專利名稱：周邊曝光裝置及周邊曝光方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在基板的圖案區(qū)域的周邊區(qū)域照射含有紫外線的光來進行周邊曝光
的周邊曝光裝置。
背景技術(shù)：
利用曝光裝置對大型基板的圖案進行曝光處理之后，需要預(yù)先對存在于圖案區(qū)域 周邊的周邊區(qū)域上的不需要的光阻劑墨液(以下稱光阻劑)進行曝光，使其不會成為其后 工序的障礙。在專利文獻l(日本特許第3211079號公報)中，使可調(diào)節(jié)照射光的開口部的 光源裝置在基板周圍旋轉(zhuǎn)來進行周邊曝光。該周邊曝光裝置不旋轉(zhuǎn)基板，而是通過光源裝 置在基板周圍旋轉(zhuǎn)并調(diào)節(jié)照射光的開口部來均勻地對周邊進行曝光。 但是，現(xiàn)有的周邊曝光裝置存在如下所示的問題點?，F(xiàn)有的周邊曝光裝置利用觀 察裝置將形成在基板上的識別記號作為標(biāo)記而進行識別，并根據(jù)該標(biāo)記的信息而對準(zhǔn)基板 來進行周邊曝光的準(zhǔn)備。具體地，為了獲取正確的基板位置信息，觀察裝置對整個基板進行 掃描，并對整個基板的旋轉(zhuǎn)方向、以及X、Y方向的位置進行修整。因此，隨著基板的大型化， 使得以下問題更加顯著觀察裝置對基板整體的掃描時間、承載著基板的臺座的整合動作 時間等的對準(zhǔn)工序所需的時間變長，整個周邊曝光工序的處理時間變長。
另外，圖案區(qū)域和周邊區(qū)域的界限是被嚴(yán)格規(guī)定的，且該界限為lmm以下。周邊曝 光裝置需要確保該界限來防止圖案區(qū)域的二次曝光。在以G8系列用的液晶基板為對象的 曝光裝置中，基板的典型尺寸為2160mmX2400mm，厚度為0. 7mm，且正在向大尺寸發(fā)展。該 基板將長邊中的一邊作為第1基準(zhǔn)邊，用作從玻璃制作到形成各圖案后分離到各面板上為 止的基準(zhǔn)，且將正交于該基準(zhǔn)邊的邊作為第2基準(zhǔn)邊。雖然可以確保該第1基準(zhǔn)邊及第2 基準(zhǔn)邊的直線性，但是無法確保與這些基準(zhǔn)邊對向的邊的直線性。從而，現(xiàn)有的周邊曝光裝 置還存在進行對向邊的周邊曝光處理時不能確保界限的問題。即，現(xiàn)有的周邊曝光裝置還 存在如下問題由于基板的移動和曝光用光源的移動不是根據(jù)一個信息源，因此基板的基 準(zhǔn)邊的周邊曝光區(qū)域不平行于第2列以后的周邊曝光區(qū)域，并且在極端的情況下周邊曝光 的光線會侵入圖案區(qū)域。從而，需要確保基準(zhǔn)邊的周邊曝光區(qū)域平行于第2列以后的周邊 曝光區(qū)域。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問題點而進行，提供簡化對準(zhǔn)工序，且能夠正確地確保平行于 基準(zhǔn)邊的周邊曝光區(qū)域的周邊曝光裝置及周邊曝光方法。 作為解決課題的手段，第1觀點的周邊曝光裝置是利用紫外光對形成于回路圖案 區(qū)域的周圍的周邊區(qū)域進行曝光的周邊曝光裝置，該回路圖案區(qū)域形成在矩形基板上。該 周邊曝光裝置包含保持矩形基板的曝光臺；設(shè)置在矩形基板面的上方，從照射口向周邊 區(qū)域照射紫外光的曝光單元；向第1方向驅(qū)動曝光臺和曝光單元的驅(qū)動部；配置在曝光單 元上檢測矩形基板的一邊的邊緣而算出基板與第1方向的傾斜度的傾斜度算出元件；基于傾斜度算出元件的算出結(jié)果，將與矩形基板正交的垂線方向為基準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)基板或曝光單元 后，由傾斜度算出元件檢測出邊緣而特定周邊區(qū)域，同時利用驅(qū)動部相對驅(qū)動曝光臺和曝 光單元，并且使紫外光與邊緣平行地從曝光單元照射的控制部。 這樣，可控制向第一方向移動的一邊相對于基板成平行，從而由曝光單元照射的 紫外光可以與邊緣平行地照射適當(dāng)?shù)恼丈浞秶?第2觀點的周邊曝光裝置的曝光單元安裝在托架上，該托架在曝光臺的上方沿著
