專利名稱：曝光裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種曝光裝置，具體而言涉及一種制造半導體、液晶顯示面板、等離子顯示器等大型平板面板顯示器時使用的曝光裝置。
背景技術：
如圖5所示，在現(xiàn)有的曝光裝置PE100中，通常為了提高生產(chǎn)效率，并列配置多臺(在圖5中為二臺)曝光單元1000A、1000B。該曝光單元1000A、1000B具有可存儲掩模圖案不同的多個掩模M的掩模儲料器102A、102B。和該掩模儲料器102A、102B相鄰配置的掩模裝載機103A、103B從掩模儲料器102A、102B取出預定的掩模M，安裝到掩模臺104A、104B上，或者更換所安裝的掩模M。
但是，在現(xiàn)有的曝光裝置PE100中，每個曝光單元101A、101B中分別配置專用的掩模裝載機103A、103B(根據(jù)情況不同，也分別設置掩模儲料器102A、102B)，因此曝光裝置PE100大型化，可能會妨礙工廠等設置空間的有效利用。并且，曝光裝置PE100的制造成本增加。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于以上情況而產(chǎn)生，其目的在于提供一種能夠使曝光裝置小型化、有效利用工廠等的設置空間，并且可降低曝光裝置的制造成本的曝光裝置。
本發(fā)明的上述目的通過以下構(gòu)成來實現(xiàn)。
(1)一種曝光裝置，具有多個曝光單元，多個曝光單元具有保持作為被曝光材料的基板的基板臺；與基板相對配置并保持掩模的掩模臺；通過掩模將圖案曝光用的光照射到基板的照射裝置；以及移動基板臺，使基板與掩模在預定位置相對的基板臺傳送機構(gòu)，該曝光裝置的特征在于，并列配置有曝光單元，并具有收容多個掩模的掩模儲料器；以及從掩模儲料器將預定的掩模提供到掩模臺的一臺掩模裝載機。
(2)根據(jù)上述(1)所述的曝光裝置，其特征在于，多臺掩模儲料器并列配置，構(gòu)成掩模庫，一臺掩模裝載機構(gòu)成為可自由移動至分別與掩模儲料器及曝光單元對應的位置。
根據(jù)上述(1)所述的曝光裝置，多個曝光單元并列配置，并且通過一臺掩模裝載機向各曝光單元的掩模臺提供掩模，因此多個曝光單元可共用一臺掩模裝載機。這樣一來，可使曝光裝置小型化，有效利用工廠等設置空間，并降低曝光裝置的制造成本。
根據(jù)上述(2)所述的曝光裝置，具有由多臺掩模儲料器構(gòu)成的掩模庫；及為了對應各掩模儲料器及各曝光單元而可自由移動地構(gòu)成的一臺掩模裝載機，通過一臺掩模裝載機從掩模庫取出預定的掩模，并將掩模提供到各曝光單元的掩模臺，因此可將多個掩模收容到掩模庫中作準備，易于對應多種掩模圖案。并且，可通過一臺掩模裝載機向多個曝光單元提供掩模，因此可使曝光裝置小型化，有效利用工廠等的設置空間，并降低曝光裝置的制造成本。
根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置，并列配置有曝光單元，并具有收容多個掩模的掩模儲料器、以及從掩模儲料器將預定的掩模提供給掩模臺的一臺掩模裝載機，因此可通過一臺掩模裝載機向并列配置的多個曝光單元的各掩模臺提供掩模。這樣一來，可使曝光裝置小型化，有效利用工廠等的設置空間，并降低曝光裝置的制造成本。


圖1是說明本發(fā)明涉及的曝光裝置的第一實施方式的整體構(gòu)造的俯視圖。
圖2是圖1所示的曝光單元的主要部分的側(cè)視圖。
圖3是圖1所示工件裝載機的側(cè)視圖。
圖4是說明本發(fā)明涉及的曝光裝置的第二實施方式的整體構(gòu)造的俯視圖。
