專利名稱：無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種無(wú)塵設(shè)備，尤其涉及一種于其中進(jìn)行黃光制程 的無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
所謂黃光制程是于芯片上涂布光阻劑后軟烤，以增加光阻劑在芯片 表面附著力，再經(jīng)由對(duì)準(zhǔn)以及曝光而將光罩上的元件設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到光 阻，再通過(guò)烘烤以降低駐波效應(yīng)，并將光阻顯影形成元件設(shè)計(jì)圖形，通 過(guò)硬烤去除殘余溶劑，增加光阻強(qiáng)度。
然而，芯片于黃光制程中欲降低不良率，其制程環(huán)境無(wú)塵是非常重 要的關(guān)鍵。在工業(yè)上即使塵粒子尺寸小于1微米，也可能阻礙芯片運(yùn)作 或降低其壽命。且，半導(dǎo)體需求尺寸持續(xù)縮小，塵粒更容易使芯片損壞 或可靠度降低。而無(wú)塵室是一個(gè)人造的環(huán)境，里面含有的粒子遠(yuǎn)低于一 般的環(huán)境，借由在無(wú)塵室內(nèi)進(jìn)行黃光制程以避免塵粒子對(duì)芯片造成損壞 或降低壽命，而隨著微制造技術(shù)和集成電路技術(shù)的快速成長(zhǎng)，對(duì)無(wú)塵室 潔凈的需求也相對(duì)提高。
而一般的無(wú)塵室是設(shè)置于廠房?jī)?nèi)，其于廠房中占用一定的空間，且 設(shè)置無(wú)塵室的經(jīng)費(fèi)與其規(guī)模大小成正比。此外， 一般學(xué)校在半導(dǎo)體制程 教學(xué)時(shí)，亦需于無(wú)塵工作室內(nèi)進(jìn)行，因此學(xué)校必須建立無(wú)塵室或者到業(yè) 界廠房的無(wú)塵室實(shí)習(xí)，于教學(xué)上造成硬設(shè)備以及經(jīng)費(fèi)的限制。
因此，如何使芯片于黃光制程中能達(dá)到與無(wú)塵室相同的無(wú)塵環(huán)境， 且可縮小其占用空間及設(shè)置成本即為本實(shí)用新型的重點(diǎn)所在。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的主要技術(shù)問(wèn)題在于，克服現(xiàn)有技術(shù)存在的上 述缺陷，而提供一種無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)，可節(jié)省廠房使用空間以及無(wú)塵室建 造的較高成本，亦可作為教學(xué)用，故學(xué)校不需再花費(fèi)經(jīng)費(fèi)建立無(wú)塵室即可 于實(shí)習(xí)時(shí)進(jìn)行黃光制程教學(xué)。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是
一種無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)，其特征在于至少一艙體，艙體中設(shè)有黃光制 程設(shè)備，且艙體設(shè)有至少一將塵粒子排出并阻絕塵粒子進(jìn)入的排塵裝置， 艙體設(shè)有至少一艙門(mén)，以及至少一工作手套。
前述的無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)，其中艙體于艙門(mén)一側(cè)設(shè)有一過(guò)渡艙，此過(guò)渡 艙設(shè)有一與該艙體的艙門(mén)對(duì)應(yīng)設(shè)置的另一艙門(mén)，且亦設(shè)有至少一將塵粒 子排出并阻絕塵粒子進(jìn)入的排塵裝置。
前述的無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)，其中艙體于兩側(cè)分別設(shè)有一艙門(mén)，艙體于各 艙門(mén)的一側(cè)設(shè)有一過(guò)渡艙。
前述的無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)，其中排塵裝置包括至少一將塵粒子排出的鼓 風(fēng)機(jī)以及至少一阻絕塵粒子進(jìn)入的氣體過(guò)濾器。
前述的無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)，其中排塵裝置包括至少一將塵粒子排出的鼓 風(fēng)機(jī)以及至少一阻絕塵粒子進(jìn)入的氣體過(guò)濾器。
前述的無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)，其中工作手套是設(shè)于艙體，且與艙體間具有 防塵構(gòu)造，且于設(shè)置工作手套的艙體上方具有一供操作者于制程中方便 檢視艙內(nèi)的斜角結(jié)構(gòu)。