與第1方向交叉的第2方向延伸，且曝光單元可以在托架上沿第2方向移動。 第3觀點的周邊曝光裝置的傾斜度算出元件具有在第1方向互相隔開的第1位置
檢測器及第2位置檢測器。 第4觀點的周邊曝光裝置，在第3觀點所記載的周邊曝光裝置中，曝光單元包含配 置在第2方向的第1曝光單元和第2曝光單元。第1曝光單元上安裝有第1位置檢測器及 第2位置檢測器，第1曝光單元和第2曝光單元基于第1位置檢測器的檢測結(jié)果而照射紫 外光。 第5觀點的周邊曝光方法是具有照射紫外光的曝光單元，且利用紫外光對形成于 回路圖案區(qū)域的周圍的周邊區(qū)域進行曝光的周邊曝光方法，該回路圖案區(qū)域形成在矩形基 板上。該方法包含將矩形基板保持在曝光臺上的保持工序；利用設(shè)置在曝光單元上的位 置檢測器檢測矩形基板的一邊的邊緣而算出基板自第1方向的傾斜度的傾斜度算出工序； 基于傾斜度算出結(jié)果而旋轉(zhuǎn)基板或曝光單元的旋轉(zhuǎn)工序；向第1方向相對地驅(qū)動曝光單元 和曝光臺的驅(qū)動工序；利用傾斜度算出元件檢測邊緣而特定周邊區(qū)域，同時與邊緣平行地 從曝光單元照射紫外光的照射工序。 第6觀點的周邊曝光方法，曝光單元包含第1曝光單元和第2曝光單元，且第1曝 光單元及第2曝光單元安裝在托架上，該托架在曝光臺的上方沿著與第1方向交叉的第2 方向延伸。在保持工序之后，第1曝光單元及第2曝光單元移動至矩形基板的周邊曝光區(qū) 域上。 第7觀點的周邊曝光方法，在第5觀點及第6觀點所記載的周邊曝光方法中，位置 檢測器由在第1方向上互相隔開的第1位置檢測器及第2位置檢測器構(gòu)成，且根據(jù)第1位 置檢測器及第2位置檢測器檢測矩形基板的一邊的邊緣。 第8觀點的周邊曝光方法，在第7觀點所記載的周邊曝光方法中，驅(qū)動工序由第1 位置檢測器或第2位置檢測器確認(rèn)矩形基板的邊緣之后，相對驅(qū)動曝光單元和曝光臺。
第9觀點的周邊曝光方法，在第5觀點至第8觀點所記載的周邊曝光方法中，驅(qū)動 工程向第l方向相對驅(qū)動曝光單元和曝光臺之后，旋轉(zhuǎn)矩形基板或曝光單元，再向第l方向 驅(qū)動曝光單元和曝光臺。


圖1A是周邊曝光裝置100的俯視圖。
圖1B是圖1A的側(cè)視圖。 圖2A是表示從-Y方向所觀察的第1曝光單元31a的構(gòu)成的側(cè)視圖。
圖2B是表示從+X方向所觀察的第1曝光單元31a的構(gòu)成的正視圖。
圖2C是表示從照射口側(cè)(-Z軸方向)所觀察的第1曝光單元31a的構(gòu)成的仰視圖。 圖3是表示位置檢測器51的側(cè)視圖的圖。 圖4是主控制部90的基板位置控制系的控制方塊圖。 圖5是表示演算部91處理的基板傾斜度W 9的算出方法的圖。 圖6是主控制部90的流程圖。 圖7A是圖示圖6的流程圖的步驟的圖。 圖7B是圖示圖6的流程圖的步驟的圖。 圖8是表示利用遮光機構(gòu)40調(diào)整了周邊曝光光EL的狀態(tài)的圖。
圖中 11-框體，14-旋轉(zhuǎn)臺，15-曝光臺，16-插入口 ， 21-門型托架，22-托架移動機構(gòu)， 31-曝光單元(31a-第1曝光單元Jlb-第2曝光單元Jlc-第3曝光單元)，32-滑動機 構(gòu)(32a-第1滑動機構(gòu)、3213-第2滑動機構(gòu)、32(3-第3滑動機構(gòu))，33-照射口 ， 35-橢圓反 射鏡，36-水銀燈，37-投影透鏡，38-投影透鏡，39-快門機構(gòu)(39m_驅(qū)動元件、39p-感光 板)，40-遮光機構(gòu)(40m-驅(qū)動電機、40p-遮光板)，51-位置檢測器(51a_第1位置檢測器、 51b-第2位置檢測器)，52-紅外線光源，53-控制光學(xué)系，54-傳感器，90-主控制部，91-演 算部，92-驅(qū)動控制部，93-單元控制部，100-周邊曝光裝置，EA-曝光區(qū)域，EL-周邊曝光光， IL-紅外線光線，KD-間隔，s-端面，u-上面，SD-規(guī)定距離，SN1-第1基準(zhǔn)邊，SN2-第2基 準(zhǔn)邊，SW-基板。
