專利名稱：基板的處理裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一邊將基板在以規(guī)定的角度傾斜立起的狀態(tài)下輸送 一邊由處理液等流體處理的基板處理裝置。
背景技術：
在液晶顯示裝置中使用的玻璃制的基板上形成有電路圖案。為了 在基板上形成電路圖案而采用光刻工藝。光刻工藝如周知那樣在上述 基板上涂布抗蝕劑，經(jīng)由形成有電路圖案的掩模對該抗蝕劑照射光。
去，將基板的除去了抗蝕劑的部分蝕刻。然后，通過多次反復進行在 蝕刻后將抗蝕劑除去的一系列的工序，在上述基板上形成電路圖案。 在這樣的光刻工藝中，需要對上述基板通過顯影液、蝕刻液或者 在蝕刻后將抗蝕劑除去的剝離液處理基板的工序、還有通過漂洗液進 行清洗的工序、和在清洗后將附著殘留在基板上的漂洗液除去的千燥 工序。
以往，在對基板進行上述的一系列的處理的情況下，上述基板通 過使軸線為水平而配置的輸送輥，以大致水平的狀態(tài)依次輸送到進行 各個處理的處理腔室中，在各處理腔室中通過處理液處理基板、或者 在處理后噴射壓縮氣體來進行干燥處理。
最近，在液晶顯示裝置中使用的玻璃制的基板有大型化及薄型化 的趨勢。因此，如果水平輸送基板，則輸送輥間的基板的翹曲變大， 所以產(chǎn)生了各處理腔室中的處理不能遍及基板的板面整體而均勻地 進行的情況。
進而，如果基板大型化，則使設有輸送該基板的輸送輥的輸送軸 長尺寸化。并且，通過基板大型化，被供給到基板上的處理液增大， 根據(jù)基板上的處理液的量而施加在上述輸送軸上的負荷變大，所以由 此輸送軸的翹曲增大。因此，有時基板會因輸送軸翹曲而發(fā)生翹曲， 不能進行均勻的處理。
所以，在通過處理液處理基板時，為了防止上述基板因處理液的 重量而翹曲，通過將基板以規(guī)定的傾斜角度、例如從垂直狀態(tài)傾斜
15度、以75度的角度輸送、對位于傾斜方向的上側的前表面噴射處 理液，來處理該基板的前表面。
如果將基板傾斜輸送、對該基板的前表面噴射供給處理液，則處 理液不會殘留在基板的板面上，而在板面上從上方朝向下方平滑地流 動，所以能夠防止因處理液的重量而引起基板翹曲的情況發(fā)生。
但是，在一邊將基板以規(guī)定的角度傾斜而輸送一邊進行處理的處 理裝置的情況下，如專利文獻1所示，基板的作為傾斜方向下側的背 面受支撐輥支撐，下端受驅動輥的外周面支撐。驅動輥安裝在驅動軸 上，通過驅動源旋轉驅動該驅動軸。
在上述處理裝置中，相對于上述基板的輸送方向以規(guī)定間隔配置 有多個上述支撐輥和上述驅動輥。由此，上述基板在背面受上述支撐 輥支撐的同時，受上述驅動輥驅動。
專利文獻1日本特開2004—210511號公報
可是，為了根據(jù)處理液的種類而提高其處理效果，而從噴射嘴以 例如0.7MPa左右的較高的壓力對輸送的基板的前表面噴射上述處理 液。如果以高壓對基板的前面噴射處理液，則基板在該處理液的壓力 的作用下向背面?zhèn)葟澢?br> 如果只是基板在處理液的壓力的作用下彎曲，則該彎曲被支撐基 板的背面的支撐輥限制。但是，如果基板的輸送方向后方的下端部在 處理液的壓力下向背面?zhèn)葟澢?、在彎曲的狀態(tài)下接觸到驅動輥的外周
面，則該驅動輥的驅動力會經(jīng)由其外周面?zhèn)鬟f到基板的下端。
如果驅動輥的驅動力傳遞到彎曲的基板的輸送方向的下端部，則 通過該驅動力、基板的輸送方向后方的下端部受到進一步彎曲的方向 的力，所以有時基板的輸送方向后方的下端部會過量彎曲而損傷。

