前，能利用水平方向驅(qū)動部42a使背面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴56a沿著長孔20a移動來進行定 位。另外，不限于此，在從背面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴56a供給藥液期間，也能利用水平方向驅(qū)動 部42a使背面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴56a沿著長孔20a移動。在此，下方罩20也在與由保持部1保持的晶圓W的背面的周緣部相對的位置具有 背面?zhèn)葍A斜部27，該背面?zhèn)葍A斜部27隨著朝向晶圓W的周緣方向越來越遠離晶圓W地向下 方傾斜，且在該背面?zhèn)葍A斜部27上設有背面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴56a (參照圖1)。因此，能防止從背面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴56a供給的藥液在表面張力等的作用下進入 到比規(guī)定的范圍更靠晶圓W的中心側。結果，能夠高精度地對晶圓W的背面中的、僅預定的 規(guī)定的范圍進行處理。另外，背面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴56a能夠沿著長孔20a移動，但該長孔20a只設置在背 面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴56a移動的范圍內(nèi)即可。因此，與設置在上方罩10上的長孔IOa同樣地 能夠縮小設置在下方罩20上的長孔20a的大小。結果，能防止晶圓W旋轉時產(chǎn)生的氣流的 流動在晶圓W的背面?zhèn)任蓙y，進而能高精度地對晶圓W進行處理。并且，如上所述，從正面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴51a和背面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴56a供給的藥 液被存儲于存儲部23，之后，由排出管36排出。
接著，從正面?zhèn)葲_洗液供給噴嘴52a朝向晶圓W的正面供給沖洗液(正面?zhèn)葲_洗液供給工序)。此時，與正面?zhèn)人幰汗┙o工序同樣地能夠防止從正面?zhèn)葲_洗液供給噴嘴52a供給的沖洗液在表面張力等的作用下進入到比規(guī)定的范圍更靠晶圓W的中心側。因此，能夠?qū)?沖洗液只供給到晶圓W的正面中的預先規(guī)定的范圍內(nèi)。結果，能防止沖洗液殘留在晶圓W 上而在晶圓W的正面上形成水印。另外，也從背面?zhèn)葲_洗液供給噴嘴57a將沖洗液供給到晶圓W的背面上(背面?zhèn)葲_洗液供給工序)。并且，這樣地從正面?zhèn)葲_洗液供給噴嘴52a和背面?zhèn)葲_洗液供給噴嘴57a供給的沖洗液被存儲于存儲部23，之后，由排出管36排出。在此，與背面?zhèn)人幰汗┙o工序同樣地能夠防止從背面?zhèn)葲_洗液供給噴嘴57a供給的沖洗液在表面張力等的作用下進入到比規(guī)定的范圍更靠晶圓W的中心側。因此，能夠?qū)?沖洗液供給到晶圓W的背面中的預先規(guī)定的范圍內(nèi)。結果，能夠防止沖洗液殘留在晶圓W 上而在晶圓W的背面上形成水印等。另外，正面?zhèn)葲_洗液供給噴嘴52a能夠比正面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴51a移動到更靠晶圓W的內(nèi)方側，能夠?qū)_洗液供給到比正面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴51a將藥液供給到晶圓W上的 位置更靠晶圓W內(nèi)方側(參照圖2)。