專利名稱：：全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用膜及全息圖記錄介質(zhì)的制作方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及雙折射低的表面平滑性良好的由聚碳酸酯樹脂形成的全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用膜以及全息圖記錄介質(zhì)。
背景技術：
：能夠進行三維信息記錄的全息圖記錄介質(zhì)，與光磁記錄介質(zhì)或相變化光記錄介質(zhì)等相比，是一種可實現(xiàn)大容量高速傳送的光記錄技術。全息圖的記錄再生方式如下所示，作為二維圖像而照射賦予信息的信息光與參照光并使其發(fā)生干涉，利用形成的干涉圖案使在記錄層內(nèi)部產(chǎn)生折射率等的光學特性分布，由此記錄信息。再生時，通過僅照射參照光，得到具有對應記錄的干涉圖案的光學特性分布的再生光。作為該全息圖記錄介質(zhì)的記錄層，已知，通常，在自由基聚合性化合物及光自由基聚合引發(fā)劑之外，還具有三維交聯(lián)聚合物基體(例如，專利文獻1)。三維交聯(lián)聚合物基體，具有抑制自由基聚合性化合物的過量移動，從而抑制記錄層中相當于亮部的位置及相當于暗部的位置的體積變化的功能。作為三維交聯(lián)聚合物基體材料，可以舉出環(huán)氧化合物、來自陽離子聚合性單體的反應固化物等(例如，專利文獻2)。另外，作為全息圖記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)，已經(jīng)進行了各種研究，提出了如圖l所示的全息圖記錄介質(zhì)(例如，專利文獻3、4、5)。在支撐體第二基板l表面上設置伺服凹坑圖案8，在該伺服凹坑圖案8表面上層積由金屬反射膜構(gòu)成的反射層2。進一步，在反射層2與過濾器層4之間，設置為了使第二基板1平坦化的間隙層3。即，在過濾器層4上，依次層積保護層5、記錄層6、透光性第一基板7，從而制成。作為構(gòu)成全息圖記錄介質(zhì)的間隙層3使用的基材，提出了從雙酚A得到的聚碳酸酯樹脂(下面標記為PC—A)形成的光學膜。作為現(xiàn)有技術的制造聚碳酸酯樹脂膜的方法，采用熔融制膜法或溶液制膜法。專利文獻6中，提出了一種制造光學記錄介質(zhì)的方法，其使用通過熔融澆鑄法(其實質(zhì)為溶液制膜法)制造的樹脂板作為透光層，作為該樹脂的一種，其使用聚碳酸酯；該板，使用控制了厚度不勻、雙折射以及殘留溶劑等的特性的板。另外，專利文獻7、8中，記載了使用聚碳酸酯通過溶液制膜法制造透光層用膜。其中，規(guī)定了膜的厚度、厚度不勻、熱尺寸變化率、全光線透過率、溶劑含有量、面內(nèi)遲延、厚度方向的遲延的最大值、表面粗糙度等。溶液制膜法的優(yōu)點在于，可得到作為光記錄層用膜的品質(zhì)優(yōu)良的膜。但是，在以二氯甲垸作為溶劑的溶液制膜法中，受到所能夠制造的聚碳酸酯膜的厚度的方面的制約。即，使用聚碳酸酯進行溶液制膜時，聚碳酸酯(特別是雙酚A—PC)，在溶劑的干燥過程中發(fā)生結(jié)晶化，難以得到透明的具有柔軟性的膜。從作為光盤基板使用的雙酚A—PC(粘均分子量15000)的二氯甲垸溶液制膜，難以制成50um以上的厚的透明膜。由此可見，溶液制膜法難以制造，本發(fā)明所要求的透光層用膜的厚度為完全覆蓋約10150um的范圍的膜。另一方面，使用熔融制膜法的優(yōu)點在于，將熔融的雙酚A—PC制成膜狀，進行快速冷卻，能夠防止從熔融狀態(tài)產(chǎn)生的結(jié)晶化，能夠制成不受厚度制約的高透明的膜。但是，在熔融制膜法中，由于難以將雙折射充分地降低，不能使厚度均勻不充分以及表面缺陷點多等的問題消失，其現(xiàn)狀是，不能得到滿足的特性。(專利文獻l)JP特開平11—161137號公報(專利文獻2)JP特開2005—107312號公報(專利文獻3)JP特開2004_265472號公報(專利文獻4)JP特開2007_093799號公報(專利文獻5)JP特開2007—079164號公報(專利文獻6)JP特開2002—074749號公報(專利文獻7)JP特開2001—243658號公報(專利文獻8)JP特開2001—243659號公報
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供--種作為全息圖記錄介質(zhì)的間隙層具有優(yōu)選的物理性質(zhì)及光學特性的膜。為了解決上述課題，本發(fā)明提供下述方案。1.一種全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用膜，其由熔融擠出聚碳酸酯樹脂而制成，其特征在于，(1)膜的厚度為10~150um;(2)厚度不勻為土2iim以下；(3)在14(TC下進行熱處理1小時后的熱尺寸變化率為0.08%以下；(4)全光線透過率為89%以上；(5)面內(nèi)遲延為115nm;(6)厚度方向的遲延為100nm以下；及(7)中心線平均表面粗糙度為兩表面均為15nm的范圍。2.按照上述l所述的膜，其中，聚碳酸酯樹脂由至少含有50mol。/。雙酚A的二羥基成分制得。3.按照上述1所述的膜，其中，聚碳酸酯樹脂的粘均分子量為13000~30000。4.按照上述l所述的膜，其中，(1)最大長度為10iim以上且高度為3um以上的表面缺陷點為10個/1112以下；(2)最大長度為20lim以上的塊狀內(nèi)部異物為5個/r^以下；及(3)最大長度為200nm以上的傷痕狀的表面缺陷點為1個/m2以下。5.—種全息圖記錄介質(zhì)，其中，在間隙層上具有上述14中任一項所述的膜。6.—種全息圖記錄介質(zhì)，具有作為二維圖像被賦予了信息的信息光和能夠干涉信息光的參照光進行重合，并利用全息圖將信息進行記錄的記錄層，該全息圖記錄介質(zhì)由作為支撐體的第二基板、反射層、間隙層、過濾器層、保護層、記錄層、透光性的第一基板構(gòu)成，其特征在于，間隙層為權(quán)利要求1所述的膜。7.按照上述6所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，使信息光的光軸與參照光的光軸同軸來照射信息光及參照光。8.按照上述6或7所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，第二基板具有為了檢出伺服信息而形成的伺服凹坑圖案。9.按照上述68中任一項所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，第二基板在伺服凹坑圖案上形成反射膜。10.按照上述69中任一項所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，反射層為金屬反射膜。11.按照上述610中任一項所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，過濾器層與反射層之間設置間隙層，并使第二基板表面平坦化。12.按照上述611中任一項所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，間隙層通過貼合光學用膜形成。13.按照上述612中任一項所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，過濾器層是由分色鏡形成的層或膽甾型液晶形成的層，具有波長選擇性能。14.按照上述613中任一項所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，過濾器層含有顏料或染料。15.按照上述614中任一項所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，在過濾器層上形成保護層、記錄層、透光性第一基板。16.