發(fā)明內容
本發(fā)明提供一種基板的處理裝置，該基板的處理裝置在從驅動輥 受到的驅動力的作用下限制基板的輸送方向后方的下端部向背面?zhèn)?彎曲。
本發(fā)明提供一種基板的處理裝置， 一邊使基板以規(guī)定的角度傾斜 而進行輸送， 一邊通過流體進行處理，其特征在于，具備-
腔室；
支撐輥，設在該腔室內，并支撐上述基板的傾斜方向下側的背面； 驅動輥，通過外周面支撐背面受上述支撐輥支撐的上述基板的下
端，被旋轉驅動而將上述基板向規(guī)定方向輸送；
流體供給機構，對上述基板的傾斜方向上側的前表面噴射上述流
體；以及
防彎曲輥，配置在上述驅動輥的附近，并在上述基板的輸送方向 后方的下端部承受從上述流體供給機構噴射的流體的壓力而使上述 基板的下端部向背面?zhèn)葟澢鷷r，矯正該彎曲。
發(fā)明效果
根據(jù)本發(fā)明，由于在驅動輥的附近設有阻止基板的輸送方向后方 的下端部發(fā)生彎曲的防彎曲輥，所以能夠防止基板的輸送方向后方的 下端部在彎曲的狀態(tài)下從驅動輥受到驅動力、彎曲增大而損傷的情 況。


圖1是表示本發(fā)明的第1實施方式的處理裝置的概略結構的立體圖。
圖2是上述處理裝置的腔室的剖視圖。
圖3是表示支撐輥與驅動輥的配置關系的主視圖。
圖4是表示支撐輥與驅動輥的配置關系的俯視圖。
圖5A是表示本發(fā)明的第2實施方式的表示支撐輥與驅動輥的配
置關系的主視圖。
圖5B是同樣表示支撐輥與驅動輥的配置關系的俯視圖。
圖6A是表示本發(fā)明的第3實施方式的表示支撐輥與驅動輥的配
置關系的主視圖。
圖6B是同樣表示支撐輥與驅動輥的配置關系的俯視圖。
具體實施例方式
以下，參照

本發(fā)明的實施方式。
圖1至圖4表示本發(fā)明的第1實施方式。圖1是表示本發(fā)明的處 理裝置的概略結構的立體圖，該處理裝置具有裝置主體l。該裝置主 體1是將被分割的多個處理單元、在本實施方式中是將第1至第5處 理單元1A 1E可分解地連結為一列而成的。
各處理單元1A 1E具有架臺2。在該架臺2的前表面上以規(guī)定 的角度傾斜地保持有箱形狀的腔室3。在上述架臺2與腔室3的上表 面上設有上部輸送部4。在上述架臺2的下端的寬度方向兩端上可分 解地設有板狀的一對腳體5 (僅圖示1個)。通過該腳體5在上述架 臺2的下面?zhèn)刃纬煽臻g部6。
在上述空間部6中，收納有設備部9，該設備部9在框架8上載 置有控制裝置等的設備7，該控制裝置對在上述腔室3中如后述那樣 進行的用來處理基板W的藥液或漂洗液等的處理液的箱或泵、或者 處理液供給進行控制。即，各處理單元1A 1E通過用腳體5支撐架
臺2而在腔室3的下方形成空間部6，被分割成位于上下方向的腔室 3、上部輸送部4以及設備部9的3個部分。
上述腔室3以規(guī)定的角度、即例如相對于垂直線以15度的角度 傾斜的75度的角度傾斜而保持在上述架臺2上，在寬度方向的兩側 面上形成有被以75度的角度傾斜輸送的基板W通過的縫隙13 (在 圖1中僅圖示了一處)。
在上述腔室3的內部中，如圖2和圖3所示，在腔室3的寬度方 向上以規(guī)定間隔設有構成傾斜輸送機構的多個輸送軸15。在該輸送 軸15上，沿軸向以規(guī)定間隔可旋轉地設有多個支撐輥14。上述輸送 軸15的上端及下端分別受托架15a支撐，以使軸線以與上述縫隙13 相同的角度傾斜。
