專利名稱：：磁性顆粒攜帶裝置、顯影單元、處理盒、使用其的成像設(shè)備、以及其表面處理方法磁性顆粒攜帶裝置、顯影單元、處理盒、使用其的成像設(shè)備、以及其表面處理方法相關(guān)申請的交叉引用本申請基于2007年1月11日向日本專利局提交的日本專利申請第2007-003425號申請，及2007年4月24日提交的日本專利申請第2007-113883號申請為優(yōu)先權(quán)，其全部內(nèi)容通過引用而結(jié)合在本文中。
技術(shù)領(lǐng)域：
本公開通常涉及一種磁性顆粒攜帶裝置如顯影劑載體，顯影單元，處理盒，使用磁性顆粒攜帶裝置的成像設(shè)備，及由于磁性顆粒攜帶裝置的表面處理方法。
背景技術(shù)：
：典型地，成像設(shè)備包括感光鼓及具有中空結(jié)構(gòu)(如顯影套筒)的磁性顆粒攜帶裝置(如顯影劑載體)。在此類成像設(shè)備中，顯影劑被攜帶在顯影套筒的外表面上然后被傳輸至感光鼓以用于成像操作。此類顯影套筒具有受到表面糙化處理的外表面，例如對外表面噴砂或在其上形成溝槽，以使顯影劑可以可靠地?cái)y帶在顯影套筒上。而且，顯影套筒具有隨機(jī)地形成數(shù)個(gè)凹陷的外表面，從上方觀察時(shí)每個(gè)凹陷具有近似的橢圓形。顯影套筒中的此類凹陷按照橢圓凹陷長軸方向可分為兩種類型。在第一類型凹陷中，橢圓凹陷長軸方向與顯影套筒的軸近似對齊，而在第二類型凹陷中，凹陷長軸方向與顯影套筒的圓周方向近似對齊，即，垂直于軸向的方向。每種類型的凹陷數(shù)目不均等，第一類型較多。當(dāng)具有中空結(jié)構(gòu)的顯影套筒受到上述噴砂處理以在外表面上形成凹部和凸部時(shí)，此類凹部和凸部相對較小。因此，在重復(fù)打印操作下，此類凹部和凸部被顯影劑等逐漸地刮平坦或近似平坦，逐漸減少顯影套筒可傳輸?shù)娘@影劑的量并對圖像質(zhì)量造成負(fù)面影響，例如，結(jié)果導(dǎo)致模糊的圖像。顯影套筒可傳輸?shù)娘@影劑的量可通過經(jīng)過再次噴砂在顯影套筒的外表面上形成更大的凹部和凸部而增加。然而，此途徑具有缺點(diǎn)。例如，形成更大的凹部和凸部所需的更有力的噴砂會使顯影套筒自身變形，對其旋轉(zhuǎn)造成負(fù)面影響。顯影套筒不能準(zhǔn)確旋轉(zhuǎn)可引起設(shè)在顯影套筒和感光鼓之間的間隙波動(dòng)，這樣可導(dǎo)致向感光鼓的顯影劑的供應(yīng)不穩(wěn)定繼而導(dǎo)致所形成的圖像上恰當(dāng)色粉濃度的缺失。或者，如上所述，可在顯影套筒的外表面上形成溝槽。此類溝槽大于通過上述噴砂處理形成的凹部和凸部，也大于包含在顯影劑中的磁性載體的顆粒。溝槽的較大尺寸可防止其與噴砂形成的凹部一樣被顯影劑徹底地或較快地磨損，且因此顯影套筒可傳輸?shù)娘@影劑的量不會隨時(shí)間減少。然而，此類顯影套筒的外表面上可能具有顯影劑的不均勻分布，因?yàn)闇喜郾葻o溝槽的部分可攜帶并傳輸更多的顯影劑，這樣會導(dǎo)致最終產(chǎn)生的圖像上不均勻的色粉濃度。相對于上述形成在顯影套筒的外表面上的橢圓形凹陷，它們大于或深于傳統(tǒng)噴砂形成的凹陷。因此，顯影劑不太可能磨損此橢圓凹陷，且因此顯影套筒可攜帶的顯影劑的量不會隨時(shí)間減少且具有合適的色粉濃度的圖像可持續(xù)產(chǎn)生。而且，因?yàn)榇税枷菘呻S機(jī)地形成在顯影套筒的外表面上，顯影劑可作為整體隨機(jī)地?cái)y帶在顯影套筒上，這意味著顯影劑可作為整體均勻地附接至顯影套筒。因此，此類顯影套筒可控制最終形成圖像的圖像濃度不均。而且，如上所述，在顯影套筒外表面上的凹陷包括在顯影套筒軸向上延伸的第一類型凹陷，及在顯影套筒圓周方向上延伸的第二類型凹陷，且外表面上第一類型凹陷的數(shù)目大于第二類型凹陷。因此，顯影劑可沿顯影套筒的軸向被提取到顯影套筒上。因此，即使顯影套筒旋轉(zhuǎn)，被提取的顯影劑也不太可能從顯影套筒上掉落。因此，橢圓凹陷可攜帶如上述溝槽一樣多的顯影劑。然而，顯影套筒中的此類凹陷包括數(shù)目相對較小的與顯影套筒的圓周方向?qū)?zhǔn)的凹陷。因此，顯影套筒的圓周方向上的顯影劑的粘著密度(或量)降低或不均勻，紙張傳輸方向上的圖像濃度不均無法被有效地控制或避免?？偟脕碚f，與垂直于紙張傳輸方向的紙張寬度方向上的圖像濃度不均相比，紙張傳輸方向上的圖像濃度不均更容易分辨?？紤]到此背景，所期望的是可控制紙張傳輸方向上的圖像濃度不均的方法或設(shè)備。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提供一種包括磁場發(fā)生器及中空圓柱形結(jié)構(gòu)的磁性顆粒攜帶裝置。磁場發(fā)生器產(chǎn)生磁場。中空圓柱形結(jié)構(gòu)包圍著磁場發(fā)生器并使用磁場將磁性顆粒吸引到的中空結(jié)構(gòu)的外表面上。中空圓柱形結(jié)構(gòu)的外表面上設(shè)有多個(gè)橢圓形凹陷。凹陷包括第一類型凹陷和第二類型凹陷。第一類型橢圓凹陷的長軸近似沿中空圓柱形結(jié)構(gòu)的軸向延伸，第二類型橢圓凹陷的長軸近似沿中空圓柱形結(jié)構(gòu)的圓周方向延伸。中空圓柱形結(jié)構(gòu)的外表面具有的第二類型橢圓凹陷多于第一類型橢圓凹陷。本發(fā)明還提供一種包括潛像載體，充電器，記錄器，及顯影單元的成像設(shè)備。潛像載體在其上攜帶有潛像。充電器對潛像載體的表面充電。記錄器構(gòu)造成向潛像載體上記錄潛像。顯影單元使用磁性顆粒攜帶裝置用顯影劑對潛像進(jìn)行顯影。磁性顆粒攜帶裝置包括磁場發(fā)生器和中空圓柱形結(jié)構(gòu)。磁場發(fā)生器產(chǎn)生磁場。中空圓柱形結(jié)構(gòu)包圍著磁場發(fā)生器并將使用磁場磁性顆粒吸引到的中空結(jié)構(gòu)的外表面上。中空圓柱形結(jié)構(gòu)的外表面上設(shè)有多個(gè)橢圓形凹陷。凹陷包括第一類型凹陷和第二類型凹陷。第一類型橢圓凹陷的長軸近似沿中空圓柱形結(jié)構(gòu)的軸向延伸，第二類型橢圓凹陷的長軸近似沿中空圓柱形結(jié)構(gòu)的圓周方向延伸，中空圓柱形結(jié)構(gòu)的外表面具有的第二類型橢圓凹陷多于第一類型橢圓凹陷。本發(fā)明還提供一種糙化目標(biāo)物體的表面的方法。該方法包括產(chǎn)生和壓緊。產(chǎn)生步驟在目標(biāo)物體周圍產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)的磁場。壓緊步驟用具有200Hz至400Hz的頻率的旋轉(zhuǎn)磁場的作用將多個(gè)圓柱形磨粒壓緊到目標(biāo)物體的外表面上。在結(jié)合附圖閱讀了下文的描述后，對本公開的更完整的評價(jià)及特色和優(yōu)點(diǎn)及其它目標(biāo)的獲得及理解會變得容易，附圖如下圖1所示為依照示意性實(shí)施例的磁性顆粒攜帶裝置的剖視圖；圖2所示為圖1的磁性顆粒攜帶裝置的中空結(jié)構(gòu)的透視圖；圖3所示為圖1的磁性顆粒攜帶裝置的中空結(jié)構(gòu)的展開表面圖像視圖，其中具有橢圓形的凹陷包括在中空結(jié)構(gòu)軸向上對準(zhǔn)的第一類型凹陷，及在中空結(jié)構(gòu)圓周方向上對準(zhǔn)的第二類型凹陷，其中第一類型凹陷的數(shù)目大于第二類型凹陷；圖4所示為圖3的中空結(jié)構(gòu)的外表面的示意圖；圖5所示為圖1的磁性顆粒攜帶裝置的中空結(jié)構(gòu)的展開表面圖像視圖，其中具有橢圓形的凹陷包括在中空結(jié)構(gòu)軸向上對齊的第一類型凹陷，及在中空結(jié)構(gòu)圓周方向上對齊的第二類型凹陷，其中第二類型凹陷的數(shù)目大于第一類型凹陷；圖6所示為圖5的中空結(jié)構(gòu)的外表面的示意圖；圖7所示為使用圖3的中空結(jié)構(gòu)的磁性顆粒攜帶裝置的剖視圖，其中顯影劑的突出聚合鏈形成在磁性顆粒攜帶裝置的外表面上；圖8所示為使用圖5的中空結(jié)構(gòu)的磁性顆粒攜帶裝置的另一個(gè)剖視圖，其中顯影劑的突出聚合鏈形成在磁性顆粒攜帶裝置的外表面上；圖9所示為用于顯影劑的磁性顆粒的剖視圖；圖IO所示為依照示意性實(shí)施例的顯影單元及處理盒的剖視圖；圖11所示為依照示意性實(shí)施例的成像設(shè)備的剖視圖；圖12所示為用于對圖2的中空結(jié)構(gòu)的外表面進(jìn)行表面糙化處理的表面處理機(jī)器的透視圖；圖13所示為沿圖12的線2-2所剖的表面處理機(jī)器的剖視圖；圖14所示為用在圖12的表面處理機(jī)器中的磁性磨粒的透視圖；圖15所示為沿圖14的線3-3所剖的圖14的磁性磨粒的展開圖；圖16所示為磁性磨粒及在圖12的表面處理機(jī)器中處理的中空結(jié)構(gòu)的示意性剖視圖，其中磁性磨粒在可旋轉(zhuǎn)地沿中空結(jié)構(gòu)的外圓面移動(dòng)的同時(shí)繞其中心旋轉(zhuǎn)；圖17所示為磁性磨粒及中空結(jié)構(gòu)的示意性剖視圖，其中磁性磨粒壓緊在中空結(jié)構(gòu)的外表面上；及圖18所示為具有橢圓形狀且與中空結(jié)構(gòu)的圓周方向?qū)?zhǔn)的凹陷的剖視圖。附圖意在說明本發(fā)明的示意性實(shí)施例而無意于限制其范圍。除非特別說明，附圖不應(yīng)當(dāng)作按比例繪制，且在不同的視圖中相同或相似的參考號代表相同或相似的部件。具體實(shí)施方式現(xiàn)在對本發(fā)明的示意性實(shí)施例進(jìn)行描述。應(yīng)注意盡管如第一，第二等的詞語用來描述各種元件，部件，區(qū)域，層和/或截面，應(yīng)理解這些元件，部件，區(qū)域，層和/或截面并不因此而受限制，因?yàn)檫@些詞語只是相對的，即，只是用來區(qū)別一個(gè)元件，部件，區(qū)域，層和/或截面。從而，例如，在不背離本發(fā)明的宗旨的前提下，下文所述的第一元件，部件，區(qū)域，層或截面也可命名為第二元件，部件，區(qū)域，層或截面。此外，應(yīng)注意此處所用的術(shù)語只是用來描述特定的實(shí)施例而不是限制本發(fā)明。從而，例如，除非特別聲明，此處所用的單數(shù)形式"一個(gè)"，"一個(gè)"，"這個(gè)"也可包括復(fù)數(shù)形式。而且，當(dāng)詞語"包括"及/或"包括"用在本說明中時(shí)，用于明確所聲明的特征，整數(shù)，步驟，操作，元件，及/或部件的存在，但并不排除一個(gè)或多個(gè)其它特征，整數(shù)，步驟，操作,元件，及/或部件的存在或附加。而且，盡管在圖示的所述示意性實(shí)施例中，由于清楚使用具體術(shù)語，但本公開并不被限制于如此選擇的具體術(shù)語，應(yīng)意識到每個(gè)具體元件包括所有以相似方式工作的技術(shù)等同物。參考附圖，現(xiàn)參考附圖對依照一個(gè)示意性實(shí)施例的磁性顆粒攜帶裝置(例如，顯影套筒)進(jìn)行描述?，F(xiàn)主要參考圖1至6，10，及18對依照示意性實(shí)施例的磁性顆粒攜帶裝置進(jìn)行描述。如圖1所示，例如，用作磁性顆粒攜帶裝置的顯影輥115包括中心棒134，磁輥133，及顯影套筒132。中心棒134的設(shè)置使其縱向方向與感光鼓108的縱向方向平行(見圖10)，且以不可旋轉(zhuǎn)的方式固定至如圖10所示的顯影單元113的外殼125，。用作磁場發(fā)生器的磁輥133可由磁性材料制成且被造型為圓柱形。磁輥133附接有多個(gè)固定的磁極(未示出)。磁輥133被固定至中心棒134的外圓面，且由此而不可繞中心棒134的軸心旋轉(zhuǎn)。每個(gè)固定磁極可以是具有長桿形的磁鐵且附接至磁輥133。沿磁輥133(即顯影輥115)的縱向延伸的固定磁極設(shè)在磁輥133的全部長度上。例如，如此構(gòu)造的磁輥133被包敷在具有圓柱形的中空結(jié)構(gòu)的顯影套筒132中。如下文參考圖IO所述，固定磁極中的一個(gè)與攪拌螺栓118面對，且用作將顯影劑提取至顯影輥115的顯影套筒132上的提取磁極。仍如下文參考圖10所述，另一個(gè)固定磁極與感光鼓108面對，并用作顯影磁極。顯影磁極在顯影輥115和感光鼓108之間形成磁場。固定磁極可用于將由磁性顆粒制成且包括在顯影劑126(見圖8)中的磁性載體135(見圖9)吸引至顯影套筒132的外表面。磁性載體135可沿固定磁極產(chǎn)生的磁場一個(gè)堆疊在另一個(gè)上，由此可在顯影套筒132的外表面上以凸出形式形成磁性載體135的聚合鏈(見圖7及8)。用于本公開中的詞語"磁性載體"具有單個(gè)或多個(gè)磁性顆粒的含義。因此，磁性載體135或磁性載體135可用在本公開中。然后，包括在顯影劑126中的色粉顆粒被吸引到磁性載體135的凸出聚合鏈上。因此，顯影劑126在磁輥133的磁力的作用下被吸引到顯影套筒132的外表面上。如圖2所示，例如，顯影套筒132具有圓柱形。顯影套筒132將磁輥133包敷在其中，且可繞顯影套筒132的中心旋轉(zhuǎn)。