專利名稱：曝光裝置和基板的矯正裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種曝光裝置和基板的矯正裝置。
背景技術：
在制造印刷基板的曝光裝置中，采用了這樣的結構將由基板搬送 裝置搬送來的基板載置并抽吸固定在定位用的曝光工作臺上進行曝光。 專利文獻1:日本特開2005-370037
但是，印刷布線用的基板與半導體晶片等相比，易發(fā)生翹曲和形變 等基板變形，并且變形量也很大，會在基板與曝光工作臺之間產生間隙， 其結果為會產生抽吸泄漏，存在吸附不完全或者困難的問題。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于解決上述現(xiàn)有技術的問題。
為了達到上述目的，本發(fā)明的曝光裝置的特征在于，其包括曝光 工作臺，其載置印刷布線用的基板；搬送裝置，其將基板搬送至上述曝 光工作臺；可升降的板，其設置于上述搬送裝置，用于將上述基板壓靠 在上述曝光工作臺上來矯正變形基板；密封裝置，其對上述曝光工作臺 和板之間的空間進行密封，以形成密閉空間；以及抽吸裝置，其對利用 上述密封裝置形成的密閉空間進行抽吸，使該密閉空間成為負壓，上述 板依靠上述密閉空間的負壓而下降，將上述基板壓靠在上述曝光工作臺 上，從而矯正基板。
此外，本發(fā)明的基板的矯正裝置的特征在于，其包括:工作臺，其 載置基板；搬送裝置，其將基板搬送至上述工作臺；可升降的板，其設 置于上述搬送裝置，用于將上述基板壓靠在上述工作臺上來矯正變形基 板；密封裝置，其對上述工作臺和板之間的空間進行密封，以形成密閉空間；以及抽吸裝置，其對利用上述密封裝置形成的密閉空間進行抽吸， 使該密閉空間成為負壓，上述板依靠上述密閉空間的負壓而下降，將上 述基板壓靠在上述工作臺上，從而矯正基板。
根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置和矯正裝置，由于生成密閉空間并通過真空 緊貼經板將基板壓靠在工作臺上，所以能夠施加強大的載荷，還能夠矯 正基板的因為是厚板而具有強大的反作用力的變形。因此，在曝光裝置 中，能夠防止基板吸附時的泄漏，能夠進行高效率的曝光。
而且，不需要有大型的裝置來施加大的載荷，能夠實現(xiàn)裝置的小型化。
此外還具有以下等效果只要使板的大小與應用的最大的基板尺寸 相一致，則能夠與基板尺寸無關地可靠地夾入基板(包括基板的邊緣部 在內)，能夠對基板的整個面施加均等的載荷。


圖1是表示本發(fā)明的一個實施方式的示意圖。
圖2是表示本發(fā)明的一個實施方式的動作的說明圖。
圖3是表示本發(fā)明的一個實施方式的動作的流程圖。
標號說明
1:曝光工作臺；2:搬送裝置；3:密封件(packing); 4:真空泵； 5:控制裝置；10:抽吸孔；11:抽吸泵；12:壓力傳感器；20:板；21: 保持抽吸孔；22:保持抽吸泵；25:升降引導件；30:真空泵；31:密 封件泵(packing pump); 40:真空抽吸孔；50:光源；51:掩模；52: 投影透鏡；53:搬入輸送機；54:搬出輸送機；90:密閉空間；99:基 板。
具體實施例方式
以下根據(jù)

本發(fā)明的印刷布線基板用的曝光裝置的實施方式。
在圖1中，曝光工作臺1載置作為應曝光的被曝光對象的、印刷布線用的基板99，通過光源50、掩模51和投影透鏡52對該基板99進行 曝光。曝光工作臺l通過驅動裝置(未圖示)可在XYZ方向上移動，并 且可在9方向上旋轉。
在曝光工作臺1上設置有抽吸孔IO，從而構成為通過抽吸泵11來抽 吸基板99進行固定。在抽吸泵11上設置有壓力傳感器12,從而能夠檢 測抽吸壓力，檢測抽吸是否正常進行。
在曝光工作臺1的進入側設置有搬送裝置2，搬送裝置2構成為將 由搬入輸送機53從前一工序搬送來的基板99載置在曝光工作臺1上。
搬送裝置2具有板20,該板20由升降引導件25保持為可在上下方 向上自由升降。在板20上設置有保持抽吸孔21,通過保持抽吸泵22抽 吸基板99，從而構成為對基板99進行懸吊保持。
在板20的周圍設置有密封件3，密封件3與曝光工作臺1接觸，從 而能夠在與曝光工作臺1和抽吸孔IO之間形成密閉空間90。
密封件3可通過密封件泵31伸縮，當密封件3中填充有空氣時，密 封件3脹大，作為密封件發(fā)揮作用。
在搬送裝置2的板20上，進一步在密封件3的內側設置有真空抽吸 孔40，該真空抽吸孔40連通至真空泵4。構成為能夠通過該真空泵4 的抽吸對上述密閉空間90進行抽吸，使密閉空間卯的內部壓力下降至 接近真空的狀態(tài)。
另外，2'是搬出用的搬送裝置，54是搬出輸送機。
控制裝置5對曝光裝置整體進行控制，上述曝光工作臺1、保持抽 吸泵22、密封件泵31、真空泵4、抽吸泵11也由控制裝置5控制。