具體實施例方式〈周邊曝光裝置100的構(gòu)成> 以下，參照附圖對涉及本發(fā)明的周邊曝光裝置100的實施方式進行說明。圖1A及 圖1B表示本發(fā)明的周邊曝光裝置100的整體形狀。圖1A是周邊曝光裝置100的俯視圖； 圖1B是其側(cè)視圖。 周邊曝光裝置100主要由框體11及門型托架21構(gòu)成。框體11的上面設(shè)置有旋 轉(zhuǎn)臺14及曝光臺15，在曝光臺15上承載并吸附固定基板SW。門型托架21上設(shè)置有照射 紫外光的曝光單元31，在本實施方式中設(shè)置有3個第1曝光單元31a、第2曝光單元31b及 第3曝光單元31c。另外，在周邊曝光裝置100上設(shè)置用于控制裝置的主控制部90，根據(jù)來 自各部分的信息來控制各個裝置，從而進行正確的周邊曝光處理。以下，進行詳細(xì)說明。
本實施方式中使用的基板SW的尺寸為例如2160mmX2400mm的矩形，厚度為 0. 7mm。將該基板SW的圖1A左側(cè)的Y軸方向(第l方向)的一邊規(guī)定為第1基準(zhǔn)邊SN1，將 圖1A下側(cè)的X軸方向(第2方向)垂直于第1基準(zhǔn)邊SN1的一邊規(guī)定為第2基準(zhǔn)邊SN2。 第1基準(zhǔn)邊SN1及第2基準(zhǔn)邊SN2在玻璃的制造過程中作為基準(zhǔn)而制作，在進行液晶曝光 時從形成各回路圖案之后分離到多個液晶面板為止被用作基準(zhǔn)，且精密地形成。
設(shè)置在框體11上面的旋轉(zhuǎn)臺14可以沿e方向旋轉(zhuǎn)基板SW，且可以進行基板SW 朝向9方向旋轉(zhuǎn)的微調(diào)及基板SW的90度旋轉(zhuǎn)。在此，本實施方式中由于基板SW是沿著 規(guī)定的通道進入到周邊曝光裝置100內(nèi)，因此沒有搭載使曝光臺15向Z方向移動的臺座， 但也可以在框體11或者旋轉(zhuǎn)臺14的上面設(shè)置修正基板SW的Z方向的位置的移動臺座。
在旋轉(zhuǎn)臺14的上面設(shè)置有承載基板SW的曝光臺15。在該曝光臺15的上面豎立設(shè)置有多個支撐基板SW的圓柱(未圖示)?；錝W承載在該多個圓柱的頂上，且利用吸附 元件(未圖示)吸附固定。由此，可以防止基板SW的涂布有感光材料的一面與感光材料之 外的物質(zhì)接觸。另外，可以防止基板SW的搬運元件(未圖示)的把手與曝光臺座15的干 擾。 搭載3個曝光單元31的門型托架21以跨立基板SW的形狀被設(shè)置，且門型托架21 可以在基板SW的上面沿Y軸方向(第一方向)移動。門型托架21和框體11由托架移動 機構(gòu)22被連接，門型托架21可以通過運行托架移動機構(gòu)22的驅(qū)動裝置而在基板SW上面 沿第l方向移動。在此，驅(qū)動裝置可使用由例如線性移動裝置或滾珠螺桿、滑道、螺桿驅(qū)動 用電機等構(gòu)成的移動裝置，只要是可以正確地控制位置及移動速度的裝置即可。
另外，在門型托架21的中央前面的3處設(shè)置有在X軸方向(第2方向)并列的滑 動機構(gòu)32。在上述設(shè)置于3處的第1滑動機構(gòu)32a、第2滑動機構(gòu)32b及第3滑動機構(gòu)32c 上分別連接第1曝光單元31a、第2曝光單元31b及第3曝光單元31c。在滑動裝置32上 設(shè)置有未圖示的驅(qū)動裝置，通過運行驅(qū)動裝置可以使各個曝光單元31移動至第2方向的規(guī) 定位置上。在此，驅(qū)動裝置與托架移動機構(gòu)22相同，只要是可以正確地控制位置的裝置，采 取任何移動元件都可。 在本實施方式中，門型托架21上搭載了 3個曝光單元31，這種配置在基板SW的 一面形成2列圖案的情況時有效。S卩，適合于存在3列周邊曝光區(qū)域的制造線。因此，在基 板SW的一面形成3列以上圖案的情況存在以下方法增加移動門型托架21的通過次數(shù)的 方法，或者增加搭載在門型托架21上的曝光單元31的數(shù)量的方法。通過使用這些方法周
邊曝光裝置ioo可以適合于各種圖案尺寸的周邊曝光。 雖然3個曝光單元31為相同的構(gòu)成，但在第1曝光單元31a上設(shè)置有位置檢測器
51。由于其它的第2曝光單元31b及第3曝光單元31c上無需設(shè)置位置檢測器51，以下作
為代表對搭載了位置檢測器51的第1曝光單元31a的構(gòu)成進行說明。 圖2A、圖2B及圖2C是表示第1曝光單元31a的構(gòu)成的圖；圖2A是表示從_Y方
