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全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用膜及全息圖用記錄介質(zhì)的制作方法

文檔序號(hào):2810568閱讀:177來源:國(guó)知局

專利名稱::全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用膜及全息圖用記錄介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
:本發(fā)明涉及全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用膜以及全息圖用記錄介質(zhì)。
背景技術(shù)
:能夠進(jìn)行三維信息記錄的全息圖記錄介質(zhì),與光磁記錄介質(zhì)或相變化光記錄介質(zhì)等相比,是一種可實(shí)現(xiàn)大容量高速傳送的光記錄技術(shù)。全息圖的記錄再生方式如下所示,作為二維圖像而照射賦予信息的信息光與參照光并使其發(fā)生干涉,利用形成的干涉圖案使在記錄層內(nèi)部產(chǎn)生折射率等的光學(xué)特性分布,由此記錄信息。再生時(shí),通過僅照射參照光,使具有對(duì)應(yīng)記錄的干涉圖案的光學(xué)特性分布的再生光在記錄層上照出。作為該全息圖記錄介質(zhì)的記錄層,已知,通常,在自由基聚合性化合物及光自由基聚合引發(fā)劑之外,還具有三維交聯(lián)聚合物基體(例如,專利文獻(xiàn)1)。三維交聯(lián)聚合物基體,具有抑制自由基聚合性化合物的過量移動(dòng),從而抑制記錄層中相當(dāng)于亮部的位置及相當(dāng)于暗部的位置的體積變化的功能。作為三維交聯(lián)聚合物基體材料,可以舉出環(huán)氧化合物、來自陽離子聚合性單體的反應(yīng)固化物等(例如,專利文獻(xiàn)2)。另外,作為全息圖記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu),已經(jīng)進(jìn)行了各種研究,提出了如圖l所示的全息圖記錄介質(zhì)(例如,專利文獻(xiàn)3、4、5)。在支撐體第二基板l表面上設(shè)置伺服凹坑圖案8,在該伺服凹坑圖案8表面上層積由金屬反射膜構(gòu)成的反射層2。進(jìn)一步,在反射層2與過濾器層4之間,設(shè)置為了使第二基板1平坦化的間隙層3。即,在過濾器層4上,依次層積保護(hù)層5、記錄層6、透光性第一基板7,從而制成。作為構(gòu)成全息圖記錄介質(zhì)的間隙層3上使用的基材,提出了從雙酚A得到的聚碳酸酯樹脂(下面標(biāo)記為PC—A)形成的光學(xué)膜。該膜透明性、尺寸穩(wěn)定性、耐加水分解性優(yōu)異,因此被作為位相差膜、光盤用罩膜(coverfilm)等的光學(xué)用基材而被廣泛應(yīng)用。但是,在上述全息圖記錄介質(zhì)中,在使用由PC-A構(gòu)成的光學(xué)膜用于間4隙層3的情形,在間隙層3上使用粘結(jié)劑或粘接劑等以尋求第二基板1的表面平坦性,但由于在間隙層3上層積過濾器層4等或?qū)臃e記錄層時(shí)產(chǎn)生的熱,間隙層3發(fā)生變形,從而使層積的過濾器層4上發(fā)生皸裂等的缺陷等。另外,由于發(fā)生變形,間隙層3的厚度變的不均一,因此,破壞第二基板l的表面平坦性,因而成為問題。因此,對(duì)于間隙層中使用的光學(xué)膜,需要尋求其具有耐熱性。(專利文獻(xiàn)l)JP特開平11一161137號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)2)JP特開2005—107312號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)3)JP特開2004—265472號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)4)JP特開2007—93799號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)5)JP特開2007—79164號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用膜,該膜由耐熱性優(yōu)異并且透明性、光學(xué)特性優(yōu)異的聚碳酸酯樹脂構(gòu)成。另外,本發(fā)明的目的是提供一種全息圖記錄介質(zhì),其不會(huì)由于在層積過濾器層時(shí)或?qū)臃e記錄層時(shí)的熱而引起間隙層變形,在層積的過濾器層上不會(huì)產(chǎn)生皸裂等的缺陷。為了解決上述課題,本發(fā)明提供下述方案。1.一種全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用膜,其由聚碳酸酯共聚物構(gòu)成,該聚碳酸酯共聚物由結(jié)構(gòu)單元(A)與結(jié)構(gòu)單元(B)構(gòu)成,在全部結(jié)構(gòu)單元中,結(jié)構(gòu)單元(A)的比例為2090摩爾%,其中,結(jié)構(gòu)單元(A)用下式[l]表示,(式中,^114分別獨(dú)立,表示氫原子、含有或不含有芳香族基的碳原子數(shù)1~9的烴基或鹵原子)5結(jié)構(gòu)單元(B)用下式[2]表示,1[2]2.按照上述l所述的膜,其中,聚碳酸酯共聚物的全部結(jié)構(gòu)單元中的結(jié)構(gòu)單元(A)的比例為3080摩爾%。3.按照上述1或2所述的膜,其中,聚碳酸酯共聚物的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為18(TC以上。4.按照上述13中任一項(xiàng)所述的膜,其中,厚度為20200um,并且厚度不勻值為±5%以下。5.按照上述1~4中任一項(xiàng)所述的膜,其中,在16(TC下加熱處理1小時(shí)后的熱尺寸變化率為0.08%以下,并且表面的微小突起數(shù)為20個(gè)/mm2以下。6.按照上述15中任一項(xiàng)所述的膜,其中,面內(nèi)遲延為20nm以下,厚度方向的遲延為60nm以下。7.按照上述1~6中任一項(xiàng)所述的膜,其中,中心線平均表面粗糙度為5nm以下o8.—種全息圖記錄介質(zhì),該全息圖記錄介質(zhì)將作為二維圖像被賦予了信息的信息光和能夠干涉信息光的參照光進(jìn)行重合,并利用全息圖來記錄信息,該全息圖記錄介質(zhì)由作為支撐體的第二基板、反射層、間隙層、保護(hù)層、過濾器層、記錄層以及透光性的第一基板構(gòu)成,其特征在于,該間隙層為上述17所述的膜。9.按照上述8所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,使信息光的光軸與參照光的光軸同軸來照射信息光及參照光。10.按照上述8或9所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,第二基板具有為了檢出伺服信息而形成的伺服凹坑圖案。11.按照上述810中任一項(xiàng)所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,第二基板在伺服凹坑圖案上形成反射膜。12.按照上述811中任一項(xiàng)所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,反射層為金屬反射膜。13.按照上述812中任一項(xiàng)所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,過濾器層與反射膜之間設(shè)置間隙層,并使第二基板表面平坦化。