圖5是說明現(xiàn)有的曝光裝置的整體構(gòu)造的俯視圖。
圖6是用于說明本發(fā)明涉及的曝光裝置的整體構(gòu)造的概要俯視圖。
圖7是圖6所示的曝光單元的主要部分的正視圖。
圖8是圖7所示的基板臺的側(cè)視圖。
圖9是圖6所示基板裝載機的側(cè)視圖。
圖10是用于說明現(xiàn)有的曝光裝置的俯視圖。
具體實施例方式
以下對本發(fā)明涉及的曝光裝置的各實施方式參照附圖進行詳細說明。
(第一實施方式)首先參照圖1至圖3說明本發(fā)明涉及的曝光裝置的第一實施方式。
圖1是說明本發(fā)明涉及的曝光裝置的第一實施方式的整體構(gòu)造的俯視圖，圖2是圖1所示的曝光單元的主要部分的側(cè)視圖，圖3是圖1所示工件裝載機的側(cè)視圖。
如圖1及圖2所示，本實施方式的曝光裝置PE101并列配置二臺曝光單元1000A、1000B。曝光單元1000A、1000B分別具有以下裝置保持掩模M的掩模臺110A、110B；保持作為被曝光材料的玻璃基板(被曝光材料)W的基板臺120、120；通過掩模M將圖案曝光用的光照射到玻璃基板W的照射裝置130、130；基板臺傳送機構(gòu)140、140，移動基板臺120、120，使玻璃基板W與掩模M在預定位置相對；以及將玻璃基板W運送到基板臺120、120的工件裝載機160、160，并且，曝光單元1000A、1000B放置在裝置底座150、150上。
并且，曝光裝置PE101中，在可與二臺曝光單元1000A、1000B對應的位置(二臺曝光單元1000A、1000B之間)上，配置一臺掩模裝載機170及一臺掩模儲料器171。
此外，玻璃基板W(以下稱為“基板W”)與掩模M相對配置，在應曝光轉(zhuǎn)印該掩模M上描繪的掩模圖案的表面上(和掩模M相對的面)涂敷感光劑。
掩模臺110A、110B可在Z軸方向上移動地被裝置底座150、150上直立設置的四根支柱151、及設置在該支柱151上端部的Z軸移動裝置152支持，配置在基板臺120的上方。Z軸移動裝置152例如具有由電機及滾珠絲杠等構(gòu)成的電動致動器、或空壓氣缸等，通過進行單純的上下動作，使掩模臺110A、110B升降到預定位置。并且，掩模臺110A、110B中，矩形的開口部111形成在中央，該開口部111中，通過掩模架112保持掩模M。
基板臺120如圖2所示，設置在基板臺移動機構(gòu)140上，在其上表面設置用于將基板W保持在基板臺120上的工件夾盤121。并且工件夾盤121通過真空吸附保持基板W。
基板臺移動機構(gòu)140如圖2所示具有在裝置底座150的上表面沿Y軸方向設置的Y軸傳送機構(gòu)141；被Y軸傳送機構(gòu)141可在Y軸方向上移動地支持的Y軸臺142；在Y軸臺142的上表面沿X軸方向設置的X軸傳送機構(gòu)143；被X軸傳送機構(gòu)143可在X軸方向上移動地支持的X軸臺144；設置在X軸臺144上，支持基板臺120的下表面的三臺Z-傾斜調(diào)整機構(gòu)145。該基板臺移動機構(gòu)140使基板臺120在X軸、Y軸、Z軸方向移動，并且進行基板臺120的傾斜調(diào)整。
照射裝置130配置在開口部111的上方，具有紫外線照射用光源，例如高壓水銀燈、凹面鏡、光學積分器、平面鏡、球面鏡、曝光控制用擋板等。照射裝置130將圖案曝光用的光通過掩模M照射到基板臺120的工件夾盤121所保持的基板W上。這樣一來，掩模M的掩模圖案被曝光轉(zhuǎn)印到基板W上。
