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液晶屏配向膜碎屑的清洗方法

文檔序號(hào):2741405閱讀:294來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:液晶屏配向膜碎屑的清洗方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶顯示領(lǐng)域,特別是涉及一種液晶屏配向膜碎屑的清洗方法。
技術(shù)背景 液晶顯示器(Liquid Cristal Display,簡(jiǎn)稱IXD)是目前計(jì)算機(jī)顯示器和高端電 視等顯示領(lǐng)域的主流產(chǎn)品。在LCD的制造和使用過(guò)程中,液晶屏的“壞點(diǎn)”影響圖像的正常 顯示,該不良是困擾LCD廠家和消費(fèi)者的主要質(zhì)量問(wèn)題之一。液晶屏“壞點(diǎn)”形成的原因有 很多,其中最主要的原因是在LCD的制造過(guò)程中有雜物進(jìn)入液晶屏中。在液晶屏制造的過(guò)程中,需要使用用于對(duì)液晶進(jìn)行取向的配向膜,且多數(shù)配向膜 需要進(jìn)行摩擦(Rubbing)工序處理之后,才可對(duì)液晶進(jìn)行配向。摩擦工序需要使用一種表 面裹有摩擦布的輥?zhàn)樱谳佔(zhàn)痈咚傩D(zhuǎn)的同時(shí),對(duì)涂在基板(如陣列基板或彩膜基板)上 的配向膜進(jìn)行摩擦,其中,摩擦布一般由纖維、絲或棉制成,配向膜由一種有機(jī)物溶液經(jīng)烘 烤制成。在對(duì)涂在基板上的配向膜進(jìn)行摩擦?xí)r,通過(guò)在配向膜表面形成溝槽,對(duì)配向膜分子 進(jìn)行取向,使得配向膜分子對(duì)液晶分子有取向作用。在摩擦布摩擦配向膜之后,基板上經(jīng)摩擦后的配向膜表面會(huì)產(chǎn)生碎屑(包括配向 膜碎屑和摩擦布纖維碎屑等),這些碎屑需通過(guò)清洗工序去除,如果基板上配向膜表面的 碎屑沒(méi)有清洗徹底,殘留的碎屑會(huì)成為液晶屏制造過(guò)程中引入的雜質(zhì),即是形成液晶屏“壞 點(diǎn)”的原因之一。在摩擦工序產(chǎn)生的碎屑中,摩擦布纖維碎屑體積較大且和配向膜的結(jié)合力 很小,清洗很容易;但配向膜碎屑的尺寸小且和與配向膜之間的結(jié)合力很強(qiáng),使得配向膜碎 屑的清洗較為困難?,F(xiàn)有技術(shù)在摩擦工序后的清洗工序中,通常使用去離子水或異丙醇(IPA)溶液對(duì) 基板上的配向膜表面進(jìn)行清洗。由于去離子水或IPA溶液等液體內(nèi)部含有的離子很少,在 從成分是有機(jī)物的配向膜表面清洗帶有強(qiáng)靜電的配向膜碎屑時(shí),效率很低。由于配向膜碎 屑清洗不徹底而導(dǎo)致液晶屏異物不良,成為生產(chǎn)線內(nèi)的多發(fā)問(wèn)題。目前很多廠家使用各種 方法致力于摩擦后的清洗工序的改善,但是收效甚微。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種液晶屏配向膜碎屑的清洗方法,用以提高液晶屏基板上 經(jīng)摩擦后的配向膜表面的配向膜碎屑的清洗效率。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種液晶屏配向膜碎屑的清洗方法,其特征在于, 包括利用清洗液清洗經(jīng)摩擦后的配向膜表面,所述清洗液為揮發(fā)性電解質(zhì)溶液,所述電解 質(zhì)溶液用于去除所述配向膜表面和配向膜碎屑上的靜電。在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,揮發(fā) 性電解質(zhì)溶液可為碳酸溶液(H2CO3)、甲酸銨溶液(HCOONH4)或醋酸銨溶液(CH3COONH4);揮 發(fā)性電解質(zhì)溶液的揮發(fā)溫度可小于250°C ;可根據(jù)需要清洗的配向膜表面的面積或所述配 向膜碎屑的數(shù)量,確定所述電解質(zhì)溶液的濃度和/或用量;采用所述揮發(fā)性電解質(zhì)溶液清 洗所述配向膜表面的時(shí)間優(yōu)選為lmin 5min。