專利名稱：成像設(shè)備及其框架單元的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明總體構(gòu)思涉及一種成像設(shè)備，更具體地說(shuō)，涉及一種可防止曝光 單元和圖像載體之間的光路的污染的成像設(shè)備。
背景技術(shù)：
成像設(shè)備被設(shè)計(jì)為根據(jù)輸入的圖像信號(hào)在打印介質(zhì)上形成圖像。成像設(shè) 備的示例包括打印機(jī)、復(fù)印機(jī)、傳真機(jī)和結(jié)合上述功能的裝置。
在各種成像設(shè)備中，電子照相成像設(shè)備包括感光構(gòu)件、曝光單元和顯影 單元。曝光單元將光掃描到充有預(yù)定電勢(shì)的感光構(gòu)件上，以在感光構(gòu)件的表 面上形成靜電潛像。顯影單元將顯影劑供應(yīng)到形成有靜電潛像的感光構(gòu)件上， 以形成可視圖像。
形成在感光構(gòu)件上的可視圖像被轉(zhuǎn)印到從打印介質(zhì)送進(jìn)單元輸送來(lái)的打 印介質(zhì)上。轉(zhuǎn)印有圖像的打印介質(zhì)在經(jīng)過(guò)用于將轉(zhuǎn)印的圖像定影到打印介質(zhì) 上的定影操作之后被排放到成像設(shè)備的外部。
通常，曝光單元包括具有光傳播部分的殼體和安裝在所述殼體中的掃描 光學(xué)系統(tǒng)。從掃描光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)生的光通過(guò)光傳播部分被發(fā)射到殼體外部。發(fā) 射的光經(jīng)過(guò)曝光單元和感光構(gòu)件之間的光路被照射到感光構(gòu)件的表面上，從 而在感光構(gòu)件的表面上形成靜電潛像。
成像設(shè)備包含多種顆粒，所述顆粒包括從感光構(gòu)件和顯影單元上分散的 顯影劑、從打印介質(zhì)上分散的紙塵或從外部被引入的污物。如果所述顆粒進(jìn) 入曝光單元和感光構(gòu)件之間的光路，則所述顆粒防礙光掃描到感光構(gòu)件上， 導(dǎo)致靜電潛像的形成失敗或圖像質(zhì)量劣化。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明總體構(gòu)思提供一種成像設(shè)備以及該成像設(shè)備的框架單元，所述成 像設(shè)備能夠防止顆粒進(jìn)入曝光單元和感光構(gòu)件之間的光路。
本發(fā)明總體構(gòu)思的其它方面和/或效用將一部分在以下描述中被闡述，一部分通過(guò)所述描述將變得清楚，或者可通過(guò)實(shí)施本發(fā)明的總體構(gòu)思學(xué)習(xí)到。
本發(fā)明總體構(gòu)思的上述和/或其它方面和效用可通過(guò)提供一種成像設(shè)備
來(lái)實(shí)現(xiàn)，所述成像設(shè)備包括圖像載體；曝光單元，用于通過(guò)光在圖像載體 上形成潛像；顆粒進(jìn)入防止裝置，用于防止顆粒進(jìn)入曝光單元和圖像載體之 間的光路，其中，顆粒進(jìn)入防止裝置包括設(shè)置在光路附近的顆粒儲(chǔ)存單元， 顆粒儲(chǔ)存單元用于將顆粒儲(chǔ)存在其中。
所述成像設(shè)備還可包括框架單元，具有設(shè)置在光路上的光窗，并且顆 粒儲(chǔ)存單元可被設(shè)置在光窗附近。
顆粒儲(chǔ)存單元可包括形成在框架單元中的顆粒儲(chǔ)存凹部。
顆粒儲(chǔ)存單元的寬度可大于經(jīng)過(guò)光窗的光的掃描寬度。
顆粒進(jìn)入防止裝置還可包括設(shè)置在顆粒儲(chǔ)存單元和光路之間的顆粒擋板。
所述成像設(shè)備還可包括設(shè)置在旋轉(zhuǎn)的圖像載體周圍的至少一個(gè)旋轉(zhuǎn)體， 并且顆粒儲(chǔ)存單元可被設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)體的下方。
顆粒進(jìn)入防止裝置還可包括側(cè)構(gòu)件，不僅用于可旋轉(zhuǎn)地支撐旋轉(zhuǎn)體， 還用于阻擋光^各的側(cè)部。
顆粒進(jìn)入防止裝置還可包括突出壁，被構(gòu)造為在光路的附近朝著圖像 載體突出。
顆粒進(jìn)入防止裝置還可包括膜構(gòu)件，其一側(cè)固定到突出壁，并且另一
顆粒進(jìn)入防止裝置還可包括用于密封圖像載體的兩端的密封構(gòu)件。
框架單元可包括主框架和用于覆蓋主框架的框架蓋，光窗可包括形成在 主框架處的第一光傳播孔和形成在所述蓋處的與第一光傳播孔對(duì)應(yīng)的第二光 傳播孔，顆粒儲(chǔ)存凹部可形成在第二光傳播孔的附近。
框架單元可將廢顯影劑儲(chǔ)存在其中，并且顆粒進(jìn)入防止裝置還可包括從 第 一光傳播孔的邊緣朝上突出的側(cè)壁，以防止廢顯影劑進(jìn)入光窗。
曝光單元可包括設(shè)置在光路上的光傳播構(gòu)件，并且所述光傳播構(gòu)件與光 窗可不垂直對(duì)齊。
