專利名稱：：包含氮化硼粒子的光學(xué)基底的制作方法包含氮化硼粒子的光學(xué)基底技術(shù)領(lǐng)城本發(fā)明涉及一種包含氮化硼粒子的光學(xué)基底。在一實(shí)施方式中，本發(fā)明涉及一種為了優(yōu)異的導(dǎo)熱性能而具有氮化硼粒子的光學(xué)膜或光學(xué)片。在另一實(shí)施方式中，本發(fā)明涉及一種含有可操縱光的氮化硼粒子的光學(xué)膜或光學(xué)片。
背景技術(shù)：
：近年來(lái)，傳統(tǒng)的陰極射線管(CRT)顯示器已經(jīng)逐漸地為輕質(zhì)、薄型、體積小且?guī)缀鯚o(wú)輻射的液晶顯示器(LCDs)所代替。具有低發(fā)熱和低電耗也是液晶顯示器(LCDs)的特性。各種光學(xué)膜，諸如偏光膜、延遲膜、擴(kuò)散膜(diffiiserfilm)都是分層的液晶顯示器(LCDs)。在現(xiàn)有技術(shù)中已知的光學(xué)膜的一實(shí)施方式中，膜是由分散在連續(xù)母體內(nèi)的內(nèi)容物構(gòu)成?？蓪?duì)這些內(nèi)容物的性質(zhì)加以操控，以提供給該膜一定范圍的反射和透射性能。這些性質(zhì)包括相對(duì)膜內(nèi)波長(zhǎng)的內(nèi)容物尺寸、形狀、排列、容積填充系數(shù)和沿著膜的三個(gè)直角坐標(biāo)軸，在連續(xù)母體內(nèi)的折射率失配度。在現(xiàn)有技術(shù)光學(xué)膜的另一實(shí)施方式中，該膜的特征是光學(xué)上透明的硬質(zhì)涂層，該涂層可提供發(fā)射光必需的亮度、擴(kuò)散性能和均勻性。在現(xiàn)有技術(shù)的一些實(shí)施方式中，膜采用了一種消除莫利干涉(Moir6interference)的微,J、粗糙度的抗牛頓力(anti-Newton)背面涂層和耐化學(xué)和物理?yè)p壞的經(jīng)配制的前層涂層。在其它實(shí)施方式中，以偏光鏡膜形式的光學(xué)膜在膜的前側(cè)具有無(wú)光飾面，其用作整體的擴(kuò)散體以減少在LCD組件中對(duì)單獨(dú)的擴(kuò)散片的需求。盡管液晶顯示器面板(LCDpanels)與傳統(tǒng)的陰極射線管(CRT)顯示器相比，具有低的熱量和功率損耗，但是在LCD中，仍會(huì)產(chǎn)生大量的熱量，這會(huì)引起光學(xué)膜內(nèi)的皺褶(wrinkles)、波紋(waves)和/或開(kāi)裂，從而對(duì)它們的光學(xué)性質(zhì)或美學(xué)外觀產(chǎn)生不利的影響。仍然需要具有改良的導(dǎo)熱性的光學(xué)基底，即膜和片，從而減小因在LCDs中產(chǎn)生的過(guò)量熱而形成開(kāi)裂、波紋和皺褶的潛在可能。為了使LCDs中的生熱問(wèn)題減到最小，本發(fā)明現(xiàn)提供了具有所需導(dǎo)熱性能的光學(xué)基底，其具有的分散體比現(xiàn)有技術(shù)中的分散體有改進(jìn)的導(dǎo)熱性。發(fā)明概述本發(fā)明的一個(gè)方面，是提供一種光學(xué)基底。該光學(xué)基底包括至少一個(gè)含有氮化硼粒子的聚合物母體或玻璃母體的層。以該層的總重量計(jì)，其中存在的氮化硼粒子的重量百分比為0.1-10wt.%。在一實(shí)施方式中，本發(fā)明進(jìn)一步涉及一種背光顯示裝置，包括發(fā)光的光源，引導(dǎo)光的光導(dǎo)，為將光反射出光導(dǎo)而沿光導(dǎo)設(shè)置的反射裝置，在光導(dǎo)后面以將從腔中逸出的光反射回到光導(dǎo)中的反射膜和接收來(lái)自光導(dǎo)的光的一系列光學(xué)膜，包括擴(kuò)散膜。另一實(shí)施方式中的背光顯示裝置，包括若干發(fā)光的光源，光擴(kuò)散片，放置在光源后面以將從腔中逸出的光反射回到光擴(kuò)散片的反射膜和接收來(lái)自光擴(kuò)散片的光的一系列光學(xué)膜，包括擴(kuò)散膜。該擴(kuò)散膜包括約95-99.8wt。/。的用于基底母體的聚合物和約0.2-5wt.%的氮化硼粒子。發(fā)明詳述如本文中所使用的，可將近似的術(shù)語(yǔ)用來(lái)修飾任何定量的表述，該表述可以進(jìn)行變化而不會(huì)導(dǎo)致與其相關(guān)的基本功能的改變。因此，有時(shí)候用一個(gè)字眼或多個(gè)字眼，例如"大約"和"基本上"所修飾的數(shù)值，并不限制于確定的精確數(shù)值。