向所觀察的第1曝光單元31a的構(gòu)成的側(cè)視圖。圖2B是表示從+X方向所觀察的第1曝光
單元31a的構(gòu)成的正視圖。圖2C是表示從照射口側(cè)(-Z軸方向)所觀察的第l曝光單元
31a的構(gòu)成的仰視圖。 第1曝光單元31a由橢圓反射鏡35、水銀燈36、第1投影透鏡37、第2投影透鏡 38、快門機構(gòu)39、遮光機構(gòu)40以及位置檢測器51構(gòu)成。作為第1曝光單元31a的光學(xué)系的 橢圓反射鏡35、水銀燈36、第1投影透鏡37以及第2投影透鏡38收放在箱型的盒子中，在 圖2A及圖2B中以慮線表示。 水銀燈36的光線在橢圓反射鏡35上反射，朝照射口側(cè)(-Z軸方向)改變方向，通 過第1投影透鏡37而矯正為平行光，其次通過第2投影透鏡38而限制成具體的周邊曝光 光EL的形狀。在第1投影透鏡37和第2投影透鏡38之間安裝有遮斷光線的快門機構(gòu)39。 快門機構(gòu)39由遮斷光線的感光板39P以及開閉感光板39P的電機等的驅(qū)動元件39m構(gòu)成。 快門機構(gòu)39通過在期望的時機開放快門來控制光線照射的時機。 通過第1曝光單元31a的第2投影透鏡38的光線通過照射口 33，向盒子外射出。 通過照射口 33的光線由遮光機構(gòu)40根據(jù)需要進行調(diào)整。遮光機構(gòu)40由遮光板40p和驅(qū) 動電機40m構(gòu)成，可以通過運行驅(qū)動電機40m來進行遮光板40p的插入及退避。
7
例如，遮光機構(gòu)40可以根據(jù)需要遮蔽從照射口 33射出的平行光線來對應(yīng)于要求 從基板的邊緣到圖案區(qū)域小于70mm的基板SW，這里平行光線由第2投影透鏡38形成最大 尺寸，具體為70mmX 70mm。另外，同樣還可以對應(yīng)于不僅是從基板的邊緣而是將圖案和圖案 的距離設(shè)計成70mm以下的基板SW。 在第1曝光單元31a的下方的照射口 33的近旁設(shè)置有一對第1位置檢測器51a 及第2位置檢測器51b。由于第1位置檢測器51a及第2位置檢測器51b為相同的結(jié)構(gòu)，沒 有特別指定的情況以位置檢測器51進行說明。 第l位置檢測器51a和第2位置檢測器51b將照射口 33夾在中間，且在Y軸方向 相隔規(guī)定的間隔KD而設(shè)置。例如，本實施方式的周邊曝光裝置100的照射區(qū)域的寬度為 70mm，第1位置檢測器51a和第2位置檢測器51b分別設(shè)置在距該照射區(qū)域140mm的規(guī)定 間隔的位置上。 圖3是表示位置檢測器51的側(cè)視圖的圖，圖示了其內(nèi)部構(gòu)成。位置檢測器51由 紅外線光源52、控制光學(xué)系53及傳感器54構(gòu)成，在U字型的框架的前端上對面地設(shè)置紅外 線光源52和傳感器54。位置檢測器51可以利用控制光學(xué)系53使從紅外線光源52射出的 紅外線成為平行的紅外線光線IL，并通過基板SW的邊緣遮蔽紅外線光線IL來利用傳感器 54測量基板SW的邊緣位置。在此，傳感器54只要能夠?qū)⑵浔徽诒蔚臏y定值快速且準(zhǔn)確地 傳達到主控制部90即可，例如，可以使用線性傳感器及CCD傳感器等。
周邊曝光裝置100的主控制部90通過第1位置檢測器51a和第2位置檢測器51b 檢測出基板SW的邊緣位置來測量基板SW的傾斜度，從而旋轉(zhuǎn)臺座14向補正傾斜度的方向 旋轉(zhuǎn)。以下，對主控制部90的基板位置控制系的控制方法進行說明。
〈基板位置控制系的控制方法> 圖4是主控制部90的基板位置控制系的控制方塊圖。主控制部90由演算部91、 驅(qū)動控制部92及單元控制部93構(gòu)成。 演算部91根據(jù)第1位置檢測器51a和第2位置檢測器51b輸出的位置信息而演 算基板的傾斜度We 。其演算結(jié)果傳至驅(qū)動控制部92。驅(qū)動控制部92驅(qū)動旋轉(zhuǎn)臺14，使基 板sw的傾斜度we成為"O"。 圖5是表示演算部91處理的基板傾斜度We的算出方法的圖?；錝W沿+Y方 向移動的情況，首先檢測到基板SW的第1基準(zhǔn)邊SN1的第1位置檢測器51a獲得距基準(zhǔn)線 (Y軸)的間隔距離a。其次，第2位置檢測器51b獲得第1基準(zhǔn)邊SN1和基準(zhǔn)線(Y軸)的 間隔距離b。第1位置檢測器51a和第2位置檢測器51b的間隔設(shè)計成間隔距離c。演算