因此，當(dāng)顯影套筒132繞其軸旋轉(zhuǎn)時(shí)，顯影套筒132的內(nèi)表面與每個(gè)固定磁極連續(xù)地面對。顯影套筒132可由非磁性材料如鋁合金，不銹鋼(SUS)等制成。如下所述，顯影套筒132的外表面可被表面處理機(jī)器1(見圖12)處理以使外表面為優(yōu)先地糙化的表面。作為顯影套筒132的基料，鋁合金以其切削性和輕質(zhì)而被優(yōu)先選用。當(dāng)選用鋁合金作為顯影套筒132的基料時(shí)，例如，應(yīng)優(yōu)先選用A6063,A5056,A3003標(biāo)準(zhǔn)的鋁合金。當(dāng)選用SUS(不銹鋼)時(shí)，例如，應(yīng)優(yōu)先選用SUS303，SUS304，或SUS316。例如，顯影套筒132可具有給定外徑如17mm至18mm及給定軸向長度如240mm至350mm。根據(jù)設(shè)計(jì)理念可將顯影套筒132的尺寸改變?yōu)槿我庵?。顯影套筒132的外表面具有可根據(jù)顯影套筒132的表面部而改變的給定的表面粗糙度。例如，形成在顯影套筒132上的凹陷的深度可沿軸向自中心部向顯影套筒132的每個(gè)端部逐漸變深。而且，如圖3至6所示，顯影套筒132的外表面上具有數(shù)個(gè)從顯影套筒132的上方所視為橢圓形的凹陷139。如圖3至6所示，此類凹陷139隨機(jī)地形成在顯影套筒132的外表面上。如圖3至6所示，凹陷139可具有兩種類型的凹陷，g卩，第一凹陷139a(見圖3及4)及第二凹陷139b(見圖5及6)。在第一凹陷139a中，橢圓形的長軸近似與顯影套筒132的軸向?qū)?zhǔn)。例如，第一凹陷139a的橢圓形的長軸相對于顯影套筒132的軸向具有在±45°以內(nèi)的夾角。在第二凹陷139b中，橢圓形的長軸近似與顯影套筒132的圓周方向?qū)?zhǔn)。例如，第二凹陷139b的橢圓形的長軸相對于顯影套筒132的圓周方向具有在±45°以內(nèi)的夾角，其中在本公開中顯影套筒132的圓周方向?yàn)轱@影套筒132的旋轉(zhuǎn)方向。在示意性實(shí)施例中，顯影套筒D2具有的第二凹陷139b的數(shù)目大于第一凹陷139a。而且，例如，具有橢圓形狀的凹陷139具有給定的長軸長度如0.05mm至2mm，及給定的短軸長度如0.02mm至lmm。如圖3至6所示，顯影套筒132的軸向和圓周方向互相垂直。而且，如圖18所示，凹陷139具有從顯影套筒132的外表面突出的外圍端部200a(即凹陷139的后邊緣)，及第一假想線Ll和第二假想線L2自其延伸的最深部200c(即凹陷139的底部)。第一假想線L1自凹陷139的最深部200c沿顯影套筒132的徑向向外延伸。第二假想線L2自最深部200c向外延伸至凹陷139的外圍端部200a，其中當(dāng)磁性顆粒附著到顯影套筒132上時(shí)外圍端部200a位于關(guān)于顯影套筒132旋轉(zhuǎn)方向(圖18的箭頭所示)的凹陷139的的后面的位置。如圖18所示，第一和第二假想線Ll及L2形成的角度為a。在示意性實(shí)施例中，角a的平均值優(yōu)選地設(shè)在45°以內(nèi)。如果角a設(shè)在45。以內(nèi)，則最深部200c位于更靠近凹陷139的外圍端部200a的位置。而且，仍如圖18所示，凹陷139具有假想直線段La和半徑段Lb。假想直線段La自顯影套筒132的旋轉(zhuǎn)中心P延伸至凹陷139的外圍端部200a。半徑段Lb是顯影套筒132外徑的一半。在示意性實(shí)施例中，假想直線段La大于半徑段Lb,而且優(yōu)先地，假想直線段La和半徑段Lb具有下述的"20um》La-Lb〉5um"的關(guān)系。當(dāng)滿足此關(guān)系時(shí)，外圍端部200a優(yōu)選地從顯影套筒132的外表面向外突出。下面介紹將顯影劑126吸引到顯影輥115的外表面上的過程。如圖10所示，在顯影單元113中，顯影輥115和顯影劑126以給定的間隙互相面對，其中顯影輥115用作顯影劑載體，顯影劑126包括用作磁性顆粒的磁性載體135和色粉顆粒。如上所述，顯影輥115包敷著附著有上述提取磁極的磁輥133。如上所述，提取磁極在顯影套筒132(或顯影輥115)的外表面上產(chǎn)生磁力。在此磁力的作用下，容器117(見圖10)的第二腔121中的顯影劑126被吸引到顯影套筒132的外表面上。而且，上述顯影磁極在顯影套筒132(或顯影輥115)的外表面上產(chǎn)生磁力。在此磁力的作用下，顯影磁極在顯影套筒132和感光鼓108之間形成一個(gè)磁場。顯影磁極可在磁場的作用下用于形成磁性載體135的磁性刷以使顯影劑126被吸引到顯影套筒132的外表面上并通過磁性刷從顯影輥115轉(zhuǎn)印到感光鼓108上。而且，在提取磁極和顯影磁極之間至少設(shè)置一個(gè)固定磁極。此至少一個(gè)固定磁極在顯影套筒132(或顯影輥115)的外表面上產(chǎn)生磁力以使被用于顯影處理的顯影劑126被傳輸?shù)脚c感光鼓108面對的位置處，或被此至少一個(gè)固定磁極產(chǎn)生的此磁力用于將己被顯影處理使用過的顯影劑126從感光鼓108傳輸至容器117。下面參考圖7及8介紹形成在顯影套筒132上的顯影劑126的突出聚合鏈。具體地，顯影劑126的突出聚合鏈可以以不同的方式形成在第一凹陷139a和第二凹陷139b之間。如上所述，第一凹陷139a具有橢圓形狀，且沿顯影套筒132的軸向延伸，第二凹陷139b具有橢圓形狀，且沿顯影套筒132的圓周方向延伸。圖7所示為具有顯影劑126的突出聚合鏈的顯影輥115的剖視圖的一個(gè)狀態(tài)，其中第一凹陷139a的數(shù)目大于第二凹陷139b的數(shù)目。圖8所示為具有顯影劑126的突出聚合鏈的顯影輥115的剖視圖的另一個(gè)狀態(tài)，其中第二凹陷139b的數(shù)目大于第一凹陷139a的數(shù)目。如圖7及8所示，可攜帶或保持顯影劑126的凹陷139的有效長度在圖7或8中所示的兩種狀態(tài)之間不同。具體地，沿圖8中的顯影輥115(用作磁性顆粒攜帶裝置)的圓周方向的凹陷139的有效長度比圖7中大，其中如上所述顯影輥115在圖7中具有較大數(shù)目的第一凹陷139a，在圖8中具有較大數(shù)目的第二凹陷139b。因?yàn)轱@影劑126緊密地附著在顯影套筒132的凹陷139中，在顯影套筒132的圓周方向上的顯影劑126的粘著密度在圖8中的情況中變得較大。而且，顯影劑126的突出聚合鏈可在每個(gè)第二凹陷139b中更均勻地形成。如上所述，在示意性實(shí)施例中，顯影套筒132的外表面包括數(shù)個(gè)具有橢圓形狀的凹陷139，其中凹陷139包括的第二凹陷139b數(shù)目大于第一凹陷139a。因此，包括在顯影劑126中的磁性顆粒可在顯影套筒132的圓周方向上被均勻地吸引到顯影套筒132的外表面上。而且，此磁性顆?？扇缟纤鲆愿蟮娘@影套筒132的圓周方向上的密度被吸引到顯影套筒132的外表面上。因此，顯影輥115可將顯影劑126更均勻地供應(yīng)至感光鼓108的圓周方向。換言之，顯影劑126可被更均勻地供應(yīng)至感光鼓108的旋轉(zhuǎn)方向，其中感光鼓108的旋轉(zhuǎn)方向與轉(zhuǎn)印件如紙張，中間轉(zhuǎn)印帶等的傳送方向?qū)?zhǔn)。因此，色粉圖像可通過降低圖像濃度的不均勻度而被顯影在感光鼓108上，由此，具有更高質(zhì)量的圖像可產(chǎn)生在轉(zhuǎn)印件上。而且，具有橢圓形狀、形成在顯影套筒132的外表面上的凹陷139與由傳統(tǒng)噴砂處理形成的凹部相比具有更大的尺寸，其中凹陷139具有0.05mm至2mm的長軸長度，及0.02mm至lmm的短軸長度。因此，與傳統(tǒng)的噴砂處理相比，顯影劑126更不可能磨損凹陷139的此橢圓形凹陷，且顯影套筒132可攜帶的顯影劑126的量不會因時(shí)間而減少且具有合適色粉濃度的圖像可持續(xù)地產(chǎn)生。顯影套筒132可攜帶的顯影劑126的量可參考為顯影套筒132的顯影劑126的傳輸能力(或傳輸量)。而且，如上參考圖18所述，顯影套筒132外表面上的凹陷139包括最深部200c和外圍端部200a，其中最深部200c更靠近相對于顯影套筒132的旋轉(zhuǎn)方向位于凹陷139的后面的外圍端部200a。在示意性實(shí)施例中，如上所述，自最深部200c在顯影套筒132的徑向方向上向外延伸的第一假想線Ll和自最深部200c向外延伸至凹陷139的外圍端部200a的第二假想線L2形成45°以內(nèi)的角度a。因此，當(dāng)顯影劑126被從第二腔121(見圖IO)攜帶到顯影套筒132上時(shí)凹陷139可將磁性顆粒鏟起，且凹陷139可將磁性載體135可靠地?cái)y帶或保持在其中。因此，磁性載體135可被更可靠地保持在顯影套筒132的外表面上，由此，顯影劑126也可被更可靠地保持在顯影套筒132的外表面上。因此，顯影套筒132可攜帶的顯影劑126的量不會因時(shí)間而減少且具有合適色粉濃度的圖像可持續(xù)地產(chǎn)生。而且，在示意性實(shí)施例中，凹陷139的深度可設(shè)為相對較小的值同時(shí)可維持顯影劑126的保持能力較好水平，由此，被施加以在顯影套筒132的外表面上形成凹陷139的處理能量(如機(jī)械力)可被設(shè)置地較小，這樣可控制顯影套筒132的變形(如軸移位，內(nèi)/外徑變化，套筒形狀陷落)。因此，顯影套筒132可以更高的精度制造，且可以更高精度旋轉(zhuǎn)，由此，具有更高質(zhì)量的圖像可以以較高的色粉濃度水平產(chǎn)生。而且，顯影套筒132外表面上的凹陷139可在相對于顯影套筒132的旋轉(zhuǎn)方向的后面位置上具有外圍端部200a，其中外圍端部200a可從顯影套筒132外表面上突出。因此，從最深部200c延伸至凹陷139中的外圍端部200a的區(qū)域在尺寸上變地相對較大，由此使磁性載體135更可靠地被攜帶或保持在顯影套筒132的外表面上，由此使顯影劑126更可靠地被攜帶或保持在顯影套筒132的外表面上。因此，顯影套筒132可攜帶的顯影劑126的量不會因時(shí)間而減少且具有合適色粉濃度的圖像可持續(xù)地產(chǎn)生。而且，因?yàn)榘枷?39隨機(jī)地形成在顯影套筒132的外表面上，顯影劑126被隨機(jī)地吸引到顯影套筒132的外表面上，由此，顯影劑126作為整體被均勻地吸引到顯影套筒132的外表面上。因此，顯影劑126可被均勻地傳送到顯影套筒132上，由此顯影劑126可被均勻地由顯影套筒132供應(yīng)到感光鼓108上，由此具有更高質(zhì)量的圖像可以以色粉濃度的好水平產(chǎn)生。下面參考圖10介紹使用上述顯影輥115的顯影單元113。如圖10所示，顯影單元113包括顯影劑供應(yīng)腔114，外殼125，顯影輥115，及刮粉刀116。顯影劑供應(yīng)腔114包括容器117，及一對用于攪拌顯影劑126的攪拌螺栓118。容器117具有大體上與感光鼓108的長度相匹配的長度。而且，容器117設(shè)有沿容器117的縱向延伸的分離壁119。分離壁119將容器117分為第一腔120和第二腔121。而且，第一及第二腔120及121通過其端部互相連通。在容器117中，顯影劑126盛在第一及第二腔120及121中。顯影劑126包括色粉顆粒和由磁性顆粒(見圖9)制成的磁性載體135。新的色粉顆粒被以適時(shí)的方式供應(yīng)至遠(yuǎn)離顯影輥115的第一腔120的一端部。色粉顆?？梢允峭ㄟ^乳液聚合方法或懸浮物聚合方法準(zhǔn)備的精細(xì)球形顆粒。色粉顆粒也可通過粉碎方法準(zhǔn)備，其中與染料或顏料混合及分散的合成樹脂可被粉碎。例如，色粉顆粒具有3um至7pm的平均顆粒直徑。分別為第一及第二腔120及121設(shè)置的攪拌螺栓118具有與容器117，顯影輥115，及感光鼓108的縱向平行的縱向?？衫@其軸中心旋轉(zhuǎn)的攪拌螺栓118攪拌色粉顆粒及磁性載體135，并傳送顯影劑126。而且，第一腔120中的攪拌螺栓118將顯影劑126從一端部傳送至另一端部，第二腔121中的攪拌螺栓118將顯影劑126從另一端部傳送至此端部。在顯影劑供應(yīng)腔114中，供應(yīng)至第一腔120的一端部的色粉顆粒在與磁性載體135—起攪動(dòng)同時(shí)被傳送至第一腔120的另一端部，被攪動(dòng)的色粉顆粒和磁性載體135從第一腔120的另一端部被傳送至第二腔121。然后，在顯影劑供應(yīng)腔114中，色粉顆粒和磁性載體135被攪動(dòng)地傳送至第二腔121，并供應(yīng)至顯影輥115的外表面。附接至顯影劑供應(yīng)腔114的容器117的外殼125可包圍具有容器117的顯影輥115。而且，外殼125具有面對感光鼓108的開口125a。形成為圓柱形的顯影輥115設(shè)在第二腔121和感光鼓108之間，并靠近開口125a。顯影輥115與感光鼓108和容器117平行設(shè)置。顯影輥115以給定的間隙與感光鼓108面對。