因此，附著在晶圓W的正面上的藥液能被從晶圓W的內(nèi)方側供給的沖洗液可靠地 除去。另外，背面?zhèn)葲_洗液供給噴嘴57a也能夠比背面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴56a移動到更靠 晶圓W的內(nèi)方側，能夠?qū)_洗液供給到比背面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴56a將藥液供給到晶圓W上 的位置更靠晶圓W的內(nèi)方側。因此，附著在晶圓W的背面上的藥液能被從晶圓W的內(nèi)方側 供給的沖洗液可靠地除去。另外，也能夠與長孔IOa和長孔20a同樣地縮小長孔IOb和長孔20b的大小。因 此，能夠防止在晶圓W旋轉時產(chǎn)生的氣流的流動在晶圓W的正面?zhèn)群捅趁鎮(zhèn)任蓙y。不過，在本實施方式中，對采用正面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴51a和正面?zhèn)葲_洗液供給噴 嘴52a獨立地構成、并且背面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴56a和背面?zhèn)葲_洗液供給噴嘴57a獨立地構 成的方式進行了說明，但不限于此。例如，藥液的濃度小時，也可以從相同的供給部供給藥 液和沖洗液。另外，即使是這樣的情況下，也優(yōu)選被供給沖洗液的晶圓W上的位置比被供給 藥液的晶圓W上的位置更靠內(nèi)方側。另外，在上述的背面?zhèn)人幰汗┙o工序和背面?zhèn)葲_洗液供給工序中，被加熱部31加 熱的氮氣供給到晶圓W的背面?zhèn)?。因此，能夠在利用被加熱的氮氣使晶圓W升溫的狀態(tài)下 對晶圓W的背面進行處理。另外，上述說明中，對利用被加熱部31加熱的氮氣使供給到晶圓W的背面?zhèn)鹊乃?液和沖洗液升溫的方式進行了說明，但不限于此。例如，替代加熱氮氣的加熱部31，也可以 設置直接使供給到背面?zhèn)鹊乃幰汉蜎_洗液升溫的加熱部，另外，也可以設置使供給到晶圓W 的正面?zhèn)鹊乃幰汉蜎_洗液升溫的加熱部。另外，在上述的正面?zhèn)人幰汗┙o工序、背面?zhèn)人幰汗┙o工序、正面?zhèn)葲_洗液供給工 序和背面?zhèn)葲_洗液供給工序中，始終將氮氣持續(xù)地供給到晶圓W的正面?zhèn)群捅趁鎮(zhèn)取Ｒ虼?，能夠可靠地防止被供給到晶圓W上的藥液和沖洗液進入到比規(guī)定的范圍更靠晶圓W的中心 側。另外，如圖1所示，上方罩10具有下方傾斜部12，該下方傾斜部12使晶圓W和上 方罩10之間的間隙與晶圓W的中心部相比在周緣部的方向上縮小，因此，在正面?zhèn)人幰汗?給工序和正面?zhèn)葲_洗液供給工序中，能夠使從正面?zhèn)鹊獨夤┙o口46a供給的氮氣的流速隨著朝向晶圓W的周緣方向變快。因此，能可靠地防止被供給到晶圓W上的藥液和沖洗液進入到比規(guī)定的范圍更靠晶圓W的中心側。另外，如圖1所示，背面?zhèn)纫龑Р?1朝向周緣外方突出，使背面?zhèn)纫龑Р?1和下 方罩20的內(nèi)壁20i之間的間隙G縮小。因此，將正面?zhèn)人幰汗┙o工序、背面?zhèn)人幰汗┙o工序、正面?zhèn)葲_洗液供給工序和背面?zhèn)葲_洗液供給工序中使用的氮氣和清洗液引導到存儲部23時，其流路被縮小。結果，能夠利用排出管36將這些氮氣、清洗液均勻地排出(參照圖 2)。另外，如圖2所示，排出管36沿著晶圓W的旋轉方向排出被引導到存儲部23的氮氣、清洗液。