本發(fā)明總體構(gòu)思的上述和/或其它方面和效用還可通過(guò)提供一種成像設(shè) 備來(lái)實(shí)現(xiàn)，所述成像設(shè)備包括圖像載體；曝光單元，通過(guò)光在圖像載體上 形成潛像；顆粒儲(chǔ)存單元，設(shè)置在曝光單元和圖像載體之間的光路附近，以
6防止顆粒進(jìn)入光路，其中，顆粒儲(chǔ)存單元的寬度大于經(jīng)過(guò)顆粒儲(chǔ)存單元的光 的掃描寬度。
本發(fā)明總體構(gòu)思的上述和/或其它方面和效用還可通過(guò)提供一種成像設(shè)
備來(lái)實(shí)現(xiàn)，所述成像設(shè)備包括感光構(gòu)件；曝光單元，通過(guò)光在感光構(gòu)件上 形成潛像；框架單元，具有設(shè)置在曝光單元和感光構(gòu)件之間的光路上的光窗； 顆粒儲(chǔ)存單元，用于儲(chǔ)存在光窗附近的顆粒，以防止顆粒進(jìn)入光窗。
本發(fā)明總體構(gòu)思的上述和/或其它方面和效用可通過(guò)提供一種用于成像 設(shè)備的框架單元來(lái)實(shí)現(xiàn)，所述框架單元包括光窗，從成像設(shè)備的曝光單元 掃描的光經(jīng)過(guò)所述光窗；顆粒進(jìn)入防止裝置，用于防止顆粒進(jìn)入光窗，顆粒 進(jìn)入防止裝置可包括設(shè)置在光窗附近的顆粒儲(chǔ)存單元。
所述框架單元還可包括主框架和用于覆蓋主框架的框架蓋，并且光窗可 包括形成在主框架處的第 一光傳播孔和形成在框架蓋處的與第 一光傳播孔對(duì) 應(yīng)的第二光傳播孔。
顆粒儲(chǔ)存單元可包括形成在第二光傳播孔的 一側(cè)的顆粒儲(chǔ)存凹部。 顆粒儲(chǔ)存凹部的寬度可大于經(jīng)過(guò)第二光傳播孔的光的掃描寬度。 顆粒進(jìn)入防止裝置還可包括設(shè)置在顆粒儲(chǔ)存凹部和第二光傳播孔之間的 顆粒擋板。
所述框架單元還可包括感光構(gòu)件，通過(guò)經(jīng)過(guò)光窗掃描的光在所述感光構(gòu) 件上形成靜電潛像。
所述框架單元還可包括充電輥，用于給感光構(gòu)件充電；清潔輥，用于 清潔充電輥，并且顆粒儲(chǔ)存單元可被設(shè)置在清潔輥的下方。
本發(fā)明總體構(gòu)思的上述和/或其它方面和效用可通過(guò)提供一種用于成像 設(shè)備的顆粒進(jìn)入防止裝置來(lái)實(shí)現(xiàn)，所述成像設(shè)備包括框架單元、感光構(gòu)件、 曝光單元和曝光單元與感光構(gòu)件之間的光路，所述顆粒進(jìn)入防止裝置包括 多個(gè)側(cè)構(gòu)件，附著到框架單元的相對(duì)的端部；突出壁，設(shè)置在多個(gè)側(cè)構(gòu)件之 間，以從框架蓋朝著感光構(gòu)件突出；膜構(gòu)件，與突出壁和感光構(gòu)件接觸，并 且遮蔽突出壁和感光構(gòu)件之間的空間；多個(gè)密封構(gòu)件，置于感光構(gòu)件的兩側(cè) 之間，其中，顆粒進(jìn)入防止裝置防止顆粒進(jìn)入光路。


通過(guò)下面結(jié)合附圖對(duì)實(shí)施例進(jìn)行的描述，本發(fā)明總體構(gòu)思的示例性實(shí)例的這些和/或其它方面和效用將會(huì)變得清楚和更加容易理解，其中 圖1是顯示根據(jù)本發(fā)明總體構(gòu)思的實(shí)施例的成像設(shè)備的構(gòu)造的示圖； 圖2是顯示圖1的成像設(shè)備的一些部分的示圖3是顯示根據(jù)本發(fā)明總體構(gòu)思的實(shí)施例的成像設(shè)備的框架單元的透視
圖4是顯示根據(jù)本發(fā)明總體構(gòu)思的實(shí)施例的成像設(shè)備的框架單元的內(nèi)部 構(gòu)造的透視圖5是圖2的局部放大示圖6是顯示根據(jù)本發(fā)明總體構(gòu)思的實(shí)施例的成像設(shè)備的框架單元的主視圖。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在，將詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明總體構(gòu)思的示例性實(shí)施例，其例子被顯示在附 圖中，圖中相同的標(biāo)號(hào)始終指代相同的元件。以下，通過(guò)參照附圖描述實(shí)施
圖1是顯示根據(jù)本發(fā)明總體構(gòu)思的實(shí)施例的成像設(shè)備的構(gòu)造的示圖。圖 2是顯示圖1的成像設(shè)備的一些部分的示圖。
如圖1和圖2所示，成像設(shè)備1包括主體10、打印介質(zhì)送進(jìn)單元20、曝 光單元30、感光構(gòu)件40、框架單元100、顯影單元50、轉(zhuǎn)印單元60、定影 單元70和打印介質(zhì)排放單元80。
主體10限定成像設(shè)備1的外表，并且支撐安裝在其中的多個(gè)元件。主體 蓋11樞轉(zhuǎn)地可旋轉(zhuǎn)地結(jié)合到主體10的一側(cè)，以打開或關(guān)閉主體10的一部分。