工件裝載機160如圖3所示，是在裝置底座150上固定的支柱161上可自由擺動地設置多個運送部162、163的多關節(jié)型裝載機器。多個運送部162、163通過升降機構(gòu)(未圖示)沿支柱161上下移動，并且分別配置有伺服電機，可以被彼此獨立地驅(qū)動。各運送部162、163具有第一及第二臂部164、165；以及在第一臂部164的前端平行設置多個棒狀部件166的裝載臺167。并且，通過控制各個伺服電機使其動作，使裝載臺167升降、旋轉(zhuǎn)及移動，運送裝載臺167上的基板W。
一臺掩模裝載機170配置在二臺曝光單元1000A、1000B之間。掩模裝載機170具有和圖3所示的工件裝載機160基本相同的構(gòu)造，從掩模儲料器171中存儲的多個掩模M中選擇預定的掩模M并保持，分別提供到掩模臺110A、110B。此外，掩模裝載機170中，運送部是一個。并且，掩模M向掩模臺110A、110B的供給可以如本實施方式所示，通過掩模裝載機170從掩模儲料器171直接提供到掩模臺110A、110B，但不限于此，也可通過掩模裝載機170從掩模儲料器171運送到從基板臺120上的工件夾具121突出的未圖示的掩模接收部，基板臺120將掩模M提供到掩模臺110A、110B。
具體而言，掩模裝載機170從掩模儲料器171中存儲的多個掩模M中選擇預定的掩模M，將選擇的掩模M裝載到掩模裝載機170的裝載臺167上，運送到掩模臺110A、110B，由掩模架112真空吸附并安裝。并且，在更換掩模M時，將曝光轉(zhuǎn)印后的掩模M裝載到裝載臺167上并存儲到掩模儲料器171中。此外，掩模裝載機170如圖3所示的工件裝載機160那樣，具有二個運送部162、163時，則在將曝光轉(zhuǎn)印前的掩模M保持在運送部162(163)的裝載臺167上的狀態(tài)下，將曝光轉(zhuǎn)印后的掩模M通過運送部163(162)的裝載臺167取下，可在取下后，將保持在運送部162(163)的曝光轉(zhuǎn)印前的掩模M安裝到掩模臺110A、110B上。
掩模儲料器171是用于收容掩模圖案不同的多個掩模M的存儲庫，掩模M從未圖示的掩模盒被提供，在將掩模M排列整齊的狀態(tài)下，裝載并收容在其內(nèi)部設置的架子上。
在這種構(gòu)造的曝光裝置PE101中，配置在二臺曝光單元1000A、1000B之間的一臺掩模裝載機170從掩模儲料臺171中存儲的多個掩模M中選擇預定的掩模M，并將選擇的掩模M裝載到掩模裝載機170的裝載臺167上，運送到預定的曝光單元1000A、1000B的各掩模臺110A、110B上并安裝。即，一臺掩模裝載機170由二臺曝光單元1000A、1000B共用。
因此，根據(jù)本實施方式的曝光裝置PE101，并列配置有二臺曝光單元1000A、1000B，并具有收容多個掩模M的掩模儲料器171；及從掩模儲料器171將預定的掩模M提供到掩模臺110A、110B的一臺掩模裝載機170，因此可通過一臺掩模裝載機170向并列配置的二臺曝光單元1000A、1000B的各掩模臺110A、110B提供掩模M。這樣一來，可使曝光裝置PE101小型化，有效利用工廠等的設置空間，并且降低曝光裝置PE101的制造成本。
(第二實施方式)接著參照圖4說明本發(fā)明涉及的曝光裝置的第二實施方式。并且，除了掩模儲料器和掩模裝載機的形態(tài)不同外，其他和第一實施方式的曝光裝置相同，因此對和第一實施方式相同或同樣的部分，在附圖中標以相同的標號，并省略或簡化其說明。
圖4是用于說明本發(fā)明涉及的曝光裝置的第二實施方式的整體構(gòu)造的俯視圖。