在上述腔室3內，基板W被圖1中用點劃線表示的第1姿勢變 換部16從水平狀態(tài)變換為75度的角度而從上述縫隙13送入。艮P， 未處理的基板W被上述上部輸送部4從第5處理單元1E側向第1 處理單元1A側輸送，被上述第1姿勢變換部16從水平狀態(tài)傾斜75 度的角度，被送入到上述第1處理單元1A中。
被送入到第1處理單元1A的腔室3內的基板W受設在上述輸送 軸15上的支撐輥14支撐作為非設備面的背面。該基板W的下端受 驅動輥17 (圖2所示)的外周面支撐。
上述驅動輥17設在驅動單元18的旋轉軸19上。并且，通過旋 轉驅動該旋轉軸19，下端受驅動輥17支撐而背面受上述支撐輥14 支撐的上述基板W被向上述驅動輥17的旋轉方向輸送。
基板W在由輸送方向上游側的第1至第3處理單元1A 1C用 作為處理液的剝離液進行了抗蝕劑的除去后，由第4處理單元1D用 作為處理液的清洗液進行清洗處理。接著，由第5處理單元1E進行 通過熱風的干燥處理。
依次通過各處理單元1A 1E而被處理后的基板W在以75度的
角度傾斜的狀態(tài)下被從上述第5處理單元IE送出。被從第5處理單 元1E送出的基板W被圖1中點劃線所示的第2姿勢變換部23將姿
勢從傾斜狀態(tài)變換為水平狀態(tài)，而交給下個工序。
如圖2所示，上述驅動單元18沿著腔室3的寬度方向(基板W 的輸送方向)具有長板狀的下部基座部件24。在該下部基座部件24 的上表面上，固接設置有與下部基座部件24相同長度的槽狀的上部 基座部件25。
在上述上部基座部件25上，相對于上部基座部件25可進行傾斜 調節(jié)地連結設置有與上述下部基座部件24大致相同大小的平板狀的 安裝部件26的寬度方向的一端部與另一端部。即，上述安裝部件26 在腔室3的前后方向上能夠進行傾斜角度的調節(jié)。
在上述安裝部件26的寬度方向的一端和另一端上，相對于上述 安裝部件26的長度方向以規(guī)定間隔、并且在對應于寬度方向的位置 上分別設有多個托架31。在寬度方向上對應的一對托架上，經(jīng)由未 圖示的軸承可旋轉地支撐上述旋轉軸19的軸方向的中途部。在該旋 轉軸19的前端上安裝有上述驅動輥17，在后端上嵌裝著第1齒輪33。
并且，在將腔室3設置在上述架臺2上后，將桿狀的4條基準部 件35的下端面通過螺釘42安裝固定在設于該架臺2上的支撐部41 的上表面上。上述驅動單元18的下部基座部件24的四角部下表面通 過螺釘42安裝固定在上述基準部件35的上端面上。4條基準部件35 的上端面位于相同的平面上。因此，驅動單元在其下部基座部件24 的寬度方向及長度方向上不發(fā)生變形地被安裝固定。
在將上述驅動單元18以基準部件35的上端面為基準組裝到腔室 3內時，支撐在驅動單元18上的多個旋轉軸19的后端部從開口于腔 室3的前面板12b上的導出孔44突出到驅動室45中。接著，在將驅 動單元18組裝到腔室3內之后，將上述第1齒輪33嵌裝在上述旋轉 軸19的后端上。
在上述驅動室45中設有驅動源51。在該驅動源51的輸出軸上嵌 裝有驅動滑輪53。在該驅動滑輪53與從動滑輪54上張設有帶55。 上述從動滑輪54與未圖示的第2齒輪同軸地設置。該第2齒輪與上 述第1齒輪33嚙合。由此，如果驅動源51動作，則上述旋轉軸19 被旋轉驅動，所以設在該旋轉軸19的前端上的上述驅動輥17也被旋 轉驅動。
如果驅動輥17被旋轉驅動，則由這些驅動輥17支撐下端的基板 W被向上述驅動輥17的旋轉方向輸送。