打印介質(zhì)送進(jìn)單元20包括紙盒21,其中裝載有打印介質(zhì)S;拾取輥 22，用于一張一張地拾取裝載在紙盒21中的打印介質(zhì)S;輸送輥23,用于將 拾取的打印介質(zhì)S輸送到轉(zhuǎn)印單元60。
曝光單元30被設(shè)置在框架單元100的下方，并且用于將對(duì)應(yīng)于圖像信息 的光掃描到感光構(gòu)件40上。曝光單元30包括設(shè)置有用于允許光發(fā)射到外部 的光傳播構(gòu)件31的外殼32以及安裝在外殼32中的掃描光學(xué)系統(tǒng)。
掃描光學(xué)系統(tǒng)包括光源33,用于根據(jù)圖像信號(hào)發(fā)射光；光偏轉(zhuǎn)器34, 用于使從光源33發(fā)射的光偏轉(zhuǎn)；F-6透鏡35,用于補(bǔ)償通過(guò)光偏轉(zhuǎn)器34偏 轉(zhuǎn)的光的像差；反射鏡36,用于將經(jīng)過(guò)F-e透鏡35的光朝著感光構(gòu)件40反射。
光偏轉(zhuǎn)器34包括驅(qū)動(dòng)電機(jī)34a和通過(guò)驅(qū)動(dòng)電機(jī)34a旋轉(zhuǎn)的多面鏡34b。 多面鏡34b具有在其各側(cè)部的多個(gè)反射面，并且偏轉(zhuǎn)和掃描來(lái)自光源33的光。
具體地說(shuō)，從光源33發(fā)射的光通過(guò)旋轉(zhuǎn)多面鏡34b偏轉(zhuǎn)，然后，在經(jīng)過(guò) F-e透鏡35之后通過(guò)反射鏡36朝著光傳播構(gòu)件31反射。被反射鏡36反射的 光通過(guò)光傳播構(gòu)件31發(fā)射到曝光單元30的外部。發(fā)射到曝光單元30的外部 的光經(jīng)過(guò)曝光單元30和感光構(gòu)件40之間的光路卯掃描到感光構(gòu)件40上， 從而在感光構(gòu)件40的表面上形成靜電潛像。用于在感光構(gòu)件40的表面上形 成靜電潛像的光源可以是LED式光源。另外，光偏轉(zhuǎn)器34、 F-e透鏡35、反 射鏡36等可根據(jù)總體構(gòu)造而被省略。
感光構(gòu)件40是用于承載通過(guò)曝光單元30形成的靜電潛像和通過(guò)顯影單 元50形成的可視圖像的圖像載體。雖然感光構(gòu)件40可從鼓式感光構(gòu)件、可 旋轉(zhuǎn)的環(huán)形帶式(endless belt-type)感光構(gòu)件等中選擇，但是本實(shí)施例釆用 鼓式圖像載體。感光構(gòu)件40可以被可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置于框架單元100上。由于框 架單元100容納并支撐感光構(gòu)件40,因此，框架單元IOO可被稱作感光構(gòu)件 單元。
框架單元IOO被可拆卸地安裝在主體10中。當(dāng)框架單元IOO被損壞或者 框架單元100的壽命終止時(shí)，用戶可通過(guò)從主體10打開主體蓋11修理或更 換框架單元100。
圖3是顯示根據(jù)本發(fā)明總體構(gòu)思的實(shí)施例的成像設(shè)備的框架單元100的 透視圖。圖4是顯示框架單元的內(nèi)部構(gòu)造的透視圖。在圖4中，框架單元的 一些部分被省略而不顯示。
如圖2至圖4所示，框架單元100包括主框架IIO，限定框架單元100 的整體外表，并支撐安裝在其中的多個(gè)元件；側(cè)框架120，結(jié)合到主框架IIO 的兩個(gè)橫側(cè)；框架蓋130，用于覆蓋主框架110的頂部；光窗140，被設(shè)置在 光路90上，以使從曝光單元30掃描的光通過(guò)。
充電輥151和清潔輥152可被安裝在框架單元100中。各輥15和152 用作隨同感光構(gòu)件40 —起旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)件150。充電輥151在曝光單元30將 光掃描到感光構(gòu)件40上之前為感光構(gòu)件40充電，使其具有預(yù)定電勢(shì)。清潔 輥152在與充電輥151接觸的狀態(tài)下按照與充電輥151的旋轉(zhuǎn)方向相同的方 向或相反的方向旋轉(zhuǎn)，并且清潔輥152的線速度與充電輥151的線速度不等。清潔輥152去除附著到充電輥151上的顆粒。
參照?qǐng)D2和圖3,顯影劑收集裝置160可被安裝在框架單元100中。顯 影劑收集裝置60收集并儲(chǔ)存在顯影和轉(zhuǎn)印操作的一個(gè)周期完成之后殘留在 感光構(gòu)件40的表面上的廢顯影劑。在本實(shí)施例中，顯影劑收集裝置160與框 架單元100形成為一體。因此，框架單元100可被稱作用于儲(chǔ)存顯影劑的顯 影劑儲(chǔ)存單元。
顯影劑收集裝置160包括清潔刀片161、第一顯影劑儲(chǔ)存部分162、第二 顯影劑儲(chǔ)存部分163、旋轉(zhuǎn)構(gòu)件164、第一顯影劑輸送構(gòu)件165、顯影劑運(yùn)動(dòng) 通道166a和166b以及第二顯影劑輸送構(gòu)件167。