顯影輥115與感光鼓108在此間隙區(qū)形成顯影區(qū)131，顯影劑126中的色粉顆粒在此被轉(zhuǎn)印并粘著至感光鼓108以將形成在感光鼓108上的靜電潛像顯影為色粉圖像。附接至外殼125上的刮粉刀116以給定的間隙設(shè)在顯影套筒132的外表面的外面，且可在顯影單元113中靠近感光鼓108。刮粉刀116刮除供應(yīng)至顯影套筒132的外表面上的顯影劑126以將顯影劑126的量控制在給定水平，由此可將給定量的顯影劑126可靠地傳輸至顯影區(qū)131。顯影劑126按如下方式傳送至顯影單元113中的顯影區(qū)131。在顯影區(qū)131中，色粉顆粒和磁性載體135在顯影劑供應(yīng)腔114中被攪動(dòng)，被攪動(dòng)的顯影劑126在顯影輥115中的固定磁極的作用下被吸引到顯影套筒132的外表面上。隨著顯影套筒132的旋轉(zhuǎn)，此被吸引的顯影劑126被傳送至顯影區(qū)131。當(dāng)用刮粉刀116控制顯影劑126的厚度后，顯影劑126被粘著到感光鼓108上。由此處理，感光鼓108上的靜電潛像被顯影劑126顯影為色粉圖像。在此顯影處理后，留在顯影輥115上的顯影劑126被清除并被回收到容器117中。這些被回收的顯影劑126與第二腔121中的顯影劑126被攪動(dòng)，然后繼續(xù)用作顯影劑來顯影感光鼓108上的另一幅靜電潛像。在示意性實(shí)施例中，顯影單元113用顯影輥115作為可以將顯影劑126更均勻地供應(yīng)至感光鼓108的圓周方向的磁性顆粒攜帶裝置。換言之，顯影劑126可以被更均勻地供應(yīng)至感光鼓108的旋轉(zhuǎn)方向，其中感光鼓108的旋轉(zhuǎn)方向與轉(zhuǎn)印件如紙張，中間轉(zhuǎn)印帶等的傳送方向?qū)?zhǔn)。因此，通過降低圖像濃度的不均勻度，色粉圖像可在感光鼓108上顯影，由此具有較高質(zhì)量的圖像可在轉(zhuǎn)印件上產(chǎn)生。下面參考圖9對磁性載體135進(jìn)行描述。如上所述，磁性載體135盛在第一及第二腔120及121中。例如，磁性載體135具有20nm至50um的平均直徑。如圖9所示，例如，磁性載體135包括核心136，樹脂涂層137，及氧化鋁顆粒138。核心136的外表面由樹脂涂層137涂敷，氧化鋁顆粒138分散在樹脂涂層137中。如果磁性載體135具有過小的平均顆粒直徑(如小于20nm)，磁性載體135具有更小的磁性力，這可導(dǎo)致對顯影輥115的更弱的磁性吸引力，由此顯影輥115更有可能粘著感光鼓108，這不是期望的現(xiàn)象。如果磁性載體135具有過大的平均顆粒直徑(如大于50ixm)，磁性載體135和感光鼓108上的靜電潛像之間會形成較弱磁場，這將會導(dǎo)致較差的圖像質(zhì)量如色粉濃度不均勻，這也不是期望的現(xiàn)象。例如，核心136可由形成為球形的如鐵素體的磁性材料制成。樹脂涂層137涂敷在核心136的外表面上。樹脂涂層137包括樹脂如交叉鏈接樹脂(如三聚氰胺樹脂及熱塑性樹脂如丙稀酸樹脂)及充電控制劑。例如，此樹脂涂層137具有彈性和較強(qiáng)的粘性。氧化鋁顆粒138具有大于樹脂涂層137的厚度的外徑，由此氧化鋁顆粒138可從樹脂涂層137的表面突出。氧化鋁顆粒138通過樹脂涂層137的粘性保持在樹脂涂層137中。在示意性實(shí)施例中，顯影單元113使用包括具有20um至50um的平均顆粒直徑的磁性載體135的具有較好水平的球形的顯影劑126，由此具有較好水平的色粉濃度的圖像可被產(chǎn)生。現(xiàn)參考圖10介紹處理盒。例如，每個(gè)處理盒106Y，106M,106C，及106K都包括盒外殼lll，充電輥109，感光鼓108，清潔刀片112，及顯影單元113。盒外殼111可從成像設(shè)備101(見圖ll)上拆下，并包圍著充電輥109，感光鼓108，清潔刀片112，及顯影單元113。充電輥109對感光鼓108的外表面均勻地充電。在顯影單元113中以給定的間隙與顯影輥115面對的感光鼓108具有圓柱形狀并可繞其軸中心旋轉(zhuǎn)。顯影輥115(或顯影套筒132)和感光鼓108之間優(yōu)選地設(shè)有0.1mm至0.4mm的間隙，其中顯影劑126的突出聚合鏈可以可靠地從顯影套筒132向感光鼓108供應(yīng)色粉顆粒，由此可產(chǎn)生具有較高質(zhì)量的圖像。如果此給定間隙過小(如小于O.lmm)，顯影套筒132和感光鼓108之間會形成過強(qiáng)的磁場，這樣會引起磁性載體135向感光鼓108的轉(zhuǎn)印，這不是期望現(xiàn)象。如果此給定間隙過大(如大于0.4mm)，顯影套筒132和感光鼓108之間會形成過弱的磁場，這樣會不期望地降低感光鼓108上色粉顆粒的顯影能力，且此較弱磁場可在圖像邊緣引起較大的邊緣效應(yīng)從而導(dǎo)致不期望的圖像質(zhì)量如不均勻的色粉濃度。處理盒106Y，106M，106C，及106K按照如下所述向記錄紙張107轉(zhuǎn)印圖像。如圖11所示，成像設(shè)備101包括光寫入單元122。光寫入單元122向處理盒106中的感光鼓108上照射激光束以在感光鼓108上形成靜電潛像。使用從顯影單元113供應(yīng)來的色粉顆粒顯影感光鼓108上的靜電潛像。然后，色粉圖像被轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印帶129上，且被進(jìn)一步轉(zhuǎn)印到記錄紙張107上。當(dāng)此色粉圖像轉(zhuǎn)印到記錄紙張107后，清潔刀片112清除留在感光鼓108表面上的色粉顆粒。在示意性實(shí)施例中，處理盒106使用可將顯影劑126更均勻地供應(yīng)至感光鼓108的圓周方向的顯影單元113。換言之，顯影劑126可被更均勻地供應(yīng)至感光鼓108的旋轉(zhuǎn)方向。因此，顯影套筒132可攜帶的顯影劑126的量不會因時(shí)間而減少且具有合適色粉濃度的圖像可持續(xù)地產(chǎn)生?，F(xiàn)參考圖11介紹成像設(shè)備。成像設(shè)備101可在記錄紙張107上形成黃色(Y)，洋紅(M)，青色(C)，及黑色(K)的彩色圖像。在下文中，黃色，洋紅，青色，及黑色分別用后綴字母Y，M，C，及K表示。如圖11所示，例如，成像設(shè)備101包括饋紙單元103，套準(zhǔn)輥IIO，轉(zhuǎn)印單元104，定影單元105，光寫入單元122，及處理盒106Y，106M，106C，及106K。例如，饋紙單元103設(shè)在成像設(shè)備101的底部。饋紙單元103包括紙盒123和饋入輥124。紙盒123儲存記錄紙張107，饋入輥124被擠壓至紙盒123中的頂部紙張。饋入輥124將記錄紙張107饋入至套準(zhǔn)輥110。設(shè)置在記錄紙張107傳送路徑上的套準(zhǔn)輥110包括輥UOa和110b。輥110a和110b夾持著記錄紙張107，并將記錄紙張107饋至轉(zhuǎn)印單元104和下文介紹的次級轉(zhuǎn)印輥16之間的空間。例如，設(shè)在饋紙單元103上方的轉(zhuǎn)印單元104包括主動(dòng)輥128，從動(dòng)輥12，轉(zhuǎn)印帶129，及初級轉(zhuǎn)印輥130Y，130M，130C，及130K。馬達(dá)等(未示出)驅(qū)動(dòng)主動(dòng)輥128，并且從動(dòng)輥12可旋轉(zhuǎn)地支撐在成像設(shè)備101中。形成為環(huán)形帶的轉(zhuǎn)印帶129被主動(dòng)輥128和從動(dòng)輥12伸展。當(dāng)主動(dòng)輥128旋轉(zhuǎn)時(shí)轉(zhuǎn)印帶129沿給定方向行進(jìn)。初級轉(zhuǎn)印輥130Y，130M，130C，及130K和每個(gè)處理盒106Y，106M，106C，及106K的感光鼓108夾持著轉(zhuǎn)印帶129。轉(zhuǎn)印單元104在初級轉(zhuǎn)印輥130Y，130M，130C，及130K的作用下將形成在感光鼓108上的色粉圖像轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印帶129上，然后轉(zhuǎn)印帶129在次級轉(zhuǎn)印輥16的作用下將色粉圖像轉(zhuǎn)印到記錄紙張107上。然后，記錄紙張107被傳送至定影單元105。定影單元105包括用于將記錄紙張107夾持在其間的輥105a和105b。輥105a和105b向記錄紙張107施加熱量和壓力以將色粉圖像定影在記錄紙張107上。附接至成像設(shè)備101的光寫入單元122向被充電輥109均勻充電的處理盒106Y，106M，106C，及106K的感光鼓108的外表面上發(fā)射激光束，以在感光鼓108上形成靜電潛像。例如，處理盒106Y，106M，106C，及106K設(shè)置在轉(zhuǎn)印單元104和光寫入單元122之間，且可從成像設(shè)備101上拆下。例如，處理盒106Y，106M，106C，及106K可以以串列方式布置。當(dāng)上述成像處理后，帶清潔單元15清除留在轉(zhuǎn)印帶129上的色粉顆粒，色粉顆粒被回收到廢色粉瓶(未示出)中。上述次級轉(zhuǎn)印輥16被應(yīng)用與轉(zhuǎn)印帶129上的色粉顆粒相對的偏壓，以將色粉圖像從轉(zhuǎn)印帶129轉(zhuǎn)印到記錄紙張107上。當(dāng)在記錄紙張107上定影色粉后，排出輥24將記錄紙張107從成像設(shè)備101中排出。此外，成像設(shè)備101包括儲存Y，M，C，及K色粉的色粉瓶31。各色色粉可從色粉瓶31中通過色粉傳送路徑(未示出)補(bǔ)充到每個(gè)處理盒106Y，106M，106C，及106K中。因此，成像設(shè)備101在記錄紙張107上形成圖像，此過程總結(jié)如下。當(dāng)感光鼓108旋轉(zhuǎn)時(shí)，充電輥109對感光鼓108充電。激光束被照射到感光鼓108上以形成靜電潛像。當(dāng)靜電潛像到達(dá)顯影單元113的顯影區(qū)131時(shí)，靜電潛像被由顯影套筒132供應(yīng)來的顯影劑126顯影為色粉圖像。色粉圖像然后被轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印帶129上，進(jìn)而被轉(zhuǎn)印到由饋紙單元103傳送來的記錄紙張107上。定影單元105將圖像作為彩色圖像定影在記錄紙張107上。在示意性實(shí)施例中，成像設(shè)備101使用可更均勻地將顯影劑126供應(yīng)至感光鼓108的圓周方向的顯影單元113。換言之，顯影劑126可被更均勻地供應(yīng)至感光鼓108的旋轉(zhuǎn)方向。因此，通過降低圖像濃度的不均勻度，色粉圖像可在感光鼓108上顯影，由此具有較高質(zhì)量的圖像可在轉(zhuǎn)印件上產(chǎn)生。因此，顯影套筒132可攜帶的顯影劑126的量不會因時(shí)間而減少且具有合適色粉濃度的圖像可持續(xù)地產(chǎn)生。現(xiàn)參考圖12至17介紹用于在中空結(jié)構(gòu)(如顯影輥115)的外表面上形成具有橢圓形狀的凹陷的表面處理機(jī)器及磁性磨粒，其中磁性磨粒65被壓緊到中空結(jié)構(gòu)的外表面上以在中空結(jié)構(gòu)上形成凹陷。如圖12及13所示，例如，表面處理機(jī)器1包括基座3，固定保持單元4，電磁線圈移動(dòng)單元5，可移動(dòng)保持單元6，可移動(dòng)卡盤單元7，電磁線圈8，容器單元9，收集單元10，冷卻單元ll，線性編碼器75，及控制單元76?；?形成為板狀，且安裝在工廠中的地板，桌子等上面?；?具有與水平方向維持平行的上表面。例如，基座3形成為矩形。固定保持單元4包括多個(gè)支柱12，支持基座13，直立支架14，圓柱形保持件15，及保持卡盤16。例如，支柱12豎立在基座3上。支持基座13形成為板形，并附接至支柱12的上端部。形成為板形的直立支架14從支持基座13上突出。形成為圓柱形的圓柱形保持件15附接至直立支架14和支持基座13。與直立支架14相比，圓柱形保持件15更靠近基座3的中心部放置，且圓柱形保持件15的軸中心平行于水平方向及箭頭X所示的方向。圓柱形保持件15容納附接至容器單元9的第一端部9a(下文介紹)的法蘭51b，51c，及51d(下文介紹)?？拷鼒A柱形保持件15和支持基座13設(shè)置的保持卡盤16附接至基座3。保持卡盤16夾住具有第一端部9a、容納在圓柱形保持件15中的容器單元19以保持容器單元9的第一端部9a。固定保持單元4也保持容器單元9的第一端部9a。電磁線圈移動(dòng)單元5包括一對線性導(dǎo)向器17，電磁線圈支持基座18，電磁線圈移動(dòng)促動(dòng)器19。線性導(dǎo)向器17包括軌道20及滑塊21。軌道20安裝在基座3上。形成為直線形的軌道20與基座3的縱向(或箭頭X)平行放置。滑塊21在軌道20的縱向(或箭頭X)上可滑動(dòng)地支撐在軌道20上。在一對線性導(dǎo)向器17中，軌道20在基座3的寬度方向(后文參考箭頭Y)上以給定的距離相隔布置。