如圖2和圖4所示，在對基板W的前表面噴射剝離液而進行抗 蝕劑的除去的第1至第3處理單元1A 1C中，沿著基板W的輸送方向以規(guī)定間隔、與傾斜輸送的基板W的傾斜方向的上側的面、即 形成有電路圖案的前表面平行地離開并相對地配設有多個給液管61 。
在各給液管61上，相對與基板W的輸送方向交叉的軸線方向以規(guī)定間隔設有多個噴嘴體62。上述給液管61與噴嘴體62形成本發(fā)明的處理液供給機構。
對上述給液管61以0.7MPa左右的較高的壓力供給剝離液。由此，從設在給液管61上的噴嘴體62向上述基板W的前表面以高壓噴射上述處理液。
在支撐基板W的下端的驅動輥17的附近，配置有防彎曲輥64， 該防彎曲輥64用來阻止下端受驅動輥17的外周面支撐的基板W的 下端部在從噴嘴體62噴射的處理液的壓力下向背面?zhèn)葟澢?。該防?曲輥64可旋轉地支撐在支軸66上，該支軸66被設于從上述腔室3 的內底面立設的托架65上。
即，上述防彎曲輥64設在驅動輥17的附近，在該實施方式中， 如圖3和圖4所示，使旋轉軸線02與上述驅動輥17的旋轉軸線Ol 和上述基板W的輸送方向X正交而配設，以使其徑向的一部分位于 比驅動輥17的旋轉軸線01靠基板W的輸送方向(箭頭X所示)的
上游側、并且位于沿著基板W的輸送方向X的驅動輥17的直徑(圖 3所示)的范圍內的上方，并且外周面成為與背面受上述支撐輥14 支撐的基板W的下端部的背面接觸的位置。
根據(jù)這樣的結構，在基板W的下端受驅動輥17的外周面支撐、 背面受支撐輥14支撐的狀態(tài)下旋轉驅動上述驅動輥17。由此，基板 W在其下端與驅動輥17的外周面的接觸阻力的作用下沿著上述驅動 輥17的旋轉方向被輸送。并且，從設在給液管61上的噴嘴體62對 被輸送的基板W的前表面噴射高壓的處理液，處理其前表面。
如果基板W受到從噴嘴體62噴射的處理液的壓力，則沒有受基 板W的支撐輥14支撐的部分向背面?zhèn)葟澢?，特別是基板W的包括 輸送方向后方的下端部E (圖3和圖4所示)的周邊部與其他部分相 比容易向背面?zhèn)葟澢?br> 并且，如果基板W的周邊部中的輸送方向后方的下端部E、在 如圖4中點劃線所示那樣彎曲的狀態(tài)下、被輸送到與驅動輥17的外 周面接觸的位置，則從驅動輥17的外周面受到的驅動力向使彎曲的 基板W的輸送方向后方的下端部E如圖4中箭頭B所示那樣向進一 步彎曲的方向作用。因此，基板W的輸送方向后方的下端部E的彎 曲變大，有可能在其下端部E上發(fā)生斷裂等的損傷。
但是，在驅動輥17的附近配設有防彎曲輥64。因此，基板W通 過如圖4中實線所示那樣與驅動輥17的外周面的接觸、來阻止上述 下端部E向箭頭B所示的背面?zhèn)鹊姆较驈澢?br> 艮P，如果基板W受到處理液的壓力、在輸送方向后方的下端部E 彎曲的狀態(tài)下被輸送到與驅動輥17的外周面接觸的位置的附近，則 其下端部E被防彎曲輥64矯正了彎曲狀態(tài)，而與驅動輥17的外周面 接觸。
因此，基板W的輸送方向后方的下端部E即使在從處理液受到 的壓力的作用下向背面?zhèn)葟澢?，也能夠可靠地防止該下端部E在驅動
輥17的作用下被更大地彎曲而損傷。
上述防彎曲輥64設在與設有上述支撐輥14的輸送軸15不同的 支軸66上。因此，上述防彎曲輥64在驅動輥17的附近能夠不受支 撐輥14的設置狀態(tài)限制而自由地設定設置位置。