部9i可以由以上的值利用數(shù)學(xué)式i來算出基板sw的傾斜度we 。由此，驅(qū)動控制部92通
過使旋轉(zhuǎn)臺14向基板SW的傾斜度W e的反方向旋轉(zhuǎn)，使第1基準(zhǔn)邊SN1與基準(zhǔn)線(Y軸) 平行，可以不與圖案重疊地安全地進行基板SW的周邊曝光。在這里為了易于說明，沿+Y方 向移動了基板SW，但也可以沿-Y方向移動門型托架21。 =似W—
(1) 在此，也可以僅由第l位置檢測器51a或第2位置檢測器51b算出傾斜度We 。具 體地，第l位置檢測器51a獲得距基準(zhǔn)線(Y軸)的間隔距離a。其次，通過使門型托架21
8僅移動間隔距離c而使第1位置檢測器51a也僅移動間隔距離c。因此，第1位置檢測器 51a獲得距基準(zhǔn)線(Y軸)的間隔距離b。由此，可以利用數(shù)學(xué)式l來算出基板SW的傾斜度 W9 。 再次回到圖4，在第1基準(zhǔn)邊SN1與基準(zhǔn)線(Y軸)平行后，單元控制部93根據(jù)距 基準(zhǔn)線的間隔距離移動第1曝光單元31a、第2曝光單元31b及第3曝光單元31c。此時， 可以相對于最初檢測第1基準(zhǔn)邊SN1 (圖5)的位置檢測器51而調(diào)整曝光單元31的配置， 從而進行與基準(zhǔn)線平行的周邊曝光。即，門型托架21沿-Y方向(在圖5中是基板SW沿+Y 方向)移動的情況，單元控制部93根據(jù)第l位置檢測器51a的檢測結(jié)果調(diào)整曝光單元31 的配置，而門型托架21沿+Y方向(在圖5中是基板SW沿-Y方向)移動的情況，單元控制 部93根據(jù)第2位置檢測器51b的檢測結(jié)果調(diào)整曝光單元31的配置。這樣，單元控制部93 切換位置檢測器51而調(diào)整3處的曝光單元31的配置，使曝光單元31成為最優(yōu)的配置。
〈主控制部90的流程圖> 圖6是用于進行周邊曝光處理的主控制部90的流程圖。流程圖表示插入基板SW 后的步驟，從各臺座、控制元件在原點待機的狀態(tài)開始進行說明。光源的點亮及熄滅的控制 不在此流程圖表示。圖7A及圖7B圖示圖6的流程圖的步驟，表示周邊曝光裝置100的運 行狀況。 在步驟Sll中，基板SW被搬運進來，且由主控制部90控制使基板SW被吸附固定 在曝光臺15上。通常，基板SW的搬運由機器人或傳送帶等從插入口 16(參照圖1A)插入， 承載在豎立有圓柱的曝光臺15上。已搬運進來的基板SW在圓柱的頂端被真空吸附或靜電 吸附而被吸附固定?；錝W的第1基準(zhǔn)邊SN1位于第1曝光單元31a偵U，第2基準(zhǔn)邊SN2 位于插入口 16的相反面。參照圖7A(a)。 在步驟S12中，主控制部90開始將門型托架21向_Y方向移動，直至第1位置檢 測器51a和第2位置檢測器51b檢測完基板SW的第1基準(zhǔn)邊SN1為止。參照圖7A(b)。
在步驟S13中，主控制部90的演算部91由第1位置檢測器51a和第2位置檢測 器51b的傳感器54的值算出基板SW的傾斜度W e 。 在步驟S14中，主控制部90的驅(qū)動控制部92根據(jù)基板SW的傾斜度W e的算出結(jié) 果，通過使旋轉(zhuǎn)臺14沿著傾斜度we的反方向旋轉(zhuǎn)來修正旋轉(zhuǎn)方向的偏差。主控制部90在 修正旋轉(zhuǎn)方向的偏差的同時進行控制，使得如圖7A(c)的箭頭所示地再次使門型托架21向 插入口 16(參照圖1A)側(cè)移動。在此，在該時刻基板SW的第1基準(zhǔn)邊SN1與基準(zhǔn)線平行， 第2基準(zhǔn)邊SN2垂直于基準(zhǔn)線。在此，即使在該門型托架21向插入口 16移動期間，也可以 由第l位置檢測器51a和第2位置檢測器51b獲取傾斜度We信息而進行反饋處理。參照 圖7A(c)。 在步驟S15中，主控制部90使第1位置檢測器51a獲取基板SW的端面的位置信 息，另外使門型托架21移動至當(dāng)?shù)?