14.按照上述813中任一項(xiàng)所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,間隙層是通過貼合光學(xué)用膜而形成。15.按照上述814中任一項(xiàng)所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,過濾器層是由分色鏡形成的層或膽甾型液晶形成的層,該過濾器層具有波長(zhǎng)選擇性能。16.按照上述815中任一項(xiàng)所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,過濾器層含有顏料以及染料中至少任意之一的著色材料。17.按照上述816中任一項(xiàng)所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,在過濾器層上形成保護(hù)層、記錄層、透光性第一基板。18.按照上述817中任一項(xiàng)所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,第一基板以及第二基板是聚碳酸酯樹脂或玻璃。19.按照上述8~18中任一項(xiàng)所述的全息圖記錄介質(zhì),采用通過照射信息光和參照光并使其干涉而形成的干涉圖案在記錄層上記錄信息的方式,其中,采用下述方式,即照射與信息光及參照光不同波長(zhǎng)的伺服用光,通過該伺服用光的焦點(diǎn)距離檢測(cè)出記錄的干涉圖案的位置信息。圖1是表示直線式使用的全息圖記錄介質(zhì)、其信息光及參照光的概要圖,其中,附圖標(biāo)記說明如下1第二基板3間隙層5保護(hù)層7第一基板9伺服用光(紅色激光)2反射層4過濾器層6記錄層8伺服凹坑圖案10信息光/參照光(綠色或藍(lán)色激光)具體實(shí)施例方式以下,詳細(xì)說明本發(fā)明。<聚碳酸酯共聚物>對(duì)構(gòu)成全息圖記錄介質(zhì)的間隙層進(jìn)行了悉心研究,其結(jié)果是發(fā)現(xiàn),通過使用由聚碳酸酯共聚物構(gòu)成的光學(xué)膜,能夠顯示出比現(xiàn)有技術(shù)的PC-A更高的耐熱性,該聚碳酸酯共聚物由結(jié)構(gòu)單元(A)與結(jié)構(gòu)單元(B)構(gòu)成,結(jié)構(gòu)單元(A)由用上式[l]表示的二元酚衍生,結(jié)構(gòu)單元(B)由用上式[2]表示的二元酚衍生。由上述研究結(jié)果可知,在全部結(jié)構(gòu)單元中結(jié)構(gòu)單元(A)的比例為2090摩爾%的聚碳酸酯共聚物滿足上述課題。即,其是具有高的耐熱性的聚碳酸酯共聚物,并且由該聚碳酸酯共聚物構(gòu)成的光學(xué)膜用于構(gòu)成上述全息圖記錄介質(zhì)的間隙層,在層積過濾器層時(shí)或?qū)臃e記錄層時(shí)產(chǎn)生的熱不會(huì)引起間隙層變形,并且,在過濾器層上不會(huì)產(chǎn)生皸裂等的缺陷。該結(jié)構(gòu)單元(A),可舉出下式[l]。(式中,&~114分別獨(dú)立,表示氫原子、含有或不含有芳香族基的碳原子數(shù)1~9的烴基或鹵原子,進(jìn)一步優(yōu)選的,R1、R2、R3、W相同或不同,表示氫原子、碳原子數(shù)13的烷基或苯基,特別優(yōu)選為氫原子或碳原子數(shù)為1~3的烷基)。作為該結(jié)構(gòu)單元(A)的優(yōu)選的具體例子,例如,可以舉出由9,9-雙(4-羥基苯基)芴、9,9-雙(4-羥基-3-甲基苯基)芴、9,9-雙(4-羥基-3-乙基苯基)芴以及9,9-雙(4-羥基-2-甲基苯基)芴等衍生的具有碳酸酯鍵的結(jié)構(gòu)單元。接下來,結(jié)構(gòu)單元(B),可舉出下式[2]。其中,特別優(yōu)選,結(jié)構(gòu)單元(A)成分,是由9,9-雙(4-羥基-3-甲基苯基)芴衍生的,且結(jié)構(gòu)單元(B)是由2,2'-雙(4-羥基苯基)丙烷衍生的,具有碳酸酯鍵的結(jié)構(gòu)單元。另外,全部結(jié)構(gòu)單元中的結(jié)構(gòu)單元(A)的比例優(yōu)選為20卯摩爾%,更優(yōu)選為3080摩爾。/。。全部結(jié)構(gòu)單元中的結(jié)構(gòu)單元(B)的比例優(yōu)選為8010摩爾%,更優(yōu)選為7020摩爾%。另外,通過將其用作光學(xué)膜,能夠得到耐熱性極高的光學(xué)膜,該光學(xué)膜可用于構(gòu)成全息圖記錄介質(zhì)的間隙層。結(jié)構(gòu)單元(A)的摩爾比不足20摩爾%的情形,因?yàn)槟蜔嵝圆蛔?,而不?yōu)選。另外,結(jié)構(gòu)單元(A)的摩爾比超過90摩爾%情形,耐熱性變高,含有芴環(huán)的二價(jià)酚成分變多,光學(xué)膜脆化,層積間隙層時(shí)光學(xué)膜產(chǎn)生皸裂等的缺陷,因而不優(yōu)選。<聚碳酸酯樹脂的制造方法>通過溶液聚合法或熔融聚合法,使衍生結(jié)構(gòu)單元(A)的二元酚以及衍生結(jié)構(gòu)單元(B)的二元苯酚和碳酸酯前軀體反應(yīng),能夠制造上述聚碳酸酯共聚物。更優(yōu)選的聚碳酸酯共聚物,是通過溶液聚合法也即界面聚合法來制造。該二種二元酚可與碳酸酯前軀體同時(shí)反應(yīng)也可將每一種類按順序反應(yīng)。界面聚合法的反應(yīng),通常是二元酚與光氣的反應(yīng),其在酸結(jié)合劑以及有機(jī)溶劑的存在下發(fā)生反應(yīng)。作為酸結(jié)合劑,例如,可使用氫氧化鈉、氫氧化鉀等的堿金屬氫氧化物或吡啶等的胺化合物。作為有機(jī)溶劑,例如可使用二氯甲烷、氯苯等的鹵化烴。另外,為了促進(jìn)反應(yīng),例如,可以使用三乙基胺、四正丁基溴化銨、四正丁基溴化鱗等的叔胺、季銨化合物、季鱗化合物等的催化劑。另外,優(yōu)選反應(yīng)溫度通常為04(TC、反應(yīng)時(shí)間為10分鐘5小時(shí)左右、反應(yīng)時(shí)的pH值保存在9以上。另外,在該聚合反應(yīng)中,通常使用末端停止劑。作為該末端停止劑可使用單官能酚類。單官能酚類,其作為末端停止劑通常用于調(diào)節(jié)分子量,另外,得到的聚碳酸酯樹脂,其末端通過基于單官能酚類的基團(tuán)而被封端,與不進(jìn)行該封端的產(chǎn)物相比,熱穩(wěn)定性優(yōu)異。作為該單官能酚類,通常為苯酚或低級(jí)烷基取代酚,可示出用下式[3]表示的單官能酚類。9(式中,A是氫原子或碳原子數(shù)19的直鏈或支鏈的垸基或苯基取代垸基;r為15,優(yōu)選為13的整數(shù)。)作為上述單官能酚類的具體例子,可以舉出,苯酚、苯基苯酚、對(duì)叔丁基苯酚、對(duì)枯基苯酚、叔辛基苯酚以及異辛基苯酚。另外,作為其他的單官能酚類,可使用作為取代基而具有長(zhǎng)鏈的垸基或脂肪族酯基的酚類或安息香酸氯化物類,或長(zhǎng)鏈的烷基羧酸氯化物類。這些末端停止劑,相對(duì)于得到的聚碳酸酯共聚物的全部末端導(dǎo)入到至少5摩爾%的末端、優(yōu)選至少10摩爾%的末端,更優(yōu)選為導(dǎo)入到80摩爾%以上的末端。另外,末端停止劑為單獨(dú)使用或2種以上混合使用。熔融聚合法的反應(yīng),通常以二元苯酚與碳酸酯的酯交換反應(yīng)為代表,其通過以下方法來進(jìn)行,即在惰性氣體的存在下,在加熱二元酚與碳酸酯的同時(shí)將其混合,蒸餾出生成的醇或酚。反應(yīng)溫度,根據(jù)生成的醇或酚的沸點(diǎn)等而不同,通常為120350。C的范圍。在反應(yīng)后期,將體系減壓至1300Pa13Pa(100.1Torr)左右,從而使生成的醇或酚容易餾出。