如圖4所示，本實施方式的曝光裝置PE102并列配置有三臺曝光單元1000A、1000B、1000C。并且，在和曝光單元1000A、1000B、1000C相對的位置上配置有具有五臺掩模儲料器171、171…的掩模庫180。進一步，在掩模庫180和三臺曝光單元1000A、1000B、1000C之間，配置有可沿未圖示的導軌在箭頭A及B方向上自由移動地構(gòu)成的一臺掩模裝載機170。并且，曝光單元1000C具有和曝光單元1000A、1000B相同的構(gòu)造。
一臺掩模裝載機170通過向箭頭A及B方向移動，可以配置在與三臺曝光單元1000A、1000B、1000C及五臺掩模儲料器171、171…相對的位置上。并且，一臺掩模裝載機170從掩模庫180的預定掩模儲料器171選擇預定的掩模M，將選擇的掩模M運送到預定的曝光單元1000A、1000B、1000C，并安裝到各掩模臺110A、110B、110C。
在這種構(gòu)造的曝光裝置PE102中，在掩模庫180和三臺曝光單元1000A、1000B、1000C之間，可在A方向及B方向上自由移動地構(gòu)成的一臺掩模裝載機170從掩模庫180的預定掩模儲料臺171中存儲的多個掩模M中選擇預定的掩模M，將選擇的掩模M裝載到掩模裝載機170的裝載臺167上，運送到預定的曝光單元1000A、1000B、1000C的各掩模臺110A、110B、110C上并安裝。即，一臺掩模裝載機170由三臺曝光單元1000A、1000B、1000C共用。
因此，根據(jù)本實施方式的曝光裝置PE102，具有由五臺掩模儲料器171、171…構(gòu)成的掩模庫180；以及可以對應各掩模儲料器171及各曝光單元1000A、1000B、1000C而自由移動地構(gòu)成的一臺掩模裝載機170，通過一臺掩模裝載機170從掩模庫180取出預定的掩模M，向各曝光單元1000A、1000B、1000C的掩模臺110A、110B、110C提供掩模M，因此可將多個掩模M收容在掩模庫180中作準備，易于對應多種掩模圖案。并且，通過一臺掩模裝載機170可向三臺曝光單元1000A、1000B、1000C提供掩模M，因此可使曝光裝置PE102小型化，有效利用工廠等的設置空間，并且降低曝光裝置PE102的制造成本。
其他構(gòu)造及作用效果和上述第一實施方式相同。
此外，本發(fā)明不限于上述各實施方式，可適當變形、改良等。
例如在各實施方式中，限定了曝光單元及掩模庫的掩模儲料器的臺數(shù)，但該臺數(shù)是任意的。
(第三實施方式)以下對本發(fā)明涉及的曝光裝置的一個實施方式參照附圖進行詳細說明。圖6是說明本發(fā)明涉及的曝光裝置的整體構(gòu)造的概要俯視圖，圖7是圖6所示曝光單元的主要部分的正視圖，圖8是圖7所示的基板臺的側(cè)視圖，圖9是圖6所示基板裝載機的側(cè)視圖。
如圖6及圖7所示，本實施方式的曝光裝置PE并列配置有二臺曝光單元100A、100B。曝光單元100A、100B分別具有掩模臺10A、10B；第一基板臺11、11；第二基板臺12、12；照明裝置13、13；預調(diào)整部件14、14；第一基板裝載機15、15；第二基板裝載機16、16；掩模裝載機17A、17B；以及掩模儲料器18A、18B，其分別裝載在基臺21、21上。并且，向掩模儲料器18A、18B供給掩模M，是通過在曝光單元100A、100B之間自由移動、且自由旋轉(zhuǎn)的掩模盒20進行的。此外，為了明確掩模M的方向，掩模M用粗箭頭表示。