在配向膜表面清洗后,可對(duì)清洗后的配向膜表面進(jìn)行干燥處理,以使配向膜表面的電解質(zhì)溶液揮發(fā);干燥處理的方式可包括加熱 清洗后的所述配向膜表面,以使配向膜表面的電解質(zhì)溶液揮發(fā)。在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,還可使用去離子水或異丙醇溶液清洗所述揮發(fā)性電解 質(zhì)溶液清洗后的所述配向膜表面或干燥處理后的所述配向膜表面;并干燥所述使用去離子 水或異丙醇溶液清洗后的配向膜表面。
本發(fā)明液晶屏配向膜碎屑的清洗方法使用揮發(fā)溫度低的揮發(fā)性電解質(zhì)溶液,清洗 基板上經(jīng)摩擦后的配向膜表面的碎屑,可有效提高配向膜碎屑的清洗效率;在配向膜碎屑 清洗之后,采用加熱等方法,即可將配向膜表面殘余的電解質(zhì)完全蒸發(fā),因此,不會(huì)對(duì)液晶 屏內(nèi)部造成污染,有利于為液晶屏的品質(zhì)提供保證。


為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn) 有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見(jiàn)地,下面描述中的附圖僅僅是本 發(fā)明的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下,還可 以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本發(fā)明液晶屏配向膜碎屑的清洗方法實(shí)施例一流程圖;圖2為本發(fā)明液晶屏配向膜碎屑的清洗方法實(shí)施例二流程圖。
具體實(shí)施例方式下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完 整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;?本發(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他 實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。本發(fā)明液晶屏配向膜碎屑的清洗方法主要是利用揮發(fā)性電解質(zhì)溶液清洗液清洗 經(jīng)摩擦后的配向膜表面,以去除配向膜表面和配向膜碎屑上的靜電,從而達(dá)到較好的清洗 效果并提高了清洗效率。圖1為本發(fā)明液晶屏配向膜碎屑的清洗方法實(shí)施例一流程圖。如圖1所示,本實(shí) 施例包括步驟11、使用揮發(fā)性電解質(zhì)溶液清洗基板上經(jīng)摩擦后的配向膜表面。步驟12、干燥處理清洗后的基板上經(jīng)摩擦后的配向膜表面,以使配向膜表面的電 解質(zhì)溶液揮發(fā)。上述技術(shù)方案步驟11中,選用的揮發(fā)性電解質(zhì)溶液的揮發(fā)溫度小于250°C ;采用 揮發(fā)性電解質(zhì)溶液清洗配向膜表面的時(shí)間優(yōu)選為lmin 5min??蛇x用的揮發(fā)性電解質(zhì)溶 液如碳酸溶液(H2CO3)、甲酸銨溶液(HCOONH4)或醋酸銨溶液(CH3COONH4)等。上述技術(shù)方案步驟12中,可選用加熱板等加熱設(shè)備加熱清洗后的基板上經(jīng)摩擦 后的配向膜表面,以對(duì)清洗后的配向膜表面進(jìn)行干燥處理,使得配向膜表面的電解質(zhì)溶液 揮發(fā)。加熱板包括電熱線圈和導(dǎo)熱性能好的鋼板。