反應(yīng)時(shí)間通常為14小時(shí)左右。作為碳酸酯,可舉出可以具有取代基的碳原子數(shù)為6~10的芳基、芳垸基或碳原子數(shù)1~4的垸基等的酯。具體地,可舉出二苯基碳酸酯、二甲苯基碳酸酯、雙(氯苯基)碳酸酯、間甲苯碳酸酯、二萘基碳酸酯、雙(二苯基)碳酸酯、二甲基碳酸酯、二乙基碳酸酯、二丁基碳酸酯等,其中,優(yōu)選二苯基碳酸酯。另外,為了提高聚合速度,可使用聚合催化劑。作為聚合催化劑,例如,可以使用氫氧化鈉或氫氧化鉀等的堿金屬或堿土類金屬的氫氧化物、硼或鋁的氫氧化物、堿金屬鹽、堿土類金屬鹽、季銨鹽、堿金屬或堿土類金屬烷氧化物、堿金屬或堿土類金屬的有機(jī)酸鹽、鋅化合物、硼化合物、硅化合物、鍺化合物、有機(jī)錫化合物、鉛化合物、銻化合物、錳化合物、鈦化合物、鋯化合物等的通常酯化反應(yīng)或酯交換反應(yīng)中使用的催化劑。催化劑可單獨(dú)使10用,也可組合兩種以上使用。這些聚合催化劑的使用量,相對(duì)于原料的二元酚1摩爾,優(yōu)選為1X10-9lX10-5當(dāng)量、更優(yōu)選為1X10-85X10-6當(dāng)量的范圍。另外,在該聚合反應(yīng)中,為了減少酚性末端基,優(yōu)選在縮聚反應(yīng)后期或終了后添加例如2-氯苯基苯基碳酸酯、2-甲氧基羰基苯基苯基碳酸酯以及2-乙氧基羰基苯基苯基碳酸酯,特別優(yōu)選2-乙氧基羰基苯基苯基碳酸酯。進(jìn)一步,熔融酯交換法中,優(yōu)選使用中和催化劑活性的失活劑。作為該失活劑的量,優(yōu)選相對(duì)于殘余的催化劑l摩爾,使用0.550摩爾的比例。另外,相對(duì)于聚合后的聚碳酸酯共聚物,使用0.01500ppm的比例,更優(yōu)選使用0.01300ppm,特別優(yōu)選使用0.01100ppm的比例。作為失活劑,可優(yōu)選舉出,十二烷基苯磺酸四丁基鱗鹽等的鱗鹽、四乙基銨十二烷基芐基硫酸鹽等的銨鹽等。對(duì)于上述以外的反應(yīng)形式的詳細(xì)記載,己通過各種文獻(xiàn)及專利公報(bào)等公知。(比粘度)本發(fā)明中,聚碳酸酯共聚物的比粘度,優(yōu)選為0.201.00的范圍,更優(yōu)選為0.250.卯的范圍。具有該比粘度的聚碳酸酯共聚物,作為光學(xué)膜能夠得到的充分的強(qiáng)度。比粘度小于0.20時(shí),強(qiáng)度不足,因而不優(yōu)選。比粘度比1.00大時(shí),熔融擠出時(shí),熔融粘度高,制膜困難,另外,由于溶液制膜時(shí)溶液粘度過高,熔融制膜操作變困難,因而不優(yōu)選。另外,本發(fā)明中的比粘度,可根據(jù)下述方法算出,即,從在2(TC下將0.7g聚碳酸酯樹脂溶解在100ml二氯甲烷而得到的溶液,求出極限粘度,然后通過下式求出比粘度(p):Wc,]+0.45x[n]2cTlsp:比粘度Tl:極限粘度C:常數(shù)(=0.7)。(玻璃化轉(zhuǎn)變溫度)優(yōu)選聚碳酸酯共聚物的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為18(TC以上,更優(yōu)選為190°C以上,最優(yōu)選為20(TC以上。本發(fā)明中的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度,是使用示差掃描量熱分析裝置(DSC),在根據(jù)JISK7121的升溫速度2(TC/分鐘的條件下進(jìn)行測(cè)定所得到的數(shù)值。<光學(xué)膜的制造方法>下面,對(duì)使用聚碳酸酯共聚物制造全息圖間隙層用膜的方法進(jìn)行具體說明。本發(fā)明的光學(xué)用膜的制造方法沒有特別的限定,例如,可以舉出溶液制膜法、熔融擠出法等,從易于制得位相差低、光學(xué)各向同性的膜的方面考慮,優(yōu)選溶液制膜法。溶液制膜法,單從下述方面來考慮也是非常合適的,艮P,其膜中的雜質(zhì)少,容易獲得低位相差的膜,而且膜的表面性良好,厚度偏差少,能夠得到極平坦的膜。下面,對(duì)該溶液制膜法進(jìn)行詳細(xì)描述。(溶劑)能夠用于溶液制膜法的溶劑,可以從公知的溶解溶劑中選擇,其中,二氯甲垸或1,3-二氧雜戊環(huán)以及其混合物等是合適的溶劑。另外,也可少量混合乙醇或二甲苯等的聚碳酸酯的非溶劑作為副溶劑使用。(聚合物濃度)作為用于溶液制膜法中的溶液的聚合物濃度,優(yōu)選1040°/。(重量%,下面相同)的范圍。溶液中的上述聚碳酸酯的濃度過低時(shí),可揮發(fā)的溶劑量變多而變得無效率。另外,溶液粘度過小,不能得到均勻的膜。另一方面,溶液中的聚碳酸酯濃度過高時(shí),溶液粘度變高,均勻的流動(dòng)變得困難,并且,溶液易于產(chǎn)生凝膠化,有時(shí)會(huì)成為膜中的異物的原因,因而不優(yōu)選。溶液流動(dòng)前,通過平均開孔為110um左右的過濾器,可使溶液中的異物或膠凝物不能混入膜中,因而優(yōu)選。(溶液制膜的支撐體)在溶液制膜法中,作為鑄造上述溶液的支撐體,可使用公知的支撐體。例如,可舉出聚酯膜或具有極高研磨的面的鋼帶。在本發(fā)明的膜中,為了以超平坦的狀態(tài)得到表面,特別優(yōu)選使用后者。用支撐體表面的Ra(中心線平均表面粗糙度)表示的表面性,優(yōu)選為5nm以下,更優(yōu)選為3nm以下。(膜的厚度及厚度不勻)膜的厚度,作為全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用時(shí),為了具有防止多重記錄性能的降低的功能,其厚度優(yōu)選為20200um的范圍。在不足20um時(shí),伺服信號(hào)光與全息圖信號(hào)光混合,全息圖信號(hào)光的S/N比降低,出錯(cuò)率變高,12因而不優(yōu)選。另外,若超過200um,則盤的總厚度增加,盤的重量變大,因而不優(yōu)選。優(yōu)選的厚度為30150um,更優(yōu)選為50100"m。另外,厚度不勻越小越優(yōu)選。厚度不勻根據(jù)膜的厚度而變化,但是相對(duì)于厚度,厚度不勻的范圍優(yōu)選為5%以下,更優(yōu)選為3%以下,進(jìn)一步優(yōu)選為1%以下。這里,作為5%,是指在厚度100um的膜中,厚度的最大值與最小值的差為5um。厚度不勻大于5%,則表面平滑性受損,因而不優(yōu)選。膜整幅的厚度不勻的測(cè)定方法,例如,可使用連續(xù)厚度計(jì)(7一&A)7夕木7亍7夕一,型號(hào)KG601A,7>y7(株)制造)進(jìn)行測(cè)定。(光學(xué)膜的全光線透過率)全光線透過率,優(yōu)選為高的值,優(yōu)選為80%以上,更優(yōu)選為85%以上,進(jìn)一步優(yōu)選為89%以上。全光線透過率過低,則難以作為全息圖記錄介質(zhì)的間隙層使用。(膜的霧度值)在透明性方面考慮,與光線透過率關(guān)聯(lián)的是霧度值。本發(fā)明的膜的霧度值優(yōu)選為0.5%以下,更優(yōu)選為0.3%以下,進(jìn)一步優(yōu)選為0.2%以下。上述的膜的全光線透過率與霧度值的測(cè)定方法,例如,是在膜的寬度方向上的3個(gè)位置取樣。使用日本電色工業(yè)(株)制造的色差*濁度測(cè)定機(jī)COH-300A測(cè)定樣品的全光線透過率。對(duì)各樣品測(cè)定5點(diǎn),將寬度方向的3個(gè)樣品的共15個(gè)點(diǎn)的平均值作為全光線透過率。另外,可按照J(rèn)ISK7105實(shí)施該測(cè)定。(膜的表面缺陷點(diǎn))將本發(fā)明中使用的聚碳酸酯共聚物通過溶液制膜得到的膜,即使是厚度較厚的膜,也幾乎不形成表面的微細(xì)突起,膜的表面極其平坦。