按照上述615中任一項所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，第一基板及第二基板是聚碳酸酯樹脂或玻璃。17.按照上述616中任一項所述的全息圖記錄介質(zhì)，采用通過照射信息光和參照光并使其干涉而形成的干涉圖案在記錄層上記錄信息的方式，其中，采用下述方式，即照射與信息光及參照光不同波長的伺服用光，通過該伺服用光的焦點距離檢測出記錄的干涉圖案的位置信息。圖1是表示直線式使用的全息圖記錄介質(zhì)、其信息光及參照光的概要圖。其中，附圖標記說明如下1第二基板3間隙層5保護層2反射層4過濾器層6記錄層8伺服凹坑圖案7第一基板9伺服用光(紅色激光)具體實施例方式以下，詳細說明本發(fā)明。<聚碳酸酯樹脂>在本發(fā)明中，聚碳酸酯樹脂，通常是將二羥基成分和碳酸酯前驅(qū)體通過界面聚合法或熔融聚合法進行反應而得到的樹脂。作為二羥基成分的代表性例子，可以舉出2，2_雙(4一羥基苯基)丙垸(通常稱之為雙酚A)、2，2—雙[(4一羥基一3—甲基)苯基]丙垸、2，2—雙(4一羥基苯基)丁烷、2，2—雙(4一羥基苯基)一3—甲基丁垸、2，2—雙(4一羥基苯基)一3，3—二甲基丁烷、2，2—雙(4一羥基苯基)一4一甲基戊垸、1，1_雙(4一羥基苯基)環(huán)己烷、1，l一雙(4一羥基一3—甲基苯基)環(huán)己烷、1，1_雙(4一羥基苯基)一3，3，5—三甲基環(huán)己烷、9，9一雙[(4一羥基一3—甲基)苯基]芴以及a，a'—雙(4一羥基苯基)一m—二異丙基苯等。這些二元酚即可單獨使用，也可混合兩種以上使用。其中，作為優(yōu)選含有至少50mol%，更優(yōu)選至少60mol%，進一步優(yōu)選至少75mol%，特別優(yōu)選至少90mol。/。的雙酚A的二羥基成分的聚碳酸酯樹脂碳酸酯前軀體，使用酰鹵(Carbonylhalide)、碳酸二酯或者鹵代甲酸酯(八口示/P乂一卜)等，具體地說，可以舉出光氣(Phosgene)、二苯基碳酸酯或二元苯酚的二鹵代甲酸酯等。當通過界面聚合法或熔融聚合法，由上述二元苯酚和碳酸酯前軀體制造聚碳酸酯樹脂時，根據(jù)需要也可以使用催化劑、末端停止劑、抗氧化劑等，其中抗氧化劑用以防止二元苯酚的氧化。另外，聚碳酸酯樹脂包括將三官能度以上的多官能芳香族化合物加以共聚合的支鏈聚碳酸酯樹脂；將芳香族或者脂肪族的二官能度羧酸加以共聚合的聚酯碳酸酯樹脂；也可以是將所得到的聚碳酸酯樹脂的兩種以上加以混合的混合物。聚碳酸酯樹脂的分子量，以粘均分子量表示，通常為10000-40000，優(yōu)選為1300030000，更優(yōu)選為1400019000。光盤基板中，使用粘均分子量15000左右的光學用聚碳酸酯樹脂，只要作為間隙層使用的聚碳酸酯膜在上述的范圍內(nèi)，則得到的膜難以變脆，沖壓成圓盤狀時，端面上很少產(chǎn)生刻痕。另外，熔融擠出時難以產(chǎn)生異物，難以產(chǎn)生厚度不勻，因而優(yōu)選。進一步地，得到的膜的高分子有易于松弛的傾向，因此，其后的熱處理時的遲延值容易降低，另外，巻成巻狀后，在解開巻時，例如，在沖壓成盤狀進行機械搬運時，平面性也良好，與記錄層相貼時很難產(chǎn)生問題，因而優(yōu)選。聚碳酸酯樹脂的粘均分子量的最優(yōu)選的范圍是14500-17500。另外，作為聚碳酸酯樹脂，優(yōu)選使用不含有極高分子量的異物或熱劣化物等的聚碳酸酯樹脂。本發(fā)明所說的粘均分子量M，可根據(jù)下述方法算出。首先，從在2(TC下將0.7g聚碳酸酯樹脂溶解在100ml二氯甲垸而得到的溶液，求出比粘度(t^):根據(jù)所得到的比粘度(Tlsp)，通過下式算出粘均分子量Wc=["]+0.45x["]2c=1.23x10—4M083(其中，c=0.7，h]表示極限粘度)。<膜的制造方法>下面，對使用該聚碳酸酯樹脂制造全息圖間隙層用膜的方法進行具體說明。(熔融擠出條件)在熔融擠出時，優(yōu)選進行處理，以使不產(chǎn)生聚碳酸酯樹脂的熱劣化。例如，在熔融擠出前，將原料在12(TC左右進行充分干燥，投入到擠出機加料斗，從外邊加熱該加料斗使其保溫在ll(TC左右。由此，防止加水分解等化學反應引起的樹脂劣化。由于該加料斗內(nèi)的空氣(主要是氧氣)促進樹脂的熱劣化，因而采用氮氣置換該環(huán)境氣體或是使氮氣流通的方法。本發(fā)明人等，從擠出機中取出螺桿，調(diào)查了，在擠出工序的什么場所容易發(fā)生熱劣化物，以及聚碳酸酯樹脂(具體地，是指雙酚A-PC)的熱劣化在從螺桿擠出機到鑄模擠出的工序之間的什么場所發(fā)生。其結(jié)果是，在最初嚙合的供給口的部分，在該部分樹脂在螺桿的嚙合開始部與滾筒(〃kA)之間呈粘著狀纏繞在螺桿上，阻礙其后的樹脂的供給，嚴重時，會引起樹脂的吐出變動。這樣，樹脂長時間滯留，會慢慢劣化，生成茶色或黑色的熱劣化物。上述樹脂的纏繞，可通過水冷螺桿的嚙合部(供給部)的滾筒部防止。另外，進行如下設計是重要的，即，設計成與擠出機的前端部及過濾器殼連接的法蘭部、熔融樹脂的導管、與過濾器殼及擠出鑄模連接的熔融樹脂的導管或過濾器殼的結(jié)構(gòu)，以使極力不產(chǎn)生熱劣化物。為此，首先，可舉出不要設計急劇地彎曲的結(jié)構(gòu)，以使在熔融樹脂的導管內(nèi)不引起樹脂的局部位置的滯留。過濾器殼一般為圓筒形，該殼中組合容納多枚具有必要的過濾面積的過濾器單元。該圓筒形的過濾器殼，通常設置成水平使用。但是，優(yōu)選將該過濾器設置成縱向使用。橫向(或水平)，則在最初將熔融樹脂注入過濾器殼時，多數(shù)情形下，不能完全擠出空氣，會在殼內(nèi)駐留空氣。因此，該空氣駐留，會由于在擠出樹脂時的高壓力而被壓縮變小。該高溫下的空氣駐留與熔融的聚碳酸酯樹脂接觸時，會由于氧而緩緩地引起熱劣化。另外，滯留時間變長，則該熱劣化物駐留，不時會有微小的熱劣化物通過過濾器單元而被放出到擠出樹脂中，成為膜的內(nèi)部異物。作為上述對策之一，通過將注入熔融樹脂的過濾器殼縱向設置，可進行防止。此時，空氣駐留，難以滯留，因而，過濾器內(nèi)的熱劣化物難以發(fā)生。剛?cè)廴跀D出時，通常從螺桿前端擠出樹脂，擠出機的前端上使初期的熱劣化物放流出而完全地流出，從而，優(yōu)選組裝過濾器單元的過濾器殼的聚合物導管部連接擠出機的前端部。向透明的塑料制的過濾器殼內(nèi)流入高粘性的糖稀(水飴)，實施樹脂注入的模擬試驗，根據(jù)其結(jié)果，能夠確認殼內(nèi)引起空氣的滯留?？梢酝贫ǎ瑢嶋H上，高溫下向過濾器內(nèi)流入樹脂時，也會引起該滯留現(xiàn)象。因此，該殼內(nèi)的空氣的滯留(空氣滯留以外，也混合含有高溫空氣(氧)與樹脂反應而生成的氣體狀物質(zhì))，在擠出機運行途中，例如，降低擠出的吐出量等，空氣駐留的空氣會發(fā)生膨脹，其一部分變成氣泡狀而吐出。此時，聚碳酸酯的熱劣化物以及由于劣化而產(chǎn)生的氣體，會導致產(chǎn)生膜的表面缺陷點。調(diào)查聚碳酸酯樹脂的空氣中的碳酸氣體發(fā)生量與保持溫度(處理時間30分鐘)，其結(jié)果是，26028(TC時較少，而在300。C以上的溫度時急劇增加，而且即使在氮環(huán)境中，進一步在34036(TC的條件下，也會發(fā)生微量的碳酸氣體。這樣，不能忽視聚碳酸酯樹脂在高溫下的滯留時間較長時的熱劣化。有必要使樹脂的擠出機到擠出鑄模前端出口的滯留時間變得極短，以使熔融擠出機的能力即膜的厚度、寬度、制造速度(即熔融樹脂的吐出量)適合其制造。在進行制造能力的增強等的對策時，有必將滯留時間控制為極短時間，以能充分溶解樹脂且不發(fā)生熱劣化物。綜上考慮，決定擠出機的吐出能力。對適合用于本發(fā)明的雙酚A-PC樹脂(粘均分子量1400019000左右)進行制膜時，優(yōu)選將樹脂的擠出成型溫度設為27032(TC，滯留時間控制在30分鐘以內(nèi)，優(yōu)選在20分鐘以內(nèi)，更優(yōu)選在10分鐘以內(nèi)。