因此，利用排出管36，能可靠地排出氮氣、清洗液。如上所述那樣開始將沖洗液供給到晶圓W的正面和背面上，在經(jīng)過規(guī)定的時間時，就停止從沖洗液供給部(未圖示)供給沖洗液。之后，在旋轉驅(qū)動部60的驅(qū)動下，晶圓 W高速旋轉，晶圓W的周緣部被干燥。(干燥工序)接著，上方罩10移動到上方而位于上方位置，并且下方罩20移動到下方而位于下方位置(參照圖3的(a))(離開工序)。之后，利用晶圓輸送機械手(未圖示)將晶圓W從 保持部1取掉(取出工序)。這樣，在本實施方式中，上方罩10移動到上方，并且，下方罩20移動到下方，因此 能利用晶圓輸送機械手容易地將載置在保持部1上的晶圓W取掉。不過，在本實施方式中，通過上方罩10和下方罩20沿上下方向移動來進行晶圓W 的取出和放入，不需要如現(xiàn)有技術那樣用圍著晶圓W的周緣外方這樣的大小來設置用于對在晶圓W上甩開的處理液進行回收的回收罩，因此能縮小液體處理裝置的水平方向上的大小。另外，通過上方罩10和下方罩20抵接，在上方罩10和下方罩20之間形成處理空間，因此能夠縮小用于處理晶圓W的周緣部的處理空間。因此，能容易地控制該處理空間內(nèi)的氣氛，并且，能減少清洗液的蒸發(fā)量，也能減少氮氣的供給量和排氣量。另外，在上方罩10和下方罩20抵接時，上方罩10和下方罩20之間被密封構件30密封，因此能防止藥液流出到外部。因此，能夠更可靠地防止藥液附著在外圍單元上，能更 加可靠地防止藥液對人體產(chǎn)生不良影響。并且，能夠這樣防止藥液流出到外部，因此只要對上方罩10、下方罩20、正面?zhèn)忍幚硪汗┙o噴嘴51a、52a和背面?zhèn)忍幚硪汗┙o噴嘴56a、57a實施耐藥性即可，這些以外的部件可以不實施耐藥性，因此能降低液體處理裝置的制造成本。不過，在本實施方式中，由正面?zhèn)人幰汗┙o工序和正面?zhèn)葲_洗液供給工序構成正面?zhèn)忍幚硪汗┙o工序，由背面?zhèn)人幰汗┙o工序和背面?zhèn)葲_洗液供給工序構成背面?zhèn)忍幚硪汗┙o工序。關聯(lián)申請的互相參照本申請對在2008年6月5日申請的日本特愿2008-148163號和日本特愿2008-148175號主張優(yōu)先權，參照該日本特愿2008-148163號和日本特愿2008-148175號的全部內(nèi)容被并將該全部內(nèi)容編入本說明書中。
權利要求
一種液體處理裝置，其包括第二殼體；第一殼體，其與上述第二殼體相對配置；保持部，其被配置在上述第二殼體的內(nèi)方，用于保持被處理體；旋轉驅(qū)動部，其用于使由上述保持部保持的上述被處理體旋轉；正面?zhèn)忍幚硪汗┙o噴嘴，其用于將處理液供給到由上述保持部保持的上述被處理體的正面的周緣部；存儲部，其被配置在由上述保持部保持的上述被處理體的背面?zhèn)?，用于存儲?jīng)過了該被處理體的處理液，上述第一殼體和上述第二殼體分別能向一個方向移動，該第一殼體和該第二殼體能抵接和分離開。
2.根據(jù)權利要求1所述的液體處理裝置，其特征在于，該液體處理裝置還具有背面?zhèn)纫龑Р?，該背面?zhèn)纫龑Р吭谟缮鲜霰３植勘３值纳鲜霰?處理體的背面?zhèn)瘸芫壨夥酵怀龅嘏渲?，用于對?jīng)過了該被處理體的處理液進行引導，上述存儲部位于上述背面?zhèn)纫龑Р康呐c上述第一殼體側相反的一側，用于存儲被該背 面?zhèn)纫龑Р恳龑У奶幚硪骸?br> 3.根據(jù)權利要求1所述的液體處理裝置，其特征在于，該液體處理裝置還具有密封構件，該密封構件被配置在上述第一殼體和上述第二殼體 之間，用于對該第一殼體和該第二殼體之間進行密封。
4.根據(jù)權利要求1所述的液體處理裝置，其特征在于，該液體處理裝置還具有正面?zhèn)纫龑Р?，該正面?zhèn)纫龑Р勘慌渲迷谟缮鲜霰３植勘３值?上述被處理體的正面?zhèn)?，用于對?jīng)過了上述被處理體的正面的處理液進行引導。