至少一個(gè)面的表面的微笑突起數(shù)為20個(gè)/mm2以下,優(yōu)選為10個(gè)/mm2以下,更優(yōu)選為5個(gè)/mm2以下。在此的該微小突起視作圓形時(shí)的大小為直徑3Um左右以下。其大小是越小越優(yōu)選,下限值為約1Um左右。膜表面的微小突起狀的缺陷點(diǎn)的測(cè)定方法,例如,是在膜的寬度方向上的3個(gè)位置取樣,在該樣品的兩表面上真空蒸鍍鋁。將其用微分干涉顯微鏡或激光顯微鏡進(jìn)行觀察,計(jì)數(shù)大小為直徑為約l~3um的微小突起的數(shù)目。微小突起的發(fā)生頻率用每一平方毫米發(fā)生的數(shù)目來表示。(膜的面內(nèi)遲延)本發(fā)明的膜,其光學(xué)各向同性高。作為用厚度及雙折射的積表達(dá)的位相差(Re),使用的激光波長(zhǎng)中,優(yōu)選為20nm以下,更優(yōu)選為10nm以下,進(jìn)一步優(yōu)選為8nm以下,特別優(yōu)選為5nm以下。該值越接近0越理想。面內(nèi)遲延超過20nm,則伺服信號(hào)的再生信號(hào)水平不穩(wěn)定,S/N比惡化,因而不優(yōu)選。面內(nèi)遲延值(Re)的測(cè)定方法,例如,對(duì)于寬度方向上樣品整幅通過遲延連續(xù)測(cè)定裝置(商品名KOBRAWFD,王子計(jì)測(cè)機(jī)器(株)制造)進(jìn)行測(cè)定。測(cè)定波長(zhǎng)為589nm。(膜的厚度方向的遲延)本發(fā)明的膜,在上述特性的基礎(chǔ)上,其厚度方向的遲延值(Rth)使用的激光波長(zhǎng)為60nm以下,更優(yōu)選為50nm以下,進(jìn)一步優(yōu)選為45nm以下。厚度方向的遲延值超過60mn,則伺服信號(hào)的噪音變大,因而不優(yōu)選。厚度方向的遲延值(Rth)的測(cè)定方法,例如,是將整幅作為樣品,將膜的寬度方向5等分。從5等分的樣品取出測(cè)定樣品小片,用自動(dòng)雙折射率測(cè)定裝置(商品名KOBRA-WR,王子計(jì)測(cè)機(jī)器(株)制造)計(jì)測(cè)。以遲相軸或進(jìn)相軸使該膜樣品旋轉(zhuǎn),改變?nèi)肷浣嵌?,測(cè)定遲延,從該數(shù)據(jù)計(jì)算折射率nx、ny以及nz。進(jìn)一步,從這些數(shù)值,計(jì)算Rth=((nx+ny)/2-nz)Xd(單位nm)。在此,以d表示測(cè)定膜的厚度。(膜的表面粗糙度)本發(fā)明的膜,表面性優(yōu)異。用膜的Ra(中心線平均表面粗糙度)表示的表面性,優(yōu)選為5nm以下,更優(yōu)選為3nm以下。其表面性良好,因此,適宜作為全息圖記錄介質(zhì)用間隙層使用。膜的中心線平均表面粗糙度(Ra)的測(cè)定方法,例如,是用JIS-B0601定義的值,其使用(株)小坂研究所的接觸式表面粗糙度計(jì)(廿一7-—夕"一,型號(hào)SE-30C)進(jìn)行測(cè)定。Ra測(cè)定條件如下所示。觸針前端半徑2"m,測(cè)定壓力30mg,切斷0.08mm,測(cè)定長(zhǎng)度l.Omm。其數(shù)據(jù)為對(duì)同一試樣反復(fù)測(cè)定5次,對(duì)其測(cè)定值(lim單位至小數(shù)點(diǎn)后四位的值),除去其中一個(gè)最大的值,將剩余的4個(gè)數(shù)據(jù)的平均值的小數(shù)點(diǎn)以下的第5位進(jìn)行四舍五入,小數(shù)點(diǎn)以下第4位為用nm單位表示。(膜的熱尺寸變化率)本發(fā)明的膜,具有高的熱穩(wěn)定性。作為該高的穩(wěn)定性的指標(biāo),本發(fā)明的膜,其在16(TC下的熱尺寸變化率在通過讀取顯微鏡進(jìn)行測(cè)定時(shí),優(yōu)選為0.08°/。以下,更優(yōu)選為0.05%以下。如果熱尺寸變化率超過0.08%,則層積過濾器層或?qū)臃e記錄層時(shí)產(chǎn)生的熱,會(huì)使間隙層變形,在過濾器層上產(chǎn)生皸裂等缺陷,因而不優(yōu)選。膜的熱尺寸變化率的測(cè)定方法,例如,是從膜的寬度方向上3個(gè)位置采取樣品。采取的測(cè)定樣品的大小為寬度10mm,測(cè)定的方向?yàn)?50mm。而且測(cè)定的方向?yàn)槟さ倪\(yùn)行方向和與運(yùn)行方向呈直角方向的2個(gè)方向。測(cè)定的方向上的標(biāo)記點(diǎn)間隔為100mm,在規(guī)定溫度(160°C)的恒溫槽中無負(fù)荷的狀態(tài)下處理2小時(shí)后,取出至室溫冷卻后進(jìn)行測(cè)定。尺寸的變化,為在恒溫恒濕的條件下,23°C、65%RH的條件下,使用讀取顯微鏡進(jìn)行實(shí)施。尺寸的變化率可從熱處理前后的尺寸通過下式求出。熱尺寸變化率={(處理前的尺寸)-(處理后的尺寸)}/(處理前的尺寸)X100%<全息圖記錄介質(zhì)>本發(fā)明的全息圖記錄介質(zhì),是由作為支撐基板的第二基板、反射層、間隙層、過濾器層、保護(hù)層、記錄層以及第一基板構(gòu)成的,根據(jù)需要還具有其它層的光記錄介質(zhì)。進(jìn)一步地,該光記錄介質(zhì),使用兩光的光軸為同軸的方式照射上述信息光及參照光的同軸干涉方式(直線方式)。(第二基板)第二基板,位于最外層,形成與向全息圖記錄介質(zhì)記錄時(shí)的信息光及參照光的照射位置有關(guān)的信息。另外,是保持全息圖記錄介質(zhì)的機(jī)械強(qiáng)度的支撐基板。第二基板,其形狀、構(gòu)成結(jié)構(gòu)、大小等,可根據(jù)需要進(jìn)行適宜的選擇。例如,可舉出盤形狀、卡形狀等。另外,優(yōu)選與第一基板的外形狀相同的形狀。作為第二基板的構(gòu)成材料,通??墒褂貌AА⑻沾?、塑料等,從加工性、成本方面考慮,可特別適宜地使用塑料。作為上述塑料,例如,可舉出,聚碳酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、環(huán)氧樹脂、聚亞苯醚樹脂、聚亞苯基樹脂、聚丙炔樹脂、聚苯乙烯樹脂、丙烯腈-苯乙烯共聚物、聚乳酸樹脂、聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、氟樹脂、ABS樹脂、氨基甲酸乙酯樹脂等。其中,從成形性、耐熱性、光學(xué)特性、成本方面考慮,特別優(yōu)選使用聚碳酸酯樹脂。作為第二基板中的信息光或參照光的照射位置相關(guān)的信息,沒有特別限制,可根據(jù)需要進(jìn)行適宜地選擇。例如,可以舉出跟蹤信息、聚焦信息、地址信息、盤條件信息等。上述跟蹤信息,例如,可以舉出蛇行狀(wobble)凹坑、蛇行狀溝、跟蹤凹坑(trackingpit)等。上述聚焦(focus)信息,例如,可以舉出形成在第二基板表面上的反射膜、聚焦用鏡、聚焦用凹坑等。上述地址信息,例如,可以舉出上述蛇行狀凹坑上的凹凸、編碼過的凹坑列、蛇行狀變調(diào)信號(hào)等。也可復(fù)合形成上述各信息。例如,以規(guī)定的角度間隔設(shè)置作為在半徑方向上綿延的多個(gè)位置決定的區(qū)域的地址伺服區(qū)域,也可將緊挨著的地址伺服區(qū)域間的扇形區(qū)間作為數(shù)據(jù)區(qū)域。該地址伺服區(qū)域中,通過樣品伺服方式進(jìn)行聚焦伺服以及跟蹤伺服的信息與地址信息,也可通過預(yù)先壓紋凹坑(伺服凹坑)等記錄伺服凹坑圖案而形成。第二基板的厚度優(yōu)選為0.15mm,更優(yōu)選為0.32mm。上述第二基板的厚度不足O.lmm時(shí),全息圖記錄介質(zhì)的機(jī)械強(qiáng)度保持困難,當(dāng)基板厚度超過5mm時(shí),全息圖記錄介質(zhì)的重量變大,給主軸電動(dòng)機(jī)施加過剩的負(fù)荷,因而不優(yōu)選。