掩模臺10A、10B由基臺21上配置的長方形的臺底座23上設置的多個支柱22支持，配置在臺底座23的上方。多個支柱22在臺底座23的上方形成空間，使第一及第二基板臺11、12向Y方向(圖6的左右方向)移動并可進出掩模臺10A、10B的下方。并且，掩模臺10A、10B具有掩模保持部25，其在中央具有矩形的開口部24，相對于掩模臺10A、10B可在X、Y、θ方向調(diào)整位置地被支持，具有應曝光的掩模圖案的掩模M被掩模保持部25面向該開口部24地保持。并且，掩模臺10A、10B上設有檢測掩模M相對于掩模保持部25的位置的掩模用調(diào)整相機(未圖示)、以及檢測掩模M和基板W之間的間隙的間隙傳感器(未圖示)。
如圖7及圖8所示，第一及第二基板臺11、12在上表面分別具有保持作為被曝光材料的基板W的基板保持部31、31。并且，在第一及第二基板臺11、12的下方分別設有具有Y軸臺33、Y軸傳送機構(gòu)34、X軸臺35、X軸傳送機構(gòu)36、及Z-傾斜調(diào)整機構(gòu)37的基板臺傳送機構(gòu)32、32。該基板臺傳送機構(gòu)32相對于臺底座23使第一及第二基板臺11、12向X方向及Y方向傳送驅(qū)動，并且為了微調(diào)掩模M和基板W之間的間隙，使第一及第二基板臺11、12向Z軸方向微動且傾斜。
具體而言，Y軸傳送機構(gòu)34在臺底座23和Y軸臺33之間具有直線引導器38和Y軸傳送驅(qū)動機構(gòu)39。在臺底座23上，二個導軌40沿Y軸方向平行配置，安裝在Y軸臺33的背面的滑塊41通過轉(zhuǎn)動體(未圖示)架設。這樣一來，二臺Y軸臺33沿二個導軌40可沿Y軸方向移動地被支持。
并且，在臺底座23上，由電機42旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的滾珠絲杠軸43對應于第一及第二基板臺11、12分別設置，滾珠絲杠軸43上螺合有安裝在Y軸臺33背面的滾珠絲杠螺母44。
并且，X軸傳送機構(gòu)36也如圖8所示，在Y軸臺33和X軸臺35之間設有直線引導器45和X軸傳送驅(qū)動機構(gòu)46。在Y軸臺33上，二個導軌47沿X軸方向平行配置，X軸臺35的背面安裝的滑塊48通過轉(zhuǎn)動體(未圖示)架設。進一步，在Y軸臺33上設有通過電機49旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的滾珠絲杠軸50，滾珠絲杠軸50上螺合有安裝在Y軸臺35背面的滾珠絲杠螺母51。
另一方面，Z-傾斜調(diào)整機構(gòu)37具有由電機、滾珠絲杠、楔子組合而成的可動楔機構(gòu)，通過設在X軸臺35上表面的電機52旋轉(zhuǎn)驅(qū)動滾珠絲杠軸53，并且將滾珠絲杠螺母54組裝到楔狀的移動體，使該楔子的斜面與從第一及第二基板臺11、12的下表面突起設置的楔子55的斜面配合。
并且，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動該滾珠絲杠軸53時，滾珠絲杠螺母54在X軸方向上水平微動，該水平微動運動通過組裝的楔狀移動體的斜面變換為高精度的上下微動運動。該Z-傾斜調(diào)整機構(gòu)37在X軸方向的一端配置二臺、在另一端配置一臺，共設置三臺，分別被獨立地驅(qū)動控制。
這樣一來，Y軸傳送機構(gòu)34為了將各基板臺11、12的基板保持部31上保持的基板W分別配置在掩模臺10A、10B下方的曝光位置EP上，使第一基板臺11在第一待機位置WP1和曝光位置EP之間沿導軌40向Y軸方向移動，使第二基板臺12在第二待機位置WP2和曝光位置EP之間沿導軌40向Y軸方向移動。并且，Y軸傳送機構(gòu)34及X軸傳送機構(gòu)36移動第一及第二基板臺11、12，使位于曝光位置EP的基板保持部31相對于掩模M向X、Y方向分步移動。并且，Y軸傳送驅(qū)動機構(gòu)39、X軸傳送驅(qū)動機構(gòu)46、及Z-傾斜調(diào)整機構(gòu)37由電機和滾珠絲杠裝置組合而成，但也可由具有定子和轉(zhuǎn)子的直線電機構(gòu)成。