互相垂直的箭頭X和箭頭Y平行于水平方向。形成為板形的電磁線圈支持基座18附接至滑塊21。電磁線圈支持基座18具有平行于水平方向的上表面。電磁線圈支持基座18將電磁線圈8保持于其上。附接至基座3的電磁線圈移動(dòng)促動(dòng)器19用于在箭頭X方向上可滑動(dòng)地移動(dòng)電磁線圈支持基座18。電磁線圈移動(dòng)單元5通過使用電磁線圈移動(dòng)促動(dòng)器19在箭頭Y的方向上可滑動(dòng)地移動(dòng)電磁線圈支持基座18和電磁線圈8。而且，例如，電磁線圈移動(dòng)單元5可在0mm/s至300mm/s的范圍內(nèi)改變電磁線圈8的移動(dòng)速度。而且，電磁線圈移動(dòng)單元5可在約600mm的可移動(dòng)范圍內(nèi)移動(dòng)電磁線圈8?？梢苿?dòng)保持單元6包括一對線性導(dǎo)向器22，支持基座23，第一促動(dòng)器24，第二促動(dòng)器25，移動(dòng)基座26，軸承旋轉(zhuǎn)單元27，及保持卡盤28。線性導(dǎo)向器22包括軌道29及滑塊30。軌道29安裝在基座3上。形成為直線形的軌道29與基座3的縱向(或箭頭X)平行放置?；瑝K30在軌道29的縱向(或箭頭X)上可滑動(dòng)地支撐在軌道29上。一對線性導(dǎo)向器22在基座3的寬度方向(或箭頭Y所示方向)上以給定的距離相隔布置。形成為板形的支持基座23附接至滑塊30。支持基座23具有平行于水平方向的上表面。附接至基座3的第一促動(dòng)器24用于在箭頭X方向上可滑動(dòng)地移動(dòng)支持基座23。附接至支持基座23的第二促動(dòng)器25用于在箭頭Y方向上可滑動(dòng)地移動(dòng)移動(dòng)基座26。形成為板形的移動(dòng)基座26具有平行于水平方向的上表面。軸承旋轉(zhuǎn)單元27包括一對軸承31，中空目標(biāo)支持件32，驅(qū)動(dòng)馬達(dá)33，卡盤缸34。在箭頭X的方向上以給定距離間隔布置的一對軸承31安裝在移動(dòng)基座26上。中空目標(biāo)支持件32可由磁性材料制成并形成為圓柱形。被軸承31支撐的中空目標(biāo)支持件32可繞其軸中心旋轉(zhuǎn)。中空目標(biāo)支持件32的軸中心與圓柱形保持件15的軸中心或箭頭X所示方向平行放置。中空目標(biāo)支持件32具有插入到容器單元9中的第一端部32a(見圖13)及設(shè)置在移動(dòng)基座26上方的第二端部32c(見圖12)。如圖13所示，中空目標(biāo)支持件32被插入到具有圓柱形的顯影套筒132中。而且，中空目標(biāo)支持件32的第二端部32c被固定至置于移動(dòng)基座26上方的滑輪35?；?5與中空目標(biāo)支持件32共軸布置。安裝在移動(dòng)基座26上的驅(qū)動(dòng)馬達(dá)33具有附接至滑輪36的輸出軸。驅(qū)動(dòng)馬達(dá)33的輸出軸具有平行于箭頭X方向的軸中心。定時(shí)帶(或環(huán)形帶)37被滑輪35及36伸展。卡盤缸34包括缸體38及卡盤軸39，其中缸體38安裝在移動(dòng)基座26上，卡盤軸39可滑動(dòng)地設(shè)在缸體38上。形成為圓柱形的卡盤軸39與箭頭X所示方向平行設(shè)置。卡盤軸39與中空目標(biāo)支持件32共軸設(shè)置并被包敷在中空目標(biāo)支持件32中?？ūP軸39上設(shè)有作為一對卡盤爪的多個(gè)卡盤爪40。卡盤爪40突出地附接在卡盤軸39的外圓面上。而且，卡盤爪40可在中空目標(biāo)支持件32的外徑方向上從中空目標(biāo)支持件32的外圓面上突出?？ūP爪40從卡盤軸39及中空目標(biāo)支持件32上的突出量可改變?？ūP爪40以給定的間隔距離布置在卡盤軸39的縱向上。當(dāng)卡盤軸39向缸體38移動(dòng)時(shí)，卡盤爪40從卡盤軸39及中空目標(biāo)支持件32上的突出量增加。當(dāng)卡盤軸39向缸體38移動(dòng)時(shí)，卡盤爪40從卡盤軸39的外圓面上更為突出，由此卡盤爪40被擠壓到顯影套筒132的內(nèi)表面上，附接到中空目標(biāo)支持件32的外圓面上。由此過程后，卡盤軸39，中空目標(biāo)支持件32及顯影套筒132被固定在一起。此時(shí)，卡盤軸39，中空目標(biāo)支持件32，顯影套筒132，圓柱件50(將在下文中介紹)，及容器單元9共軸布置。而且，當(dāng)設(shè)定卡盤爪40相對中空目標(biāo)支持件32的外圓面在不突出條件時(shí)，顯影套筒132和中空目標(biāo)支持件32不會被卡盤軸39固定。在此情形下，顯影套筒132在電動(dòng)勢作用下可在其圓周方向上(或旋轉(zhuǎn)方向)繞其軸中心旋轉(zhuǎn)，電動(dòng)勢由電磁線圈8電磁感應(yīng)產(chǎn)生，這將在下文中介紹?？ūP缸34和卡盤爪40用于保持中空目標(biāo)支持件32，容器單元9及顯影套筒132共軸。因此，卡盤缸34和卡盤爪40將顯影套筒132沿容器單元9的軸向保持在容器單元9的中心位置。保持卡盤28安裝在移動(dòng)基座26上。保持卡盤28卡住附接至容器單元9的第二端部9b的法蘭51a(將在下文中介紹)以支持容器單元9的第二端部9b。保持卡盤28調(diào)整或限制容器單元9繞其軸中心的旋轉(zhuǎn)。可移動(dòng)保持單元6使用上述的促動(dòng)器24和25在垂直方向(如箭頭X及Y所示的方向)上移動(dòng)保持卡盤28，中空目標(biāo)支持件32。因此，可移動(dòng)保持單元6移動(dòng)被保持卡盤28在垂直方向(如箭頭X及Y所示的方向)上保持的容器單元9。移動(dòng)卡盤單元7包括支持基座41,線性導(dǎo)向器42，保持卡盤43。支持基座41固定至線性導(dǎo)向器22的軌道29的一個(gè)端部，其中此端部更靠近固定保持單元4。形成為板形的支持基座41具有平行于水平方向的上表面。線性導(dǎo)向器42包括軌道44及滑塊45。軌道44安裝在支持基座41上。形成為直線形的軌道44與基座3的寬度方向(或箭頭Y的方向)平行放置?；瑝K45在軌道44的縱向(或箭頭Y的方向)上可滑動(dòng)地支撐在軌道44上。保持卡盤43安裝在滑塊45上。保持卡盤43置于保持卡盤16和28之間。保持卡盤43在更靠近第二端部9b的位置處卡住容器單元9以支持容器單元9。移動(dòng)卡盤單元7用于當(dāng)保持卡盤43支持容器單元9時(shí)將支持容器單元9定位在給定位置處。此外，當(dāng)保持卡盤43支持住容器單元9時(shí)，移動(dòng)卡盤單元7與保持卡盤28配合在容器單元9沿軸向移動(dòng)時(shí)支持住容器單元9以使容器單元9不會從軸承旋轉(zhuǎn)單元27及表面處理機(jī)器1上脫落。如圖13所示，電磁線圈8包括外蓋46，及線圈單元47。形成為圓柱形的外蓋46覆蓋線圈單元47。電磁線圈8具有大于容器單元9的外徑的內(nèi)徑。因此，電磁線圈8的內(nèi)表面和容器單元9的外圓面之間形成空間。而且，電磁線圈8的總長小于容器單元9的總長。優(yōu)選地，電磁線圈8的總長設(shè)置為容器單元9的總長的三分之二(2/3)或更少。例如，電磁線圈8的內(nèi)徑為90mm，總長為85mm。在將外蓋46的軸中心與電磁線圈8的軸中心對準(zhǔn)的同時(shí)外蓋46附接至電磁線圈支持基座18。電磁線圈8與中空目標(biāo)支持件32，卡盤軸39，及容器單元9共軸布置。線圈單元47包括沿外蓋46(或電磁線圈8)的圓周方向布置的線圈。如圖13所示，線圈單元47被三相交流電源48通電。被通以具有不同相的電流的線圈單元47的線圈產(chǎn)生具有不同相的磁場。電磁線圈8將這些磁場組合以形成具有電磁線圈8繞其軸中心的旋轉(zhuǎn)方向的磁場(后文稱為"旋轉(zhuǎn)的磁場")。被三相交流電源48通電以產(chǎn)生此旋轉(zhuǎn)的磁場的電磁線圈8被電磁線圈移動(dòng)單元5沿電磁線圈8的軸向(或容器單元9的縱向)移動(dòng)。電磁線圈8使用此旋轉(zhuǎn)的磁場將盛在容器單元9中的磁性磨粒65定位在顯影套筒132的外圓面上，且使磁性磨粒65在容器單元9中繞顯影套筒132旋轉(zhuǎn)(或移動(dòng))。磁性磨粒65可以是更大數(shù)目的磁性磨粒的群體。然而，為了描述簡便，此公開中使用的術(shù)語"磁性磨粒65"同時(shí)具有單個(gè)或多個(gè)磨粒的含義。使用此結(jié)構(gòu)，電磁線圈8通過使用旋轉(zhuǎn)的磁場使磁性磨粒65壓緊在顯影套筒132的外表面上。而且，變換器49設(shè)在三相交流電源48和電磁線圈8之間以改變磁場強(qiáng)度。變換器49可以改變?nèi)嘟涣麟娫?8施加到電磁線圈8上的電力的頻率、電流值及電壓值。通過由變換器49改變施加到電磁線圈8的電力的頻率、電流值及電壓值，可提高或降低從三相交流電源48施加到電磁線圈8上的電力，從而改變電磁線圈8產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場的強(qiáng)度。如圖13所示，例如，容器單元9包括圓柱件50，多個(gè)法蘭51，一對刨花密封支持器52，一對刨花密封板53，一對定位件54，多個(gè)分隔件55，及一對密封板56。形成為圓柱形的圓柱件50用作容器單元9的外封套并具有單壁結(jié)構(gòu)。因此，容器單元9設(shè)有具有單壁結(jié)構(gòu)的圓柱形的外殼。例如，容器單元9的圓柱件50最好具有40mm至80mm的外徑及0.5mm至2.0mm的厚度。而且，例如，圓柱件50最好具有600mm至800mm的軸向長度。例如，圓柱件50可由非磁性材料制成。圓柱件50設(shè)有多個(gè)磨粒供應(yīng)孔57。每個(gè)磨粒供應(yīng)孔57穿過圓柱件50以使圓柱件50的內(nèi)外側(cè)互相連通。每個(gè)磨粒供應(yīng)孔57都附接有一個(gè)密封帽58。磨粒供應(yīng)孔57用于將磁性磨粒65吸收到圓柱件50的內(nèi)側(cè)或?qū)⒋判阅チ?5排到圓柱件50的外側(cè)。密封帽58蓋在每個(gè)磨粒供應(yīng)孔57上以使磁性磨粒65不會從容器單元9的圓柱件50中漏出。例如，多個(gè)法蘭51形成為圓形或圓柱形。在示意性實(shí)施例中，多個(gè)法蘭51包括四個(gè)法蘭，例如，其中三個(gè)(下文中，法蘭51b，51c，51d)附接至圓柱件50的第一端部9a，另一個(gè)(下文中，法蘭51a)附接至圓柱件50的第二端部9b。形成為圓形的法蘭51b與圓柱件50的外圓面接合。形成為圓形的法蘭51c與法蘭51b的外圓面接合。法蘭51d—體式地包括具有圓形的環(huán)部59及具有圓柱形的柱部60，其中環(huán)部59從柱部60的外邊緣突出。法蘭51d的環(huán)部59與法蘭51c的外圓面接合。如圖13所示，法蘭51d用軸承74可旋轉(zhuǎn)地支撐著從動(dòng)軸73。形成為圓柱形地的從動(dòng)軸73與容器單元9的圓柱件50共軸設(shè)置。從動(dòng)軸73具有一個(gè)被擠壓到中空目標(biāo)支持件32上的端面。隨中空目標(biāo)支持件32旋轉(zhuǎn)的從動(dòng)軸73支撐著中空目標(biāo)支持件32的第一端部32a(或自由端側(cè))。如圖13所示，形成為圓形的法蘭51a與圓柱件50的第二端部9b的外圓面接合，其中中空目標(biāo)支持件32穿過法蘭51a。圓柱件50的第一端部'9a用作容器單元9的一個(gè)端部，圓柱件50的第二端部9b用作容器單元9的另一個(gè)端部。每個(gè)刨花密封支持器52形成為圓形。一個(gè)刨花密封支持器52與圓柱件50的第一端部9a的內(nèi)圓面接合，另一個(gè)刨花密封支持器52與圓柱件50的第二端部9b的內(nèi)圓面接合，其中中空目標(biāo)支持件32穿過另一個(gè)刨花密封支持器52。每個(gè)刨花密封板53形成為網(wǎng)格狀。形成為圓形的其中一個(gè)刨花密封板53設(shè)置在圓柱件50的第一端部9a的內(nèi)圓面中并附接至其中一個(gè)刨花密封支持器52。而且，從動(dòng)軸73穿過其中一個(gè)刨花密封板53。形成為圓形的另一個(gè)刨花密封板53設(shè)置在圓柱件50的第二端部9b的內(nèi)圓面中并附接至另一個(gè)刨花密封支持器52。中空目標(biāo)支持件32穿過另一個(gè)刨花密封板53。當(dāng)用壓緊的磁性磨粒65刨顯影套筒132的外表面產(chǎn)生刨花時(shí)，刨花密封板53防止刨花(如刨削的碎片)從容器單元9的圓柱件50中漏出。每個(gè)定位件54形成為圓柱形。一個(gè)定位件54與中空目標(biāo)支持件32的第一端部32a的外圓面接合。另一個(gè)定位件54與更靠近作容器單元9的第二端部9b的中空目標(biāo)支持件32的中心部32b的外圓面接合。一對定位件54將顯影套筒132夾在其間以將顯影套筒132定位在中空目標(biāo)支持件32中的給定位置。