采用加熱板進(jìn)行加熱處理的工作原理是 將鋼板放置在電熱線圈上方,然后將基板放在鋼板上表面,通過(guò)電熱線圈給鋼板加熱,并通 過(guò)熱傳導(dǎo)使放置在鋼板上的基板的配向膜表面達(dá)到均勻加熱的效果。由于加熱板加熱設(shè)備在配向膜烘烤的過(guò)程中同樣需要使用,可以共用一種設(shè)備。液晶屏主要包括陣列基板、彩膜基板以及在陣列基板和彩膜基板對(duì)盒之間填充的 液晶層。在完成陣列基板和彩膜基板的制備之后,需要通過(guò)摩擦(Rubbing)工序在陣列基 板和彩膜基板上形成用于對(duì)液晶進(jìn)行配向的溝槽。在配向膜表面形成溝槽的過(guò)程中,首先 在陣列基板或彩膜基板的顯示區(qū)域上涂覆一層配向膜,然后采用高速旋轉(zhuǎn)的表面裹有摩擦 布的輥?zhàn)幽Σ僚湎蚰け砻?,在輥?zhàn)訉?duì)涂在基板上的配向膜進(jìn)行摩擦?xí)r,對(duì)配向膜分子進(jìn)行 取向后在配向膜表面形成溝槽。當(dāng)在陣列基板和彩膜基板的對(duì)盒工序時(shí),向陣列基板和彩 膜基板之間填充或滴注液晶,即可通過(guò)配向膜分子對(duì)液晶分子進(jìn)行取向。摩擦工序中,在摩擦布摩擦配向膜之后,基板上經(jīng)摩擦后的配向膜表面會(huì)產(chǎn)生碎 屑(包括配向膜碎屑和摩擦布纖維碎屑等),這些碎屑需通過(guò)清洗工序完全去除;如果基板 上配向膜表面的碎屑沒(méi)有清洗徹底,殘留的碎屑會(huì)成為液晶屏制造過(guò)程中引入的雜質(zhì),即 是形成液晶屏“壞點(diǎn)”的主要原因。由于摩擦工序產(chǎn)生的碎屑中,布纖維物體積較大且和配 向膜的結(jié)合力很小,清洗很容易;但配向膜碎屑的尺寸非常小,且在摩擦過(guò)程中產(chǎn)生大量的 靜電,而配向膜與配向膜碎屑具有相同的成分,使得配向膜碎屑與配向膜之間的結(jié)合力很 強(qiáng)??傊?,由于配向膜碎屑的尺寸小且和與配向膜之間的結(jié)合力很強(qiáng)等原因,使得配向膜碎 屑的清洗較為困難。發(fā)明人在實(shí)現(xiàn)本發(fā)明過(guò)程中發(fā)現(xiàn),為了使得配向膜碎屑易于從配向膜表面脫離, 關(guān)鍵在于去除配向膜表面和配向膜碎屑上的靜電。電解質(zhì)能夠有效提高對(duì)摩擦后配向膜碎 屑的清洗效率,以下對(duì)電解質(zhì)相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)常用的去離子水可提高配向膜碎屑的清洗效 率的機(jī)理進(jìn)行說(shuō)明。配向膜表面和配向膜碎屑中存有靜電,因此,如果用于清洗配向膜碎屑的溶液中 沒(méi)有或很少有用于傳遞電荷的離子,則很難去除配向膜表面和配向膜碎屑中存有的靜電, 因此難以使配向膜碎屑從配向膜表面脫離,不能達(dá)到好的配向膜碎屑清洗效果。由于去離 子水中離子濃度非常低,通常低于普通使用的自來(lái)水中的離子濃度,采用去離子水沖洗配 向膜表面,因此從去除配向膜碎屑中的靜電角度考慮,去離子水的清洗效果甚至不如自來(lái) 水的清洗效果。但自來(lái)水中含有的離子無(wú)法揮發(fā),會(huì)給液晶顯示器帶來(lái)致命的品質(zhì)問(wèn)題。電解質(zhì)溶液中離子濃度相對(duì)于去離子水離子濃度較高。使用電解質(zhì)溶液是為了達(dá) 到通過(guò)離子來(lái)傳遞電荷并使碎屑上面的靜電消除,從而使得去除靜電后的配向膜碎屑易從 配向膜表面脫離,因而可達(dá)到較好的清洗效果。以下對(duì)電解質(zhì)溶液中包含的離子去除靜電 的機(jī)理進(jìn)行說(shuō)明從靜電的原理來(lái)講,靜電并非產(chǎn)生新的電荷,而是由于正負(fù)電荷被某種作 用分開(kāi)了(如摩擦過(guò)程通過(guò)摩擦作用將正負(fù)電荷分離,而在摩擦工具和摩擦物上分別產(chǎn) 生靜電)。正負(fù)電荷被分開(kāi)后,由于配向膜和配向膜碎屑都是絕緣體。