用端點(diǎn)表述的數(shù)值范圍包括涵蓋在該范圍內(nèi)的所有數(shù)值(例如，1-5包括1，1.5，2，2.75,3,3.80,4和5)。如該說(shuō)明書(shū)和權(quán)利要求書(shū)中所述，單數(shù)形式的"一個(gè)，，，"一種"和"該"包括復(fù)數(shù)的標(biāo)示物，除非本文另外進(jìn)行清楚地說(shuō)明。因此，例如作為參照，含有"化合物"的組合物就包括了兩種或兩種以上的化合物的混合物。同樣，如本文中所使用且如果沒(méi)有另外表述時(shí)，單數(shù)的元素可以具有復(fù)數(shù)的形式，反之亦然，并不喪失一般性。如本說(shuō)明書(shū)和權(quán)利要求書(shū)中使用的，術(shù)語(yǔ)"或"通常以其包含"和/或，，的含義加以使用，除非本文另外進(jìn)行清楚地規(guī)定。如本文所使用的，術(shù)語(yǔ)"光學(xué)基底"意指具有光學(xué)性質(zhì)的片、薄膜或?qū)印Ｔ谝粚?shí)施方式中，該光學(xué)基底可用在例如透鏡、鏡子、液晶顯示器面板(LCDpanel)、液晶顯示器背光單元(LCDbacklightunit)等的光學(xué)元件中，經(jīng)設(shè)計(jì)使其當(dāng)暴露于一定波段的電磁能量時(shí)，可顯示出想要的光的美感光學(xué)效果、光反射、光傳導(dǎo)、光吸收或光折射。同樣，如本文中使用的，"光學(xué)膜，，可以與"光學(xué)基底"相互替換。術(shù)語(yǔ)"聚合物"可理解為包括聚合物、共聚物(即，使用兩種或兩種以上的不同單體形成的聚合物)、低聚物和其組合，以及例如通過(guò)共擠出或包括酯交換的反應(yīng)可形成可混溶共混物的聚合物、低聚物或共聚物。如果沒(méi)有另外說(shuō)明，也包括嵌段共聚物和無(wú)規(guī)共聚物這兩種。在此將術(shù)語(yǔ)"折射率"定義為材料的絕對(duì)折射率，可將其理解成在真空(freespace)內(nèi)電磁輻射的速度與在該材料內(nèi)電磁輻射的速度之比。使用已知的方法可對(duì)該折射率加以測(cè)量，并通常用阿貝折射計(jì)(AbbeRefractometer)在可見(jiàn)光區(qū)進(jìn)行測(cè)量。在此將術(shù)語(yǔ)"膠質(zhì)的，，定義成意指具有小于約200pm直徑的粒子(初級(jí)粒子或結(jié)合的初級(jí)粒子)。在此所用的術(shù)語(yǔ)"結(jié)合的粒子，，意指經(jīng)聚集和/或團(tuán)聚的兩個(gè)或兩個(gè)以上初級(jí)粒子的集合。在此所用的術(shù)語(yǔ)"聚集，，表述了可彼此化學(xué)鍵合的初級(jí)粒子之間的強(qiáng)結(jié)合。將聚集體分解成較小的粒子是難以完成的。在此所用的術(shù)語(yǔ)"團(tuán)聚"表述了可通過(guò)電荷、極性或其它物理作用保持在一起的初級(jí)粒子的弱結(jié)合，并且可將其分解成較小的單元。在此將術(shù)語(yǔ)"初級(jí)粒子大小"定義為非結(jié)合的單個(gè)粒子的大小。在此將術(shù)語(yǔ)"溶膠"定義為膠質(zhì)粒子在液相中的分散體或懸浮體。在此所用的所有百分?jǐn)?shù)和比值都是以組合物的總重量計(jì)，并且如果沒(méi)有另外指明，所有的測(cè)量都在25。C下進(jìn)行。如果沒(méi)有另外指明，本文所涉及的組分的所有百分?jǐn)?shù)、比值和水平都基于該組分的實(shí)際數(shù)量，且不包括溶劑、填料或能與市售產(chǎn)品中的該組分相結(jié)合的其它材料。氮化硼的特征是具有優(yōu)異的熱導(dǎo)率，例如在平行壓制方向的方向上為59W/m/K,在垂直壓制方向的方向上為33W/m/K(以約90-95%的理論密度的熱壓BN形狀加以測(cè)量)。這可與現(xiàn)有技術(shù)中光學(xué)基底通常所用的填料的熱導(dǎo)率相比較，氧化鋁為18W/m/K，氧化鋯為2W/m/K。本發(fā)明的光學(xué)基底包括至少一個(gè)含有氮化硼的層，例如在膜基底自身內(nèi)或者作為設(shè)置在膜基底上的涂層中的組分，以允許該光學(xué)基底與現(xiàn)有技術(shù)的填料相比，具有必需的光學(xué)性質(zhì)，以及改善的導(dǎo)熱性。