并且，如圖6至圖8所示，第一及第二基板臺11、12中，在各基板保持部31的X軸方向側(cè)部和Y軸方向側(cè)部分別安裝條狀鏡61、62。并且，在臺底座23的Y軸方向兩側(cè)、及臺底座23的X軸方向的一側(cè)設有三臺激光干涉儀63、64、65。這樣一來，激光從激光干涉儀63、64、65照射到條狀鏡61、62，接收由條狀鏡62反射的激光，測定激光與由條狀鏡61、62反射的激光的干涉，檢測出第一及第二臺11、12的位置。
如圖7所示，照明裝置13配置在掩模保持部25的開口部24的上方，具有紫外線照射用光源，例如高壓水銀燈、凹面鏡、光學積分器、平面鏡、球面鏡、曝光控制用擋板等。照明裝置13將圖案曝光用的光線通過掩模M照射到移動到曝光位置EP的第一及第二基板臺11、12的基板保持部31上所保持的基板W上。這樣一來，掩模M的掩模圖案被曝光轉(zhuǎn)印到基板W。
預調(diào)整部件14用于在從基臺21的外側(cè)上設置的基板盒70A、70B運送來的基板W被提供到第一基板臺11及第二基板臺12之前進行預調(diào)整，使基板W相對掩模M的位置變?yōu)轭A定位置，圖10中，配置在掩模臺10A、10B的前方。預調(diào)整部件14具有未圖示的X軸傳送機構(gòu)、Y軸傳送機構(gòu)、及旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，將預調(diào)整部件14上裝載的基板W的位置調(diào)整為預定的位置。
第一基板裝載機15配置在圖6中的預調(diào)整部件14的右側(cè)，保持被運送到第二基板臺12的基板W，并運送到預調(diào)整部件14，并且將已預調(diào)整的基板W從預調(diào)整部件14運送到第一基板臺11。
第二基板裝載機16相對于預調(diào)整部件14與第一基板裝載機15相對配置，即，配置在圖6中的預調(diào)整部件14的左側(cè)，保持被運送到第一基板臺11上的基板W并運送到預調(diào)整部件14，并且將已預調(diào)整的基板W從預調(diào)整部件14運送到第二基板臺12。
如圖9所示，第一及第二基板裝載機15、16是在底座21上固定的支柱81上自由擺動地設置多個運送部82、83的多關節(jié)型裝載機器。多個運送部82、83通過升降機構(gòu)(未圖示)沿支柱81上下移動，并且分別配置伺服電機，可彼此獨立地被驅(qū)動。各運送部82、83具有第一及第二臂部84、85；在第一臂部84的前端平行設置多個棒狀部件86的裝載臺87。并且，通過控制各個伺服電機使其動作，使裝載臺87升降、旋轉(zhuǎn)及移動，運送裝載臺87上的基板W。
具體而言，第一基板裝載機15將基板盒70A中收容的基板W裝載到裝載臺87上并運送到預調(diào)整部件14，將已預調(diào)整的基板W裝載到裝載臺87上，從預調(diào)整部件14運送到第一基板臺11，進一步將位于第一待機位置WP1的第一基板臺11上的曝光轉(zhuǎn)印后的基板W裝載到裝載臺87上，向基板盒70A運送。
第二基板裝載機16將基板盒70B中收容的基板W裝載到裝載臺87上并向預調(diào)整部件14運送，將已預調(diào)整的基板W裝載到裝載臺87上，從預調(diào)整部件14運送到第二基板臺12，進一步將位于第二待機位置WP2的第二基板臺12上的曝光轉(zhuǎn)印后的基板W裝載到裝載臺87上，向基板盒70B運送。