主框架110包括第一框架部分lll，向上突出，以在其中限定第一顯影 劑儲(chǔ)存部分162;第二框架部分112,從第一框架部分111延伸，以在其中限 定第二顯影劑儲(chǔ)存部分163。
側(cè)框架120分別結(jié)合到第一框架部分111的兩個(gè)橫側(cè)，并且感光構(gòu)件40 的中心軸41被側(cè)框架120可旋轉(zhuǎn)地支撐。感光構(gòu)件齒輪42被設(shè)置在感光構(gòu) 件40的一端。感光構(gòu)件齒輪42與設(shè)置在成像設(shè)備的主體10中的感光構(gòu)件驅(qū) 動(dòng)齒輪(未示出)嚙合。
感光構(gòu)件40的兩端均與設(shè)置在顯影單元50中的間隙環(huán)(gap ring)54(圖 2)接觸。在圖3中，標(biāo)號(hào)43指示感光構(gòu)件40的與顯影單元50的間隙環(huán)54 接觸的間隙環(huán)接觸部分。
第一顯影劑儲(chǔ)存部分162具有敞開部分，并且分隔壁168被設(shè)置在該敞 開部分中。清潔刀片161被設(shè)置到分隔壁168的一端。清潔刀片161的布置 方式是，其一端與感光構(gòu)件40接觸以刮除存在于感光構(gòu)件40的表面上的殘 笛'顯影刑。通遼〉霄〉苦力巧i e>丄云l紫的亞努刑^L1諾^子杜吊 一顯衫劑々者存鄰分162 中。
旋轉(zhuǎn)構(gòu)件164和第一顯影劑輸送構(gòu)件165被布置在第一顯影劑儲(chǔ)存部分 162中的上部位置和下部位置。上部的旋轉(zhuǎn)構(gòu)件164在第一顯影劑儲(chǔ)存部分 162中旋轉(zhuǎn)，以攪拌儲(chǔ)存在第一顯影劑儲(chǔ)存部分162中的顯影劑，從而防止 顯影劑結(jié)塊。下部的第一顯影劑輸送構(gòu)件165不僅用于驅(qū)動(dòng)第二顯影劑輸送 構(gòu)件167 (將在隨后描述)，還用于攪拌儲(chǔ)存在第一顯影劑儲(chǔ)存部分162中的 顯影劑。
第一顯影劑輸送構(gòu)件165包括第一偏心軸部分165a和165b,沿著第一方向從其旋轉(zhuǎn)中心偏心地設(shè)置；第二偏心軸部分165c，沿著第二方向從旋轉(zhuǎn) 中心偏心地設(shè)置。第一偏心軸部分165a和165b ^皮設(shè)置在第一顯影劑儲(chǔ)存部 分162的兩個(gè)橫側(cè)邊緣，第二偏心軸部分165c被設(shè)置在第一偏心軸部分165a 和165b之間。
第二顯影劑儲(chǔ)存部分163位于第一顯影劑儲(chǔ)存部分162的前方，并且儲(chǔ) 存從第一顯影劑儲(chǔ)存部分162輸送的顯影劑。
光窗140被設(shè)置在第一顯影劑儲(chǔ)存部分162和第二顯影劑儲(chǔ)存部分163 之間。顯影劑運(yùn)動(dòng)通道166a和166b被設(shè)置在光窗140的兩個(gè)橫側(cè)部。光窗 140允許從曝光單元30掃描的光穿過(guò)框架單元100到達(dá)感光構(gòu)件40。顯影劑 運(yùn)動(dòng)通道166a和166b允許儲(chǔ)存在第一顯影劑儲(chǔ)存部分62中的顯影劑繞過(guò) 光窗140運(yùn)動(dòng)到第二顯影劑儲(chǔ)存部分163中。
光窗140包括第一光傳播孔141,在主框架110的底部穿孔形成；第 二光傳播孔142，在框架蓋130中穿孔，以與第一光傳播孔141對(duì)應(yīng)。從曝 光單元30發(fā)射的光可順序地穿過(guò)第一光傳播孔141和第二光傳播孔142而掃 描到感光構(gòu)件40上。
第二顯影劑輸送構(gòu)件167將儲(chǔ)存在第一顯影劑儲(chǔ)存部分162中的顯影劑 輸送到第二顯影劑儲(chǔ)存部分163中。第二顯影劑輸送構(gòu)件167將輸送到第二 顯影劑儲(chǔ)存部分163中的顯影劑沿著"B"方向向后輸送。
第二顯影劑輸送構(gòu)件167具有板狀，并且按照可直線運(yùn)動(dòng)的方式被設(shè)置 在框架單元100中。
第二顯影劑輸送構(gòu)件167在其兩個(gè)側(cè)端設(shè)置有4氐觸板(interference piece ) 167a。所述抵觸板167a位于第一顯影劑儲(chǔ)存部分162中。抵觸板167a被布 置為與旋轉(zhuǎn)的第——顯影齊'j輸送構(gòu)件165的第一偏心軸部分165a和165b抵觸。 如果抵觸板167a與旋轉(zhuǎn)的第一偏心軸部分165a和165b抵觸，則抵觸板167a 被第一偏心軸部分165a和165b推動(dòng)，使得第二顯影劑輸送構(gòu)件167沿著"A" 方向運(yùn)動(dòng)。
第二顯影劑輸送構(gòu)件167還在其兩側(cè)端設(shè)置有第一彈性構(gòu)件安裝座 167b。第一彈性構(gòu)件安裝座167b位于第二顯影劑儲(chǔ)存部分163中。主框架 IIO設(shè)置有與第一彈性構(gòu)件安裝座167b對(duì)應(yīng)的第二彈性構(gòu)件安裝座113。
每個(gè)第一彈性構(gòu)件安裝座167b支撐彈性構(gòu)件169的一端，并且對(duì)應(yīng)的第 二彈性構(gòu)件安裝座113支撐彈性構(gòu)件169的另一端。彈性構(gòu)件169使第二顯