根據(jù)圖2說明動作。
搬送裝置2從搬入輸送機53接收基板99，通過保持抽吸孔21和保 持抽吸泵22進行抽吸保持，將基板99搬送至曝光工作臺1。 (a)
接著，曝光工作臺1為了接收基板99而上升，在該曝光工作臺1上 升至將板20上頂?shù)奈恢煤?，通過抽吸孔10和抽吸泵11抽吸基板99進 行基板吸附。同時從保持抽吸泵22鼓氣，解除搬送裝置2對基板99的 保持。(b)在基板99發(fā)生了變形的情況下，在基板99和曝光工作臺1之間出 現(xiàn)間隙，抽吸泵11的抽吸的基板吸附壓力不會升高?？刂蒲b置5根據(jù)來 自壓力傳感器12的檢測信號檢測到這種情況，對密封件3施加正壓使其 伸展，使密封件3與曝光工作臺l接觸，從而生成密閉空間卯。(c)
接著，使保持抽吸泵22停止鼓氣，通過真空抽吸孔40和真空泵4 對密閉空間90進行抽吸，使密閉空間90內為接近真空的狀態(tài)。板20可 通過升降引導件25在上下方向上自由升降，所以板20被大氣壓按壓， 通過板20和曝光工作臺1對基板99施加載荷，從而矯正基板99。 (d)
由于基板99借助于真空壓力而被施加了大的載荷，所以能有效地矯 正變形。
當矯正了基板99的變形、消除了泄漏后，利用抽吸泵11進行的基 板吸附得以正常進行。如果來自壓力傳感器12的吸附壓力達到了預定的 設定值，則停止真空泵4，使密封件3收縮，使密閉空間90開放，并且 使曝光工作臺l下降。然后，使搬送裝置2退回到搬入輸送機53上方。 然后進行位置對準等，執(zhí)行曝光。(e)
接下來根據(jù)圖3說明控制裝置5的動作。
當搬送裝置2將基板99搬送到曝光工作臺1并載置于曝光工作臺1 上時(步驟Sl)，使抽吸泵11工作，抽吸基板99來進行基板吸附(步驟 S2)。檢查來自壓力傳感器12的檢測壓力，如果大于等于預定值，則判 斷為吸附正常地進行，跳到步驟S7進行曝光動作(步驟S3)。在檢測壓 力未達到預定值的情況下，判斷為吸附沒有正常進行，使密封件泵31工 作，向密封件3施加正壓使其膨脹，從而生成密閉空間90 (步驟S4)， 通過板20對基板99施加載荷以矯正基板99 (步驟S5)。如果基板99被 矯正、正常地進行吸附、并且來自壓力傳感器12的檢測壓力達到了預定 的設定值(步驟S6)，則使真空泵4停止，并使搬送裝置2退回，然后執(zhí) 行曝光處理(步驟S7)。
另外，以上對將本發(fā)明提供給曝光裝置的情況進行了說明，但是也 可以作為矯正基板99的變形的矯正裝置來實現(xiàn)。
權利要求
1. 一種基板的曝光裝置，其特征在于，該基板的曝光裝置包括曝光工作臺，其載置印刷布線用的基板；搬送裝置，其將基板搬送至上述曝光工作臺；可升降的板，其設置于上述搬送裝置，用于將上述基板壓靠在上述曝光工作臺上來矯正變形基板；密封裝置，其對上述曝光工作臺和板之間的空間進行密封，以形成密閉空間；以及抽吸裝置，其對利用上述密封裝置形成的密閉空間進行抽吸，使該密閉空間成為負壓，上述可升降的板依靠上述密閉空間的負壓而下降，將上述基板壓靠在上述曝光工作臺上，從而矯正基板。
2. 根據(jù)權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于， 在上述可升降的板上設置有用于保持基板的抽吸裝置， 上述搬送裝置將基板保持在上述抽吸裝置上來進行基板的搬送。
3. —種基板的矯正裝置，其特征在于， 該基板的矯正裝置包括工作臺，其載置基板；搬送裝置，其將基板搬送至上述工作臺；可升降的板，其設置于上述搬送裝置，用于將上述基板壓靠在上述 工作臺上來矯正變形基板；密封裝置，其對上述工作臺和板之間的空間進行密封，以形成密閉 空間；以及抽吸裝置，其對利用上述密封裝置形成的密閉空間進行抽吸，使該 密閉空間成為負壓，上述可升降的板依靠上述密閉空間的負壓而下降，將上述基板壓靠 在上述工作臺上，從而矯正基板。
全文摘要
本發(fā)明提供一種曝光裝置和基板的矯正裝置，該曝光裝置可進行基板的矯正。對密封件(3)施加正壓使其伸展，使其與曝光工作臺(1)接觸，從而生成密閉空間(90)，通過真空抽吸孔(40)和真空泵(4)對密閉空間(90)進行抽吸，借助于大氣壓來按壓板(20)，通過板(20)和曝光工作臺(1)對基板(99)施加載荷，以矯正基板(99)。如果抽吸泵(11)的基板吸附壓力達到了預定的設定值，則使真空泵(4)停止，使密封件(3)收縮，使搬送裝置(2)退回至搬入輸送機(53)之上，然后執(zhí)行曝光。
文檔編號G03F7/20GK101419409SQ20081016802
公開日2009年4月29日 申請日期2008年9月25日 優(yōu)先權日2007年10月26日
發(fā)明者原貴之 申請人:株式會社阿迪泰克工程