特別優(yōu)選滯留時間為510分鐘。滯留時間過短，則特別是熔融擠出使用的樹脂發(fā)生結(jié)晶化時，殘留有未熔融物，有時膜中會出現(xiàn)異物缺陷。這種異物，作為凝膠狀異物，通過樹脂的過濾器單元的情形較多。通過將熔融溫度與滯留時間控制在上述范圍內(nèi)，則聚碳酸酯樹脂的熱分解被抑制，其結(jié)果是，熱劣化異物難以發(fā)生。作為熔融擠出機，優(yōu)選選擇吐出量最高為130Kg/hr左右的擠出機。例如，擠出鑄模的寬度為1200mm，在制造寬度方向的特性均勻的膜寬度有1100mm、膜厚為50um的膜時，計算上，膜的拉伸速度為約30m/分鐘。因此，此時的吐出量為約130Kg/hr。螺桿，可以使用為了熔融擠出聚碳酸酯的通常的螺桿或在樹脂的熔融工序中分離固體與液的公知的雙槽螺桿中的任一種。優(yōu)選在螺桿前端部連續(xù)地測定樹脂溫度進行控制。另外，通過流過能夠精密控制熔融樹脂流量的齒輪泵，能夠抑制膜的特別是長度方向(運行方向)的厚度變動。本發(fā)明中，過濾用過濾器單元能夠使用現(xiàn)有技術中公知的過濾器單元。優(yōu)選使用市售的金屬制的燒結(jié)金屬型或極細金屬纖維的集合體型等的耐熱、耐壓性的過濾器單元。使用過濾器單元時，有必要選擇即使滯留樹脂也不促進熱劣化等的材質(zhì)。另外，作為使用的樹脂，優(yōu)選光盤級的聚碳酸酯樹脂(例如，帝人化成(株)制造的"^，<卜AD-5503)。光盤級，是制造時細心注意異物，因而在聚合物中異物極少，即使在熔融擠出該樹脂制造光盤時也幾乎沒有異物的發(fā)生，因而封住熱劣化物等的過濾器即使不使用精密的過濾器也沒有問題，因而，適用于本發(fā)明。在連接過濾裝置與鑄模的聚合物導管內(nèi)，在鑄模的前方，使用混合器，使樹脂的溫度、粘度均勻，能夠進一步使厚度不勻良好。(鑄模擠出條件)將熔融的聚碳酸酯樹脂從鑄模擠出時，從模唇擠出的樹脂膜，受到空氣間隙部(鑄模前端與冷卻輥之間)的收縮或環(huán)境空氣的擾亂等的影響，容易生成厚度不勻或鑄模筋。特別是熔融粘度低(粘均分子量14000~19000左右)的情形下非常顯著?，F(xiàn)有技術中的空氣間隙(鑄模前端與冷卻輥之間)取得較寬，難以用熔融制膜法得到均勻的制膜。本發(fā)明人等，通過使熔融擠出的模唇前端與冷卻輥之間的間隔充分狹小而消除熔融樹脂的空間中的晃動，因而不發(fā)生熔融制膜法得到的聚碳酸酯樹脂膜中顯著顯現(xiàn)的煉制狀厚度不勻以及微小的筋狀的缺陷(鑄模筋)，能夠得到滿足所需要的物理性質(zhì)及光學特性的聚碳酸酯樹脂膜。艮口，優(yōu)選將擠出鑄模的模唇前端部與冷卻輥表面之間的距離(鑄模間隙)控制在1030mm的范圍，更優(yōu)選控制在1530mm的范圍。另外，鑄模的結(jié)構(gòu)，也優(yōu)選采取下述措施，即，特別是其突出部分引起周邊空氣的異常流動，成為產(chǎn)生膜厚度不勻的原因，要極力注意消除或減少鑄模的凹凸結(jié)構(gòu)。作為聚碳酸酯的熔融擠出鑄模，可使用下述現(xiàn)有技術公知的鑄模，艮P，從鑄模的寬度方向的中央部供給樹脂的鑄模的T鑄模(衣架型鑄模)或?qū)鑄模設置成在樹脂的流入部分成兩部分的形狀的鑄模，從鑄模的寬度方向的一端部流入樹脂的類型的I鑄模等。優(yōu)選此時擠出鑄模的吐出樹脂的唇部被精加工成充分尖細的形狀。因此，唇部，優(yōu)選不是通常采用的突出型，在唇部的下表面與有將唇部固定在鑄模本體上的螺釘或螺孔等的情形，極力填充縫隙，形成盡可能的平面。為了平坦化，優(yōu)選采用在模唇下面嵌入表面為鏡面的部件。由此，可使熔融吐出的聚碳酸酯樹脂的樹脂溫度以及流動性在寬度方向上均勻。因此，鑄模的開度(模唇開度)，例如，擠出制造100um厚的膜時，可適宜地設置為lmm2mm左右。進一步地，優(yōu)選在鑄模的寬度方向上，隨著離樹脂流入部變遠，膜開度逐漸變大。這樣，在鑄模的寬度方向上，施加在模唇上的壓力幾乎均勻一致，熔融樹脂易于流動。實際上，使用鑄模前，調(diào)整模唇的開度而使用。優(yōu)選，熔融擠出開始后，邊觀察膜的厚度(厚度不勻)的狀態(tài)，邊自動或手動調(diào)整鑄模的模唇部的螺桿，可特別是使厚度不勻變小。在厚度不勻的自動調(diào)整中，可采用機械旋轉(zhuǎn)模的模唇螺桿調(diào)整模唇間隙的方式，或在一定間隔在模唇上施加加熱裝置，對其進行個別溫度調(diào)整，利用熔融樹脂的粘度的溫度變化調(diào)整膜厚的方式(溫度模唇)。由于厚度不勻的調(diào)整容易，相對機械的模唇開度調(diào)整法，優(yōu)選使用溫度模唇。特別是，在制造寬幅度的膜時，優(yōu)選使用無機械動作的溫度模唇。(關于冷卻輥)由鑄模擠出的熔融樹脂膜擠出至均勻地(厚度不勻不惡化，不出現(xiàn)筋狀斑，沒有遲延大且不均勻的情形)旋轉(zhuǎn)的冷卻輥面上。此時使用的冷卻輥(冷卻裝置)，可以適宜地使用，組合多根直徑300mm左右的小直徑輥的方式，或使用直徑800mm左右的大直徑輥冷卻的方法等公知的方法。為使該冷卻輥的表面溫度均勻，在輥的內(nèi)部上流通作為冷卻介質(zhì)的控制溫度的水進行冷卻。流通均勻地冷卻的冷卻介質(zhì)的流路，優(yōu)選對流。水溫優(yōu)選為2070。C。優(yōu)選使用，冷卻輥表面實施硬質(zhì)鉻鍍等，然后進一步對其進行超精加工(superfinish)的表面為鏡面的物質(zhì)。上述表面的表面粗糙度Ra為約l~5nm。熔融聚碳酸酯樹脂在該超鏡面上吐出并密接冷卻，膜表面的表面粗糙度轉(zhuǎn)印該冷卻輥的表面粗糙度。該冷卻輥的表面，不僅如上述維持表面粗糙度，而且維持表面上無傷痕或附著物。另外，接下來的工序，巻取冷卻的膜的巻取輥表面也為沒有傷痕或附著物的平坦的表面。本發(fā)明的透光層用膜的表面粗糙度Ra，兩表面均為l5nm。輥的直徑優(yōu)選為800mm左右，輥的表面長優(yōu)選為1500mm左右。輥的直徑為800mm左右的情形時，例如，可以每分鐘幾十米的速度冷卻100ym厚的膜。(熔融膜的冷卻輥的密接冷卻法)從鑄模擠出的烙融樹脂在冷卻輥上固化制作膜。此時，如上所述，優(yōu)選將擠出鑄模的模唇前端部與冷卻輥表面的距離控制在1030mm的范圍。從模唇吐出的樹脂流下到冷卻輥的幾乎頂點位置。為了使膜密接冷卻輥而均勻冷卻，本發(fā)明中，優(yōu)選采用將膜整幅通過靜電密接法密接在冷卻輥上而使該膜急冷固化的方法。為了靜電密接，正極可使用現(xiàn)有技術中公知的SUS制的金屬線。該金屬線在膜表面上方離開約47mm的空間上以適度張力張緊即可。可通過試行錯誤來容易地決定金屬線的設置位置或架設的電壓。該靜電密接的條件影響膜的厚度不勻或表面缺陷點的發(fā)生。靜電場的電壓為幾千伏10千伏。密接良好時，流經(jīng)幾毫安的電流。電壓過低時，在引起靜電密接的位置與不能引起靜電密接的位置產(chǎn)生斑狀，其結(jié)果是，膜的厚度不勻極度惡化。另外，電壓過高時，熔融狀態(tài)冷卻固化的膜，引起絕緣破壞，有時不得不中斷膜的制造。電源使用直流電源，靜電線連接正極電極，在冷卻輥側(cè)接地。本發(fā)明中，為擴大膜的靜電密接的調(diào)整范圍、穩(wěn)定化其效果，在聚碳酸酯中以不使膜的光學特性變差的程度微量添加例如Na離子等的金屬離子。另外，優(yōu)選模唇的下表面沒有凹凸而平坦化。通過使模唇的下表面平坦化，而使靜電力均勻地作為密接力而起作用。為了使膜密接在冷卻輥上而均勻地進行冷卻，本發(fā)明中，也優(yōu)選采用在冷卻輥表面上涂布液體，在其液體膜上使熔融膜與擠出輥密接冷卻而巻取的方法。鑄模與冷卻輥的配置與靜電密接法相同，例如，通過輥涂布機將由幾lim左右?guī)资畁m的厚度的水形成的膜涂布在冷卻輥的表面上，在其水膜表面上使與高分子膜密接而冷卻固化。水膜過厚時，冷卻固化的高分子膜在輥表面上滑落，因此，要注意好好進行操作。另外，水膜過薄時，膜表面接著冷卻輥難以去除。能夠通過試行錯誤法來決定水膜的厚度。在本發(fā)明中，也可并用冷卻輥的全面靜電密接法與全面水涂布法。