ii影劑輸送構(gòu)件167沿著"A"方向的反方向("B"方向)彈性地偏置。
如果根據(jù)第一顯影劑輸送構(gòu)件165的旋轉(zhuǎn)，第一偏心軸部分165a和165b 與第二顯影劑輸送構(gòu)件167的抵觸板167a隔開，則第二顯影劑輸送構(gòu)件167 通過(guò)彈性構(gòu)件169的彈力沿著"B"方向運(yùn)動(dòng)。在這種情況下，儲(chǔ)存在第一顯 影劑儲(chǔ)存部分162中的顯影劑通過(guò)顯影劑運(yùn)動(dòng)通道166a和166b被輸送到第 二顯影劑儲(chǔ)存部分163中。
如圖1和圖2所示，顯影單元50將顯影劑供應(yīng)到形成有靜電潛像的感光 構(gòu)件40上。顯影單元50可由用于分別容納不同顏色(例如，黃色(Y)、品 紅色(M)、青色(C)和黑色(K))的顯影劑的四個(gè)顯影裝置50Y、 50M、 50C和501〈組成。
顯影裝置50Y、 50M、 50C和50K的每個(gè)包括顯影劑儲(chǔ)存部分51、送進(jìn) 輥52和顯影輥53。顯影劑儲(chǔ)存部分51儲(chǔ)存將被供應(yīng)到感光構(gòu)件40的顯影 劑，送進(jìn)輥52將儲(chǔ)存在顯影劑儲(chǔ)存部分51中的顯影劑供應(yīng)到顯影輥53。顯 影輥53將顯影劑附著到感光構(gòu)件40的形成有靜電潛像的表面上，以形成可
視圖像。
在本實(shí)施例中，顯影單元50利用非接觸顯影方法在感光構(gòu)件40上形成 可視圖像。顯影裝置50Y、 50M、 50C和50K分別具有間隙環(huán)54,間隙環(huán)54 同軸地設(shè)置到顯影輥53上，以在顯影輥53和感光構(gòu)件40之間保持預(yù)定顯影 間隙。在每個(gè)顯影輥53的兩側(cè)都設(shè)置有間隙環(huán)54。
轉(zhuǎn)印單元60包括中間轉(zhuǎn)印帶61、第一轉(zhuǎn)印輥62和第二轉(zhuǎn)印輥63。
中間轉(zhuǎn)印帶61被支撐輥64和65支撐，并且適于按照與感光構(gòu)件40的 線速度相等的線速度運(yùn)轉(zhuǎn)。第一轉(zhuǎn)印輥62與感光構(gòu)件40相對(duì)，并且中間轉(zhuǎn) 印帶61介于第一轉(zhuǎn)印輥62與感光構(gòu)件40之間，以將形成在感光構(gòu)件40上 的可視圖像轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印帶61上。
第二轉(zhuǎn)印輥63與支撐輥65相對(duì)，并且中間轉(zhuǎn)印帶61介于第二轉(zhuǎn)印輥 63與支撐輥65之間。在圖像從感光構(gòu)件40轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印帶61上的同時(shí)， 第二轉(zhuǎn)印輥63與中間轉(zhuǎn)印帶61隔開，然后，在感光構(gòu)件40上的圖像被完全 轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印帶61上之后，第二轉(zhuǎn)印輥63與中間轉(zhuǎn)印帶61在期望的壓力 下接觸。當(dāng)?shù)诙D(zhuǎn)印輥63與中間轉(zhuǎn)印帶61接觸時(shí)，中間轉(zhuǎn)印帶61上的圖像 被轉(zhuǎn)印到打印介質(zhì)上。
定影單元70包括具有熱源的加熱輥71和被設(shè)置為與加熱輥71相對(duì)的加壓輥72。當(dāng)打印介質(zhì)經(jīng)過(guò)加熱輥71和加壓輥72之間的間隙時(shí)，圖像通過(guò)從 加熱輥7傳遞的熱和施加在加熱輥71和加壓輥72之間的壓力被定影到打印
打印介質(zhì)排放單元80包括用于將經(jīng)過(guò)定影單元70的打印介質(zhì)排放到主 體10外部的打印介質(zhì)排放輥81和打印介質(zhì)支承輥82。
現(xiàn)在，將描述具有上述構(gòu)造的成像設(shè)備的操作。如果打印操作開始，則 充電輥151對(duì)感光構(gòu)件40的表面均勻地充電。然后，曝光單元30將對(duì)應(yīng)于 任何一種顏色(例如，黃色)的圖像信息的光掃描到被均勻充電的感光構(gòu)件 40的表面上，在感光構(gòu)件40上形成對(duì)應(yīng)于黃色圖像信息的靜電潛像。
接著，將顯影偏壓施加到黃色顯影單元50Y的顯影輥53上，使得黃色 顯影劑附著到靜電潛像上，以在感光構(gòu)件40上形成黃色可視圖像?？梢晥D像 通過(guò)第 一轉(zhuǎn)印輥62被轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印帶61上。
在一 頁(yè)黃色圖像的轉(zhuǎn)印完成之后，曝光單元30將對(duì)應(yīng)于另 一種顏色(例 如，品紅色)的圖像信息的光掃描到感光構(gòu)件40上，以在感光構(gòu)件40上形 成對(duì)應(yīng)于品紅色圖像信,l的靜電潛像。