中空目標(biāo)支持件32的第一端部32a定位更靠近固定保持單元4而遠(yuǎn)離可移動(dòng)保持單元6。定位在容器單元9中的中空目標(biāo)支持件32的中心部32b遠(yuǎn)離固定保持單元4且更靠近可移動(dòng)保持單元6。分隔件55包括形成為圓形的框架61，及網(wǎng)格部62?？蚣?1與圓柱件50的內(nèi)圓面接合并附接，其中中空目標(biāo)支持件32穿過框架61。如圖13所示，多個(gè)分隔件55在圓柱件50的縱向上以給定的間距設(shè)置在一對刨花密封板53之間。例如，在圖13中，設(shè)有七個(gè)分隔件55。框架61包括網(wǎng)格部62附接至其上的通孔63。形成為網(wǎng)格狀的網(wǎng)格部62可使氣體及刨花(如刨削的碎片)通過但使磁性磨粒65無法從其中通過。分隔件55在顯影套筒132的軸向上將容器單元9的圓柱件50中的空間進(jìn)行分隔或分段。分隔件55的框架61和網(wǎng)格部62由非磁性材料制成。而且，顯影套筒132具有與容器單元9和中空目標(biāo)支持件32的軸中心對準(zhǔn)的旋轉(zhuǎn)中心P。因此，顯影套筒132的旋轉(zhuǎn)中心P與容器單元9的縱向設(shè)定為互相平行。形成為圓形的密封板56進(jìn)一步形成為網(wǎng)格狀以使氣體(如空氣)及上述刨花(如刨削的碎片)可以通過但使磁性磨粒65無法通過。其中一塊密封板56附接至距第一端部9a最近的一個(gè)分隔件55，另一塊密封板56附接至距第二端部9b最近的一個(gè)分隔件55。附接至顯影套筒132的兩端的帽筒64(稍后介紹)穿過每塊密封板56。密封板56用于防止磁性磨粒65從容器單元9的圓柱件50中漏出，其中磁性磨粒65盛在被分隔件55分隔或分段的空間中。容器單元9在被多個(gè)分隔件55分隔或分段的空間中盛有由磁性材料制成的磁性磨粒65，并在圓柱件50中盛有附接至中空目標(biāo)支持件32的顯影套筒132。因此，容器單元9將顯影套筒132和磁性磨粒65盛在其中。而且，被上述旋轉(zhuǎn)的磁場旋轉(zhuǎn)(或移動(dòng))的磁性磨粒65壓緊在顯影套筒132的外表面上。當(dāng)磁性磨粒65壓緊在顯影套筒132的外表面時(shí)，顯影套筒132的外表面的一部分通過此壓緊力刨削，由此顯影套筒132的外表面被糙化。如圖13所示，收集單元10包括氣體流入管66，氣體排出孔67，網(wǎng)格件68，氣體排出管69，及灰塵收集器70(見圖12)。如圖13所示，氣體流入管66設(shè)在圓柱件50中更靠近上述另一個(gè)刨花密封支持器52和容器單元9的一端、更靠近可移動(dòng)保持單元6的給定位置處。氣體流入管66具有插入到容器單元9的圓柱件50中的口。氣體流入管66用于從壓縮空氣供應(yīng)源(未示出)處向圓柱件50供應(yīng)壓縮氣體(如空氣)。氣體排出孔67穿過圓柱件50以使容器單元9的內(nèi)外側(cè)互相連通，并被設(shè)置到位于上述的一個(gè)刨花密封支持器52和容器單元9的圓柱件50的一端部之間的遠(yuǎn)離可移動(dòng)保持單元6的給定位置處。網(wǎng)格件68設(shè)在提供給圓柱件50的氣體排出孔67處。網(wǎng)格件68使刨花(如刨削的碎片)及氣體可以通過，但磁性磨粒65無法通過。因此，網(wǎng)格件68可防止磁性磨粒65從容器單元9的圓柱件50中漏出。形成為管狀的氣體排出管69附接至氣體排出孔67附近。氣體排出管69環(huán)繞氣體排出孔67的外邊緣。氣體排出孔67和氣體排出管69用于將由氣體流入管66供應(yīng)至圓柱件50的氣體引導(dǎo)至容器單元9的圓柱件50的外側(cè)。聯(lián)接至氣體排出管69的灰塵收集器70從氣體排出管69吸取氣體。通過從氣體排出管69中吸取氣體，灰塵收集器70從容器單元9的圓柱件50中吸入上述刨花(如刨削的碎片)以收集刨花(如刨削的碎片)。如此，收集單元10從容器單元9的圓柱件50中收集刨花(如刨削的碎片)。如圖12所示，冷卻單元11包括冷卻風(fēng)扇71，及冷卻管72。冷卻風(fēng)扇71向?yàn)楣軤畹睦鋮s管72供應(yīng)壓縮氣體(如空氣)。冷卻管72將由冷卻風(fēng)扇71供應(yīng)來的壓縮氣體(如空氣)引導(dǎo)至電磁線圈8，并將壓縮氣體(如空氣)吹向電磁線圈8。通過向電磁線圈8吹壓縮氣體(如空氣)，冷卻單元11冷卻電磁線圈8。如圖13所示，線性編碼器75包括主體77，及可滑動(dòng)地設(shè)在主體77上的探測件78。主體77具有直線形并附接至基座3。主體77布置在一對軌道20之間，其中主體77平行于軌道20。主體77的總長大于容器單元9。主體77的兩端在容器單元9的縱向上從容器單元9的兩端突出。探測件78在容器單元9的縱向上可滑動(dòng)地設(shè)在主體77上。探測件78附接至電磁線圈支持基座18。因此，探測件78通過電磁線圈支持基座18聯(lián)接至電磁線圈8。線性編碼器75探測探測件78相對于主體77(或容器單元9)的位置，并向控制單元76輸出一個(gè)探測結(jié)果信號。如此，線性編碼器75探測到電磁線圈8相對于或容器單元9(或顯影套筒132)的相對位置，并向控制單元76輸出一個(gè)探測結(jié)果信號?？刂茊卧?6包括CPU(中央處理單元)、RAM(隨機(jī)存取存儲器)和ROM(只讀存儲器)等?？刂茊卧?6被連接至圈移動(dòng)單元5、可移動(dòng)保持單元6、可移動(dòng)卡盤單元7、電磁線圈8、變換器49、收集單元IO、冷卻單元11及線性編碼器75等以整體地控制表面處理機(jī)器l?？刂茊卧?6儲存根據(jù)電磁線圈8相對于顯影套筒132的相對位置而判定的電磁線圈8的旋轉(zhuǎn)磁場強(qiáng)度，例如，其中電磁線圈8的此相對位置由線性編碼器75進(jìn)行探測。因此，控制單元76儲存由變換器49施加到電磁線圈8上的電力值，其中電力值根據(jù)電磁線圈8相對于顯影套筒132的相對位置而決定。而且，例如，控制單元76可存儲針對每種類型(如產(chǎn)品號)的顯影套筒132的電力值。在示意性實(shí)施例中，控制單元76存儲一個(gè)給定的電力方式或輪廓，其中在電磁線圈8從顯影套筒132的中心部向兩端部移動(dòng)而經(jīng)過顯影套筒132時(shí)，由變換器49施加到電磁線圈8上的電力值沿顯影套筒132的縱向(或軸向)逐漸增加。控制單元76以此給定的方式或輪廓控制變換器49以改變由電磁線圈8產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場的強(qiáng)度。如此，在示意性實(shí)施例中，例如，控制單元76如上所述控制變換器49及電磁線圈8，從而與在處理顯影套筒132的中心部時(shí)相比，在處理顯影套筒132的兩端部時(shí)電磁線圈8產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場的強(qiáng)度更大。如上所述，控制單元76儲存根據(jù)電磁線圈8相對于顯影套筒132的相對位置而決定的電磁線圈8的旋轉(zhuǎn)磁場強(qiáng)度，其中電磁線圈8的此相對位置由線性編碼器75進(jìn)行探測，且控制單元76儲存相應(yīng)的由變換器49施加到電磁線圈8上的電力值。而且，例如，控制單元76連接至輸入單元如鍵盤，和顯示單元如LCD(液晶顯示器)?，F(xiàn)參考圖14介紹用于表面處理機(jī)器1的磁性磨粒65。如圖14所示，磁性磨粒65具有具有相對較短的長度的圓柱形。磁性磨粒65可由磁性材料如奧氏不銹鋼、馬氏不銹鋼等制成。盡管奧氏不銹鋼通常被用作非磁性材料，但通過對奧氏不銹鋼進(jìn)行冷處理可使其具有磁性，其中奧氏不銹鋼可變?yōu)榫哂写判缘鸟R氏不銹鋼。因?yàn)榇祟悐W氏不銹鋼或馬氏不銹鋼在市場上都可買到，磁性磨粒65可優(yōu)選地用具有較合理價(jià)格或減小的成本的奧氏不銹鋼或馬氏不銹鋼制成。磁性磨粒65可具有給定的尺寸。例如，磁性磨粒65可具有0.1mm至2.0mm的外徑。當(dāng)磁性磨粒65的總長為TL且外徑為D時(shí)，磁性磨粒65可形成具有2至20的TL/D值的形狀。使用如此結(jié)構(gòu)的磁性磨粒65，磁性磨粒65的外邊緣65a可以可靠地壓緊顯影套筒132，且磁性磨粒65具有的總長可以在磁性磨粒65壓緊顯影套筒132時(shí)在壓緊顯影套筒132的外表面上優(yōu)先地形成足夠深的凹部或凸部。而且，如圖14及15所示，磁性磨粒65的外邊緣65a在其外圍上倒角且在剖視圖上具有圓弧形。例如，外邊緣65a形成具有0.03mm至0.5mm的給定的圓弧半徑。此磁性磨粒65具有以適度的方式在欲被處理對象的外表面上形成凹部和凸部的最佳形狀。如圖16所示，在表面處理機(jī)器1中產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場的作用下，在磁性磨粒65沿顯影套筒132和容器單元9的圓周方向旋轉(zhuǎn)地移動(dòng)的同時(shí)，繞其縱向上的中心旋轉(zhuǎn)。下面介紹使用表面處理機(jī)器1的顯影套筒132的表面糙化處理，其中顯影套筒132的外表面被磁性磨粒65糙化。首先，使用輸入單元如觸摸板將顯影套筒132的產(chǎn)品號等信息輸入至控制單元76。然后，具有圓柱形狀的帽筒64在顯影套筒132的兩端與顯影套筒132的外圓面接合。然后上述的其它定位件54接合中空目標(biāo)支持件32的外圓面，然后中空目標(biāo)支持件32被插入到顯影套筒132中，帽筒64附接至其兩端部。接著，上述的定位件54之一也接合中空目標(biāo)支持件32的外圓面。在示意性實(shí)施例中，當(dāng)顯影套筒132未被卡盤爪40固定至中空目標(biāo)支持件32時(shí)，顯影套筒132可沿其圓周方向繞其中心旋轉(zhuǎn)。如果卡盤爪40被相對于中空目標(biāo)支持件32的外圓面設(shè)置為突出狀態(tài)，則顯影套筒132和中空目標(biāo)支持件32被卡盤軸39固定。此時(shí)，顯影套筒132共軸地設(shè)置在中空目標(biāo)支持件32中同時(shí)顯影套筒132與中空目標(biāo)支持件32之間保持給定水平的間隙(如小于lmm)。然后，顯影套筒132與中空目標(biāo)支持件32容納容器單元9中，且磁性磨粒65被供應(yīng)進(jìn)容器單元9的圓柱件50中。由此處理，磁性磨粒65和顯影套筒132容納容器單元9中。而且，容器單元9被保持卡盤28和43卡住。由此處理，顯影套筒132和容器單元9被附接至可移動(dòng)保持單元6,其中圓柱件50、中空目標(biāo)支持件32和顯影套筒132共軸設(shè)置。通過用上述的促動(dòng)器24及25調(diào)整移動(dòng)基座26的位置及調(diào)整支持基座41的位置，可將可移動(dòng)保持單元6附接至顯影套筒132和容器單元9。然后，通過用保持卡盤16卡住容器單元9的第一端部9a，容器單元9的第一端部9a被固定保持單元4保持。然后，氣體通過收集單元10的氣體流入管66被供應(yīng)進(jìn)容器單元9，且灰塵收集器70從容器單元9中吸取氣體。而且，冷卻單元ll向電磁線圈8吹壓縮氣體(如空氣)。然后，例如，電磁線圈8由三相交流電源48施加電力以產(chǎn)生具有200Hz或更大的頻率的旋轉(zhuǎn)磁場。由于此產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場，顯影套筒132中產(chǎn)生渦電流。此旋轉(zhuǎn)磁場及渦電流產(chǎn)生電磁感應(yīng)電動(dòng)勢，由此顯影套筒132以近似對應(yīng)于旋轉(zhuǎn)磁場的頻率的轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)。而且，被置于可接受電磁線圈8的磁場作用的區(qū)域內(nèi)的磁性磨粒65，在繞磁性磨粒65中心旋轉(zhuǎn)的同時(shí)還沿顯影套筒132的外圓面旋轉(zhuǎn)地移動(dòng)，由此磁性磨粒65壓緊顯影套筒132的外表面以糙化顯影套筒132的外表面。在此糙化處理過程中，電磁線圈移動(dòng)單元5以定時(shí)的方式沿電磁線圈8的縱向連續(xù)地轉(zhuǎn)移或移動(dòng)電磁線圈8。通過電磁線圈8的此轉(zhuǎn)移或移動(dòng)，新進(jìn)入電磁線圈8的磁場空間的磁性磨粒65在上述旋轉(zhuǎn)磁場的作用下開始移動(dòng)(如，繞其中心旋轉(zhuǎn)和繞顯影套筒132旋轉(zhuǎn))，且脫離電磁線圈8的磁場空間的磁性磨粒65停止其運(yùn)動(dòng)。當(dāng)磁性磨粒65進(jìn)入到電磁線圈8的磁場空間時(shí)，磁性磨粒65隨機(jī)地并全方向地壓在顯影套筒132的表面上，這表示磁性磨粒從相對于顯影套筒132的表面的幾乎任意方向同時(shí)壓到顯影套筒132上。