并且，在本實施方式中，如圖6所示，掩模裝載機17A及掩模儲料器18A相對于曝光單元100B的側(cè)面(圖6的右側(cè)面)相對配置，即，在圖6中配置在曝光單元100A的上部左側(cè)，掩模裝載機17B及掩模儲料器18B相對于曝光單元100A的側(cè)面(圖6的左側(cè)面)相對配置，即，圖6中配置在曝光單元100B的上部右側(cè)方，掩模裝載機17A及掩模儲料器18A、和掩模裝載機17B及掩模儲料器18B彼此在對稱位置上相對配置。
掩模裝載機17A、17B具有和圖9所示的第一及第二基板裝載機15、16基本相同的構(gòu)造，從掩模儲料器18A、18B中存儲的多個掩模M中選擇并保持預定的掩模M，分別提供給掩模臺10A、10B。此外，掩模裝載機17A、17B中運送部為一個。并且，向掩模臺10A、10B供給掩模M如本實施方式所示，可通過掩模裝載機17A、17B從掩模儲料器18A、18B直接提供到掩模臺10A、10B，但不限于此，也可通過掩模裝載機17A、17B從掩模儲料器18A、18B暫時運送到第一及第二基板臺11、12，之后通過第一及第二基板臺11、12提供到掩模臺10A、10B。
具體而言，掩模裝載機17A從掩模儲料器18A中存儲的多個掩模M中選擇預定的掩模M，將選擇的掩模M裝載到裝載臺87上，逆時針方向(圖6的箭頭A方向)運送，并安裝到掩模臺10A上。進一步，在更換掩模M時，將曝光轉(zhuǎn)印后的掩模M裝載到裝載臺87上，并存儲到掩模儲料器18A中。
并且，掩模裝載機17B從掩模儲料器18B中存儲的多個掩模M中選擇預定的掩模M，將選擇的掩模M裝載到裝載臺87上，順時針方向(圖6的箭頭B方向)運送，并安裝到掩模臺10B上。進一步，在更換掩模M時，將曝光轉(zhuǎn)印后的掩模M裝載到裝載臺87上，并存儲到掩模儲料器18B中。
此外，掩模裝載機17A、17B如圖9所示的第一及第二基板裝載機15、16那樣，具有二個運送部82、83時，在將曝光轉(zhuǎn)印前的掩模M保持在運送部82(83)的裝載臺87的狀態(tài)下，將曝光轉(zhuǎn)印后的掩模M通過運送部83(82)的裝載臺87取下，取下后可將運送部82(83)保持的曝光轉(zhuǎn)印前的掩模M安裝到掩模臺10A、10B上。
掩模儲料器18A、18B是用于收容掩模圖案不同的多個掩模M的存儲庫，掩模M從掩模盒20被提供并被存儲。并且，掩模儲料器18A、18B的掩模供給口19A、19B互相相對配置。即，一個掩模供給口19A設置在曝光單元100A的上部左側(cè)壁部，另一個掩模供給口19B設置在曝光單元100B的上部右側(cè)壁部。
掩模盒20例如在底面具有腳輪(未圖示)等，可在并列配置的曝光單元100A、100B之間自由移動、且自由旋轉(zhuǎn)地構(gòu)成，將向預定方向排列整齊的多個掩模M裝載并收容到其內(nèi)部設置的架子上。并且，在掩模盒20中，僅僅形成一處開口部20a，向掩模儲料器18A、18B提供掩模M時，使掩模盒20移動及旋轉(zhuǎn)，使開口部20a和掩模供給口19A或掩模供給口19B相對配置。這樣一來，掩模M從箭頭C方向提供到掩模儲料器18A，從箭頭D方向提供到掩模儲料器18B(參照圖6)。
在這種構(gòu)造的曝光裝置PE中，掩模M在粗箭頭向左的狀態(tài)下收容在掩模盒20中，將掩模M安裝到曝光單元100A的掩模臺10A時，掩模盒20以使其開口部20a和掩模儲料器18A的掩模供給口19A相對的方式配置，掩模M使粗箭頭向左方地提供并存儲到掩模儲料器18A。并且，掩模裝載機17A從掩模儲料器18A中存儲的多個掩模M中選擇并保持預定的掩模M，將選擇的掩模向箭頭A方向旋轉(zhuǎn)大約90度并運送，安裝到掩模臺10A上。這樣一來，掩模M以使粗箭頭向下的方式安裝到掩模臺10A上。
