技術(shù)編號：2750406
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于將清洗液供給到由半導(dǎo)體晶圓等構(gòu)成的被處理體的周緣部的。背景技術(shù)以往公知有一種基板處理裝置(液體處理裝置)(參照日本特開2006-41444號公 報)，該基板處理裝置包括用于保持半導(dǎo)體晶圓等基板(被處理體)的基板保持部件(保 持部)；使由基板保持部件保持的基板旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)部件(旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部)；以及用于將處理液 供給到旋轉(zhuǎn)的基板的上正面周緣部的噴嘴。不過，在日本特開2006-41444號公報所示那樣的現(xiàn)有技術(shù)的結(jié)構(gòu)中，用于處理邊 緣部的處理空間被開放...
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