因此，與傳統(tǒng)的在某時(shí)刻將磁性磨粒從一個(gè)方向壓到目標(biāo)物體上的噴砂處理相比，當(dāng)通過依照示意性實(shí)施例的表面處理機(jī)器1形成凹陷139時(shí)顯影套筒132在其表面上均勻地接受壓力，這可以優(yōu)先地抑制顯影套筒132的變形(如軸移位，內(nèi)/外徑變化，套筒形狀被壓扁)。而且，因?yàn)榉指艏?5分隔或分段容器單元9中的空間，磁性磨粒65被防止從每個(gè)分隔件55中移出，由此從電磁線圈8的磁場空間移出的磁性磨粒65也從電磁線圈8的上述旋轉(zhuǎn)磁場中移出。當(dāng)電磁線圈移動(dòng)單元5沿箭頭X所示的方向以給定的次數(shù)往復(fù)地移動(dòng)電磁線圈8時(shí)，顯影套筒132外表面的表面糙化處理完成。在示意性實(shí)施例中，例如，與處理顯影套筒132的中心部時(shí)相比，當(dāng)處理顯影套筒132的兩端部時(shí)，由電磁線圈8產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場強(qiáng)度設(shè)置為較大的值。換言之，例如，由電磁線圈8產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)磁場強(qiáng)度從顯影套筒132的中心部向兩端部方向上逐漸變大。旋轉(zhuǎn)磁場強(qiáng)度越大，磁性磨粒65的運(yùn)動(dòng)越振動(dòng)。因此，當(dāng)旋轉(zhuǎn)磁場強(qiáng)度增加時(shí)，磁性磨粒65以更大的力壓緊將被處理的目標(biāo)物體(如顯影套筒132)，由此形成在顯影套筒132的表面上的凹陷的深度沿顯影套筒132在縱向(或軸向)逐漸變大或變深。因此，與形成在顯影套筒132中心部的凹陷相比，形成在顯影套筒132端部的凹陷具有更大的深度。當(dāng)顯影套筒132外表面的此表面糙化處理完成后，電磁線圈8上的電力作用停止，向收集單元10和冷卻單元11的電力作用也停止。然后，保持卡盤16從把容器單元9支持至固定保持單元4中釋放。在此釋放之后，在用可移動(dòng)卡盤單元7的保持卡盤43及可移動(dòng)卡盤單元6的保持卡盤28支持容器單元9的同時(shí)，使用第一促動(dòng)器24可使移動(dòng)基座26在箭頭X的方向上從固定保持單元4上離開。由此過程，容器單元9從固定保持單元4上分離。然后，被表面糙化處理處理過的顯影套筒132從容器單元9中移出。通過上述的表面糙化處理，可制作出具有粗糙外表面(見圖2)的顯影套筒132，其中顯影套筒132上的凹陷的深度在從顯影套筒132的中心部向兩端部的方向上逐漸變大或變深。例如，依照示意性實(shí)施例的顯影套筒132具有隨機(jī)形成在顯影套筒132上且深度按照如上所述改變的凹陷。凹陷深度的此變化設(shè)至顯影套筒132以控制由顯影套筒以外的給定因素引起的顯影套筒的端部顯影能力的下降。然后，另一個(gè)新的顯影套筒被置于和容納在容器單元9中以進(jìn)行另一個(gè)表面糙化處理。在示意性實(shí)施例中，當(dāng)表面處理機(jī)器1用于進(jìn)行顯影套筒132外表面的表面糙化處理時(shí)，電磁線圈8產(chǎn)生在顯影套筒132中產(chǎn)生渦電流的旋轉(zhuǎn)磁場。此旋轉(zhuǎn)磁場及渦電流產(chǎn)生電磁感應(yīng)電動(dòng)勢，由此顯影套筒132以近似對應(yīng)于旋轉(zhuǎn)磁場的頻率的轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)。而且，如圖16所示，在旋轉(zhuǎn)磁場的作用下，被置于電磁線圈8內(nèi)的某個(gè)位置的磁性磨粒65在繞磁性磨粒65中心旋轉(zhuǎn)的同時(shí)還沿顯影套筒132的外圓面旋轉(zhuǎn)地移動(dòng)，由此磁性磨粒65壓緊顯影套筒132的外表面以糙化顯影套筒132的外表面。繞其中心旋轉(zhuǎn)的磁性磨粒65以近似對應(yīng)于旋轉(zhuǎn)磁場的頻率的轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)。因?yàn)槔@其中心旋轉(zhuǎn)的磁性磨粒65的旋轉(zhuǎn)方向與顯影套筒132的旋轉(zhuǎn)方向相同，如圖16所示，磁性磨粒65的外邊緣65a以相對速度壓緊顯影套筒132，此速度與旋轉(zhuǎn)磁場的頻率的平方值成正比。因此，旋轉(zhuǎn)磁場的頻率越大，磁性磨粒65的相對速度就越大，由此通過在每單元時(shí)間內(nèi)擠壓磁性磨粒65而形成在顯影套筒132的表面上的凹陷的尺寸在顯影套筒132圓周方向上就越大，且顯影套筒132的外表面上的凹陷的縱向尺寸就更有可能與顯影套筒132的圓周方向(或旋轉(zhuǎn)方向)對準(zhǔn)。而且，因?yàn)榇判阅チ?5的壓緊力隨相對速度的增加而成比例地增加，如果相對速度有效增大，磁性磨粒65的外邊緣65a旋轉(zhuǎn)地壓緊顯影套筒132的外表面以將顯影套筒132的外表面刮起或掘起。而且，如圖16所示因?yàn)楦嗟拇判阅チ?5移動(dòng)，更多個(gè)具有橢圓形狀并形成在顯影套筒132的外表面上的凹陷可通過將橢圓形的長軸與顯影套筒132的圓周方向?qū)?zhǔn)而形成在顯影套筒132上。而且，因?yàn)楫?dāng)磁性磨粒65壓緊顯影套筒132的外表面并開始刮起或掘起顯影套筒132的外表面以形成凹陷139時(shí)，會消耗磁性磨粒65的旋轉(zhuǎn)動(dòng)能，所以在凹陷139形成期間磁性磨粒65的旋轉(zhuǎn)動(dòng)能會基本消失。當(dāng)磁性磨粒65的旋轉(zhuǎn)動(dòng)能基本消失時(shí)，磁性磨粒65會從顯影套筒132上彈起。因?yàn)榫驮诖判阅チ?5初始壓緊之后當(dāng)磁性磨粒65壓緊顯影套筒132的外表面并刮起或掘起顯影套筒132的某些部分時(shí)磁性磨粒65的此旋轉(zhuǎn)動(dòng)能基本消失，凹陷139具有如圖17所示的在前后方向上對稱的橫截面形狀，其中具有橢圓形狀并形成在顯影套筒132的外表面上的凹陷139在相對于顯影套筒132的旋轉(zhuǎn)方向的凹陷139的后面位置處具有最深部200c，其中當(dāng)磁性顆粒被吸引到顯影套筒132上時(shí)此旋轉(zhuǎn)方向可以是顯影套筒132的旋轉(zhuǎn)方向。因此，如圖18所示，自凹陷139的最深部200c沿顯影套筒132的徑向向外延伸的第一假想線Ll與自凹陷139的最深部200c向外延伸至外圍端部200a的第二假想線L2形成45°以內(nèi)的夾角a，其中外圍端部200a位于相對于顯影套筒132的旋轉(zhuǎn)方向上凹陷139的后面位置，如箭頭所示。如圖17所示，當(dāng)磁性磨粒65壓緊并掘起顯影套筒132的外表面以形成凹陷139時(shí)，凹陷139在相對于顯影套筒132旋轉(zhuǎn)方向上的后面位置處具有外圍端部200a，其中外圍端部200a從顯影套筒132的外表面上突出。因此，如圖18所示，凹陷139具有假想直線段La和半徑段Lb。假想直線段La自顯影套筒132的旋轉(zhuǎn)中心P延伸至凹陷139的外圍端部200a。半徑段Lb是顯影套筒132外徑的一半。在示意性實(shí)施例中，假想直線段La大于半徑段Lb。而且，因?yàn)楦鄠€(gè)磁性磨粒65在產(chǎn)生在顯影套筒132上的旋轉(zhuǎn)磁場的作用下沿顯影套筒132的圓周方向旋轉(zhuǎn)地移動(dòng)，更多個(gè)具有橢圓形狀并形成在顯影套筒132的外表面上的凹陷139可通過將橢圓形的長軸與顯影套筒132的圓周方向?qū)?zhǔn)而形成在顯影套筒132上。此凹陷139的最深部200c靠近后位，且外圍端部200a位于后位且從顯影套筒132的外表面上突出。如稍后結(jié)合表l所述，當(dāng)旋轉(zhuǎn)磁場的頻率大約大于200Hz時(shí)，在顯影套筒132的圓周方向(或旋轉(zhuǎn)方向)對準(zhǔn)的凹陷的數(shù)目大于與顯影套筒132的軸向?qū)?zhǔn)的凹陷的數(shù)目。而且，如稍后結(jié)合表1所述，當(dāng)旋轉(zhuǎn)磁場頻率設(shè)在200Hz至400Hz之間時(shí)，角a小于45°且獲得"20um》La-Lb〉5iim"的關(guān)系。如上所述，在示意性實(shí)施例中，表面處理機(jī)器1及磁性磨粒65用于在顯影套筒132的外表面上有效地形成更多個(gè)具有橢圓形狀的凹陷139。而且，凹陷139包括具有在顯影套筒132的軸向上延伸或?qū)?zhǔn)的橢圓形的第一凹陷139a及具有在顯影套筒132的圓周方向上延伸或?qū)?zhǔn)的橢圓形的第二凹陷139b，其中第二凹陷139b的數(shù)目大于第一凹陷139a的數(shù)目。因此，包括在顯影劑126中的磁性顆粒沿顯影套筒132的圓周方向被均勻地吸引到外表面上。而且，此磁性顆粒以如上所述更大的顯影套筒132的圓周方向上的密度被吸引到顯影套筒132的外表面上。因此，顯影輥115可更均勻地將顯影劑126供應(yīng)到感光鼓108的圓周方向上。換言之，顯影劑126可被更均勻地供應(yīng)至感光鼓108的旋轉(zhuǎn)方向，其中感光鼓108的旋轉(zhuǎn)方向與轉(zhuǎn)印件如紙張、中間轉(zhuǎn)印帶等的傳送方向?qū)?zhǔn)。因此，色粉圖像可通過降低圖像濃度的不均勻度而被顯影在感光鼓108上，由此，具有高質(zhì)量的圖像可產(chǎn)生在轉(zhuǎn)印件上。盡管依照示意性實(shí)施例的顯影套筒132如上所述被構(gòu)建成控制轉(zhuǎn)印件如紙張的傳輸方向(如紙張傳輸方向)上圖像濃度不均，但此顯影套筒132也可優(yōu)先地控制垂直于轉(zhuǎn)印件的傳輸方向的轉(zhuǎn)印件的寬度方向(如紙張寬度方向)上圖像濃度不均。因此，使用依照示意性實(shí)施例的顯影套筒132產(chǎn)生的圖像具有最佳的整體圖像濃度水平。而且，如上所述，當(dāng)通過將磁性磨粒65壓緊到顯影套筒132的外表面而使具有橢圓形的凹陷139形成在顯影套筒132的外表面上時(shí)，磁性磨粒65全方向地壓在顯影套筒132的外表面上，這表示磁性磨粒從相對于顯影套筒132的表面的幾乎任意方向同時(shí)壓到顯影套筒132上。因此，與傳統(tǒng)的在某時(shí)刻將磁性磨粒從一個(gè)方向壓到目標(biāo)物體上的噴砂處理相比，當(dāng)使用依照示意性實(shí)施例的表面處理機(jī)器1形成凹陷139時(shí)顯影套筒132在其表面上均勻地接受壓力，這可以優(yōu)先地控制顯影套筒132的變形(如軸移位，內(nèi)/外徑變化，套筒形狀被壓扁)。因此，顯影套筒132可以更高的精度被制造，且可以更高精度旋轉(zhuǎn)，由此，具有更高質(zhì)量的圖像可以以較高的色粉濃度水平產(chǎn)生。而且，當(dāng)表面處理機(jī)器1和磁性磨粒65用于在顯影套筒132的外表面上形成具有橢圓形狀的凹陷139時(shí)，自最深部200c沿顯影套筒132的徑向向外延伸的第一假想線L1與自凹陷139的最深部200c延伸至外圍端部200a的第二假想線L2形成45。以內(nèi)的夾角a。此凹陷139相對于顯影套筒132旋轉(zhuǎn)方向在其后面位置處具有外圍端部200a，其中外圍端部200a從顯影套筒132的外表面上突出。因此，當(dāng)顯影劑126被攜帶到顯影套筒132上時(shí)，凹陷139可以有效地掘起磁性顆粒并保持在其中。因此，磁性顆粒可以更可靠地保持在顯影套筒132的外表面上，由此顯影劑126可以更可靠地保持在顯影套筒132的外表面上。因此，顯影套筒132可攜帶的顯影劑126的量不會因時(shí)間而減少且具有合適色粉濃度的圖像可持續(xù)地產(chǎn)生。而且，示意性實(shí)施例中的凹陷139的深度可設(shè)為相對較小的值且可維持顯影劑的保持能力較好水平，由此，被施加在顯影套筒132的外表面上的處理能量(如機(jī)械力)可被設(shè)置地較小，這樣可優(yōu)先地控制顯影套筒132的變形(如軸移位，內(nèi)/外徑變化，套筒形狀被壓扁)。因此，顯影套筒132可以更高的精度被制造，且可以更高精度旋轉(zhuǎn)，由此，具有更高質(zhì)量的圖像可以以較高的色粉濃度水平產(chǎn)生。下面介紹使用表面處理機(jī)器1進(jìn)行的用于中空結(jié)構(gòu)的表面糙化處理的實(shí)驗(yàn)。在實(shí)驗(yàn)中，作用到電磁線圈8的電流及頻率值變化以按照示意性實(shí)施例及傳統(tǒng)表面槌化處理的方法進(jìn)行中空結(jié)構(gòu)(后文中為簡便起見，稱為顯影套筒132或顯影套筒)的表面糙化處理。實(shí)驗(yàn)結(jié)果用在紙張傳輸方向上評估圖像濃度的不均勻度的感官評估方法進(jìn)行評估。實(shí)驗(yàn)例1:通過使用表面處理機(jī)器l，通過將磁性磨粒65(外徑0.8mm，長度5mm，材料SUS304)隨機(jī)地壓緊到顯影套筒132(外徑18mm，長度240mm，材料鋁合金A6063)上而進(jìn)行表面糙化處理。