在這些的并用情形下，能夠降低在靜電密接中使用的冷卻輥表面與靜電線之間施加的電壓，因此，在密接時的膜薄時等的容易引起膜的絕緣破壞的條件下，能夠進一步擴大均勻的密接的范圍。這樣得到的熔融擠出膜不僅在寬度方向上沒有煉制狀的厚度不勻，也沒有筋狀的表面缺陷點。特別是，在冷卻輥上涂布水進行制膜時的情形，能夠制成沒有鑄模筋等的缺陷點的膜。這可能是，由于在該密接的環(huán)境中存在水，模唇前端等附著的聚碳酸酯被加水分解而除去。(取下膜以及將雙折射降低的方法)冷卻輥上冷卻的熔融擠出膜，通常通過取下輥取下。得到的膜，多為寬度方向的中央部的面內(nèi)遲延(雙折射)比較小、其兩端附近位置的雙折射變大，S卩，多為所謂的鍋底型的遲延分布。這可以推定為，聚合物的流動取向引起的雙折射在擠出的寬度方向上不同。即使將鑄模前端部與冷卻輥之間的間隔控制為如本發(fā)明所示的狹小，從空氣間隙間的鑄模擠出的聚碳酸酯樹脂膜的狹小不能完全消失，由于聚碳酸酯的流動取向產(chǎn)生雙折射，所以膜寬度方向上的該遲延難以變小且均勻。因此，接下來的工序，優(yōu)選進行膜的熱處理。通過進行該熱處理，膜寬度為10001500mm，在其全部寬度方向上，能夠得到遲延比10nm小的膜。(熱處理工序)膜的熱處理，優(yōu)選采用在搬運膜的同時通過調(diào)整至規(guī)定的溫度的熱風的熱處理裝置的方法。通過進行該工序，能夠簡便地將熔融擠出膜的雙折射(遲延值)縮小至間隙層用聚碳酸酯膜的規(guī)定的值，并且使在膜的表面內(nèi)均勻。熔融擠出的聚碳酸酯樹脂的玻璃轉(zhuǎn)移溫度設為Tg時，熱處理溫度，優(yōu)選為(Tg-lO)。CTg。C的范圍，更優(yōu)選為(Tg-lO)。C(Tg-2)。C的范圍。例如，以雙酚A作為重復單元的聚碳酸酯樹脂，優(yōu)選為137~147°C。另外，其時，膜上的張力(搬運張力)越低越好。因此，根據(jù)該熱處理前的遲延低的情形，選擇更高的熱處理溫度以及更低的搬運張力。更詳細地，熱處理時的膜的每剖面積的張力為0.5~3Kg/cm2，優(yōu)選為0.52.8Kg/cm2，更優(yōu)選為0.52.5Kg/cm2，進一步優(yōu)選為0.51.8Kg/cm2。張力越低越優(yōu)選，但由于搬運膜時不能為零，更優(yōu)選為1Kg/ci^以上。另夕卜，根據(jù)發(fā)明人等的試驗，熱處理時間，只要是將處理的膜的全剖面的溫度加熱至與加熱熱風的溫度幾乎相同即為充分。用熱風加熱厚度100um的聚碳酸酯膜時的概算，熱風與導入該熱風中的膜幾乎相同的溫度的加熱時間為約30秒。因此，需要將熱風箱的大小設置為膜能夠停留至少30秒以上的時間。另外，熱處理時間為1小時以內(nèi)是充分的。<光學膜的厚度>本發(fā)明的全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用光學膜，其厚度為10~150um的范圍，優(yōu)選為10100um的范圍。該厚度為以最合適狀態(tài)進行輸出入照射位置信息的伺服信號，是重要的。<光學膜的厚度不勻〉本發(fā)明的全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用光學膜，其厚度不勻為土2ixm以下，優(yōu)選為士1.5um以下。厚度不勻變大，則光學變形變顯著，伺服信號的輸出入變動(噪音)變大。該厚度不勻的測定方法，例如，可使用連續(xù)厚度計(7lA厶)？夕才、^亍7夕一，型號KG601A，7>u:y(株)制造)進行測定。<光學膜的熱尺寸變化率〉本發(fā)明的全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用光學膜，其在14(TC下熱處理1小時后的熱尺寸變化率為0.08%以下，優(yōu)選為0.07%以下。熱尺寸變化率變大則膜層與間隙層的界面上容易發(fā)生小的剝離。該測定方法，例如，從膜的寬度方向上3個位置采取樣品，采取的測定樣品的大小為寬度10mm，測定的方向為150mm。而且測定的方向為膜的運行方向和與運行方向呈直角方向的2個方向。測定的方向上的標記點間隔為lOOmm，在規(guī)定溫度(140°C)的恒溫槽中無負荷的狀態(tài)下處理2小時后，取出至室溫冷卻后進行測定。尺寸的變化，為在恒溫恒濕的條件下，23°C、65%RH的條件下，使用讀取顯微鏡進行實施。尺寸的變化率可從熱處理前后的尺寸通過下式求出。熱尺寸變化率={(處理前的尺寸)-(處理后的尺寸)}/(處理前的尺寸)X100%<光學膜的全光線透過率>本發(fā)明的全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用光學膜，全光線透過率為89%以上，優(yōu)選為90%以上。為了防止通過間隙層的伺服信號的劣化，全光線透過率越高越好，不足89%，有時有不能容許的伺服信號的劣化。該測定方法，例如，按照JISK7105進行實施，從膜的寬度方向上的3個位置采取樣品，采用日本電色工業(yè)(株)制造的色差，濁度測定機COH-300A，測定樣品的全光線透過率。對各個樣品，測定5點，在寬度方向上測定3個樣品，將共計15個點的平均值作為全光線透過率。<光學膜的面內(nèi)遲延〉本發(fā)明的全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用光學膜，其面內(nèi)遲延為115nm的范圍，優(yōu)選為110nm的范圍，更優(yōu)選為17nm的范圍，特別優(yōu)選為15nm的范圍。面內(nèi)遲延變高，則調(diào)制變大伺服信號水平不穩(wěn)定。另外，調(diào)制變小，伺服信號水平穩(wěn)定化，因此，面內(nèi)遲延的膜面內(nèi)的偏差優(yōu)選為18nm，更優(yōu)選為16腿。該測定方法，例如，對于等方性膜(延伸前膜)，對于寬度方向上樣品整幅通過雙折射率測定裝置(商品名KOBRAWFD,王子計測(株)制造)，計測10mm間隔的遲延值。測定波長為589.3nm。由該數(shù)據(jù)求出測定的樣品整幅方向中的遲延值的差。S卩，膜整幅方向的遲延值的最大值與最小值的范圍，可用Re.l-最小值最大值表示，作為均勻性的尺度(單位nm)。<光學膜的厚度方向的遲延>本發(fā)明的全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用光學膜，厚度方向的遲延為100nm以下，優(yōu)選為80nm以下。另外，該厚度方向的遲延，是指用后述的測定方法求出的K值的最大值(Onm以上的值)。K值的最大值變大噪音增大。該測定方法，例如，與上述的光學膜的面內(nèi)遲延的測定同樣地，將整幅作為樣品，將膜的寬度方向5等分。從5等分的樣品取出測定樣品小片，用雙折射率測定裝置(商品名KOBRAWFD，王子計測(株)制造)計測。以遲相軸或進相軸使該膜樣品旋轉(zhuǎn)，改變?nèi)肷浣嵌龋瑴y定遲延，從該數(shù)據(jù)計算折射率nx、ny以及nz。進一步，從這些數(shù)值，計算Re.2=((nx+ny)/2-nz)Xd(單位nm)。在此，以d表示測定膜的厚度。<光學膜的表面粗糙度>本發(fā)明的全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用光學膜，中心線平均表面粗糙度，兩表面均為15nm，優(yōu)選為13nm。中心線平均表面粗糙度過大，則表面凹凸部使光散射，其結(jié)果是噪音增大。該測定方法，例如，中心線平均表面粗糙度(Ra)，是用JIS-B0601定義的值，其使用(株)小坂研究所的接觸式表面粗糙度計(廿一7-—義'一，型號SE-30C)進行測定。Ra測定條件如下所示。觸針前端半徑2iim，測定壓力30mg，切斷0.08mm，測定長度l.Omm。其數(shù)據(jù)為對同一試樣反復測定5次，對其測定值(ym單位至小數(shù)點后四位的值)，除去其中一個最大的值，將剩余的4個數(shù)據(jù)的平均值的小數(shù)點以下的第5位進行四舍五入，小數(shù)點以下第4位為用nm單位表示。