(反射層)上述第二基板中的伺服凹坑圖案的表面上也可形成作為反射層的反射膜。作為上述反射膜的材料,優(yōu)選使用相對(duì)于信息光或參照光具有高的反射率的材料。例如,優(yōu)選A1、Al合金、Ag、Ag合金、Au、Cu合金等。作為上述反射膜的形成方法,沒有特別限定,可適宜地使用真空蒸鍍法、濺射法等的PVD法或CVD法等各種膜形成方法。但是,作為全息圖記錄介質(zhì),為了使不產(chǎn)生在高溫高濕的耐環(huán)境試驗(yàn)中生成的剝離,優(yōu)選特別是與基板的密接性大的條件下制作。因此,優(yōu)選使用濺射法。反射層的膜厚范圍優(yōu)選為10500nm,為了抑制反射率的降低而引起的信號(hào)特性的降低,更優(yōu)選30200nm,特別優(yōu)選40100nm。(間隙層)間隙層,其是為了平坦化上述第二基板的表面而形成。作為用于間隙層的材料,優(yōu)選耐熱性優(yōu)異的材料,該材料,即使在間隙層上層積過濾器層其層積時(shí)的熱也不引起間隙層變形,另外,在過濾器層上層積固化記錄材料時(shí)的熱或收縮應(yīng)力下間隙層也不發(fā)生變形而在過濾器層上發(fā)生皸裂等的缺陷。作為間隙層使用本發(fā)明的膜。(過濾器層)過濾器層,即使變化入射角選擇反射波長(zhǎng)中也不產(chǎn)生不吻合,能夠防止信息光與參照光引起的全息圖記錄介質(zhì)的反射膜的亂反射,能夠防止噪音的發(fā)生。通過在全息圖記錄介質(zhì)上層積上述過濾器層,能夠得到高解像度、衍射率優(yōu)異的全息圖記錄。過濾器層的功能,優(yōu)選透過第一波長(zhǎng)的光,反射與該第一波長(zhǎng)的光不同的第二波長(zhǎng)的光,優(yōu)選上述著第一波長(zhǎng)的光為350600nm并且第二波長(zhǎng)的光為600900nm。作為上述過濾器層,沒有特別限制,例如,可通過介電體蒸鍍層、單層或2層以上的膽甾型層,進(jìn)一步根據(jù)需要,通過其他的層的層積體形成。另外,也可具有色彩含有層。(保護(hù)層)保護(hù)層在過濾器層與記錄層之間形成。保護(hù)層,用來防止全息圖記錄介質(zhì)的記錄性能的降低。信息光與參照光的集光位置存在在記錄層內(nèi),但是在沒有保護(hù)層的情形,通過過剩曝光產(chǎn)生過剩的光反應(yīng),會(huì)降低記錄性能。即,通過使用保護(hù)層,能夠抑制集光位置附近的過剩的光反應(yīng),能夠維持記錄性能。作為保護(hù)層中使用的材料,沒有特別的限制,可適宜地使用與間隙層同樣的透明的塑料膜。例如,優(yōu)選由聚碳酸酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯、非晶性聚鏈烯烴樹脂形成的塑料膜。從尋求耐熱性、光學(xué)各向同性方面考慮,更優(yōu)選聚碳酸酯樹脂、非晶性聚鏈烯烴樹脂。作為保護(hù)層的厚度,沒有特別的限制。優(yōu)選為1200um,更優(yōu)選為3100iim。不足lym時(shí),全息圖記錄時(shí)的全息圖記錄層中的單體消耗過大有時(shí)會(huì)導(dǎo)致靈敏度降低或多重度降低,因而不優(yōu)選,超過200um,則焦點(diǎn)位置離記錄層變遠(yuǎn),導(dǎo)致記錄性能的降低,因而不優(yōu)選。(記錄層)記錄層,是作為二維圖像被賦予了信息的信息光和能夠干涉信息光的參照光在記錄介質(zhì)的內(nèi)部進(jìn)行重合,利用全息圖進(jìn)行記錄信息的層。通過照射規(guī)定的波長(zhǎng)的電磁波(Y射線、x射線、紫外線、可見光線、紅外線、電波等),使用根據(jù)其強(qiáng)度而吸光系數(shù)或折射率等的光學(xué)特性發(fā)生變化的材料。作為構(gòu)成記錄層的材料,通常,適宜地使用在自由基聚合性化合物及光自由基聚合引發(fā)劑以外還具有三維交聯(lián)聚合物基體的結(jié)構(gòu)的材料。作為形成基體的三維交聯(lián)聚合物的化合物,可用環(huán)氧化合物。作為環(huán)氧化合物,具體的可以舉出,1,4一丁二醇二縮水甘油醚、1,6—己二醇二縮水甘油醚、二甘醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、聚丙二醇二縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、二環(huán)氧辛烷、間苯二酚二縮水甘油醚、雙酚A的二縮水甘油醚、雙酚F的二縮水甘油醚、3,4—環(huán)氧環(huán)己烯基甲基一3',4'一環(huán)氧環(huán)己烯羧酸酯、以及環(huán)氧丙氧基丙基末端的聚二甲基硅氧烷等。作為自由基聚合性化合物,可以舉出具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物。例如,可以舉出不飽和羧酸、不飽和羧酸酯、不飽和羧酸酰胺、乙烯基化合物等。更具體的可以舉出丙烯酸、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸2—乙基己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸環(huán)己酯、丙烯酸聯(lián)環(huán)戊烯基酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸異冰片基酯、丙烯酸金剛烷基酯、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸苯酯、苯氧基乙基丙烯酸酯、氯苯基丙烯酸酯、甲基丙烯酸金剛烷基酯、異冰片基甲基丙烯酸酯、N—甲基丙烯酰胺、N,N—二甲基丙烯酰胺、N,N—亞甲基雙丙烯酰胺、丙烯?;鶈徇⒁蚁┗拎?、苯乙烯、溴苯乙烯、氯苯乙烯、三溴苯基丙烯酸酯、三氯苯基丙烯酸酯、三溴苯基甲基丙烯酸酯、三氯苯基甲基丙烯酸酯、乙烯基苯甲酸酯、3,5—二氯乙烯基苯甲酸酯、乙烯基萘、乙烯基萘甲酸酯、萘基甲基丙烯酸酯、萘基丙烯酸酯、N—苯基甲基丙烯酰胺、N—苯基丙烯酰胺、N—乙烯基吡咯烷酮、N—乙烯基咔唑、l一乙烯基咪唑、聯(lián)環(huán)戊烯基丙烯酸酯、1,6—己二醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、丙二醇三甲基丙烯酸酯、N—乙烯基咔唑及N—乙烯基吡咯垸酮。作為光自由基聚合引發(fā)劑,例如,可以舉出咪唑衍生物、有機(jī)疊氮化合物、二茂鈦類、有機(jī)過氧化物以及噻噸酮衍生物等。具體的可以舉出芐基、苯偶姻、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻丁醚、苯偶姻異丁醚、l一羥基環(huán)己基苯基酮、芐基甲基縮酮、芐基乙基縮酮、芐基甲氧基乙基醚、2,2'一二乙基苯乙酮、2,2'—二丙基苯乙酮、2_羥基一2—甲基苯丙酮、對(duì)叔丁基三氯苯乙酮、噻噸酮、2—氯噻噸酮、3,3',4,4'—四(叔丁基過氧羰基)二苯甲酮、2,4,6—三(三氯甲基)1,3,5—三嗪、2—(對(duì)甲氧基苯基)_4,6—雙(三氯甲基)1,3,5—三嗪、2_[(對(duì)一甲氧基苯基)乙烯]—4,6_雙(三氯甲基)1,3,5_三嗪、f"、義《、〉YA于《少S力A久'社(汽巴精化)制造的4A力工7149、184、369、651、784、819、907、1700、1800、1850等各型號(hào)的化合物、二叔丁基過氧化物、二枯烯基過氧化物、叔丁基枯烯基過氧化物、叔丁基過氧化乙酸酯、叔丁基過氧化丁酸酯、叔丁基過氧化苯甲酸酯、乙?;^氧化物、異丁?;^氧化物、癸?;^氧化物、月桂?;^氧化物、苯甲?;^氧化物、叔丁基氫過氧化物、枯烯氫過氧化物、甲基乙基酮過氧化物、以及環(huán)己酮過氧化物等??筛鶕?jù)需要添加花青、部花青、咕噸、香豆素、曙紅等增敏色素;硅烷偶合劑以及增塑劑等。