并且，將掩模M安裝到曝光單元100B的掩模臺10B時，掩模盒20以使其開口部20a和掩模儲料器18B的掩模供給口19B相對的方式配置，掩模M使粗箭頭向右方地提供并存儲到掩模儲料器18B。并且，掩模裝載機17B從掩模儲料器18B中存儲的多個掩模M中選擇并保持預定的掩模M，將選擇的掩模M向箭頭B方向旋轉(zhuǎn)大約90度并運送，安裝到掩模臺10B。這樣一來，掩模M以使粗箭頭向下的方式安裝到掩模臺10B。
即，對并列配置的曝光單元100A、100B的掩模儲料臺18A、18B的掩模M的供給可通過使一種掩模合20旋轉(zhuǎn)180度來對應，可使掩模M向預定方向提供到掩模儲料器18A、18B。
根據(jù)本實施方式的曝光裝置PE，曝光單元100A、100B并列配置，曝光單元100A、100B具有配置在各曝光單元100A、100B的對稱位置上，收容多個掩模M，且以使掩模M的掩模供給口19A、19B彼此相對的方式配置的掩模儲料器18A、18B；及從掩模儲料器18A、18B將預定的掩模M提供到掩模臺10A、10B的掩模裝載機17A、17B，其中，由于具有將掩模M提供到掩模儲料器18A、18B、并可在曝光單元100A、100B之間自由移動、且自由旋轉(zhuǎn)的掩模盒20，因此可使用一種掩模盒20，將掩模M不會搞錯插入方向地提供到多個曝光單元100A、100B的掩模儲料器18A、18B中。這樣一來，可將掩模M容易且高效地提供到各曝光單元100A、100B，因此可大幅提高作業(yè)效率。
此外，本發(fā)明不限于本實施方式，在不脫離本發(fā)明主旨的范圍內(nèi)可進行適當變更。
例如在本實施方式中，示例了將本發(fā)明適用于并列配置具有二臺基板臺的曝光單元的曝光裝置的情況，但也可將本發(fā)明適用于并列配置具有一臺基板臺的曝光單元的曝光裝置。
并且，在本實施方式中，示例了將本發(fā)明適用于并列配置二臺曝光單元的曝光裝置的情況，但不限于此，曝光單元的并列臺數(shù)是任意的。
權(quán)利要求
1.一種曝光裝置，具有并列配置的多個曝光單元，其具有保持作為被曝光材料的基板的基板臺；與所述基板相對配置并保持掩模的掩模臺；通過所述掩模將圖案曝光用的光照射到所述基板的照射裝置；以及移動所述基板臺，使所述基板與所述掩模在預定位置相對的基板臺傳送機構(gòu)；收容多個所述掩模的掩模儲料器；以及從所述掩模儲料器將預定的所述掩模提供到所述掩模臺的一臺掩模裝載機。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，多臺所述掩模儲料器并列配置，構(gòu)成掩模庫，所述一臺掩模裝載機構(gòu)成為在分別與所述掩模儲料器及所述曝光單元對應的位置上自由移動。
全文摘要
提供一種可使曝光裝置小型化、有效利用工廠等的設置空間，并且可降低曝光裝置的制造成本的曝光裝置，其中，曝光裝置(PE101)并列配置有多個曝光單元(1000A、1000B)，具有收容多個掩模(M)的掩模儲料器(171)；以及從掩模儲料器(171)將預定的掩模M提供到掩模臺(110A、110B)的一臺掩模裝載機(170)。
文檔編號G03F9/00GK101063828SQ20071009794
公開日2007年10月31日 申請日期2007年4月23日 優(yōu)先權(quán)日2006年4月24日
發(fā)明者富樫工, 宮下正弘 申請人:日本精工株式會社