專利名稱：液晶顯示面板及其制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及顯示技術，尤其涉及一種液晶顯示面板及其制造方法。
背景技術：
液晶顯示面板主要由陣列基板、彩膜基板、液晶等構成。其中，陣列基板與彩 膜基板貼在一起形成液晶成盒基板，中間填充有液晶形成液晶層。液晶層的厚度，也稱 為盒厚，會對液晶的光調節(jié)作用產生很大影響。因此，在液晶顯示器的制造過程中，保 證盒厚的均一性是實現(xiàn)高品質液晶顯示的基礎。為了保證盒厚的均一性，現(xiàn)有技術主要采用放置隔墊物的方法。通常隔墊物 的材料為樹脂，樹脂形成的隔墊物具有一定的彈性，在變形后能夠恢復到原來的形狀。 目前，在手機和筆記本電腦中常用到觸摸式液晶顯示面板，當對液晶顯示面板施加壓力 時，隔墊物會發(fā)生變形。采用樹脂形成的隔墊物經(jīng)過反復的變形或者受到較大外力的 時候，隔墊物自身會發(fā)生無法恢復的形變，有時甚至發(fā)生破損，這樣會影響盒厚的均一 性，造成顯示不良。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有技術存在的問題，提供一種液晶顯示面板及其制造方 法， 能夠使得隔墊物經(jīng)過反復變形后依然能夠完全恢復形狀，不會發(fā)生破損，從而能夠 避免由于隔墊物變形或破損導致的盒厚均一性問題和顯示不良問題。為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種液晶顯示面板，包括陣列基板和彩膜基 板，所述陣列基板和彩膜基板之間設置有由形狀記憶聚合物形成的隔墊物。其中，所述隔墊物為柱狀隔墊物。所述形狀記憶聚合物為聚甲基丙烯酸甲酯；聚降冰片烯；環(huán)戊烷亞甲基；具有 鏈段化結構的聚氨基甲酸酯、聚乙烯、聚環(huán)氧乙烷和聚氯乙烯的聚合物、聚酰胺和聚氯 乙烯的聚合物、聚氯乙烯的聚合物；玉米油；苯乙烯和二乙烯基苯的聚合物；改質的環(huán) 氧樹脂。所述隔墊物的一端形成在所述彩膜基板上，另一端頂設在所述陣列基板上；或 者所述隔墊物的一端形成在所述陣列基板上，另一端頂設在所述彩膜基板上。本發(fā)明還提供了一種液晶顯示面板制造方法，包括步驟101、在陣列基板或彩膜基板上沉積一層形狀記憶光刻膠，所述形狀記憶光 刻膠通過在形狀記憶聚合物中添加能夠使所述形狀記憶聚合物進行光反應的光聚合物開 始劑形成；步驟102、采用掩模板對所述形狀記憶光刻膠進行構圖工藝，形成隔墊物的圖 形；步驟103、將所述陣列基板和彩膜基板對盒，注入液晶，形成液晶顯示面板。其中，所述光聚合物開始劑為鄰疊氮萘醌光敏劑，或二丙烯酸和雙酐交替縮聚得到的感光性聚酯纖維。所述步驟101具體可以為在形成有透明電極的彩膜基板上沉積一層形狀記憶 光刻膠，或者在形成有像素電極的陣列基板上沉積一層形狀記憶光刻膠。本發(fā)明提供的液晶顯示面板及其制造方法，隔墊物的材料采用形狀記憶聚合 物，能夠使得隔墊物經(jīng)過反復變形后依然能夠完全恢復形狀，并且由于形狀記憶聚合物 形狀恢復速度快，使得隔墊物能夠在變形后迅速恢復到原來的形狀，對于觸摸式液晶顯 示器，能夠避免由于隔墊物形狀恢復速度慢導致的漏光等問題；另外，由于形狀記憶聚 合物本身耐久性較好，這樣，隔墊物在受到較大外力作用時，也不易發(fā)生破損，能夠避 免由于隔墊物變形或破損導致的盒厚均一性問題和顯示不良問題。下面通過附圖和實施例，對本發(fā)明的技術方案做進一步的詳細描述。