在保護(hù)層上涂布含上述的三維交聯(lián)聚合物、自由基聚合性單體、光聚合引發(fā)劑的記錄層溶液時(shí),可以采用澆鑄法或旋轉(zhuǎn)涂布法。也可間隔樹脂制造的隔板配置含過濾器層的第二基板與第一基板,在其間隙中注入記錄層材料溶液?;w聚合物的三維交聯(lián),使用脂肪族伯胺,即使在室溫也可以進(jìn)行,但根據(jù)固化劑反應(yīng)性也可加熱至3(TC15(TC左右。優(yōu)選記錄層的膜厚在20um2mm的范圍內(nèi)。當(dāng)?shù)陀?0um時(shí),難以得到充分的記錄容量,當(dāng)大于2mm時(shí),記錄層的靈敏度及衍射效率有可能降低。更優(yōu)選記錄層的膜厚為50umlmm。當(dāng)記錄層溶解、侵蝕第一基板時(shí),也可采用濺射等方法在第一基板與記錄層之間形成有機(jī)或無機(jī)系的保護(hù)膜。上述保護(hù)膜,沒有特別限制,例如,也可使用硅膜、硫化鋅一硅膜等。此時(shí),保護(hù)層的厚度優(yōu)選為10nm500nm。(第一基板)第一基板,層積在記錄層上,優(yōu)選是透光性基板。對(duì)于其形狀、結(jié)構(gòu)、大小等,沒有特別的限制,可根據(jù)需要進(jìn)行適宜地選擇,可使用與第二基板同樣的形狀、材料。第一基板的厚度,沒有特別的限制,優(yōu)選為51200um,更優(yōu)選為100700um。上述支撐體厚度為不足5ym,則保護(hù)記錄層的功能降低,若超過1200um,則從第一基板表面到記錄層、伺服凹坑形成的層的距離變遠(yuǎn),記錄再生的光的焦點(diǎn)距離過長(zhǎng),因而不優(yōu)選。<全息圖的記錄再生方式>作為全息圖的記錄方法,沒有特別限制,可根據(jù)目的進(jìn)行適宜選擇。例如,作為同軸光束向上述全息圖記錄介質(zhì)照射信息光及參照光,通過使信息光與參照光的千涉產(chǎn)生的干涉圖案,在記錄層中記錄信息,即,所謂的直線方式的全息圖記錄方法。作為上述再生方法,沒有特別限定,可根據(jù)目的進(jìn)行適宜選擇,例如,通過上述光記錄方法,在記錄層中形成的干涉圖像照射與參照光相同的光,可再生與該干涉圖像對(duì)應(yīng)的記錄信息。作為上述光記錄方法及再生方法,可通過作為二維圖像被賦予了信息的信息光和與該信息光的強(qiáng)度幾乎一定的參照光在記錄層的內(nèi)部進(jìn)行重合,利用他們形成的干涉圖案在記錄層內(nèi)部產(chǎn)生光學(xué)特性分布,由此,記錄信息。另一方面,再生寫入的信息時(shí),以與記錄時(shí)同樣的配置對(duì)記錄層僅照射參照光,得到具有對(duì)應(yīng)記錄層內(nèi)部形成的光學(xué)特性分布的強(qiáng)度分布的再生光。下面,給出具體例子,更詳細(xì)地說明本發(fā)明。另外,為不使記錄層感光,在本實(shí)施例中的一系列作業(yè),在將比波長(zhǎng)600nm短的光被遮光的室內(nèi)進(jìn)行。實(shí)施例下面舉出實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)地說明,但本發(fā)明,只要在不偏離其宗旨的范圍內(nèi),并不限于此。在實(shí)施例及比較例中,"份"表示重量份。評(píng)價(jià)按下述方法進(jìn)行。(1)玻璃化轉(zhuǎn)變溫度使用聚碳酸酯樹脂粉末,采用TA^>^^A乂>卜社制造的熱分析系統(tǒng)DSC—2910,按照J(rèn)ISK7121,在氮?dú)猸h(huán)境(氮?dú)饬髁?0ml/min)、升溫速度為2(TC/min的條件下進(jìn)行測(cè)定。(2)比粘度在二氯甲烷100ml中溶解聚碳酸酯樹脂粉末0.7g,測(cè)定該溶液在2(TC的比粘度(nsp)。(3)膜的厚度不勻膜整幅的厚度不勻,使用連續(xù)厚度計(jì)(7<A厶、〉'7夕木^于^夕一,型號(hào)KG601A,7>U7(株)制造)進(jìn)行測(cè)定。(4)膜的全光線透過率及霧度值在膜的寬度方向上的3個(gè)位置取樣。使用日本電色工業(yè)(株)制造的色差濁度測(cè)定機(jī)COH-300A測(cè)定樣品的全光線透過率。對(duì)各樣品測(cè)定5點(diǎn),將寬度方向的3個(gè)樣品的共15個(gè)點(diǎn)的平均值作為全光線透過率。另外,按照J(rèn)ISK7105實(shí)施該測(cè)定。(5)膜表面的微小突起狀缺陷點(diǎn)在膜的寬度方向上取3個(gè)樣,在該樣品的兩表面上真空蒸鍍鋁。將其用微分干涉顯微鏡或激光顯微鏡進(jìn)行觀察,計(jì)數(shù)大小為直徑為約13um的微小突起的數(shù)目。微小突起的發(fā)生頻率為用每一平方毫米發(fā)生的數(shù)目來表示。(6)膜的中心線平均表面粗糙度(Ra)的測(cè)定中心線平均表面粗糙度(Ra)的測(cè)定方法,是用JIS-B0601定義的值,其使用(株)小坂研究所制造的接觸式表面粗糙度計(jì)(卄一7-—夕'一,型號(hào)SE-30C)測(cè)定。Ra測(cè)定條件如下所示。觸針前端半徑2"m,測(cè)定壓力30mg,切斷0.08mrn,測(cè)定長(zhǎng)度l.Omm。數(shù)據(jù)為對(duì)同一試樣反復(fù)測(cè)定5次,對(duì)其測(cè)定值(um單位至小數(shù)點(diǎn)后四位的值),除去其中一個(gè)最大的值,將剩余的4個(gè)數(shù)據(jù)的平均值的小數(shù)點(diǎn)以下的第5位進(jìn)行四舍五入,小數(shù)點(diǎn)以下第4位為用nm單位表示。(7)膜的熱尺寸變化率從膜的寬度方向上的3個(gè)位置采取樣品。測(cè)定樣品的大小,為寬度10mm,測(cè)定的方向?yàn)?50mm。而且測(cè)定的方向?yàn)槟さ倪\(yùn)行方向和與運(yùn)行方向呈直角方向的2個(gè)方向。測(cè)定的方向上標(biāo)記點(diǎn)間隔為100mm,在規(guī)定溫度(160°C)的恒溫槽中無負(fù)荷的狀態(tài)下處理2小時(shí)后,取出至室溫下冷卻后進(jìn)行測(cè)定。尺寸的變化,在恒溫恒濕的條件下,23°C、65%RH的條件下,使用讀取顯微鏡進(jìn)行實(shí)施。尺寸的變化率可從熱處理前后的尺寸通過下式求出。熱尺寸變化率={(處理前的尺寸)-(處理后的尺寸)}/(處理前的尺寸)X100%(8)面內(nèi)遲延值(Re)的測(cè)定對(duì)寬度方向樣品整幅通過遲延連續(xù)測(cè)定裝置(商品名KOBRA-WFD,王子計(jì)測(cè)機(jī)器(株)制造),計(jì)測(cè)10mm間隔的遲延值。測(cè)定波長(zhǎng)為589nm。(9)厚度方向的遲延值(Rth)的測(cè)定與上述的(8)的測(cè)定同樣地,整幅取樣,將膜的寬度方向5等分。從5等分的樣品取出測(cè)定樣品小片,用自動(dòng)雙折射率測(cè)定裝置(商品名KOBRA-WR,王子計(jì)測(cè)機(jī)器(株)制造)計(jì)測(cè)。以遲相軸或進(jìn)相軸使該膜樣品旋轉(zhuǎn),改變?nèi)肷浣嵌?,測(cè)定遲延,從該數(shù)據(jù)計(jì)算折射率nx、ny以及nz。進(jìn)一步從這些數(shù)值,計(jì)算Rtl^((nx+ny)/2-nz)Xd(單位nm)。在此,以d表示測(cè)定膜的厚度。(10)層積過濾器層時(shí)的間隙層的皸裂性評(píng)價(jià)作為第二基板,使用聚碳酸酯樹脂(^y,Y卜AD-5503,帝人化成(株)制造),在12(TC下干燥5小時(shí)后,使用擠出成型機(jī)(SD-40E,住友重機(jī)械工業(yè)制造),成型出直徑120mm、厚度l.lmm的盤基板。在盤基板上作為反射膜通過濺射Ag合金制膜。