<光學膜的表面缺陷點內(nèi)部異物>本發(fā)明的全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用光學膜，為防止噪音，優(yōu)選表面缺陷點或內(nèi)部異物少的膜。即，最大長度為10um以上且高度3lim以上的表面缺陷點為10個/n^以下，優(yōu)選為5個/m2以下，最大長度為20Um以上的塊狀的內(nèi)部異物為5個/1112以下，優(yōu)選為3個/r^以下，并且最大長度為200um以上的傷痕狀的表面缺陷點為1個/m2以下，優(yōu)選為0個/m2以下。表面缺陷點的高度，在膜上層積過濾器層時，有時會產(chǎn)生問題。如上述的膜表面的突起，其原因是冷卻輥或膜搬運輥的傷痕(大部分是坑洼狀的缺陷)，在膜表面上將其轉(zhuǎn)印而成為突起。傷痕為比較平緩的凹狀，其深度多數(shù)較淺。通過掃描型電子顯微鏡觀察膜表面上的強的傷痕，其缺陷點的幾乎中央部有裂紋或附著有微小的異物。通常，不足200um的小的傷痕，通過在過濾器層層積時發(fā)生的熱而引起歪斜松弛、消失。這些的測定方法，例如，對聚碳酸酯膜取約11112樣品(膜1.3m寬度X擠出方向長度為約lm)，以供測定。(i)熱劣化物等的塊狀異物用二氯甲烷溶解取得的樣品膜，制成低濃度(1重量％)的聚碳酸酯溶液，用10um膜過濾該異物。用顯微鏡觀察該異物，計數(shù)最大長度為20um以上的大小的異物。另外，用FT-IR與EPMA對異物的來歷(原因物)進行定性分析、確認。(ii)膜表面的突起從斜上方照射膜表面，用其反射光目視觀察大的缺陷點。使用^一二^》社制造的激光顯微鏡測定該缺陷部的高度。另外，對目視不能發(fā)現(xiàn)的小的缺陷點，通過取5cm方形膜樣品，用透過型顯微鏡觀察缺陷點，在其周圍施加標記并進---步用激光顯微鏡觀察，測定缺陷點的高度、廣度等。計數(shù)最大長度為10"m以上且高度為3um以上的缺陷點。(iii)傷痕用lm2的膜來計數(shù)傷痕的出現(xiàn)頻度。斜方照明目視傷痕的最大長度為200um以上的傷痕的數(shù)目。傷痕，從正面觀察膜表面時，目視幾乎不能發(fā)現(xiàn)的小的傷痕，在斜方照明目視的情形下，則可容易地發(fā)現(xiàn)。該方法，是在黑色平板上展開的膜上，從斜方向上照射光，通過目視其反射光，可發(fā)現(xiàn)微小的光的反射的不均勻的一部分的方法。<光學膜添加劑>本發(fā)明的全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用光學膜，在不損害熔融制膜的膜的特性例如膜的透明性等的范圍內(nèi)，也可含有穩(wěn)定劑、紫外線吸收劑、調(diào)色劑、靜電防止劑等。因此，為了可容易地使用在制造使用本發(fā)明聚碳酸酯樹脂的光學膜時適用的靜電密接法，可添加微量的醋酸鈉、醋酸鉀等的在聚碳酸酯中溶解的物質(zhì)，Na離子或K離子金屬離子能強化靜電密接的效果。<全息圖記錄介質(zhì)>本發(fā)明的全息圖記錄介質(zhì)，由作為支撐基板的第二基板、反射層、間隙層、過濾器層、保護層、記錄層、第一基板構(gòu)成，根據(jù)需要還具有其它層。進一步地，該光記錄介質(zhì)，使用兩光的光軸為同軸的方式照射上述信息光及參照光的同軸干涉方式(直線方式)。<第二基板>第二基板，位于最外層，形成與向全息圖記錄介質(zhì)記錄時的信息光及參照光的照射位置有關的信息。另外，是保持全息圖記錄介質(zhì)的機械強度的支撐基板。第二基板，其形狀、構(gòu)成結(jié)構(gòu)、大小等，可根據(jù)需要進行適宜的選擇。例如，可舉出盤形狀、卡形狀等。另外，優(yōu)選與第一基板的外形狀相同的形狀。作為第二基板的構(gòu)成材料，通?？墒褂貌Ａ?、陶瓷、塑料等，從加工性、成本方面考慮，可特別適宜地使用塑料。作為上述塑料，例如，可舉出，聚碳酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、環(huán)氧樹脂、聚亞苯醚樹脂、聚亞苯基樹脂、聚丙炔樹脂、聚苯乙烯樹脂、丙烯腈-苯乙烯共聚物、聚乳酸樹脂、聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、氟樹脂、ABS樹脂、氨基甲酸乙酯等。其中，從成形性、耐熱性、光學特性、成本方面考慮，特別優(yōu)選使用聚碳酸酯樹脂。作為第二基板中的信息光或參照光的照射位置相關的信息，沒有特別限制，可根據(jù)需要進行適宜地選擇。例如，可以舉出跟蹤信息、聚焦信息、地址信息、盤條件信息等。上述跟蹤信息，例如，可以舉出蛇行狀(wobble)凹坑、蛇行狀溝、跟蹤凹坑(trackingpit)等。上述聚焦(focus)信息，例如，可以舉出形成在第二基板表面上的反射膜、聚焦用鏡、聚焦用凹坑等。上述地址信息，例如，可以舉出蛇行狀凹坑上的凹凸、編碼過的凹坑列、蛇行狀變調(diào)信號等。也可復合形成上述各信息。例如，以規(guī)定的角度間隔設置作為在半徑方向上綿延的多個位置決定的區(qū)域的地址伺服區(qū)域，也可將緊挨著的地址伺服區(qū)域間的扇形區(qū)間作為數(shù)據(jù)區(qū)域。該地址伺服區(qū)域中，通過樣品伺服方式進行聚焦伺服以及跟蹤伺服的信息與地址信息，也可通過預先壓紋凹坑(伺服凹坑)等記錄伺服凹坑圖案而形成。第二基板的厚度優(yōu)選為0.15mm，更優(yōu)選為0.3~2mm。上述第二基板的厚度不足0.1mm時，全息圖記錄介質(zhì)的機械強度保持困難，當基板厚度超過5mm時，全息圖記錄介質(zhì)的重量變大，給主軸電動機施加過剩的負荷，因而不優(yōu)選。<反射層>上述第二基板中的伺服凹坑圖案的表面上也可形成作為反射層的反射膜。作為上述反射膜的材料，優(yōu)選使用相對于信息光或參照光具有高的反射率的材料。例如，優(yōu)選A1、Al合金、Ag、Ag合金、Au、Cu合金等。作為上述反射膜的形成方法，沒有特別限定，可適宜地使用真空蒸鍍法、濺射法等的PVD法或CVD法等各種膜形成法。但是，作為全息圖記錄介質(zhì)，為了使不產(chǎn)生在高溫高濕的耐環(huán)境試驗中生成的剝離，優(yōu)選特別是與基板的密接性大的條件下制作。因此，優(yōu)選使用濺射法。反射層的膜厚范圍優(yōu)選為10500nm，為了抑制反射率的降低而引起的信號特性的降低，更優(yōu)選30200nm，特別優(yōu)選40100nm。<間隙層>間隙層，為了平坦化上述第二基板的表面的目的而形成。作為間隙層中使用的材料，優(yōu)選耐熱性優(yōu)異的材料，該材料，即使在間隙層上層積過濾器層層積時的熱也不引起間隙層變形，另外，在過濾器層上層積固化記錄材料時的熱或收縮應力下間隙層也不發(fā)生變形而在過濾器層上發(fā)生皸裂等的缺陷。<過濾器層>過濾器層，即使變化入射角選擇反射波長中也不產(chǎn)生不吻合，能夠防止信息光與參照光引起的全息圖記錄介質(zhì)的反射膜的亂反射，能夠防止噪音的發(fā)生。通過在全息圖記錄介質(zhì)上層積上述過濾器層，能夠得到高解像度、衍射率優(yōu)異的全息圖記錄。過濾器層的功能，優(yōu)選透過第一波長的光，反射與該第一波長的光不同的第二波長的光，優(yōu)選上述著第一波長的光為350600nm并且第二波長的光為600900nm。作為上述過濾器層，沒有特別限制，例如，可通過介電體蒸鍍層、單層或2層以上的膽甾型層，進一步根據(jù)需要，通過其他的層的層積體形成。另外，也可具有色彩含有層。<保護層>保護層在過濾器層與記錄層之間形成。保護層，用來防止全息圖記錄介質(zhì)的記錄性能的降低。信息光與參照光的集光位置存在在記錄層內(nèi)，但是在沒有保護層的情形，通過過剩露光產(chǎn)生過剩的光反應，會降低記錄性能。艮卩，通過使用保護層，能夠抑制集光位置附近的過剩的光反應，能夠維持記錄性能。