品紅色顯影裝置50M將品紅色顯影劑供應(yīng)到靜電潛像，以形成可視圖像。 形成在感光構(gòu)件40上的品紅色可視圖像通過(guò)第一轉(zhuǎn)印輥62被轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn) 印帶61上。在這種情況下，品紅色可視圖像與先前被轉(zhuǎn)印的黃色可視圖像重
通過(guò)對(duì)青色顯影劑和黑色顯影劑執(zhí)行上述操作，可通過(guò)重疊黃色圖像、 品紅色圖像、青色圖像和黑色圖像在中間轉(zhuǎn)印帶61上形成彩色圖像。最終的 彩色圖像被轉(zhuǎn)印到經(jīng)過(guò)中間轉(zhuǎn)印帶61和第二轉(zhuǎn)印輥63之間的間隙的打印介 質(zhì)上。然后，打印介質(zhì)通過(guò)定影單元70和打印介質(zhì)排放單元80之后被排放 到主體10的外部。
在上述打印操作中，當(dāng)在感光構(gòu)件40上的圖像被轉(zhuǎn)印到中間轉(zhuǎn)印帶61 上時(shí)， 一部分顯影劑殘留在感光構(gòu)件40上，變?yōu)閺U顯影劑。如此導(dǎo)致的殘留 在感光構(gòu)件40上的廢顯影劑被清潔刀片161去除。去除的顯影劑首先被存儲(chǔ) 在框架單元100的第一顯影劑儲(chǔ)存部分162中，然后，通過(guò)第二顯影劑輸送 構(gòu)件167被輸送到第二顯影劑儲(chǔ)存部分163中。
包括在被供應(yīng)到或從感光構(gòu)件40上被去除的過(guò)程中分散的顯影劑的多 種顆粒存在于從曝光單元30發(fā)射的光經(jīng)過(guò)的光路90的周圍。當(dāng)顆粒進(jìn)入光路卯時(shí)，顆粒使得圖像質(zhì)量劣化。
因此，為了防止在光路90周圍存在的顆粒進(jìn)入光路90，成像設(shè)備1包 括顆粒進(jìn)入防止裝置。
圖5是圖2的局部放大示圖。圖6是顯示根據(jù)本發(fā)明總體構(gòu)思的實(shí)施例 的成像設(shè)備的框架單元的主視圖。
如圖3至圖5所示，顆粒進(jìn)入防止裝置包括設(shè)置在光路90附近的用于將 顆粒儲(chǔ)存在其中的顆粒儲(chǔ)存單元210。顆粒儲(chǔ)存單元210容納存在于光路90 周圍的顆粒，以限制顆粒的自由運(yùn)動(dòng)，從而防止顆粒進(jìn)入光路90。
顆粒儲(chǔ)存單元210 (例如)被設(shè)置于在成像過(guò)程中使用的旋轉(zhuǎn)體(例如， 感光構(gòu)件40、充電輥151或清潔輥152)的下方。這種布置是考慮到附著到 旋轉(zhuǎn)體40、 151和152上的顆粒(例如，廢顯影劑、灰塵等)在旋轉(zhuǎn)體40、 151和152的旋轉(zhuǎn)過(guò)程中掉落得太多的事實(shí)。
顆粒儲(chǔ)存單元210可被設(shè)置在光窗140附近，以防止顆粒進(jìn)入形成在框 架單元100上的光窗140。為了允許顆粒儲(chǔ)存單元210有效地防止顆粒阻擋 從光窗140發(fā)出的光，如圖3所示，顆粒儲(chǔ)存單元210的寬度(W)(例如) 可大于穿過(guò)光窗140的光的掃描寬度(d)。雖然圖3顯示了顆粒儲(chǔ)存單元210 的寬度(W)大于通過(guò)光窗140的光的掃描寬度(d)的示例，但是顆粒儲(chǔ)存 單元210的寬度(W)小于光窗140的寬度(D)。出于最大程度地防止顆粒 進(jìn)入到光窗140的考慮，(例如)顆粒儲(chǔ)存單元210的寬度(W)大于光窗140 的寬度(D)。
顆粒儲(chǔ)存單元210可包括形成于在第二光傳播孔142的一側(cè)的框架蓋130 處的顆粒儲(chǔ)存凹部211。但是，顆粒儲(chǔ)存單元210不限于上述構(gòu)造，而是可 被實(shí)現(xiàn)為其它各種形狀的任何一種，以用于儲(chǔ)存光路90周圍的顆粒。例如， 分離的顆粒儲(chǔ)存托盤可被設(shè)置在光路90附近，或者顆粒儲(chǔ)存凹部可一體地形 成在主體10中而不是框架單元100中。
如圖5所示，顆粒擋板220可設(shè)置在顆粒儲(chǔ)存單元210和光路90之間。 顆粒擋板220用于防止儲(chǔ)存在顆粒儲(chǔ)存單元210中的顆粒通過(guò)周圍的氣流朝 著光路卯溢出。在圖3中，顆粒擋板被省略以^更于顯示。
如圖3至圖6所示，顆粒進(jìn)入防止裝置還包括側(cè)構(gòu)件230、突出壁240、 膜構(gòu)件250、密封構(gòu)件260和側(cè)壁270。
側(cè)構(gòu)件230被安裝在各個(gè)側(cè)框架120內(nèi)。側(cè)構(gòu)件230不僅用于可旋轉(zhuǎn)地
14支撐充電輥151的兩端和清潔輥152的兩端，還用于擋住光窗140的兩個(gè)橫 側(cè)部，從而防止顆粒沿著橫向進(jìn)入光窗140 。
突出壁240從框架蓋130朝著感光構(gòu)件40突出。突出壁24(H皮設(shè)置在光 路卯和顯影單元50之間，并且沿著感光構(gòu)件40的軸向延伸。