位置檢測器51a距基板SW的端面相隔規(guī)定距離SD后 停止。在本實施方式中規(guī)定距離SD為140mm，這是門型托架21加速而達到一定速度所必要 的距離。參照圖7A(d)。 在步驟S16中，主控制部90準(zhǔn)備第1基準(zhǔn)邊SN1的周邊曝光。由第1基準(zhǔn)邊SN1 的位置信息將設(shè)置于3處的曝光單元31移動至規(guī)定的位置以及對照射區(qū)域進行調(diào)整。在 此，也可以采取曝光單元31的位置及照射區(qū)域的調(diào)整在步驟S15階段進行，在步驟S16中
9進行微調(diào)或反饋處理的方法。參照圖7A(e)。 在步驟S17中，主控制部90開始將門型托架21向_Y方向移動，當(dāng)由第1位置檢 測器51a檢測出基板SW的端面，則開始對第1基準(zhǔn)邊SNl進行周邊曝光。預(yù)先將規(guī)定距離 SD設(shè)定為140mm，因此在第1位置檢測器51a到達基板SW的端面的階段，門型托架21已到 達曝光所必要的規(guī)定速度。主控制部90起動配置在3處的曝光單元31的快門機構(gòu)39的 驅(qū)動元件39m，并開放感光板39p而開始進行將第1基準(zhǔn)邊SNl作為基準(zhǔn)的周邊曝光。在曝 光處理中，主控制部90可以通過每隔規(guī)定間隔或一直由第1位置檢測器51a對第1基準(zhǔn)邊 SNl進行檢測，且對曝光單元31位置和照射區(qū)域進行調(diào)整而形成平行于第1基準(zhǔn)邊SNl的 3個曝光區(qū)域EA。參照圖7A(f)。 另外，主控制部90根據(jù)第1基準(zhǔn)邊SNl的位置信息，調(diào)整遮光機構(gòu)40照射周邊曝 光光EL，使第1曝光單元31a的曝光區(qū)域從第1基準(zhǔn)邊SNl的位置向外偏離約0. 5mm(沒 有基板的空間)。圖8是表示利用遮光機構(gòu)40調(diào)整了周邊曝光光EL的狀態(tài)的圖。主控制 部90利用遮光機構(gòu)40的遮光板40p對從照射口 33射出的控制成平行光的周邊曝光光EL 進行控制，使周邊曝光光EL到達從第1基準(zhǔn)邊SNl的位置信息向外0. 5mm的位置。S卩，由 于周邊曝光光EL照射基板SW的第1基準(zhǔn)邊SNl的上面u及端面s，使得附著在端面s上 的不需要的光阻劑曝光。在此，由于遮光機構(gòu)40能夠精密地控制作為平行光的周邊曝光光 EL的照射范圍，因此可以將圖案界限控制在1mm以下而進行曝光。 再次回到圖6，在步驟S18中，主控制部90在第2位置檢測器51b確認(rèn)第2基準(zhǔn)邊 SN2的時刻停止周邊曝光。主控制部90起動配置在3處的曝光單元31的快門機構(gòu)39的驅(qū) 動元件39m，且鎖閉感光板39p而停止基板SW的曝光。另外，主控制部90從第2位置檢測 器51b檢測的第2基準(zhǔn)邊SN2的終端開始逐漸使門型托架21的移動速度變慢。然后，門型 托架21停止在距第2基準(zhǔn)邊SN2規(guī)定距離SD的位置上。參照圖7B(g)。
在步驟S19中，主控制部90使基板SW沿順時針方向旋轉(zhuǎn)90度，根據(jù)第2基準(zhǔn)邊 SN2的位置信息向規(guī)定的位置移動配置在3處的曝光單元31并調(diào)整照射區(qū)域。由于第2基 準(zhǔn)邊SN2的位置信息是在步驟S18中獲得的，因此可以得知從旋轉(zhuǎn)臺14的旋轉(zhuǎn)中心沿順時 針方向旋轉(zhuǎn)90度的位置。參照圖7B(h)。 在步驟S20中主控制部90開始第2基準(zhǔn)邊SN2的周邊曝光。由于第2位置檢測 器51b到達第1基準(zhǔn)邊SN1的階段，門型托架21已達到曝光所需的規(guī)定速度，因此主控制 部90起動快門機構(gòu)39的驅(qū)動元件39m，開放感光板39p開始進行將第2基準(zhǔn)邊SN2作為基 準(zhǔn)的曝光(成為第2基準(zhǔn)邊SN2的周邊曝光的起始點)。在曝光處理中，主控制部90每隔 規(guī)定間隔或一直由第2位置檢測器51b對第2基準(zhǔn)邊SN2進行檢測。