作為保護層中使用的材料，沒有特別的限制，可適宜地使用與間隙層同樣的透明的塑料膜。例如，優(yōu)選由聚碳酸酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚對苯二甲酸乙二醇酯樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯、非晶性聚鏈烯烴樹脂形成的塑料膜。從尋求耐熱性、光學等方性方面考慮，更優(yōu)選聚碳酸酯樹脂、非晶性聚鏈烯烴樹脂。作為保護層的厚度，沒有特別的限制。優(yōu)選為1200ixm,更優(yōu)選為3100um。不足lum時，幾乎沒有作為保護層的效果，超過200um，則焦點位置離記錄層變遠，導致記錄性能的降低，因而不優(yōu)選。<記錄層>記錄層，是作為二維圖像被賦予了信息的信息光和能夠干涉信息光的參照光在記錄介質(zhì)的內(nèi)部進行重合，利用全息圖進行記錄信息的層。通過照射規(guī)定的波長的電磁波(Y射線、x射線、紫外線、可見光線、紅外線、電波等)，使用根據(jù)其強度而吸光系數(shù)或折射率等的光學特性發(fā)生變化的材料。作為構(gòu)成記錄層的材料，通常，適宜地使用在自由基聚合性化合物及光自由聚合引發(fā)劑以外還具有三維交聯(lián)聚合物基體的構(gòu)成的材料。作為形成基體的三維交聯(lián)聚合物構(gòu)成的化合物，可用環(huán)氧化合物。作為環(huán)氧化合物，具體的可以舉出，1，4一丁二醇二縮水甘油醚、1，6—己二醇二縮水甘油醚、二甘醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、聚丙二醇二縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、二環(huán)氧辛烷、間苯二酚二縮水甘油醚、雙酚A的二縮水甘油醚、雙酚F的二縮水甘油醚、3，4一環(huán)氧環(huán)己烯基甲基一3'，4'一環(huán)氧環(huán)己烯羧酸酯、以及環(huán)氧丙氧基丙基末端的聚二甲基硅氧烷等。作為自由基聚合性化合物，可以舉出具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物。例如，可以舉出不飽和羧酸、不飽和羧酸酯、不飽和羧酸酰胺、乙烯基化合物等。更具體的可以舉出丙烯酸、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸2—乙基己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸環(huán)己酯、丙烯酸聯(lián)環(huán)戊烯基酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸異冰片基酯、丙烯酸金剛烷基酯、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸苯酯、苯氧基乙基丙烯酸酯、氯苯基丙烯酸酯、甲基丙烯酸金剛烷基酯、異冰片基甲基丙烯酸酯、N—甲基丙烯酰胺、N，N—二甲基丙烯酰胺、N，N—亞甲基雙丙烯酰胺、丙烯?；鶈徇?、乙烯基吡啶、苯乙烯、溴苯乙烯、氯苯乙烯、三溴苯基丙烯酸酯、三氯苯基丙烯酸酯、三溴苯基甲基丙烯酸酯、三氯苯基甲基丙烯酸酯、乙烯基苯甲酸酯、3，5—二氯乙烯基苯甲酸酯、乙烯基萘、乙烯基萘甲酸酯、萘基甲基丙烯酸酯、萘基丙烯酸酯、N—苯基甲基丙烯酰胺、N—苯基丙烯酰胺、N—乙烯基吡咯垸酮、N—乙烯基咔唑、l一乙烯基咪唑、聯(lián)環(huán)戊烯基丙烯酸酯、1，6—己二醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、丙二醇三甲基丙烯酸酯、N_乙烯基咔唑及N—乙烯基吡咯烷酮。作為光自由基聚合引發(fā)劑，例如，可以舉出咪唑衍生物、有機疊氮化合物、二茂鈦類、有機過氧化物以及噻噸酮衍生物等。具體的可以舉出芐基、苯偶姻、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻丁醚、苯偶姻異丁醚、1_羥基環(huán)己基苯基酮、芐基甲基縮酮、芐基乙基縮酮、芐基甲氧基乙基醚、2，2'一二乙基苯乙酮、2，2'—二丙基苯乙酮、2—羥基一2—甲基苯丙酮、對叔丁基三氯苯乙酮、噻噸酮、2—氯噻噸酮、3，3'，4，4'一四(叔丁基過氧羰基)二苯甲酮、2，4，6—三(三氯甲基)1，3，5—三嗪、2—(對甲氧基苯基)一4，6—雙(三氯甲基)1，3，5—三嗪、2—[(對一甲氧基苯基)乙烯]_4，6—雙(三氯甲基)1,3，5—三嗪、f"、7《、〉X少于^少S力A文'社制造的<&力1工7149、184、369、651、784、819、907、1700、1800、1850等各型號的化合物、二叔丁基過氧化物、二枯烯基過氧化物、叔丁基枯烯基過氧化物、叔丁基過氧化乙酸酯、叔丁基過氧化丁酸酯、叔丁基過氧化苯甲酸酯、乙?；^氧化物、異丁?；^氧化物、癸?；^氧化物、月桂?；^氧化物、苯甲?；^氧化物、叔丁基氫過氧化物、枯烯氫過氧化物、甲基乙基酮過氧化物、以及環(huán)己酮過氧化物等?？筛鶕?jù)需要添加花青、部花青、阽噸、香豆素、曙紅等增敏色素；硅烷偶合劑以及增塑劑等。在保護層上涂布含上述的三維交聯(lián)聚合物、自由基聚合性單體、光聚合引發(fā)劑的記錄層溶液時，可以采用澆鑄法或旋轉(zhuǎn)涂布法。也可間隔樹脂制造的隔板配置含過濾器層的第二基板與第一基板，在其間隙中注入記錄層材料溶液。基體聚合物的三維交聯(lián)，使用脂肪族伯胺，即使在室溫也可以進行，但根據(jù)固化劑反應性也可加熱至3(TC15(TC左右。優(yōu)選記錄層的膜厚在20um2mm的范圍內(nèi)。當?shù)陀?0um時，難以得到充分的記錄容量，當大于2mm時，記錄層的靈敏度及衍射效率降低。更優(yōu)選記錄層的膜厚為50umlmm。當記錄層溶解、侵蝕第一基板時，也可采用濺射等方法在第一基板與記錄層之間形成有機或無機系的保護膜。上述保護膜，沒有特別限制，例如，也可使用硅膜、硫化鋅一硅膜等。此時，保護層的厚度優(yōu)選為10nm500nm。<第一基板>第一基板，層積在記錄層上，優(yōu)選是透光性基板。對于其形狀、結(jié)構(gòu)、大小等，沒有特別的限制，可根據(jù)需要進行適宜地選擇，可使用與第二基板同樣的形狀、材料。第一基板的厚度，沒有特別的限制，優(yōu)選為51200um，更優(yōu)選為100700um。上述支撐體厚度為不足5um，則保護記錄層的功能降低，若超過1200iim，則從第一基板表面到記錄層、伺服凹坑形成的層的距離變遠，記錄再生的光的焦點距離過長，因而不優(yōu)選。<全息圖的記錄再生方式>作為全息圖的記錄方法，沒有特別限制，可根據(jù)目的進行適宜選擇。例如，作為同軸光束向上述全息圖記錄介質(zhì)照射信息光及參照光，通過使信息光與參照光的干涉產(chǎn)生的干涉圖案，在記錄層中記錄信息，S卩，^H胃的直線方式的全息圖記錄方法。作為上述再生方法，沒有特別限定，可根據(jù)目的進行適宜選擇，例如，通過上述光記錄方法，在記錄層中形成的干涉圖像照射與參照光相同的光，可再生與該干涉圖像對應的記錄信息。作為上述光記錄方法及再生方法，可通過作為二維圖像被賦予了信息的信息光和與該信息光的強度幾乎一定的參照光在記錄層的內(nèi)部進行重合，利用他們形成的干涉圖案在記錄層內(nèi)部產(chǎn)生光學特性分布，由此，記錄信息。另一方面，再生寫入的信息時，以與記錄時同樣的配置對記錄層僅照射參照光，得到具有對應記錄層內(nèi)部形成的光學特性分布的強度分布的再生光。下面，給出具體例子，更詳細地說明本發(fā)明。還有，為不使記錄層感光，在本實施例中的一系列作業(yè)，在將比波長600nm短的光被遮光的室內(nèi)進行。實施例下面舉出實施例，進行了詳細地說明，但本發(fā)明，只要在不偏離其宗旨的范圍內(nèi)，并不限于此。