然后,通過旋轉(zhuǎn)涂覆均勻地涂布粘接劑后,貼合厚度100um的聚碳酸酯膜。在其上面通過真空蒸鍍層積過濾器層(分色鏡)。得到的含有過濾器層的第二基板,通過光學(xué)顯微鏡觀察過濾器層表面。作為評(píng)價(jià)基準(zhǔn),通過以下基準(zhǔn)進(jìn)行評(píng)價(jià)。〇最大長(zhǎng)度20um以上的皸裂為0個(gè)/mm2最大長(zhǎng)度20Pm以上的皸裂為1個(gè)/mm2以上5個(gè)/mm2以下X:最大長(zhǎng)度20Pm以上的皸裂為6個(gè)/mm2以上(11)層積記錄層時(shí)的間隙層的皸裂性評(píng)價(jià)作為記錄層用的三維交聯(lián)聚合物,使用1,6-己二醇二縮水甘油醚。另外,作為光聚合性單體使用聚乙二醇二丙烯酸酯。該單體在室溫下為液體。在聚乙二醇二丙烯酸酯IOO重量份中添加作為光聚合引發(fā)劑的O力-7一784(f""、■^《)x'J于<■少S力A《社制造)3重量份進(jìn)行混合。相對(duì)于全息圖記錄層溶液的總量,基體材料的比例為67重量%,光聚合性單體的比例為33重量%,在室溫下混合,制備全息圖記錄層。另外,作為第一基板,使用聚碳酸酯樹脂(">,<卜AD-5503,帝人化成(株)制造),在12(TC下干燥5小時(shí)后,使用擠出成型機(jī)(SD-40E,住友重機(jī)械工業(yè)(株)制造),成型出直徑120mm、厚度0.6mm的盤基板。然后,通過旋轉(zhuǎn)涂覆在過濾器層上涂布制備的全息圖記錄層溶液,在其上面貼合第一基板。將得到的全息圖記錄介質(zhì)進(jìn)行遮光,在8(TC下保持5小時(shí),由此,制成具有厚度0.6mm的記錄層的全息圖記錄介質(zhì)。通過微分干涉光學(xué)顯微鏡觀察過濾器層表面。作為評(píng)價(jià)基準(zhǔn),通過以下基準(zhǔn)進(jìn)行評(píng)價(jià)。〇最大長(zhǎng)度20um以上的皸裂為0個(gè)/mm2最大長(zhǎng)度20Um以上的皸裂為1個(gè)/mm2以上5個(gè)/mm2以下X:最大長(zhǎng)度20um以上的皸裂為6個(gè)/mn^以上(12)全息圖記錄再生評(píng)價(jià)使用PULSTEC公司制造的直線式全息圖記錄再生試驗(yàn)機(jī)SHOT-IOOO,在上述全息圖記錄介質(zhì)中,寫入記錄全息圖的焦點(diǎn)位置中的記錄點(diǎn)的大小直徑為200um的一系列的多重全息圖,通過在ISOM'04、Th-J-06、pp、184-185中記載的方法,對(duì)多重?cái)?shù)進(jìn)行評(píng)價(jià)。在此,將BER>1(T3的記錄全息圖數(shù)作為多重?cái)?shù)。實(shí)施例1<聚碳酸酯樹脂的制造>在帶有溫度計(jì)、攪拌機(jī)及回流冷凝器的反應(yīng)器中,加入48%氫氧化鈉水溶液224.3份以及離子交換水1077.4份,然后在其中溶解9,9-雙(4-羥基-3-甲基苯基)苑84.85份、2,2'-雙(4-羥基苯基)丙烷136.5份及亞硫酸氫鹽0.15份,然后,加入二氯甲烷826.8份,在攪拌下,在1525X:下花60分鐘吹入光氣100份。吹入光氣結(jié)束后,加入48%氫氧化鈉水溶液32.0份及對(duì)叔丁基苯酚4.49份,再打開攪拌,乳化后,加入三乙基胺0.19份,進(jìn)一步在2833。C下攪拌l小時(shí),結(jié)束反應(yīng)。反應(yīng)結(jié)束后,在二氯甲烷中稀釋生成物,水洗后,鹽酸酸性水洗,進(jìn)一步反復(fù)清洗至水相的導(dǎo)電率與離子交換水的導(dǎo)電率幾乎相同為止,得到聚碳酸酯樹脂的二氯甲垸溶液。接下來,將該溶液通過開孔0.3um的過濾器,進(jìn)一步,滴下至在軸承受部上具有取出口的帶隔離室的捏合機(jī)中的溫水中,在蒸餾二氯甲烷的同時(shí)將聚碳酸酯樹脂制成片,接下來連續(xù)將該含液片粉碎、干燥,得到粉末。使用該粉末,測(cè)定其比粘度、玻璃化轉(zhuǎn)變溫度,其結(jié)果示于表1。在12(TC下熱風(fēng)干燥該樹脂粉末16小時(shí),接下來,通過減濕空氣冷卻至30°C。將其溶解在二氯甲烷中制成19重量%的溶液。將該溶液通過平均孔徑3微米的過濾器除去異物。接下來,將該溶液導(dǎo)入1500mm寬度的衣架模(coathangerdie,-一卜八>力'一夕、)中。<全息圖記錄介質(zhì)的制造>接下來,將其流到鏡面研磨過的鋼帶支撐體上后,通過加熱干燥蒸飛溶劑,從支撐體上剝離。接下來,向輥懸垂型的干燥機(jī)通過膜,用低搬運(yùn)張力巻取。測(cè)定得到的聚碳酸酯膜的寬度、厚度、厚度不勻、16(TC下的熱尺寸變化率、全光線透過率、表面粗糙度、表面的微小突起的數(shù)目、面內(nèi)遲延值、厚度方向的遲延值,將其記載于表l。接下來,作為第二基板用樹脂使用聚碳酸酯樹脂(商品名"^,^卜AD-5503,帝人化成(株)制造),通過光盤用注射成型機(jī)(SD-40E,住友重機(jī)械工業(yè)(株)制造),成型為外徑120mrn4)、內(nèi)徑15mm4>、厚度l.lmm的光盤基板。另外,注射成型時(shí),在單面表面上形成記錄數(shù)據(jù)信息的凹坑,為此,使用形成跟蹤凹坑0.74lim、溝槽深度為150nm、溝槽幅度為300nm的圖案的蓋印機(jī)。將該光盤基板供給至Blu-rayDisc貼合裝置(乂匕'々^F-1,芝浦乂力卜口二夕7(株)制造)。乂h、々F-l中,在該磁盤基板以外,反射膜形成用(株)科研制Ag合金的磁控管濺射器用靶,作為間隙層用膜,使用上述的聚碳酸酯膜,作為該膜與光盤基板的粘結(jié)用樹脂,供給大日本油墨化學(xué)工業(yè)(株)制造的EX-8410。乂匕'々^F-l中,通過濺射器在光盤基板上形成Ag合金的反射膜后,旋轉(zhuǎn)涂布了粘結(jié)用樹脂。其中,從另外途徑供給的間隙層用層積膜輥僅取出聚碳酸酯膜后,制成光盤狀,將該制成的間隙層用膜貼合在上述基板上,照射紫外線,形成間隙層。然后,作為過濾器層,通過真空蒸鍍法,層積分色鏡層。通過光學(xué)顯微鏡觀察得到的積層體的過濾器層表面,根據(jù)評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)將皸裂的有無記載于表1。接下來,作為第一基板用樹脂,使用聚碳酸酯樹脂(商品名"^,<卜AD-5503,帝人化成(株)制造),通過光盤用注射成型機(jī)(SD-40E,住友重機(jī)械工業(yè)(株)制造),形成外徑120mm4)、內(nèi)徑15mm4)、厚度0.6mm的光盤基板。另夕卜,注射成型時(shí),使用沒有聚焦凹坑圖案的鏡面蓋印機(jī)。然后,將制備的全息圖記錄層溶液,通過旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)涂布在保護(hù)層上,在其上面貼合第一基板。對(duì)其進(jìn)行遮光,通過在8(TC下保持5小時(shí),制成具有厚度為0.6mm的記錄層的全息圖記錄介質(zhì)。通過微分干涉光學(xué)顯微鏡,觀察得到的全息圖記錄介質(zhì)的過濾器層表面,按照評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)將皸裂的有無記載于表l中。進(jìn)一步地,全息圖記錄介質(zhì)的記錄再生評(píng)價(jià)中,使用PULSTEC工業(yè)制造的全息圖評(píng)價(jià)裝置(型號(hào):SHOT-1000),多重記錄13X13=169的全息圖。BER〉l()-3的記錄全息圖數(shù)為多重?cái)?shù),示于表1中。實(shí)施例2除了采用9,9-雙(4-羥基-3-甲基苯基)芴141.4份、2,2'-雙(4-羥基苯基)丙烷85.3份以外,進(jìn)行與實(shí)施例l相同的操作,將結(jié)果示于表l。