然后，主控制部90通 過調(diào)整曝光單元31的位置和照射區(qū)域，能夠?qū)錝W進行平行于第2基準(zhǔn)邊SN2的周邊 曝光。參照圖7B(i)。 在此，在步驟S20中與步驟S17相同地，主控制部90根據(jù)第2基準(zhǔn)邊SN2的位置 信息，調(diào)整遮光機構(gòu)40照射周邊曝光光EL，使第1曝光單元31a的曝光區(qū)域從第2基準(zhǔn)邊 SN2的位置向外偏離約0. 5mm在步驟S21中，主控制部90在第1位置檢測器51a確認(rèn)第1 基準(zhǔn)邊SN1的時刻停止周邊曝光。主控制部90起動快門機構(gòu)39的驅(qū)動元件39m，且鎖閉 感光板39p而停止基板SW的曝光。另外，主控制部90從第1位置檢測器51a檢測的第2 基準(zhǔn)邊SN2的終端開始逐漸使門型托架21的移動速度變慢而停止在規(guī)定位置上。參照圖7B(j)。 以上，利用周邊曝光裝置100的周邊曝光處理已結(jié)束，基板SW由機器人或傳送帶 取出并搬運到下一工序。此時，也可以旋轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)臺14，使基板SW回到與插入時相同的方向， 另外，也可以不旋轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)臺14而解除基板SW的固定，以與插入時正交的方向取出基板SW。 此時，由于門型托架21可能會成為取出基板SW時的障礙，因此在旋轉(zhuǎn)基板SW后或者取出 之前使門型托架21從基板SW的取出通道退避。 在此，已由周邊曝光裝置100進行周邊曝光處理的基板SW可以在其后的顯像工序 中，除去成為基板搬運工序的障礙的光阻劑等的異物。 根據(jù)以上所述，由于周邊曝光裝置100將第1基準(zhǔn)邊SN1及第2基準(zhǔn)邊SN2作為 基準(zhǔn)位置而對曝光單元31的位置進行控制，因此可以與第1基準(zhǔn)邊SN1及第2基準(zhǔn)邊SN2 平行地進行曝光處理。另外，由于周邊曝光裝置100利用位置檢測器51對第1基準(zhǔn)邊SN1 僅測量一次即可進行基板的對準(zhǔn)，因此對準(zhǔn)所需的時間短，可以縮短周邊曝光工序的時間。
在此，本實施方式所示的周邊曝光裝置100使承載基板SW的曝光臺沿9方向移 動，使承載照射紫外線的曝光單元31的門型托架21向Y方向(第1方向)移動，由此進行 周邊曝光處理。但是，由于這些移動只要是相對運行即可，因此也可以使曝光臺一并具有Y
軸方向及e方向的移動功能。另外，同樣地也可以使門型托架2i—并具有Y軸方向及e
方向的移動功能。
1權(quán)利要求
一種周邊曝光裝置，利用紫外光對形成于回路圖案區(qū)域的周圍的周邊區(qū)域進行曝光，該回路圖案區(qū)域形成在矩形基板上，其特征在于，包含保持上述矩形基板的曝光臺；設(shè)置在上述矩形基板面上方，從照射口向上述周邊區(qū)域照射紫外光的曝光單元；向第1方向相對驅(qū)動上述曝光臺和上述曝光單元的驅(qū)動部；配置在上述曝光單元上檢測上述矩形基板的一邊的邊緣而算出基板自上述第1方向的傾斜度的傾斜度算出元件；基于上述傾斜度算出元件的傾斜度算出結(jié)果，將與上述矩形基板正交的垂線方向為基準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)上述基板或上述曝光單元后，由上述傾斜度算出元件檢測出上述邊緣而特定上述周邊區(qū)域，同時利用上述驅(qū)動部相對驅(qū)動上述曝光臺和上述曝光單元，并且使紫外光與上述邊緣平行地從上述曝光單元照射的控制部。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的周邊曝光裝置，其特征在于，上述曝光單元安裝在托架上，該托架在上述曝光臺的上方沿著與上述第1方向交叉的第2方向延伸，上述曝光單元可以在上述托架上沿上述第2方向移動。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的周邊曝光裝置，其特征在于，上述傾斜度算出元件具有在上述第1方向互相隔開的第1位置檢測器及第2位置檢測器。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的周邊曝光裝置，其特征在于，上述曝光單元包含配置在上述第2方向的第1曝光單元和第2曝光單元，且上述第1曝光單元上安裝有上述第1位置檢測器及上述第2位置檢測器，上述第1曝光單元和上述第2曝光單元基于上述第1位置檢測器的檢測結(jié)果而照射紫外光。