5.根據(jù)權利要求1所述的液體處理裝置，其特征在于，該液體處理裝置還具有加熱部，該加熱部用于對上述被處理體進行加熱。
6.根據(jù)權利要求1所述的液體處理裝置，其特征在于， 該液體處理裝置還具有氮氣供給部和加熱部，該氮氣供給部用于將氮氣供給到由上述保持部保持的上述被處理體上； 該加熱部用于對從上述氮氣供給部供給的氮氣進行加熱。
7.根據(jù)權利要求1所述的液體處理裝置，其特征在于，該液體處理裝置還具有排出部，該排出部用于排出由上述第一殼體和上述第二殼體形 成的空間內(nèi)的氣體或液體，上述排出部沿著上述被處理體的旋轉方向排出上述空間內(nèi)的氣體或液體。
8.根據(jù)權利要求1所述的液體處理裝置，其特征在于，上述第一殼體在與由上述保持部保持的上述被處理體的正面的周緣部相對的位置具 有正面?zhèn)葍A斜部，該正面?zhèn)葍A斜部以隨著朝向該被處理體的周緣方向去越來越遠離該被處 理體的方式傾斜，上述正面?zhèn)忍幚硪汗┙o噴嘴被設置在上述正面?zhèn)葍A斜部上。
9.根據(jù)權利要求8所述的液體處理裝置，其特征在于，上述第二殼體在與由上述保持部保持的上述被處理體的背面的周緣部相對的位置具有背面?zhèn)葍A斜部和背面?zhèn)忍幚硪汗┙o噴嘴，該背面?zhèn)葍A斜部以隨著朝向該被處理體的周緣 方向去越來越遠離該被處理體的方式傾斜，該背面?zhèn)忍幚硪汗┙o噴嘴被設置在該背面?zhèn)葍A 斜部上，用于將處理液供給到上述被處理體的背面的周緣部上。
10.根據(jù)權利要求8所述的液體處理裝置，其特征在于，上述正面?zhèn)忍幚硪汗┙o噴嘴由用于供給藥液的正面?zhèn)人幰汗┙o噴嘴和用于供給沖洗 液的正面?zhèn)葲_洗液供給噴嘴構成，上述正面?zhèn)葲_洗液供給噴嘴將沖洗液供給到上述被處理體上的位置比上述正面?zhèn)人?液供給噴嘴將藥液供給到上述被處理體上的位置更靠內(nèi)方側。
11.一種液體處理方法，其是使用液體處理裝置的液體處理方法，該液體處理裝置包 括第二殼體；第一殼體，其與上述第二殼體相對配置；保持部，其被配置在上述第二殼體 的內(nèi)方，用于保持被處理體；以及存儲部，其被配置在由上述保持部保持的上述被處理體的 背面?zhèn)?，該液體處理方法包括上述第一殼體和上述第二殼體互相分離開； 由上述保持部保持上述被處理體； 上述第一殼體和上述第二殼體分別互相接近而抵接； 使由上述保持部保持的上述被處理體旋轉，將處理液供給到由上述保持部保持的上述被處理體的正面的周緣部； 由上述存儲部存儲經(jīng)過了上述被處理體的處理液。
全文摘要
本發(fā)明提供一種液體處理裝置和液體處理方法，液體處理裝置包括第二殼體(20)；能與第二殼體(20)抵接的第一殼體(10)；用于保持被處理體(W)的保持部(1)；使由保持部(1)保持的被處理體(W)旋轉的旋轉驅(qū)動部(60)；將處理液供給到由保持部(1)保持的被處理體(W)的正面的周緣部的正面?zhèn)忍幚硪汗┙o噴嘴(51a、52a)；被配置在由保持部(1)保持的被處理體(W)的背面?zhèn)炔⒂糜诖鎯?jīng)過了被處理體(W)的處理液的存儲部(23)。第一殼體(10)和第二殼體(20)分別能向一個方向移動，第一殼體(10)和第二殼體(20)能抵接和分離開。
文檔編號G03F7/20GK101802982SQ200980100353
公開日2010年8月11日 申請日期2009年5月25日 優(yōu)先權日2008年6月5日
發(fā)明者天野嘉文, 金子聰 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社