在實施例及比較例中，"份"表示重量份。而評價按下述方法進行。(1)玻璃化轉(zhuǎn)變溫度使用聚碳酸酯樹脂粉末，采用TA<>^&乂>卜社制造的熱分析系統(tǒng)DSC—2910，按照JISK7121，在氮氣環(huán)境(氮氣流量40ml/min)、升溫速度為20°C/min的條件下進行測定。(2)粘均分子量在二氯甲烷100ml中溶解聚碳酸酯樹脂粉末0.7g，測定該溶液在20。C的極限粘度(risp)，然后算出粘均分子量。(3)膜的厚度不勻膜整幅的厚度不勻，使用連續(xù)厚度計(7<A厶、〉7夕木^亍^夕一，型號KG601A，7>'廠7(株)制造)進行測定。(4)膜的全光線透過率在膜的寬度方向上的3個位置取樣。使用日本電色工業(yè)(株)制造的色差濁度測定機COH-300A測定樣品的全光線透過率。對各樣品測定5點，將寬度方向的3個樣品的共15個點的平均值作為全光線透過率。另外，按照JISK7105實施該測定。(5)膜的異物以及表面缺陷點的測定在聚碳酸酯膜上取約li^樣品(膜1.3m寬X擠出方向長度約lm)，以供測定。(0熱劣化物等的塊狀異物將取的樣品膜在二氯甲垸中溶解，制成低濃度(1重量％)的聚碳酸酯溶液，用10um過濾器過濾該異物。用顯微鏡觀察該物質(zhì)，計數(shù)最大長度為20iim以上的大小的異物。另外，用FT-IR與EPMA對異物的來歷(原因物)進行定性分析。(ii)膜表面的突起從斜上方照射膜表面，用其反射光目視觀察大的缺陷點。使用々一二〉》社制造的激光顯微鏡測定該缺陷部的高度。另外，對目視不能發(fā)現(xiàn)的小的缺陷點，取5cm方形膜樣品，用透過型顯微鏡觀察缺陷點，在其周圍施加標記，然后進一步用激光顯微鏡觀察，測定缺陷點的高度、廣度等。計數(shù)最大長度為10um以上且高度為3um以上的缺陷點。(iii)傷痕用lr^的膜計數(shù)傷痕的出現(xiàn)頻度。斜方照明目視傷痕的最大長度為200"m以上的傷痕的數(shù)目。傷痕，從正面觀察膜表面時目視幾乎不能發(fā)現(xiàn)的小的傷痕，在斜方照明目視的情形下，則可容易地發(fā)現(xiàn)。該方法，是在黑色平板上展開的膜上，從斜方向上照射光，通過目視其反射光，可發(fā)現(xiàn)微小的光的反射的不均勻的一部分的方法。(6)膜的中心線平均表面粗糙度(Ra)的測定中心線平均表面粗糙度(Ra)測定方法，是用JIS-B0601定義的值，其使用(株)小坂研究所的接觸式表面粗糙度計(廿一7-—夕"一，型號SE-30C)測定。Ra測定條件如下所示。觸針前端半徑2um，測定壓力30mg，切斷0.08mm，測定長度l.Omm。數(shù)據(jù)為對同一試樣反復測定5次，對其測定值(um單位至小數(shù)點后四位的值)，除去其中一個最大的值，將剩余的4個數(shù)據(jù)的平均值的小數(shù)點以下的第5位進行四舍五入，小數(shù)點以下第4位為用nm單位表示。(7)膜的熱尺寸變化率從膜的寬度方向上的3個位置采取樣品。測定樣品的大小，為寬度10mm，測定的方向為150mm。而且測定的方向為膜的運行方向和與運行方向呈直角方向的2個方向。測定的方向上標記點間隔為100mm，在規(guī)定溫度(140°C)的恒溫槽中無負荷的狀態(tài)下處理2小時后，取出至室溫下冷卻后進行測定。尺寸的變化，在恒溫恒濕的條件下，23°C、65%RH的條件下，使用讀取顯微鏡進行實施。尺寸的變化率可從熱處理前后的尺寸通過下式求出。熱尺寸變化率={(處理前的尺寸)-(處理后的尺寸)}/(處理前的尺寸)xioo%(8)面內(nèi)遲延值(Re.l)對于等方性膜(延伸前膜)，對寬度方向樣品整幅通過雙折射率測定裝置(商品名KOBRAWFD，王子計測社制造)，計測10mm間隔的遲延值。測定波長為589.3nm。由該數(shù)據(jù)求出測定的樣品整幅方向中的遲延值的差。即，膜整幅方向的遲延值的最大值與最小值的范圍，可用Re.b最小值最大值表示，作為均勻性的尺度(單位nm)。(9)厚度方向的遲延值(Re.2)的測定與上述的(8)的測定同樣地，整幅取樣，將膜的寬度方向5等分。從5等分的樣品取出測定樣品小片，用雙折射率測定裝置(商品名KOBRAWFD，王子計測社制造)計測。以遲相軸或進相軸使該膜樣品旋轉(zhuǎn)，改變?nèi)肷浣嵌?，測定遲延，從該數(shù)據(jù)計算折射率nx、ny以及nz。進一步從這些數(shù)值，計算Re.2=((nx+ny)/2-nz)Xd(單位nm)。在此，以d表示測定膜的厚度。(10)全息圖再生評價使用PULSTEC公司制造的直線式全息圖記錄再生試驗機SHOT-1000,在上述全息圖記錄介質(zhì)中，寫入記錄全息圖的焦點位置中的記錄點的大小直徑200um的一系列的多重全息圖，通過在ISOM'04、Th-J-06、pp、184-185中記載的方法，對多重數(shù)進行評價。在此，將BER>1(T3的記錄全息圖數(shù)作為多重數(shù)。實施例1<光學膜制造工序>使用減壓干燥式的棚段式干燥機，在12(TC下干燥帝人化成(株)制造的雙酚A均聚物光學級聚碳酸酯顆粒(商品名">，<卜AD-5503,Tg:147°C，粘均分子量15000)3小時。將其投入加熱至110。C的熔融擠出機的加熱料斗中，在29(TC下熔融擠出。為了除去熔融聚合物的異物的過濾器，使用平均開孔為10um的SUS無紡布的盤狀物。將過濾后的熔融樹脂通過設定為2卯。C的I鑄模，擠出至旋轉(zhuǎn)的冷卻輥表面(表面溫度設定為6(TC)。使用的冷卻輥，其直徑為800mm，輥表面長度為1800mm。使用流經(jīng)冷卻介質(zhì)的結(jié)構(gòu)以使輥的表面溫度變得均勻。擠出鑄模的模唇的寬度為1500mm，模唇間隙為約2mm。鑄模模唇，使用其下表面沒有凹凸的平坦的模唇。從擠出鑄模流下的樹脂流下冷卻輥的頂部而巻掛住。模唇前端部與冷卻輥表面之間的距離為25mm。為了使膜均勻地冷卻取回，將整幅膜通過靜電密接法密接在冷卻輥表面。靜電密接的電極，使用粗度大約為180ym4)的SUS的打磨干凈的鋼琴絲。將該鋼琴絲與直流電源的正電極連接，冷卻鼓側(cè)接地。施加電壓為7KV。如此，將厚度為97um的膜，冷卻輥旋轉(zhuǎn)速度10m/分鐘，通過離陸輥巻取。接下來，將膜通過輥懸垂型熱處理機進行熱處理。在輥懸垂型熱處理機內(nèi)上下交互配置100mm4)的輥。上下輥間距離為1.6m，每一個相鄰放置的的輥之間的距離與輥徑相同為100mmcJ)。因此，制作成，要處理的膜，在該輥懸垂型熱處理機內(nèi)的烤箱中，停留長度為約50m(滯留時間60秒)。熱處理機內(nèi)的烤箱中的熱風溫度為145°C、烤箱出口的膜的張力為3.0Kg/(厚度97umX膜整幅1440mm)(剖面負載2.1Kg/cm2)。出烤箱后的膜直至同樣在輥懸垂型熱處理機冷卻至60°C,然后取出至室溫。熱處理后的膜的兩端部，各切除70mm，得到1300mm寬度的膜。<全息圖記錄介質(zhì)制造工序>得到的膜的特性示于表2。接下來，使用作為第二基板用樹脂的聚碳酸酯樹脂(商品名"^，<卜AD-5503，帝人化成(株)制造)，通過光盤用注射成型機(SD-40E,住友重機械工業(yè)(株)制造)，成型為外徑120mm4>、內(nèi)徑15mm4)、厚度l.lmm的光盤基板。另外，注射成型時，在單面表面上形成記錄數(shù)據(jù)信息的凹坑，為此，使用形成跟蹤凹坑0.74um、溝槽深度為150nm、溝槽幅度為300nm的圖案的蓋印機。將該光盤基板供給至Blu-rayDisc貼合裝置(乂匕'々義im，芝浦乂力卜口二夕》(株)制造)。乂f々^F-l中，在該磁盤基板以外，反射膜形成用(株)-《&-科研制Ag合金的磁控管濺射器用靶，作為間隙層用膜，切出上述的140mm寬度的聚碳酸酯膜，作為該膜與光盤基板的粘結(jié)用樹脂，供給大日本油墨化學工業(yè)(株)制造的EX-8410。^k'々義F-l中，通過濺射器在光盤基板上形成Ag合金的反射膜后，旋轉(zhuǎn)涂布了粘結(jié)用樹脂。