假設(shè)某一情況下配 向膜表面帶正電荷,配向膜碎屑帶負(fù)電荷;由于正負(fù)電荷之間存在一定的距離,在沒(méi)有導(dǎo)體 的情況下無(wú)法快速、有效的中和。當(dāng)使用電解質(zhì)溶液進(jìn)行清洗的時(shí)候,電解質(zhì)溶液充當(dāng)一種 導(dǎo)體的作用,電解質(zhì)溶液中的大量離子可中和配向膜表面的正電荷與配向膜碎屑上的負(fù)電 荷,而電解質(zhì)溶液本身仍然保持電中性。由于配向膜表面和配向膜碎屑上的靜電已去除,因 此,配向膜碎屑易從配向膜表面脫落,從而提高配向膜碎屑的清洗效率。進(jìn)一步的,由于本 發(fā)明選用揮發(fā)性電解質(zhì)溶液作為清洗液,因此可通過(guò)加熱等方式徹底去除沖洗后的配向膜 表面殘留的電解質(zhì)溶液,從而避免了由于配向膜表面殘留離子對(duì)液晶屏品質(zhì)產(chǎn)生不 良的影響。電解質(zhì)溶液的電離度表征著溶液可以提供的離子或電荷數(shù),因此電解質(zhì)溶液的使 用量、電離度要與需要清洗的配向膜碎屑的數(shù)量相對(duì)應(yīng)。根據(jù)實(shí)際選用的配向膜材料和具 體工藝條件選擇合適的電解質(zhì)溶液,可對(duì)電解質(zhì)的濃度、電解質(zhì)的用量和需要清洗的配向 膜碎屑的數(shù)量進(jìn)行綜合測(cè)試,尋找合適的參數(shù)。由于不同的摩擦條件下產(chǎn)生的碎屑數(shù)量和 電荷數(shù)量不同,因此在對(duì)基板上配向膜表面的配向膜碎屑進(jìn)行清洗時(shí),需事先進(jìn)行測(cè)試以 獲取最佳的作為清洗液的電解質(zhì)溶液的濃度、用量等參數(shù)。作為清洗液的電解質(zhì)溶液的濃 度、用量等參數(shù)確定的具體方法可包括 以同一摩擦條件制作配向膜表面摩擦后的多張基板,配制不同濃度的清洗液,以 不同的使用量進(jìn)行基板上配向膜表面的清洗測(cè)試,按選用的電解質(zhì)溶液的濃度和使用量從 低到高的方法進(jìn)行測(cè)試,以獲取電解質(zhì)溶液的最佳參數(shù)。一般而言,如果采用較低濃度的電 解質(zhì)溶液或使用量較少的電解質(zhì)溶液,不能達(dá)到好的清洗效果,可適當(dāng)提高電解質(zhì)溶液的 濃度或提高電解質(zhì)溶液的使用量以達(dá)到較好的清洗效果;當(dāng)電解質(zhì)溶液的濃度提高或使用 量增加到一定程度后,如果采用的電解質(zhì)溶液的濃度繼續(xù)提高或者電解質(zhì)溶液的使用量繼 續(xù)增加時(shí),基板上配向膜表面的配向膜碎屑的清洗效果不會(huì)有進(jìn)一步改善時(shí),那么電解質(zhì) 溶液的該濃度和使用量即為最經(jīng)濟(jì)的濃度和使用量,采用確定的濃度或使用量作為優(yōu)選電 解質(zhì)溶液的優(yōu)選參數(shù),可達(dá)到較好的清洗效果。本發(fā)明配向膜碎屑的清洗方法可選用揮發(fā)性好的電解質(zhì)溶液。這是由于液晶屏對(duì) 于內(nèi)部存在的離子非常敏感,在對(duì)配向膜清洗完成之后,通常需要進(jìn)行陣列基板和彩膜基 板的對(duì)盒工序以及液晶注入工序,如果在配向膜清洗過(guò)程中產(chǎn)生的離子不能去除,將會(huì)嚴(yán) 重影響液晶屏的品質(zhì)。電解質(zhì)溶液中包含有離子,因此在配向膜碎屑清洗完成之后,需完全 去除基板經(jīng)摩擦后的配向膜表面上殘余的電解質(zhì)溶液,以免殘余的電解質(zhì)溶液中的離子影 響液晶屏的品質(zhì)。為了方便且徹底去除配向膜表面上殘余的電解質(zhì)溶液,可在配向膜碎屑 清洗過(guò)程中選用揮發(fā)性的電解質(zhì)溶液,并通過(guò)加熱配向膜表面等方法使得配向膜表面上殘 余的電解質(zhì)溶液揮發(fā),從達(dá)到而徹底去除配向膜表面上殘余的電解質(zhì)溶液的目的。