突出壁240防止從布置在框架蓋130上方的顯影裝置50Y、 50M、 50C 和50K分散的顯影劑和存在于框架單元100的外部的顆粒進(jìn)入光路90。
膜構(gòu)件250可被設(shè)置在突出壁240和感光構(gòu)件40之間，以在突出壁240 和感光構(gòu)件40之間施加彈力。在本實(shí)施例中，膜構(gòu)件250可以是由聚氨酯、 硅樹脂、聚對(duì)笨二曱酸乙二醇酯(PET)等制成的薄膜構(gòu)件。膜構(gòu)件250的 一端固定到突出壁240，膜構(gòu)件250的另一端與感光構(gòu)件40的表面彈性地接 觸。膜構(gòu)件250遮蔽突出壁240和感光構(gòu)件40之間的空間，從而防止顆粒進(jìn) 入光路卯。
密封構(gòu)件260可被安裝到框架單元100的各個(gè)側(cè)框架120,以與感光構(gòu) 件40的間隙環(huán)接觸部分43對(duì)應(yīng)。密封構(gòu)件260 ^f皮置于感光構(gòu)件40的兩端和 框架單元100的兩端之間，以防止外部顆粒進(jìn)入框架單元100。密封構(gòu)件260 不僅用于密封感光構(gòu)件和框架單元100之間，還用于清潔附著到感光構(gòu)件40 的間隙環(huán)接觸部分43上的顆粒。密封構(gòu)件260可由多孔材料(例如，無(wú)紡織 物或聚亞安酯)或橡膠類材料(例如，三元乙丙橡膠(EPDM)、天然橡膠(NR)、 丁腈橡膠(NBR)、聚氨酯、硅樹脂等)制成。
側(cè)壁270從第一光傳播孔141的邊緣向上突出。側(cè)壁270將光窗140從 主框架110中的顯影劑儲(chǔ)存部分162和163劃分出來(lái)，以防止儲(chǔ)存在框架單 元110中的廢顯影劑進(jìn)入第一光傳播孔141。
本實(shí)施例的第一光傳播孔141或第二光傳播孔142可采取提供預(yù)定空的 空間的孔的形式，或者可通過(guò)透明構(gòu)件封閉，以傳播光。
曝光單元30的光傳播構(gòu)件31可相對(duì)于第一光傳播孔141和第二光傳播 孔142沿著側(cè)方向偏心地設(shè)置，而不是與光傳播孔141和142設(shè)置在同一垂 直線上。例如，如圖2所示，光傳播構(gòu)件31可從第一光傳播孔141和第二光 傳播孔142向圖的右側(cè)偏心地布置。因此，即使顆粒進(jìn)入第一光傳播孔141 或第二光傳播孔142，顆粒也不會(huì)聚集在光傳播構(gòu)件31上，這是因?yàn)楣鈧鞑?構(gòu)件31靠右設(shè)置。
另外，雖然本實(shí)施例描述了由透明玻璃或塑料制成的光傳播構(gòu)件31按照密封的方式被設(shè)置在曝光單元30的外殼32上的示例，但是可省略光傳播構(gòu) 件31，另一種方案是，光傳播孔可形成在殼體32上，以使光能夠傳播。
從以上描述中清楚地看出，本發(fā)明總體構(gòu)思的各實(shí)施例提供一種成像設(shè) 備，其包括用于限制在曝光單元和感光構(gòu)件之間的光路周圍的顆粒的自由運(yùn) 動(dòng)的顆粒儲(chǔ)存單元，從而防止顆粒進(jìn)入光路。
此外，作為提供各種結(jié)構(gòu)的結(jié)果，具有使光路與光路周圍的外部空間隔 離的功能，本發(fā)明總體構(gòu)思具有更加有效地防止顆粒進(jìn)入光路的效果。
雖然已經(jīng)顯示并描述了本發(fā)明總體構(gòu)思的各種實(shí)施例，但是本領(lǐng)域技術(shù) 人員應(yīng)該理解，在不脫離本發(fā)明總體構(gòu)思的原理和精神的情況下，可對(duì)所述 實(shí)施例進(jìn)行改變，本發(fā)明總體構(gòu)思的范圍由權(quán)利要求及其等同物限定。
權(quán)利要求
1、一種成像設(shè)備，包括圖像載體；曝光單元，用于通過(guò)光在圖像載體上形成潛像；顆粒進(jìn)入防止裝置，用于防止顆粒進(jìn)入曝光單元和圖像載體之間的光路，其中，顆粒進(jìn)入防止裝置包括設(shè)置在光路附近的顆粒儲(chǔ)存單元，顆粒儲(chǔ)存單元用于將顆粒儲(chǔ)存在其中。
2、 如權(quán)利要求1所述的成像設(shè)備，還包括框架單元，具有設(shè)置在光路上的光窗，其中，顆粒儲(chǔ)存單元被設(shè)置在光窗附近。
3、 如權(quán)利要求2所述的成像設(shè)備，其中，顆粒儲(chǔ)存單元包括顆粒儲(chǔ)存凹部，形成在框架單元處。
4、 如權(quán)利要求2所述的成像設(shè)備，其中，顆粒儲(chǔ)存單元的寬度大于經(jīng)過(guò)光窗的光的掃描寬度。
5、 如權(quán)利要求1所述的成像設(shè)備，其中，顆粒進(jìn)入防止裝置還包括顆粒擋板，設(shè)置在顆粒儲(chǔ)存單元和光路之間。
6、 如權(quán)利要求1所述的成像設(shè)備，還包括至少一個(gè)旋轉(zhuǎn)體，設(shè)置在旋轉(zhuǎn)的圖像載體周圍，其中，顆粒儲(chǔ)存單元被設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)體的下方。