實(shí)施例3除了采用9,9-雙(4-羥基-3-甲基苯基)芴197.9份、2,2'-雙(4-羥基苯基)丙烷51.1份以外,進(jìn)行與實(shí)施例l相同的操作,將結(jié)果示于表l。比較例1除了采用2,2'-雙(4-羥基苯基)丙烷170.5份以外,進(jìn)行與實(shí)施例1相同的操作,將結(jié)果示于表l。比較例2除了采用9,9-雙(4-羥基-3-甲基苯基)芴282.8份以外,進(jìn)行與實(shí)施例l相同的操作,得到粉末。其中,聚合反應(yīng)不好,比粘度為0.21的低值。使用該粉末進(jìn)行與實(shí)施例l相同的操作,其膜脆化,制膜時(shí)多發(fā)生破裂,因此,不能得到間隙層用膜。表l<table>tableseeoriginaldocumentpage26</column></row><table>Bisphenol-CF:9,9'-雙(4-羥基-3-甲基苯基)荷※2Bisphenol-A:2,2'-雙(4-羥基苯基)丙烷工業(yè)實(shí)用性本發(fā)明中,由聚碳酸酯共聚物形成的光學(xué)膜,顯示出高的耐熱性,因此他所起的工業(yè)效果特別優(yōu)異。因此,使用該光學(xué)膜作為間隙層的全息圖記錄介質(zhì),能夠抑制在層積過濾器層或記錄層時(shí)的熱引起的間隙層的變形,不產(chǎn)生伴隨間隙層的變形的過濾器層的皸裂等的缺陷。因而可知,其可有效用作全息圖記錄介質(zhì)。權(quán)利要求1.一種全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用膜,其由聚碳酸酯共聚物構(gòu)成,該聚碳酸酯共聚物由結(jié)構(gòu)單元(A)與結(jié)構(gòu)單元(B)構(gòu)成,在全部結(jié)構(gòu)單元中,結(jié)構(gòu)單元(A)的比例為20~90摩爾%,其中,結(jié)構(gòu)單元(A)用下式[1]表示,式中,R1~R4分別獨(dú)立,表示氫原子、含有或不含有芳香族基的碳原子數(shù)1~9的烴基或鹵原子,結(jié)構(gòu)單元(B)用下式[2]表示,2.按照權(quán)利要求l所述的膜,其中,聚碳酸酯共聚物的全部結(jié)構(gòu)單元中的結(jié)構(gòu)單元(A)的比例為3080摩爾%。3.按照權(quán)利要求1或2所述的膜,其中,聚碳酸酯共聚物的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為180。C以上。4.按照權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的膜,其中,厚度為20200um,并且厚度不勻值為±5%以下。5.按照權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的膜,其中,在16(TC下加熱處理1小時(shí)后的熱尺寸變化率為0.08%以下,并且表面的微小突起數(shù)為20個(gè)/mm2以下。6.按照權(quán)利要求15中任一項(xiàng)所述的膜,其中,面內(nèi)遲延為20nm以下,并且厚度方向的遲延為60nm以下。7.按照權(quán)利要求1~6中任一項(xiàng)所述的膜,其中,中心線平均表面粗糙度為5nm以下。8.—種全息圖記錄介質(zhì),該全息圖記錄介質(zhì)將作為二維圖像被賦予了信息的信息光和能夠干涉信息光的參照光進(jìn)行重合,并利用全息圖來記錄信息,該全息圖記錄介質(zhì)由作為支撐體的第二基板、反射層、間隙層、保護(hù)層、過濾器層、記錄層以及透光性的第一基板構(gòu)成,其特征在于,該間隙層為權(quán)利要求17所述的膜。9.按照權(quán)利要求8所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,使信息光的光軸與參照光的光軸同軸來照射信息光及參照光。10.按照權(quán)利要求8或9所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,第二基板具有為了檢出伺服信息而形成的伺服凹坑圖案。11.按照權(quán)利要求810中任一項(xiàng)所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,第二基板在伺服凹坑圖案上形成反射膜。12.按照權(quán)利要求811中任一項(xiàng)所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,反射膜為金屬反射膜。13.按照權(quán)利要求812中任一項(xiàng)所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,過濾器層與反射層之間設(shè)置間隙層,并使第二基板表面平坦化。14.按照權(quán)利要求813中任一項(xiàng)所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,間隙層是通過貼合光學(xué)用膜而形成。15.按照權(quán)利要求814中任一項(xiàng)所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,過濾器層是由分色鏡形成的層或膽甾型液晶形成的層,該過濾器層具有波長(zhǎng)選擇性能。16.按照權(quán)利要求815中任一項(xiàng)所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,過濾器層含有顏料以及染料中至少任意之一的著色材料。17.按照權(quán)利要求816中任一項(xiàng)所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,在過濾器層上形成保護(hù)層、記錄層、透光性第一基板。18.按照權(quán)利要求817中任一項(xiàng)所述的全息圖記錄介質(zhì),其中,第一基板以及第二基板是聚碳酸酯樹脂或玻璃。19.按照權(quán)利要求8~18中任一項(xiàng)所述的全息圖記錄介質(zhì),采用通過照射信息光和參照光并使其干涉而形成的干涉圖案在記錄層上記錄信息的方式,其中,采用下述方式,即照射與信息光及參照光不同波長(zhǎng)的伺服用光,通過該伺服用光的焦點(diǎn)距離檢測(cè)出記錄的干涉圖案的位置信息。全文摘要本發(fā)明的目的是提供一種由具有高耐熱性的聚碳酸酯共聚物構(gòu)成的全息圖記錄介質(zhì)用的膜。即,本發(fā)明提供一種全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用膜及具有該膜的全息圖記錄介質(zhì),該膜由聚碳酸酯共聚物構(gòu)成,該聚碳酸酯共聚物由結(jié)構(gòu)單元(A)與結(jié)構(gòu)單元(B)構(gòu)成,在全部結(jié)構(gòu)單元中,結(jié)構(gòu)單元(A)的比例為20~90摩爾%,其中,結(jié)構(gòu)單元(A)用上式[1]表示,(式中,R<sup>1</sup>~R<sup>4</sup>分別獨(dú)立,表示氫原子、含有或不含有芳香族基的碳原子數(shù)1~9的烴基或鹵原子),結(jié)構(gòu)單元(B)用上式[2]表示。文檔編號(hào)G03H1/02GK101452250SQ200810178699公開日2009年6月10日申請(qǐng)日期2008年12月2日優(yōu)先權(quán)日2007年12月3日發(fā)明者常守秀幸申請(qǐng)人:帝人化成株式會(huì)社
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