當(dāng)此表面糙化處理進(jìn)行時(shí)，電磁線圈8被作用電流值為IOA和頻率為200Hz的電力，且此表面糙化處理的處理時(shí)間為30秒，磁性磨粒65的量為50g。實(shí)驗(yàn)例2:顯影套筒132的準(zhǔn)備類似于實(shí)驗(yàn)例1。當(dāng)此表面糙化處理進(jìn)行時(shí)，電磁線圈8被作用電流值為20A及頻率為200Hz的電力，且此表面糙化處理的處理時(shí)間為30秒，磁性磨粒65的量為50g。實(shí)驗(yàn)例3:顯影套筒132的準(zhǔn)備類似于實(shí)驗(yàn)例1。當(dāng)此表面糙化處理進(jìn)行時(shí)，電磁線圈8被作用電流值為20A及頻率為300Hz的電力，且此表面糙化處理的處理時(shí)間為30秒，磁性磨粒65的量為50g。實(shí)驗(yàn)例4:顯影套筒132的準(zhǔn)備類似于實(shí)驗(yàn)例1。當(dāng)此表面糙化處理進(jìn)行時(shí)，電磁線圈8被作用電流值為20A及頻率為400Hz的電力，且此表面糙化處理的處理時(shí)間為30秒，磁性磨粒65的量為50g。實(shí)驗(yàn)例5:顯影套筒132的準(zhǔn)備類似于實(shí)驗(yàn)例1。當(dāng)此表面糙化處理進(jìn)行時(shí)，電磁線圈8被作用電流值為30A及頻率為200Hz的電力，且此表面糙化處理的處理時(shí)間為30秒，磁性磨粒65的量為50g。對比實(shí)驗(yàn)l:顯影套筒通過在其外表面上形成溝槽而被準(zhǔn)備，其中溝槽的長度為220mm，寬度O.lmm，深度0.2mm，且槽與槽之間間距為0.18mm。對比實(shí)驗(yàn)2:通過使用具有平均顆粒直徑為500ixm的氧化鋁磨粒對外表面進(jìn)行處理時(shí)間為30秒且噴射壓力為4kgf/ci^的噴砂處理，顯影套筒被準(zhǔn)備。對比實(shí)驗(yàn)3:通過使用具有平均顆粒直徑為50um的氧化鋁磨粒對外表面進(jìn)行處理時(shí)間為30秒且噴射壓力為4kgf/ci^的噴砂處理，顯影套筒被準(zhǔn)備。對比實(shí)驗(yàn)4:顯影套筒132的準(zhǔn)備類似于實(shí)驗(yàn)例1。當(dāng)此表面糙化處理進(jìn)行時(shí)，電磁線圈8被作用電流值為IOA及頻率為150Hz的電力，且此表面糙化處理的處理時(shí)間為30秒，磁性磨粒65的量為50g。對比實(shí)驗(yàn)5:顯影套筒132的準(zhǔn)備類似于實(shí)驗(yàn)例1。當(dāng)此表面糙化處理進(jìn)行時(shí)，電磁線圈8被作用電流值為20A及頻率為150Hz的電力，且此表面糙化處理的處理時(shí)間為30秒，磁性磨粒65的量為50g。對比實(shí)驗(yàn)6:顯影套筒132的準(zhǔn)備類似于實(shí)驗(yàn)例1。當(dāng)此表面糙化處理進(jìn)行時(shí)，電磁線圈8被作用電流值為30A及頻率為150Hz的電力，且此表面糙化處理的處理時(shí)間為30秒，磁性磨粒65的量為50g。對比實(shí)驗(yàn)7:顯影套筒132的準(zhǔn)備類似于實(shí)驗(yàn)例1。當(dāng)此表面糙化處理進(jìn)行時(shí)，電磁線圈8被作用電流值為20A及頻率為100Hz的電力，且此表面糙化處理的處理時(shí)間為30秒，磁性磨粒65的量為50g。對比實(shí)驗(yàn)8:顯影套筒132的準(zhǔn)備類似于實(shí)驗(yàn)例1。當(dāng)此表面糙化處理進(jìn)行時(shí)，電磁線圈8被作用電流值為30A及頻率為100Hz的電力，且此表面糙化處理的處理時(shí)間為30秒，磁性磨粒65的量為50g。按照上述實(shí)驗(yàn)例子和對比實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)備的顯影套筒用于以下試驗(yàn)。按照上述實(shí)驗(yàn)例子和對比實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)備的顯影套筒被安裝在成像設(shè)備(Ricoh公司的產(chǎn)品IPSIOCX400)中。感光鼓8被充電620V，且應(yīng)用385V的顯影偏壓。包括具有平均顆粒直徑35um的載體的雙組分青色顯影劑用作顯影劑126，且顯影劑126的提取量設(shè)定為50mg/cm2。在此設(shè)置下，成像設(shè)備輸出10000幅195mmX285mm的固體圖像，且在紙張傳送方向上的圖像濃度的不均勻度被用感官評估方法評估。具體地，顯影套筒初始狀況下的圖像濃度的不均勻度和輸出10，OOO張圖像后圖像濃度的不均勻度用以下標(biāo)準(zhǔn)評估，結(jié)果如表1所示。標(biāo)準(zhǔn)A:紙張傳送方向上的圖像濃度是均勻的，并且未觀察到圖像濃度的不均。標(biāo)準(zhǔn)B:觀察到紙張傳送方向上的圖像濃度不均勻，但實(shí)際使用沒問題。標(biāo)準(zhǔn)C:觀察到紙張傳送方向上的圖像濃度不均勻，且出現(xiàn)實(shí)際使用問題。而且，因?yàn)樵趯?shí)驗(yàn)例1至5和對比實(shí)驗(yàn)4至8中，用表面處理機(jī)器1進(jìn)行依照示意性實(shí)施例的表面糙化處理，具有橢圓形狀的凹陷形成在顯影套筒上。表l同樣顯示顯影套筒上每個(gè)單元面積內(nèi)的沿顯影套筒的圓周方向延伸的凹線139中的第二凹陷139b(見圖6)的比例。表l<table>tableseeoriginaldocumentpage33</column></row><table>在表1中，"Ex."代表實(shí)驗(yàn)例，而"CEx."代表對比實(shí)驗(yàn)例。如表1所示，通過按照示意性實(shí)施例的表面糙化處理準(zhǔn)備的實(shí)驗(yàn)例1至5和對比實(shí)驗(yàn)4至8的顯影套筒具有紙張傳送方向上的圖像濃度不均勻度較小或幾乎沒有的結(jié)果，與使用傳統(tǒng)表面糙化處理準(zhǔn)備的對比實(shí)驗(yàn)1至3的顯影套筒相比，這是一個(gè)相對好的結(jié)果，其中實(shí)驗(yàn)例1至5具有標(biāo)準(zhǔn)A，且對比實(shí)驗(yàn)4至8具有標(biāo)準(zhǔn)B。而且，在實(shí)驗(yàn)例1至5中，電磁線圈被作用以200Hz或更大的頻率。在此實(shí)驗(yàn)例1至5中，與在顯影套筒132的軸向上延伸或?qū)?zhǔn)的第一凹陷139a(見表1中的"第二凹陷的比例")相比，具有橢圓形狀的形成在顯影套筒132的外表面上的凹陷139具有更多數(shù)量的在顯影套筒132的圓周方向上延伸或?qū)?zhǔn)的第二凹陷139b。如表1所示，此實(shí)驗(yàn)例1至5顯示好的結(jié)果。根據(jù)此實(shí)驗(yàn)例1至5，可以確認(rèn)，在顯影套筒132的外表面上，在顯影套筒132的圓周方向上延伸或?qū)?zhǔn)的第二凹陷139b的數(shù)目設(shè)定多于在顯影套筒132的軸向上延伸或?qū)?zhǔn)的第一凹陷139a的數(shù)目時(shí)，能夠控制或防止在紙張傳送方向上的圖像濃度的不均勻度。而且，進(jìn)行的另外的實(shí)驗(yàn)用于評估形成在顯影套筒132的外表面上的凹陷139的一個(gè)形狀因素對紙張傳送方向上圖像濃度不均勻度的影響。具體地，通過改變作用在電磁線圈8上的電流值和頻率，在實(shí)驗(yàn)例1,2,3,5,7及對比實(shí)驗(yàn)11中進(jìn)行依照示意性實(shí)施例的表面糙化處理。如圖18所示，形成在顯影套筒132的外表面上的凹陷139具有最深部200c，并且第一假想線Ll從凹陷139的最深部200c沿顯影套筒132的徑向向外延伸，第二假想線L2從凹陷139的最深部200c延伸至外圍端部200a，其中外圍端部200a位于相對于顯影套筒132旋轉(zhuǎn)方向的凹陷139的后面位置，如箭頭所示。第一和第二假想線L1及L2形成的角度a。通過改變作用在電磁線圈8上的電流值和頻率，具有不同角度a的顯影套筒被準(zhǔn)備以使用上述的感官評估方法評估紙張傳送方向上的圖像濃度不均勻度。表l同樣給出了這些實(shí)驗(yàn)的結(jié)果。實(shí)驗(yàn)例7:顯影套筒132的準(zhǔn)備類似于實(shí)驗(yàn)例1。當(dāng)此表面糙化處理進(jìn)行時(shí)，電磁線圈8被作用電流值為20A及頻率為450Hz的電力，且此表面糙化處理的處理時(shí)間為30秒，磁性磨粒65的量為50g。此后，使用旋轉(zhuǎn)機(jī)器以1480rpm(每分鐘的轉(zhuǎn)數(shù))的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)顯影套筒132，以10kgf的力將表面粗糙度為#400的帶子擠壓到顯影套筒132的表面上10秒鐘以拋光顯影套筒132的表面。此帶拋光被進(jìn)行以刮擦凹陷139的外邊緣200a以減小假想直線段La。對比實(shí)驗(yàn)11:顯影套筒的準(zhǔn)備類似于實(shí)驗(yàn)例1。當(dāng)此表面糙化處理進(jìn)行時(shí)，電磁線圈8被作用電流值為20A及頻率為500Hz的電力，且此表面糙化處理的處理時(shí)間為30秒，磁性磨粒65的量為50g。此后，使用旋轉(zhuǎn)機(jī)器以1480rpm(每分鐘的轉(zhuǎn)數(shù))的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)顯影套筒132，以10kgf的力將表面粗糙度為斜O(jiān)O的帶子擠壓到顯影套筒132的表面上15秒鐘以拋光顯影套筒132的表面。此帶拋光被進(jìn)行以刮擦凹陷139的外邊緣200a以減小假想直線段La。使用如此準(zhǔn)備的顯影套筒，紙張傳送方向上的圖像濃度不均勻度用上述感官評估方法進(jìn)行評估。表l顯示了此實(shí)驗(yàn)的結(jié)果，其中凹陷139的角度d也被顯示。通過提取多個(gè)凹陷139作為樣品并平均抽樣凹陷139的角度可測量角度a。而且，為了確認(rèn)角度a和圖像濃度不均勻度之間的關(guān)系，通過對顯影套筒仔細(xì)地進(jìn)行表面處理，設(shè)定角度a之外的參數(shù)(如橢圓形的長軸長度，橢圓形的短軸長度，凹陷的深度，長度La和Lb)與準(zhǔn)備的顯影套筒中的值近似，由此這些參數(shù)不會對結(jié)果造成影響。如表1所示，與具有標(biāo)準(zhǔn)B的對比實(shí)驗(yàn)ll中準(zhǔn)備的顯影套筒相比，實(shí)驗(yàn)例l、2、3、5和7中準(zhǔn)備的顯影套筒132在紙張傳送方向上幾乎沒有圖像濃度不均勻度(如標(biāo)準(zhǔn)A)，這是好的結(jié)果。因此，根據(jù)實(shí)驗(yàn)例1至5，可以確認(rèn)當(dāng)旋轉(zhuǎn)磁場的頻率為200Hz至400Hz時(shí)，顯影套筒132上的凹陷139具有小于45°的角度a(a〈45°)。而且，盡管實(shí)驗(yàn)例1、2、3、5和7中的長度"La—Lb(Pm)"小于對比實(shí)驗(yàn)11中的長度"La—Lb(nm)"，但可以確認(rèn)由于角度a因素實(shí)驗(yàn)例l、2、3、5和7在圖像濃度上顯示好的結(jié)果(如標(biāo)準(zhǔn)A)。根據(jù)此結(jié)果，可以確認(rèn)當(dāng)凹陷139具有小于45°的角度a(a<45°)時(shí)，能夠控制或防止紙張傳送方向上圖像濃度不均勻度。而且，其它實(shí)驗(yàn)被進(jìn)行以評估形成在顯影套筒132上的凹陷139的其它形狀因素對紙張傳送方向上圖像濃度不均勻度的影響。具體地，通過改變作用在電磁線圈8上的電流值和頻率，可以在實(shí)驗(yàn)例1至8及對比實(shí)驗(yàn)9和10中進(jìn)行依照示意性實(shí)施例的表面糙化處理。如圖18所示，凹陷139具有假想直線段La和半徑段Lb。假想直線段La自顯影套筒132的旋轉(zhuǎn)中心P延伸至凹陷139的外圍端部200a。半徑段Lb是顯影套筒132外徑的一半。通過改變作用在電磁線圈8上的電流值和頻率，具有不同"La—Lb"值的顯影套筒被準(zhǔn)備以使用上述感官評估方法對紙張傳送方向上圖像濃度不均勻度進(jìn)行評估。表l同樣顯示了這些實(shí)驗(yàn)的結(jié)果。實(shí)驗(yàn)例6:顯影套筒132的準(zhǔn)備類似于實(shí)驗(yàn)例1。當(dāng)此表面糙化處理進(jìn)行時(shí)，電磁線圈8被作用電流值為20A及頻率為450Hz的電力，且此表面糙化處理的處理時(shí)間為30秒，磁性磨粒65的量為50g。