常見(jiàn)的很多有機(jī)鹽、有機(jī)酸類等溶液都具有揮發(fā)性電解質(zhì),為避免在使配向膜表 面的電解質(zhì)溶液加熱過(guò)程中對(duì)配向膜造成損害,本發(fā)明需選用揮發(fā)溫度較低的電解質(zhì)溶 液,優(yōu)選的,電解質(zhì)溶液的揮發(fā)溫度低于250°C。本發(fā)明可選用的電解質(zhì)溶液例如碳酸溶 液、甲酸銨溶液、醋酸銨溶液等。為避免由于電解質(zhì)溶液揮發(fā)過(guò)程中產(chǎn)生有毒氣體而對(duì)需要 對(duì)外部設(shè)備進(jìn)行相應(yīng)的改進(jìn)(如要求外部設(shè)備具有密封性避免有毒氣體泄漏),可選用碳 酸溶液。選用碳酸溶液對(duì)陣列基板或彩膜基板上的配向膜表面進(jìn)行清洗過(guò)程中,也不會(huì)腐 蝕陣列基板或彩膜基板上的其它膜層。這是由于需要形成溝槽的陣列基板或彩膜基板上絕 大部分區(qū)域涂覆有配向膜,配向膜對(duì)其下方的膜層形成保護(hù)作用。在基板上沒(méi)有配向膜的 小部分區(qū)域是絕緣膜(如氮化硅)或ITO(氧化銦錫)膜,這兩種薄膜都具備一定的耐腐 蝕性,碳酸溶液只有在長(zhǎng)時(shí)間的作用以后,才能對(duì)這兩種薄膜形成一定的腐蝕性。在使用碳 酸溶液進(jìn)行清洗,由于清洗時(shí)間較短(Imin 5min),因此,碳酸溶液對(duì)陣列基板或彩膜基 板的其它膜層造成的腐蝕作用可以忽略。本發(fā)明液晶屏配向膜碎屑的清洗方法使用揮發(fā)溫度低的揮發(fā)性電解質(zhì)溶液,清洗基板上經(jīng)摩擦后的配向膜表面的碎屑,可有效提高配向膜碎屑的清洗效率;在配向膜碎屑 清洗之后,采用加熱等方法,即可將配向膜表面殘余的電解質(zhì)完全蒸發(fā),因此,不會(huì)對(duì)液晶 屏內(nèi)部造成污染,有利于為液晶屏的品質(zhì)提供保證。圖2為本發(fā)明液晶屏配向膜碎屑的清洗方法實(shí)施例二流程圖。如圖2所示,本實(shí)施例包括步驟21、使用揮發(fā)溫度小于250°C的揮發(fā)性電解質(zhì)溶液,清洗基板上經(jīng)摩擦后的 配向膜表面Imin 5min。步驟22、使用去離子水清洗步驟21處理的配向膜表面。步驟23、干燥步驟22處理后的配向膜表面,例如可用氣流吹干配向膜表面的去離 子水。步驟24、加熱步驟23處理后的配向膜表面,以使得配向膜表面的電解質(zhì)溶液揮 發(fā)。步驟25、使用去離子水清洗步驟24處理的配向膜表面。步驟26、干燥步驟25處理后的配向膜表面,例如可用氣流吹干配向膜表面的去離 子水。上述技術(shù)方案中步驟22或步驟25中,除了使用去離子水沖洗配向膜表面之外,還 可選用其它中性溶液(如IPA溶液、酒精等)對(duì)配向膜表面進(jìn)行清洗。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解,上述技術(shù)方案也可根據(jù)實(shí)際需要僅對(duì)步驟21處理后 或步驟24處理后的配向膜表面進(jìn)行中性溶液的進(jìn)一步清洗和干燥處理。本實(shí)施例在采用去離子水等中性溶液沖洗配向膜表面過(guò)程中,可將摩擦工序過(guò)程 中產(chǎn)生的摩擦布纖維碎屑去除,同時(shí),還可將配向膜表面上殘余的多數(shù)電解質(zhì)溶液帶走,有 利于縮短后續(xù)使電解質(zhì)溶液揮發(fā)處理所需使用的時(shí)間。最后應(yīng)說(shuō)明的是以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案,而非對(duì)其限制;盡 管參照前述實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說(shuō)明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解其依然 可以對(duì)前述實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改,或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換; 而這些修改或者替換,并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明實(shí)施例技術(shù)方案的精神和范圍。