7、 如權(quán)利要求6所述的成像設(shè)備，其中，顆粒進(jìn)入防止裝置還包括側(cè)構(gòu)件，用于可旋轉(zhuǎn)地支撐旋轉(zhuǎn)體并且阻擋光路的側(cè)部。
8、 如權(quán)利要求1所述的成像設(shè)備，其中，顆粒進(jìn)入防止裝置還包括突出壁，在光路的周圍朝著圖像載體突出。
9、 如權(quán)利要求8所述的成像設(shè)備，其中，顆粒進(jìn)入防止裝置還包括膜構(gòu)件，其一側(cè)固定到突出壁，并且另一側(cè)與圖像載體接觸。
10、 如權(quán)利要求1所述的成像設(shè)備，其中，顆粒進(jìn)入防止裝置還包括密封構(gòu)件，用于密封圖像載體的兩端。
11、 如權(quán)利要求3所述的成像設(shè)備，其中，框架單元包括主框架和用于覆蓋主框架的框架蓋，光窗包括形成在主框架處的第一光傳播孔和形成在所述蓋處的與第一光傳播孔對(duì)應(yīng)的第二光傳播孔，顆粒儲(chǔ)存凹部形成在第二光傳播孔的附近。
12、 如權(quán)利要求11所述的成像設(shè)備，其中，框架單元將廢顯影劑儲(chǔ)存在其中，并且顆粒進(jìn)入防止裝置還包括從第一光傳播孔的邊緣朝上突出的側(cè)壁，以防止廢顯影劑進(jìn)入光窗。
13、 如權(quán)利要求2所述的成像設(shè)備，其中，曝光單元包括光傳播構(gòu)件，設(shè)置在光路上，并且所述光傳播構(gòu)件與光窗不垂直對(duì)齊。
14、 一種成像設(shè)備，包括圖像載體；曝光單元，通過(guò)光在圖像載體上形成潛像；顆粒儲(chǔ)存單元，設(shè)置在曝光單元和圖像載體之間的光路附近，以防止顆粒進(jìn)入光^各，其中，顆粒儲(chǔ)存單元的寬度大于經(jīng)過(guò)顆粒儲(chǔ)存單元的光的掃描寬度。
15、 一種成像設(shè)備，包括感光構(gòu)件；曝光單元，通過(guò)光在感光構(gòu)件上形成潛像；框架單元，具有設(shè)置在曝光單元和感光構(gòu)件之間的光路上的光窗；顆粒儲(chǔ)存單元，用于儲(chǔ)存在光窗附近的顆粒，以防止顆粒進(jìn)入光窗。
16、 一種用于成像設(shè)備的框架單元，所述框架單元包括光窗，從成像設(shè)備的曝光單元掃描的光經(jīng)過(guò)所述光窗；顆粒進(jìn)入防止裝置，用于防止顆粒進(jìn)入光窗，其中，顆粒進(jìn)入防止裝置包括設(shè)置在光窗附近的顆粒儲(chǔ)存單元。
17、 如權(quán)利要求16所述的框架單元，還包括主框架；框架蓋，用于覆蓋主框架，其中，光窗包括形成在主框架處的第一光傳播孔和形成在框架蓋處的與第 一光傳播孔對(duì)應(yīng)的第二光傳播孔。
18、 如權(quán)利要求17所述的框架單元，其中，顆粒儲(chǔ)存單元包括顆粒儲(chǔ)存凹部，形成在第二光傳播孔的一側(cè)。
19、 如權(quán)利要求18所述的框架單元，其中，顆粒儲(chǔ)存凹部的寬度大于經(jīng)過(guò)第二光傳播孔的光的掃描寬度。
20、 如權(quán)利要求17所述的框架單元，其中，顆粒進(jìn)入防止裝置還包括顆粒擋板，設(shè)置在顆粒儲(chǔ)存凹部和第二光傳播孔之間。
21、 如權(quán)利要求16所述的框架單元，還包括感光構(gòu)件，通過(guò)經(jīng)過(guò)光窗掃描的光在所述感光構(gòu)件上形成靜電潛像。
22、 如權(quán)利要求21所述的框架單元，還包括充電輥，用于給感光構(gòu)件充電，清潔輥，用于清潔充電輥，其中，顆粒儲(chǔ)存單元被設(shè)置在清潔輥的下方。
23、 一種用于成像設(shè)備的顆粒進(jìn)入防止裝置，所述成像設(shè)備包括框架單元、感光構(gòu)件、爆光單元和曝光單元與感光構(gòu)件之間的光路，所述顆粒進(jìn)入防止裝置包括多個(gè)側(cè)構(gòu)件，附著到框架單元的相對(duì)的端部；突出壁，設(shè)置在多個(gè)側(cè)構(gòu)件之間，以從框架蓋朝著感光構(gòu)件突出；膜構(gòu)件，與突出壁和感光構(gòu)件接觸，并且遮蔽突出壁和感光構(gòu)件之間的空間；多個(gè)密封構(gòu)件，置于感光構(gòu)件的兩側(cè)之間，其中，顆粒進(jìn)入防止裝置防止顆粒進(jìn)入光路。
全文摘要
本發(fā)明提供一種成像設(shè)備及其框架單元，所述成像設(shè)備包括圖像載體；曝光單元，用于通過(guò)光在圖像載體上形成潛像；顆粒進(jìn)入防止裝置，用于防止顆粒進(jìn)入曝光單元和圖像載體之間的光路。顆粒進(jìn)入防止裝置包括設(shè)置在光路附近的顆粒儲(chǔ)存單元，顆粒儲(chǔ)存單元用于將顆粒儲(chǔ)存在其中。
文檔編號(hào)G03G15/00GK101515125SQ20081016803
公開日2009年8月26日 申請(qǐng)日期2008年9月25日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月21日
發(fā)明者張皓軫, 白明洙, 金成起, 金鐘仁 申請(qǐng)人:三星電子株式會(huì)社