圖Ia為本發(fā)明液晶顯示面板第一實施例的平面圖； 圖Ib為圖Ia中C-C向剖面圖；圖2所示為本發(fā)明液晶顯示面板制造方法流程圖。
具體實施例方式本發(fā)明提供一種液晶顯示面板，包括陣列基板和彩膜基板，陣列基板和彩膜基 板之間設置有隔墊物，隔墊物的材料為形狀記憶聚合物(shape memory polymer)。形狀記憶聚合物可以是軟段(soft segment)和硬段(hard segment)組成的高分子 物質。高分子內的分子鏈在溫度降低到轉移溫度以下時，形狀固定。再次加熱到轉移溫 度以上時，聚合物內具有取向的分子鏈會回到原來的形態(tài)。硬段是確定形狀記憶聚合物 的形狀特性的物質，軟段是用于自由吸收外力的物質。形狀記憶聚合物具體可以是聚甲基丙烯酸甲酯(Poly (methyl methacrylate))；聚 降冰片烯(polynorbornene)；環(huán)戊燒亞甲基(poly (methylene-1, 3-cyclopentane))；具有 鏈段化(segment)結構的聚氨基甲酸酯(polyurethane)、聚乙烯(polyethylene，簡稱ΡΕ)、 聚環(huán)氧乙烷(Poly (ethylene oxide)，簡稱 PEO)和聚氯乙烯(Poly (vinylidene chloride)，簡 稱PVC)的聚合物、PE和聚酰胺(Polyamide，簡稱PA)的聚合物、PVC的聚合物等高 分子的形狀記憶聚合物；玉米油；苯乙烯(styrene)和二乙烯基苯(divinylbenzol)的聚合 物；改質的環(huán)氧樹脂(epoxy)。其中改質的環(huán)氧樹脂是是指將環(huán)氧樹脂進行光反應或通 過氣體使表面的質地改善或改變后的環(huán)氧樹脂。本發(fā)明提供的液晶顯示面板，隔墊物的材料采用形狀記憶聚合物，當軟段受到 的外力在軟段可接受的范圍之內時，隔墊物可以恢復原來的形狀。當軟段受到的外力超 過軟段可接受的范圍時，隔墊物發(fā)生形變，當加溫到轉移溫度時，隔墊物按照硬段記憶 的形狀，可以100%恢復到原來的形狀。如果將轉移溫度調整到室溫，那么在室溫下，隔 墊物就能恢復到原來的形狀。并且與樹脂等現(xiàn)有的形成隔墊物的材料相比，形狀記憶聚 合物恢復形狀的速度快，在發(fā)生形變后能夠迅速恢復到原來的形狀。本發(fā)明提供的液晶顯示面板，隔墊物的材料采用形狀記憶聚合物，能夠使得隔 墊物經(jīng)過反復變形后依然能夠完全恢復形狀，并且由于形狀記憶聚合物形狀恢復速度快，使得隔墊物能夠在變形后迅速恢復到原來的形狀，對于觸摸式液晶顯示器，能夠避 免由于隔墊物形狀恢復速度慢導致的漏光等問題；另外，由于形狀記憶聚合物本身耐久 性較好，這樣，隔墊物在受到較大外力作用時，也不易發(fā)生破損，能夠避免由于隔墊物 變形或破損導致的盒厚均一性問題和顯示不良問題。本發(fā)明提供的液晶顯示面板中，隔墊物的形狀可以是柱狀，隔墊物可以形成在 彩膜基板或陣列基板上。圖Ia為本發(fā)明液晶顯示面板第一實施 例的平面圖，圖Ib為圖Ia中C-C向剖面 圖。為了便于說明，圖Ia所示的面板中沒有示出彩膜基板。在圖Ib中示出了彩膜基板， 以便于說明彩膜基板和陣列基板的結構。