其中，從另外途徑供給的間隙層用層積膜輥僅取出聚碳酸酯膜后，制成光盤狀，將該制成的間隙層用膜貼合在上述基板上，照射紫外線，形成間隙層。然后，作為過濾器層，通過真空蒸鍍法，層積分色鏡層。作為保護層使用帝人化成(株)制造的八'>，^卜AD-5503制膜的厚度lOOiim的聚碳酸酯膜，使用與間隙層同樣的方法在過濾器層上層積。接下來，作為第一基板用樹脂，使用聚碳酸酯樹脂(商品名〃^，<卜AD-5503,帝人化成(株)制造)，通過光盤用注射成型機(SD-40E，住友重機械工業(yè)(株)制造)，形成外徑120mmcj)、內(nèi)徑15mmcJ)、厚度0.6mm的光盤基板。另外，注射成型時，使用沒有聚焦凹坑圖案的鏡面蓋印機。然后，將制備的全息圖記錄層溶液，通過旋轉(zhuǎn)涂布機涂布在保護層上，在其上面貼合第一基板。對其進行遮光，通過在8(TC下保持5小時，制成具有厚度為0.6mm的記錄層的全息圖記錄介質(zhì)。進一步地，全息圖記錄介質(zhì)的記錄再生評價中，使用PULSTEC工業(yè)制造的全息圖評價裝置(型號SHOT-1000)，多重記錄13X13=169的全息圖。BER〉10—s的記錄全息圖數(shù)為多重數(shù)，示于表2中。實施例2除了采用粘均分子量18000(Tg:149°C)的聚碳酸酯顆粒以外，進行與實施例l相同的操作，將結(jié)果示于表l、2。比較例1除了采用粘均分子量32000(Tg:158°C)的聚碳酸酯顆粒以外，進行與實施例1相同的操作，將結(jié)果示于表1、2。比較例2除了使用比熱處理溫度130。C還低的溫度且低的張力下進行處理的、遲延大的膜以外，進行與實施例1相同的操作，將結(jié)果示于表l、2。比較例3除了使用將擠出鑄模的模唇的前端部與冷卻輥表面之間的距離設置為200mm的、厚度不勻及表面粗糙度大的膜以外，進行與實施例1相同的操作，將結(jié)果示于表l、2。比較例4除了采用粘均分子量12000(Tg:138°C)的聚碳酸酯顆粒以外，進行與實施例l相同的操作。在過濾器層層積時，由于間隙層的熱變形，在過濾器層及聚碳酸酯膜上產(chǎn)生皸裂，不能得到全息圖記錄介質(zhì)。將結(jié)果示于表1、2。比較例5與實施例1相同，采用粘均分子量15000(Tg:147°C)的聚碳酸酯顆粒，在29(TC下熔融擠出時，不使用除去熔融聚合物的異物的過濾器，制成顆粒。除此以外，進行與實施例相同的操作，將結(jié)果示于表l、2。得到的聚碳酸酯膜的表面缺陷多。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage30</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage31</column></row><table>工業(yè)實用性本發(fā)明中，由聚碳酸酯樹脂形成的光學膜，雙折射低，表面平滑性良好，因此，使用該光學膜作為間隙層的全息圖記錄介質(zhì)，伺服信號與全息圖信號光不混合，顯示良好的錯誤率，因而可知，其可有效用作全息圖記錄介質(zhì)。權(quán)利要求1.一種全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用膜，其由熔融擠出聚碳酸酯樹脂而制成，其特征在于，(1)膜的厚度為10～150μm；(2)厚度不勻為±2μm以下；(3)在140℃下進行熱處理1小時后的熱尺寸變化率為0.08％以下；(4)全光線透過率為89％以上；(5)面內(nèi)遲延為1～15nm；(6)厚度方向的遲延為100nm以下；及(7)中心線平均表面粗糙度為兩表面均為1～5nm的范圍。2.如權(quán)利要求l所述的膜，其中，聚碳酸酯樹脂由至少含有50molQ/。雙酚A的二羥基成分制得。3.如權(quán)利要求1所述的膜，其中，聚碳酸酯樹脂的粘均分子量為13000~30000。4.如權(quán)利要求l所述的膜，其中，(1)最大長度為10um以上且高度為3Pm以上的表面缺陷點為10個/1112以下;(2)最大長度為20um以上的塊狀內(nèi)部異物為5個/i^以下；并且(3)最大長度為200um以上的傷痕狀的表面缺陷點為1個/1!12以下。5.—種全息圖記錄介質(zhì)，其中，在間隙層上具有權(quán)利要求1~4中任一項所述的膜。6.—種全息圖記錄介質(zhì)，具有作為二維圖像被賦予了信息的信息光和能夠干涉信息光的參照光進行重合，并利用全息圖將信息進行記錄的記錄層，該全息圖記錄介質(zhì)由作為支撐體的第二基板、反射層、間隙層、過濾器層、保護層、記錄層、透光性的第一基板構(gòu)成，其特征在于，間隙層為權(quán)利要求1所述的膜。7.如權(quán)利要求6所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，使信息光的光軸與參照光的光軸同軸來照射信息光及參照光。8.如權(quán)利要求6或7所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，第二基板具有為了檢測出伺服信息而形成的伺服凹坑圖案。9.如權(quán)利要求68中任一項所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，第二基板在伺服凹坑圖案上形成反射膜。10.如權(quán)利要求69中任一項所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，反射層為金屬反射膜。11.如權(quán)利要求610中任一項所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，過濾器層與反射層之間設置間隙層，并使第二基板表面平坦化。12.如權(quán)利要求611中任一項所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，間隙層通過貼合光學用膜而形成。13.如權(quán)利要求612中任一項所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，過濾器層是由分色鏡形成的層或由膽甾型液晶形成的層，具有波長選擇性能。14.如權(quán)利要求613中任一項所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，過濾器層含有顏料或染料。15.如權(quán)利要求614中任一項所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，在過濾器層上形成保護層、記錄層、透光性的第一基板。16.如權(quán)利要求615中任一項所述的全息圖記錄介質(zhì)，其中，第一基板及第二基板是聚碳酸酯樹脂或玻璃。17.如權(quán)利要求6~16中任一項所述的全息圖記錄介質(zhì)，采用通過照射信息光和參照光并使其干涉而形成的干涉圖案在記錄層上記錄信息的方式，其中，采用下述方式，即照射與信息光及參照光不同波長的伺服用光，通過該伺服用光的焦點距離檢測出記錄的干涉圖案的位置信息。全文摘要本發(fā)明的目的是提供一種作為全息圖記錄介質(zhì)的間隙層具有優(yōu)選的物理性質(zhì)及光學特性的膜。即，本發(fā)明提供一種全息圖記錄介質(zhì)的間隙層用膜，其由熔融擠出聚碳酸酯樹脂而制成，其特征在于，(1)膜的厚度為10～150μm；(2)厚度不勻為±2μm以下；(3)在140℃下進行熱處理1小時后的熱尺寸變化率為0.08％以下；(4)全光線透過率為89％以上；(5)面內(nèi)遲延為1～15nm；(6)厚度方向的遲延為100nm以下；(7)中心線平均表面粗糙度為兩表面均為1～5nm。文檔編號G03F7/00GK101414120SQ20081016942公開日2009年4月22日申請日期2008年10月16日優(yōu)先權(quán)日2007年10月16日發(fā)明者常守秀幸申請人:帝人化成株式會社