5. —種周邊曝光方法，具有照射紫外光的曝光單元，且利用紫外光對形成于回路圖案區(qū)域的周圍的周邊區(qū)域進行曝光，該回路圖案區(qū)域形成在矩形基板上，其特征在于，具有將上述矩形基板保持在曝光臺上的保持工序；利用設(shè)置在上述曝光單元上的位置檢測器檢測上述矩形基板的一邊的邊緣而算出基板與第1方向的傾斜度的傾斜度算出工序；基于上述傾斜度算出結(jié)果而旋轉(zhuǎn)上述基板或上述曝光單元的旋轉(zhuǎn)工序；向上述第1方向相對地驅(qū)動上述曝光單元和上述曝光臺的驅(qū)動工序；利用上述傾斜度算出元件檢測邊緣而特定上述周邊區(qū)域，同時與上述邊緣平行地從上述曝光單元照射紫外光的照射工序。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的周邊曝光方法，其特征在于，上述曝光單元包含第1曝光單元和第2曝光單元，且上述第1曝光單元及上述第2曝光單元安裝在托架上，該托架在上述曝光臺的上方沿著與上述第1方向交叉的第2方向延伸，在上述保持工序之后，上述第1曝光單元及第2曝光單元移動至上述矩形基板的周邊曝光區(qū)域上。
7. 根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的周邊曝光方法，其特征在于，上述位置檢測器由在第1方向上互相隔開的第1位置檢測器及第2位置檢測器構(gòu)成，且根據(jù)上述第1位置檢測器及第2位置檢測器檢測上述矩形基板的一邊的邊緣。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的周邊曝光方法，其特征在于，上述驅(qū)動工序由上述第1位置檢測器或上述第2位置檢測器確認(rèn)上述矩形基板的邊緣之后，相對驅(qū)動上述曝光單元和上述曝光臺。
9. 根據(jù)權(quán)利要求5，6，8的任意一項所述的周邊曝光方法，其特征在于，上述驅(qū)動工程向第1方向相對驅(qū)動上述曝光單元和上述曝光臺之后，旋轉(zhuǎn)上述矩形基板或上述曝光單元，再向上述第1方向驅(qū)動上述曝光單元和上述曝光臺。
10. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的周邊曝光方法，其特征在于，上述驅(qū)動工程向第1方向相對驅(qū)動上述曝光單元和上述曝光臺之后，旋轉(zhuǎn)上述矩形基板或上述曝光單元，再向上述第1方向驅(qū)動上述曝光單元和上述曝光臺。
全文摘要
本發(fā)明提供簡化對準(zhǔn)工序、且能夠正確地確保平行于基準(zhǔn)邊的周邊曝光區(qū)域的周邊曝光方法。該周邊曝光方法是具有照射紫外光的曝光單元(31)、且利用紫外光對形成于回路圖案區(qū)域的周圍的周邊區(qū)域(EA)進行曝光的周邊曝光方法，該回路圖案區(qū)域形成在矩形基板(SW)上。該方法包含將矩形基板保持在曝光臺上的保持工序(S11)；利用設(shè)置在曝光單元(31)上的傾斜度算出元件(51)檢測矩形基板(SW)的一邊的邊緣(SN1)而算出基板自第1方向的傾斜度的傾斜度算出工序(S13)；基于傾斜度算出結(jié)果而旋轉(zhuǎn)矩形基板(SW)或曝光單元(31)的旋轉(zhuǎn)工序(S14)；向第1方向相對地驅(qū)動曝光單元(31)和曝光臺的驅(qū)動工序(S17)；利用傾斜度算出元件部(51)檢測邊緣而特定周邊區(qū)域(EA)，同時從曝光單元(31)照射紫外光的照射工序(S18)。
文檔編號G03F7/20GK101713926SQ20081018713
公開日2010年5月26日 申請日期2008年12月17日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月29日
發(fā)明者清水誠基 申請人:株式會社Orc制作所