權(quán)利要求
一種液晶屏配向膜碎屑的清洗方法,其特征在于,包括利用清洗液清洗經(jīng)摩擦后的配向膜表面,所述清洗液為揮發(fā)性電解質(zhì)溶液,所述電解質(zhì)溶液用于去除所述配向膜表面和配向膜碎屑上的靜電。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶屏配向膜碎屑的清洗方法,其特征在于,所述揮發(fā)性電 解質(zhì)溶液為碳酸溶液、甲酸銨溶液或醋酸銨溶液。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶屏配向膜碎屑的清洗方法,其特征在于,所述揮發(fā)性電 解質(zhì)溶液的揮發(fā)溫度小于250°C。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶屏配向膜碎屑的清洗方法,其特征在于,采用所述揮發(fā) 性電解質(zhì)溶液清洗所述配向膜表面的時(shí)間為lmin 5min。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶屏配向膜碎屑的清洗方法,其特征在于,還包括干燥處 理清洗后的配向膜表面,以使配向膜表面的電解質(zhì)溶液揮發(fā)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的液晶屏配向膜碎屑的清洗方法,其特征在于,所述干燥處理 清洗后的配向膜表面,包括加熱清洗后的所述配向膜表面,以使配向膜表面的電解質(zhì)溶液 揮發(fā)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1 5任一權(quán)利要求所述的液晶屏配向膜碎屑的清洗方法,其特征在 于,還包括使用去離子水或異丙醇溶液清洗所述揮發(fā)性電解質(zhì)溶液清洗后的所述配向膜表面或 干燥處理后的所述配向膜表面;干燥所述使用去離子水或異丙醇溶液清洗后的配向膜表面。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶屏配向膜碎屑的清洗方法,其特征在于,利用所述揮發(fā) 性電解質(zhì)溶液清洗所述配向膜表面,包括根據(jù)需要清洗的配向膜表面的面積或所述配向 膜碎屑的數(shù)量,確定所述電解質(zhì)溶液的濃度和/或用量。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種液晶屏配向膜碎屑的清洗方法,包括利用清洗液清洗經(jīng)摩擦后的配向膜表面,所述清洗液為揮發(fā)性電解質(zhì)溶液,所述電解質(zhì)溶液用于去除所述配向膜表面和配向膜碎屑上的靜電。本發(fā)明液晶屏配向膜碎屑的清洗方法使用揮發(fā)溫度低的揮發(fā)性電解質(zhì)溶液,清洗基板上經(jīng)摩擦后的配向膜表面的碎屑,可有效提高配向膜碎屑的清洗效率;在配向膜碎屑清洗之后,可通過(guò)干燥處理將配向膜表面殘余的電解質(zhì)溶液完全去除,因此,不會(huì)對(duì)液晶屏內(nèi)部造成污染,有利于為液晶屏的品質(zhì)提供保證。
文檔編號(hào)G02F1/1337GK101840108SQ20091008056
公開(kāi)日2010年9月22日 申請(qǐng)日期2009年3月20日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月20日
發(fā)明者陳東 申請(qǐng)人:北京京東方光電科技有限公司
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