前述的無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)，其中艙體中設(shè)置的黃光制程設(shè)備包括一黃光 專用的濕式工作臺(tái)(Wet Bench)、 一對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)(Aligner)、 一熱板(Hot Plat)以及一旋涂機(jī)(Spin Coater)。
人可將手借由工作手套置入艙體內(nèi)對(duì)芯片進(jìn)行黃光制程，因此相較 于現(xiàn)有技術(shù)中人進(jìn)人出的無(wú)塵室，不須占用廠房的一定空間即可完成芯 片制程，故可節(jié)省廠房使用空間以及無(wú)塵室建造的較高成本，本實(shí)用新型 的無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)亦可作為教學(xué)用，故學(xué)校不需再花費(fèi)經(jīng)費(fèi)建立無(wú)塵室即 可于實(shí)習(xí)時(shí)進(jìn)行黃光制程教學(xué)。以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。


圖1是本實(shí)用新型的平面俯視結(jié)構(gòu)示意圖
圖2是本實(shí)用新型的平面?zhèn)纫暯Y(jié)構(gòu)示意圖
圖3是本實(shí)用新型的第二實(shí)施例的平面俯視結(jié)構(gòu)示意圖
圖4是本實(shí)用新型的第三實(shí)施例的平面俯視結(jié)構(gòu)示意圖具體實(shí)施方式
請(qǐng)參閱
圖1至圖2 ，圖中所示為本實(shí)用新型所選用的實(shí)施例結(jié)構(gòu)。 本實(shí)施例提供一種無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)，其包括
至少一艙體l (本實(shí)施例中是以單一艙體為例)，艙體l中設(shè)有黃光 制程設(shè)備2 ,且艙體1設(shè)有至少一將塵粒子排出并阻絕塵粒子進(jìn)入的排 塵裝置1 1 ，艙體1并設(shè)有至少一艙門(mén)1 2 ，以及至少一工作手套1 3 。
在本實(shí)施例中，該艙體l于艙門(mén)l 2—側(cè)并設(shè)有一過(guò)渡艙3，此過(guò) 渡艙3設(shè)有一與該艙體1的艙門(mén)1 2對(duì)應(yīng)設(shè)置的另一艙門(mén)3 1 ，且亦設(shè) 有至少一將塵粒子排出并阻絕塵粒子進(jìn)入的排塵裝置3 2。
承上所述，本實(shí)施例的艙體1與過(guò)渡艙3的排塵裝置1 1、 3 2包 括至少一將塵粒子排出的鼓風(fēng)機(jī)l11、 3 2 1以及至少一阻絕塵粒子 進(jìn)入的氣體過(guò)濾器112、 3 2 2 。
艙體l，且與艙體l間具有防塵構(gòu)造(圖中未示)，且于設(shè)置工作手 套1 3的艙體1上方具有一供操作者在制程中方便檢視艙內(nèi)的斜角結(jié)構(gòu) 1 5 。
再者，本實(shí)施例的黃光制程設(shè)備2包括一黃光專用的濕式工作臺(tái)2 1 (Wet Bench)、 一對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)2 2 (Aligner)、 一熱板2 3 (Hot Plat) 以及一旋涂機(jī)2 4 (Spin Coater);本實(shí)施例中，于艙體1外設(shè)有一附件 區(qū)4，其包括一去離子水生產(chǎn)器4 1 (DI Water Generator)、 一氮?dú)庠?區(qū)4 2 (N2 Source)、 一廢水回收區(qū)4 3以及一廢氣導(dǎo)管區(qū)4 4 。
在本實(shí)施例中，艙體1與過(guò)渡艙3內(nèi)的排塵裝置1 1、 3 2，是于 鼓風(fēng)機(jī)l 1 1、 3 2 l動(dòng)作而使艙內(nèi)可能帶有塵粒子的空氣外送，而外 界的空氣對(duì)流經(jīng)氣體過(guò)濾器1 1 2、 3 2 2過(guò)濾塵粒子再進(jìn)入艙內(nèi)，使 艙體1與過(guò)渡艙3內(nèi)形成無(wú)塵環(huán)境。芯片6是由過(guò)渡艙3的艙門(mén)3 1開(kāi) 啟并送入進(jìn)行第一層無(wú)塵作業(yè)，再開(kāi)啟艙體1的艙門(mén)1 2而將芯片送入 艙體l內(nèi)進(jìn)行第二層無(wú)塵作業(yè)，芯片在送入艙體1后進(jìn)行黃光制程，操 作者可將手7穿入工作手套1 3而于艙體1內(nèi)工作，且由艙體1的斜角 結(jié)構(gòu)l 5方便觀看整個(gè)制程，于制程完成后再開(kāi)啟艙體l的艙門(mén)l 2而 經(jīng)由過(guò)渡艙3送出。