陣列基板A的結構包括柵線3a和數(shù)據(jù)線7c，柵 線3a和數(shù)據(jù)線7c限定的像素區(qū)域內形成有像素電極9a和TFT，TFT包括柵電極3b、源 電極7a和漏電極7b，柵電極3b形成在陣列基板A上，并與柵線3a連接；柵絕緣層4形 成在柵電極3b上并覆蓋整個陣列基板A ；由半導體層5和摻雜半導體層6組成的有源層 形成在柵絕緣層4上并位于柵電極3b的上方；源電極7a形成在摻雜半導體層6上，一端 位于柵電極3b的上方，另一端與數(shù)據(jù)線7c連接，漏電極7b形成在摻雜半導體層6上， 一端位于柵電極3b的上方，另一端與像素電極9a連接，源電極7a與漏電極7b之間形成 TFT溝道區(qū)域，TFT溝道區(qū)域的摻雜半導體層6被完全刻蝕掉，并刻蝕掉部分厚度的半導 體層5，使TFT溝道區(qū)域的半導體層5暴露出來；鈍化層8形成在源電極7a、漏電極7b 以及TFT溝道區(qū)域上并覆蓋整個陣列基板A，在漏電極7b位置開設有使像素電極9a與 漏電極7b連接的鈍化層過孔8a。當柵電極3b上施加電壓時，可以使源電極7a和漏電極 7b導通。陣列基板A與彩膜基板B之間填充有液晶10，隔墊物11的一端形成在彩膜基板 B上，隔墊物11的另一端頂設在陣列基板A上，隔墊物11通?？梢栽O置在柵線處或者 TFT溝道處，圖Ib中，隔墊物11的另一端頂設在TFT的溝道處。圖Ia和Ib中，隔墊物11可以形成在彩膜基板B的透明電極12上，該透明電極 12與陣列基板A上的像素電極9a之間形成電壓差驅動液晶10反轉。下面描述本發(fā)明液晶顯示面板的制造過程。如圖2所示為本發(fā)明液晶顯示面板制造方法流程圖，包括步驟101、在陣列基板或彩膜基板上沉積一層形狀記憶光刻膠，該形狀記憶光刻 膠通過在形狀記憶聚合物中添加能夠使形狀記憶聚合物進行光反應的光聚合物開始劑形 成。步驟102、采用掩模板對形狀記憶光刻膠進行構圖工藝，形成隔墊物的圖形。本 發(fā)明各實施例中，構圖工藝包括掩膜、曝光、顯影、刻蝕、剝離等工藝。步驟103、將陣列基板和彩膜基板對盒，注入液晶，形成液晶顯示面板。步驟101中，需要在形狀記憶聚合物中添加光聚合物開始劑，因為形狀記憶聚 合物本身不能進行光反應，即不能用作光刻膠進行曝光、顯影和刻蝕，所以需要添加光 聚合物開始劑，使得形狀記憶聚合物形成形狀記憶光刻膠，該形狀記憶光刻膠能夠進行 光反應。光聚合物開始劑可以是鄰疊氮萘醌光敏劑(Diazo-Naptho-Quinone Photoactive Compound,簡稱 DNQ-PAC)，或二丙烯酸(di_acrylate)和雙酐(di_anhydride)交替縮 聚得到的感光性聚酯纖維(polyester)。這些物質的組分及比例可以根據(jù)實際需要進行調整。步驟101具體可以是在形成有透明電極的彩膜基板上沉積一層形狀記憶光刻 膠，如圖Ia和Ib所示，隔墊物形成在彩膜基板的透明電極上?；蛘卟襟E101可以是在 形成有像素電極的陣列基板上形成一層形狀記憶光刻膠。本發(fā)明提供的形成液晶顯示面板的方法，在陣列基板或彩膜基板上形成形狀記 憶光刻膠，通過構圖工藝形成了材料為形狀記憶聚合物的隔墊物，使得隔墊物能夠在變 形后迅速恢復到原來的形狀，對于觸摸式液晶顯示器，能夠避免由于隔墊物恢復速度慢 導致的漏光等問題；另外，由于形狀記憶聚合物本身耐久性較好，這樣，隔墊物在受到 較大外力作用時，也不易發(fā)生破損，能夠避免由于隔墊物變形或破損導致的盒厚均一性 問題和顯示不良問題。本發(fā)明前述實施例中，隔墊物的一端形成在彩膜基板上，另一端頂設在陣列基 板上。實質上，也可以將隔墊物的一端形成在陣列基板上，另一端形成在彩膜基板上。 隔墊物還可以以其他形式設置，此處不再贅述。最后應說明的是以上實施例僅用以說明本發(fā)明的技術方案而非對其進行限 制，盡管參照較佳實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明，本領域的普通技術人員應當理 解其依然可以對本發(fā)明的技術方案進行修改或者等同替換，而這些修改或者等同替換 亦不能使修改后的技術方案脫離本發(fā)明技術方案的精神和范圍。