圖5A、圖5B表示本發(fā)明的第2實施方式。該實施方式在作為設 置防彎曲輥64的位置的驅動輥17的附近、在沿著基板W的輸送方 向的驅動輥17的直徑D的范圍內的上游側和下游側的兩處設有一對 防彎曲輥64，以使其徑向的一部分位于上述直徑D的范圍內。
圖6A、圖6B表示本發(fā)明的第3實施方式。在該實施方式中，上 述防彎曲輥64設置在驅動輥17的附近、使防彎曲輥64的旋轉軸線 02在基板W的輸送方向上與上述驅動輥17的旋轉軸線01正交的 位置上。即，上述防彎曲輥64使旋轉軸線02與沿著基板W的輸送 方向的驅動輥17的直徑D的中心、即驅動輥17的旋轉軸線Ol —致 而設置。
在上述第2、第3實施方式中，即使基板W的輸送方向后方的下 端部E受到處理液的壓力而彎曲，如果被輸送到與驅動輥17的外周 面接觸的位置，也會被上述防彎曲輥64矯正彎曲狀態(tài)。
因此，與上述第l實施方式同樣，能夠可靠地防止基板W的輸 送方向后方的下端部E在從驅動輥17受到的驅動力的作用下過量彎 曲而發(fā)生損傷。
本發(fā)明的防彎曲輥不僅在通過剝離液處理基板的情況、在噴射純 水等的其他處理液或氣體而處理的情況下也能夠使用，只要是以高壓 對基板噴射處理液或氣體等的流體的情況就是有效的。
權利要求
1、一種基板的處理裝置，一邊使基板以規(guī)定的角度傾斜而進行輸送，一邊通過流體進行處理，其特征在于，具備腔室；支撐輥，設在該腔室內，并支撐上述基板的傾斜方向下側的背面；驅動輥，通過外周面支撐背面受上述支撐輥支撐的上述基板的下端，被旋轉驅動而將上述基板向規(guī)定方向輸送；流體供給機構，對上述基板的傾斜方向上側的前表面噴射上述流體；以及防彎曲輥，配置在上述驅動輥的附近，在上述基板的輸送方向后方的下端部承受從上述流體供給機構噴射的流體的壓力而使上述基板的下端部向背面?zhèn)葟澢鷷r，矯正該彎曲。
2、 如權利要求1所述的基板的處理裝置，其特征在于，上述防 彎曲輥設在上述驅動輥的沿著上述基板的輸送方向的直徑范圍內。
3、 如權利要求1或2所述的基板的處理裝置，其特征在于，上述防彎曲輥設在上述基板的輸送方向上游側。
4、 如權利要求1或2所述的基板的處理裝置，其特征在于，上 述防彎曲輥設在上述基板的輸送方向上游側和下游側。
5、 如權利要求1或2所述的基板的處理裝置，其特征在于，上 述防彎曲輥使旋轉軸線與上述基板的輸送方向和上述驅動輥的旋轉 軸線正交而被設置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種防止以規(guī)定的角度被傾斜輸送的基板的輸送方向后方的下端部過量彎曲而損傷的基板處理裝置。該基板處理裝置一邊使基板以規(guī)定的角度傾斜而進行輸送，一邊通過流體進行處理的基板的處理裝置，具備腔室(3)；支撐輥(14)，設在腔室內，并支撐基板的傾斜方向下側的背面；驅動輥(17)，通過外周面支撐背面受支撐輥支撐的基板的下端，被旋轉驅動而將基板向規(guī)定方向輸送；噴嘴體(62)，對基板的傾斜方向上側的前表面噴射處理液；以及防彎曲輥(64)，配置在驅動輥的附近，并在基板的輸送方向后方的下端部承受從流體供給機構噴射的流體的壓力而使上述基板的下端部向背面?zhèn)葟澢鷷r，矯正該彎曲。
文檔編號G02F1/13GK101114581SQ20071013863
公開日2008年1月30日 申請日期2007年7月24日 優(yōu)先權日2006年7月24日
發(fā)明者廣瀨治道 申請人:芝浦機械電子株式會社