此后，使用旋轉(zhuǎn)機(jī)器以1480rpm(每分鐘的轉(zhuǎn)數(shù))的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)顯影套筒132，以10kgf的力將表面粗糙度為#400的帶子擠壓到顯影套筒132的表面上5秒鐘以拋光顯影套筒132的表面。進(jìn)行這種帶拋光以刮擦凹陷139的外邊緣200a以減小假想直線段La。實(shí)驗(yàn)例8:顯影套筒132的準(zhǔn)備類似于實(shí)驗(yàn)例1。當(dāng)此表面糙化處理進(jìn)行時(shí)，電磁線圈8被作用電流值為20A及頻率為450Hz的電力，且此表面糙化處理的處理時(shí)間為30秒，磁性磨粒65的量為50g。此后，使用旋轉(zhuǎn)機(jī)器以1480rpm(每分鐘的轉(zhuǎn)數(shù))的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)顯影套筒132，以10kgf的力將表面粗糙度為糾OO的帶子擠壓到顯影套筒132的表面上20秒鐘以拋光顯影套筒132的表面。進(jìn)行這種帶拋光以刮擦凹陷139的外邊緣200a以減小假想直線段La。對比實(shí)驗(yàn)9:顯影套筒的準(zhǔn)備類似于實(shí)驗(yàn)例1。當(dāng)此表面糙化處理進(jìn)行時(shí)，電磁線圈8被作用電流值為20A及頻率為450Hz的電力，且此表面糙化處理的處理時(shí)間為30秒，磁性磨粒65的量為50g。對比實(shí)驗(yàn)10:顯影套筒的準(zhǔn)備類似于實(shí)驗(yàn)例1。當(dāng)此表面糙化處理進(jìn)行時(shí)，電磁線圈8被作用電流值為20A及頻率為450Hz的電力，且此表面糙化處理的處理時(shí)間為30秒，磁性磨粒65的量為50g。此后，使用旋轉(zhuǎn)機(jī)器以1480rpm(每分鐘的轉(zhuǎn)數(shù))的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)顯影套筒132，以10kgf的力將表面粗糙度為#400的帶子擠壓到顯影套筒132的表面上23秒鐘以拋光顯影套筒132的表面。進(jìn)行這種帶拋光以刮擦凹陷139的外邊緣200a以減小假想直線段La。使用如此準(zhǔn)備的顯影套筒，紙張傳送方向上的圖像濃度不均勻度用上述感官評估方法進(jìn)行評估。表1中示出了此實(shí)驗(yàn)的結(jié)果，其中還顯示了凹陷139的"La-Lb"的長度。通過提取多個(gè)凹陷139作為樣品然后平均抽樣凹陷139的長度可測量"La-Lb"的長度。而且，為了確認(rèn)"La-Lb"的長度和圖像濃度不均勻度之間的關(guān)系，通過對顯影套筒仔細(xì)地進(jìn)行表面處理，設(shè)定"La-Lb"以外的參數(shù)(如橢圓形的長軸長度，橢圓形的短軸長度，凹陷的深度，角度a和e)與準(zhǔn)備的顯影套筒中的值相似，由此這些參數(shù)不會對結(jié)果造成影響。如表1所示，與當(dāng)10000張紙被打印后具有標(biāo)準(zhǔn)B的對比實(shí)驗(yàn)9及10中準(zhǔn)備的顯影套筒132相比，實(shí)驗(yàn)例1至8中準(zhǔn)備的顯影套筒132在紙張傳送方向上幾乎沒有圖像濃度不均勻(如標(biāo)準(zhǔn)A)，這是好的結(jié)果。因此，根據(jù)實(shí)驗(yàn)例1至5，可以確認(rèn)當(dāng)旋轉(zhuǎn)磁場的頻率設(shè)定為200Hz至400Hz時(shí)，顯影套筒132上的具有假想直線段La大于半徑段Lb的凹陷139具有關(guān)系式"20um》La—Lb>5Um，，。而且，盡管實(shí)驗(yàn)例6至8中的角度a類似于對比實(shí)驗(yàn)9及10中的角度a，可以確認(rèn)實(shí)驗(yàn)例6至8由于"La—Lb"的因素而表現(xiàn)出圖像濃度的好的結(jié)果。根據(jù)此結(jié)果，可以確認(rèn)當(dāng)具有假想直線段La大于半徑段Lb的凹陷139具有關(guān)系式"20um^La—Lb>5um"時(shí)，能夠控制或防止紙張傳輸方向上的圖像濃度不均勻度。如果"La—Lb"變得過大(如La—Lb>20nm)，設(shè)在凹陷139的后面位置的外圍端部200a的邊緣更有可能磨損、磨壞或撕壞，由此顯影套筒132的外表面上攜帶的顯影劑的量隨時(shí)間而減少。顯影套筒132的外表面上的凹凸的截面形狀用KEYENCECORPORATION制造的激光聚焦位移裝置"LT一8010"在沿顯影套筒一周的三個(gè)點(diǎn)上進(jìn)行測量。測量條件包括樣品數(shù)18000，取樣頻率1800Hz，位移函數(shù)，平均測量2次，常規(guī)測量模式，無暗度漸變(亮度從中間向兩側(cè)逐漸變化的狀態(tài)，darkout)，無掩蔽，無透明件，且最小光密度為130。在此條件下，計(jì)算角度a和"La—Lb"的長度。如圖10及11所示，例如，上述成像設(shè)備101包括處理盒106Y，106M，106C，及106K，且每個(gè)處理盒106Y，106M，106C，及106K包括盒外殼111，充電輥109，感光鼓108，清潔刀片112，及顯影單元113。然而，在示意性實(shí)施例中，處理盒106Y，106M，106C，及106K可不必包括除顯影單元113外的所有的子單元或裝置。因此，例如，盒外殼lll，充電輥109，感光鼓108，清潔刀片112可從處理盒106Y，106M，106C，及106K中省略。而且，盡管成像設(shè)備101包括可拆卸地安裝在成像設(shè)備101上的處理盒106Y，106M，106C，及106K，處理盒106Y，106M，106C，及106K也可從成像設(shè)備101上省略。此時(shí)，例如，成像設(shè)備101可包括作為可拆卸單元的顯影單元113。而且，在示意性實(shí)施例中，顯影套筒132的外徑，磁性磨粒65的尺寸，容器單元9的圓柱件50的外徑可根據(jù)需要改變?yōu)槿我庵?。而且，顯影套筒132在其兩端的表面形狀，彎曲半徑及磁性磨粒65的形狀尺寸根據(jù)幾個(gè)因素如期望的表面粗糙度，處理時(shí)間(處理?xiàng)l件)，電磁線圈8的往復(fù)移動(dòng)次數(shù)，磁性磨粒65的持久性等優(yōu)先地選擇和決定。而且，容器單元9中容納的磁性磨粒65的總量根據(jù)幾個(gè)因素如期望的表面粗糙度，處理時(shí)間(處理?xiàng)l件)，電磁線圈8的往復(fù)移動(dòng)次數(shù)，磁性磨粒65的持久性等優(yōu)先地決定。根據(jù)上述的宗旨可進(jìn)行多個(gè)之外的修改及變化。因此，可以理解在附屬權(quán)利要求的范圍內(nèi)，本發(fā)明的公開可以以不同于此處的具體描述而實(shí)施。例如，在附屬權(quán)利要求的范圍內(nèi)，不同實(shí)例及示意性實(shí)施例的部件及/或特性可進(jìn)行互相組合或替換。權(quán)利要求1.一種磁性顆粒攜帶裝置，其特征在于，包括磁場發(fā)生器，該磁場發(fā)生器構(gòu)造成產(chǎn)生磁場；及中空圓柱結(jié)構(gòu)，該中空圓柱結(jié)構(gòu)構(gòu)造成包圍著所述磁場發(fā)生器，并利用磁場將磁性顆粒吸引到所述中空圓柱結(jié)構(gòu)的外表面上，所述中空圓柱形結(jié)構(gòu)的外表面上具有形成在其中的兩種類型的多個(gè)橢圓凹陷，第一類型橢圓凹陷的長軸實(shí)質(zhì)上沿所述中空圓柱形結(jié)構(gòu)的軸向延伸，第二類型橢圓凹陷的長軸實(shí)質(zhì)上沿所述中空圓柱形結(jié)構(gòu)的圓周方向延伸，所述中空圓柱形結(jié)構(gòu)的外表面上具有的所述第二類型橢圓凹陷多于所述第一類型橢圓凹陷。2.如權(quán)利要求1所述的磁性顆粒攜帶裝置，其特征在于，其中所述凹陷隨機(jī)地形成在所述中空圓柱形結(jié)構(gòu)的外表面上。3.如權(quán)利要求1所述的磁性顆粒攜帶裝置，其特征在于，其中由假想線L1和假想線L2形成的角度a小于45°，所述假想線U從所述多個(gè)橢圓凹陷中的每個(gè)橢圓凹陷的底部沿所述中空圓柱形結(jié)構(gòu)的徑向向外延伸，且所述假想線L2從所述多個(gè)橢圓形凹陷中的每個(gè)橢圓凹陷的底部向外延伸至所述多個(gè)橢圓形凹陷中的每個(gè)橢圓凹陷相對于所述中空圓柱形結(jié)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)方向的后邊緣。4.如權(quán)利要求3所述的磁性顆粒攜帶裝置，其特征在于，從所述中空圓柱形結(jié)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)中心延伸至所述凹陷的后邊緣的假想直線段La與半徑線段Lb滿足20ym》La-Lb〉5ym。5.—種成像設(shè)備，其特征在于，包括潛像載體，該潛像載體構(gòu)造成其上攜帶潛像；充電器，該充電器構(gòu)造成對所述潛像載體的表面充電；記錄器，該記錄器構(gòu)造成在所述潛像載體上記錄潛像；及顯影單元，該顯影單元用于通過顯影劑顯影所述潛像，包括磁性顆粒攜帶裝置，包括磁場發(fā)生器，該磁場發(fā)生器構(gòu)造成產(chǎn)生磁場；及中空圓柱結(jié)構(gòu)，該中空圓柱結(jié)構(gòu)構(gòu)造成包圍著所述磁場發(fā)生器，并利用磁場將磁性顆粒吸引到所述中空圓柱結(jié)構(gòu)外表面上，所述中空圓柱形結(jié)構(gòu)的外表面上具有形成在其中的兩種類型的多個(gè)橢圓形凹陷，第一類型橢圓凹陷的長軸實(shí)質(zhì)上沿所述中空圓柱形結(jié)構(gòu)的軸向延伸，第二類型橢圓凹陷的長軸實(shí)質(zhì)上沿所述中空圓柱形結(jié)構(gòu)的圓周方向延伸，所述中空圓柱形結(jié)構(gòu)的外表面上具有的所述第二類型橢圓凹陷多于所述第一類型橢圓凹陷。6.如權(quán)利要求5所述的成像設(shè)備，其特征在于，所述顯影劑包括色粉顆粒和磁性顆粒，且所述磁性顆粒具有20um至50ym的平均顆粒直徑。7.如權(quán)利要求5所述的成像設(shè)備，其特征在于，所述顯影單元構(gòu)造成可拆卸地安裝在所述成像設(shè)備中的處理盒。8.—種對目標(biāo)物體的表面進(jìn)行糙化的方法，其特征在于，包括在目標(biāo)物體的周圍產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)的磁場；及在具有200Hz至400Hz的頻率的旋轉(zhuǎn)磁場的作用下，將多個(gè)圓柱形磨粒壓緊到所述目標(biāo)物體的外表面上。9.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)磁場由電磁線圈產(chǎn)生。10.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述壓緊步驟實(shí)質(zhì)上同時(shí)沿各個(gè)方向隨機(jī)地將所述磨粒壓緊到所述目標(biāo)物體的外表面上。11.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，通過在所述目標(biāo)物體的軸向上改變所述旋轉(zhuǎn)磁場的強(qiáng)度，所述壓緊步驟隨機(jī)地將所述磨粒壓緊到所述目標(biāo)物體的外表面上。12.如權(quán)利要求ll所述的方法，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)磁場的強(qiáng)度在軸向上從所述目標(biāo)物體的中心部向所述目標(biāo)物體的每個(gè)端部可變地設(shè)定為變大。全文摘要一種磁性顆粒攜帶裝置包括磁場發(fā)生器及中空圓柱形結(jié)構(gòu)。所述磁場發(fā)生器產(chǎn)生磁場。所述中空圓柱形結(jié)構(gòu)包圍著所述磁場發(fā)生器并使用所述磁場將磁性顆粒吸引到中空結(jié)構(gòu)的外表面上。所述中空圓柱形結(jié)構(gòu)的外表面上設(shè)有多個(gè)橢圓形凹陷。所述凹陷包括第一類型凹陷和第二類型凹陷。第一類型橢圓凹陷的長軸近似沿所述中空圓柱形結(jié)構(gòu)的軸向延伸，第二類型橢圓凹陷的長軸近似沿所述中空圓柱形結(jié)構(gòu)的圓周方向延伸。所述中空圓柱形結(jié)構(gòu)的外表面上具有的所述第二類型橢圓凹陷多于所述第一類型橢圓凹陷。文檔編號G03G9/10GK101221382SQ20081000316公開日2008年7月16日申請日期2008年1月11日優(yōu)先權(quán)日2007年1月11日發(fā)明者今村剛,印南崇,大澤正幸,寺島美惠子,服部忠明,神谷紀(jì)行,肥塚恭太,阿部紘也,高野善之申請人:株式會社理光