權利要求
1.一種液晶顯示面板，包括陣列基板和彩膜基板，其特征在于，所述陣列基板和彩 膜基板之間設置有由形狀記憶聚合物形成的隔墊物。
2.根據(jù)權利要求1所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述隔墊物為柱狀隔墊物。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述形狀記憶聚合物為聚 甲基丙烯酸甲酯；聚降冰片烯；環(huán)戊烷亞甲基；具有鏈段化結構的聚氨基甲酸酯、聚乙 烯、聚環(huán)氧乙烷和聚氯乙烯的聚合物、聚酰胺和聚乙烯的聚合物、聚氯乙烯的聚合物； 玉米油；苯乙烯和二乙烯基苯的聚合物；改質的環(huán)氧樹脂。
4.根據(jù)權利要求1或2所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述隔墊物的一端形成在 所述彩膜基板上，另一端頂設在所述陣列基板上；或者所述隔墊物的一端形成在所述陣 列基板上，另一端頂設在所述彩膜基板上。
5.—種液晶顯示面板制造方法，其特征在于，包括步驟101、在陣列基板或彩膜基板上沉積一層形狀記憶光刻膠，所述形狀記憶光刻膠 通過在形狀記憶聚合物中添加能夠使所述形狀記憶聚合物進行光反應的光聚合物開始劑 形成；步驟102、采用掩模板對所述形狀記憶光刻膠進行構圖工藝，形成隔墊物的圖形；步驟103、將所述陣列基板和彩膜基板對盒，注入液晶，形成液晶顯示面板。
6.根據(jù)權利要求5所述的方法，其特征在于，所述光聚合物開始劑為鄰疊氮萘醌光敏 齊U，或二丙烯酸和雙酐交替縮聚得到的感光性聚酯纖維。
7.根據(jù)權利要求5或6所述方法，其特征在于，所述形狀記憶聚合物為聚甲基丙烯酸 甲酯；聚降冰片烯；環(huán)戊烷亞甲基；具有鏈段化結構的聚氨基甲酸酯、聚乙烯、聚環(huán)氧 乙烷和聚氯乙烯的聚合物、聚酰胺和聚乙烯的聚合物、聚氯乙烯的聚合物；玉米油；苯 乙烯和二乙烯基苯的聚合物；改質的環(huán)氧樹脂。
8.根據(jù)權利要求5或6所述的方法，其特征在于，所述步驟101具體為在形成有透 明電極的彩膜基板上沉積一層形狀記憶光刻膠，或者在形成有像素電極的陣列基板上沉 積一層形狀記憶光刻膠。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種液晶顯示面板及其制造方法，其中液晶顯示面板包括陣列基板和彩膜基板，所述陣列基板和彩膜基板之間設置有由形狀記憶聚合物形成的隔墊物。本發(fā)明提供的液晶顯示面板及其制造方法，能夠使得隔墊物經(jīng)過反復變形后依然能夠完全恢復形狀，不會發(fā)生破損，從而能夠避免由于隔墊物變形或破損導致的盒厚均一性問題和顯示不良問題。
文檔編號G02F1/1368GK102012575SQ20091009204
公開日2011年4月13日 申請日期2009年9月7日 優(yōu)先權日2009年9月7日
發(fā)明者王章濤, 邱海軍, 閔泰燁, 高文寶 申請人:北京京東方光電科技有限公司