由上述說(shuō)明可見(jiàn)，本實(shí)用新型的艙體1與現(xiàn)有的無(wú)塵室相同具有提供無(wú)塵環(huán)境的功效，且與現(xiàn)有技術(shù)相比，于廠房?jī)?nèi)的無(wú)塵室不需占用大空 間，且制作成本較低，此外更具備移動(dòng)性能，故可供業(yè)界半導(dǎo)體制程使 用，亦可利用本實(shí)用新型的無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)進(jìn)行學(xué)校的黃光制程教學(xué)，而 不需在校內(nèi)建造無(wú)塵室或至廠房實(shí)習(xí)，于教學(xué)上可減少硬件設(shè)備以及經(jīng) 費(fèi)限制的困擾。
當(dāng)然，本實(shí)用新型存在許多例子，其間僅細(xì)節(jié)上的變化。請(qǐng)參閱圖
3，其是本實(shí)用新型的第二實(shí)施例，其中與第一實(shí)施例不同在于，本實(shí) 施例僅具有一艙體1結(jié)構(gòu)，且相同于艙體1中設(shè)置黃光制程設(shè)備2 ，借 由于艙體1內(nèi)的排塵裝置11亦可達(dá)到無(wú)塵的環(huán)境。
另外，請(qǐng)參閱圖4，其是本實(shí)用新型的第三實(shí)施例，其中與第一、 第二實(shí)施例不同在于，本實(shí)施例的艙體1于兩側(cè)分別設(shè)有一艙門(mén)1 2 , 艙體1于各艙門(mén)1 2的一側(cè)設(shè)有一過(guò)渡艙3 ，且艙體1與過(guò)渡艙3與第 一實(shí)施例相同具有排塵裝置l 1、 3 2，借此于芯片送入艙體l前，以 及由艙體l取出前，可分別經(jīng)由過(guò)渡艙3經(jīng)無(wú)塵處理。
權(quán)利要求1.一種無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)，其特征在于至少一艙體，艙體中設(shè)有黃光制程設(shè)備，且艙體設(shè)有至少一將塵粒子排出并阻絕塵粒子進(jìn)入的排塵裝置，艙體設(shè)有至少一艙門(mén)，以及至少一工作手套。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)，其特征在于所述艙體 于艙門(mén)一側(cè)設(shè)有一過(guò)渡艙，此過(guò)渡艙設(shè)有一與該艙體的艙門(mén)對(duì)應(yīng)設(shè)置的 另一艙門(mén)，且亦設(shè)有至少一將塵粒子排出并阻絕塵粒子進(jìn)入的排塵裝置。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)，其特征在于所述艙體于兩側(cè)分別設(shè)有一艙門(mén)，艙體于各艙門(mén)的一側(cè)設(shè)有一過(guò)渡艙。
4. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)，其特征在于所述排塵 裝置包括至少一將塵粒子排出的鼓風(fēng)機(jī)以及至少一阻絕塵粒子進(jìn)入的氣 體過(guò)濾器。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)，其特征在于所述排塵 裝置包括至少一將塵粒子排出的鼓風(fēng)機(jī)以及至少一阻絕塵粒子進(jìn)入的氣 體過(guò)濾器。
6. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)，其特征在于所述工作 手套是設(shè)于艙體，且與艙體間具有防塵構(gòu)造，且于設(shè)置工作手套的艙體 上方具有一供操作者于制程中方便檢視艙內(nèi)的斜角結(jié)構(gòu)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的無(wú)塵設(shè)備結(jié)構(gòu)，其特征在于所述艙體 中設(shè)置的黃光制程設(shè)備包括一黃光專用的濕式工作臺(tái)Wet Bench 、 一 對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)Aligner 、 一熱板Hot Plat以及一旋涂機(jī)Spin Coater 。
專利摘要一種無(wú)塵設(shè)備，至少一艙體，艙體中設(shè)有黃光制程設(shè)備，且艙體設(shè)有至少一將塵粒子排出并阻絕塵粒子進(jìn)入的排塵裝置，艙體設(shè)有至少一艙門(mén)，以及至少一工作手套。本實(shí)用新型可節(jié)省廠房使用空間以及無(wú)塵室建造的較高成本，亦可作為教學(xué)用，故學(xué)校不需再花費(fèi)經(jīng)費(fèi)建立無(wú)塵室即可于實(shí)習(xí)時(shí)進(jìn)行黃光制程教學(xué)。
文檔編號(hào)G03F7/00GK201311547SQ20082014290
公開(kāi)日2009年9月16日 申請(qǐng)日期2008年11月4日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月4日
發(fā)明者侯帝光 申請(qǐng)人:邱碧青