在一些實(shí)施方式中，光學(xué)基底的光學(xué)性能可依賴于所用的BN粒子的大小加以操控。在一些實(shí)施方式中，使用非常小的BN粒子，例如平均初級(jí)粒子大小約為10-50nm或更小的微粒，可增強(qiáng)該光學(xué)膜的折射率(RI)，并允許該膜使用在例如亮度增強(qiáng)膜(brightnessenhancementfilm)的應(yīng)用中。在使用稍微較大的BN粒子，例如平均初級(jí)粒子大小約100-500nm的BN粒子的第二實(shí)施方式中，當(dāng)用在具有足夠折射率(RI)差異的母體中時(shí)，該BN粒子會(huì)擴(kuò)散/散射光，從而允許該光學(xué)膜用在例如容量擴(kuò)散片(Volumetricdisffiiser)的應(yīng)用中。在具有更大粒子尺寸，即微米范圍的第三實(shí)施方式中，該BN填料可用作表面散射的擴(kuò)散片。氮化硼組分用于本發(fā)明光學(xué)基底內(nèi)的氮化硼(BN)可從很多來(lái)源進(jìn)行市購(gòu)，包括但不限制于來(lái)自MomentivePerformanceMaterials、CeradyneESK、SintecKeramik、KawasakiChemicals和St.GobainCeramics公司的BN材料。BN可具有以下一種形態(tài)或其混合，包括非晶態(tài)氮化硼(這里稱作a-BN)、具有六角形態(tài)網(wǎng)孔層的層壓結(jié)構(gòu)的六方晶系氮化硼(這里稱作具有類片狀粒子的h-BN)、具有隨機(jī)分層的六角形態(tài)網(wǎng)孔層的湍層(turbostratic)氮化硼(這里指t-BN)和^M大氮化硼。在一實(shí)施方式中，該BN具有諒層狀、六方晶形、球狀或其混合的形態(tài)。在一實(shí)施方式中，氮化硼填料包括微米大小范圍的粒子，其制備自美國(guó)專利6652822所公開(kāi)的使用等離子氣體的方法。在另一實(shí)施方式中，球狀BN填料包括作為球狀氮化硼團(tuán)聚體的hBN粉末，正如美國(guó)專利公開(kāi)號(hào)US2001/0021740所公開(kāi)的，該團(tuán)聚體由粘合劑將不規(guī)則的非球狀BN粒子粘合在一起，隨后經(jīng)噴霧干燥而成。在又一實(shí)施方式中，BN填料具有以下形態(tài)制備自如美國(guó)專利號(hào)5898009和6048511所公開(kāi)的壓制法的h-BN粉末；如美國(guó)專利公開(kāi)號(hào)2005/0041373所公開(kāi)的BN團(tuán)聚粉末；如美國(guó)專利公開(kāi)號(hào)US20040208812A1所公開(kāi)的具有高熱擴(kuò)散率的BN粉末和如美國(guó)專利6951583所公開(kāi)的高度層離的BN粉末。在一實(shí)施方式中，BN粉末的表面積為2-25m2/g。在另一實(shí)施方式中，該填料具有亞微米氮化硼的形態(tài)，即平均粒子尺寸小于l微米(1000nm),比表面積(使用BET法進(jìn)行測(cè)量)至少為100m2/g的氮化硼("BN")粉末。在又一實(shí)施方式中，該BN粉末的BET比表面積(BETsurfacearea)為至少450m2/g。在第三實(shí)施方式中，BN具有亞微米粉末的形態(tài)，其BET比表面積范圍為200-900m2/g。亞微米BN粒子可使用現(xiàn)有技術(shù)中已知的各種方法加以制備。在一方法中，通過(guò)將化學(xué)氣相沉積和氨氣氛下的三曱氧基硼烷熱解相結(jié)合，能合成出具有50-400nm均勻直徑分布的球狀氮化硼粒子。在第二種方法中，通過(guò)在超聲浴(ultrasonicbath)中對(duì)BN在水和表面活性劑中的液體懸浮液進(jìn)行超聲處理，使市購(gòu)的BN粉末(尺寸大于1微米)的團(tuán)聚體破裂而能制備出亞微米的BN填料。亞微米的氮化硼粉末可從很多來(lái)源進(jìn)行市購(gòu)，包括Strongsville,OH的MomentivePerformanceMaterials。在一實(shí)施方式中，BN粉末具有至少50微米Om)的平均粒度。在另一實(shí)施方式中，BN粉末具有0.10-200(mi的平均初級(jí)粒子尺寸。在又一實(shí)施方式中，BN粉末具有5-500nm的平均粒度。在第四實(shí)施方式中為10-100|am。在第五實(shí)施方式中，BN粉末具有l(wèi)-30pm的平均纟鼓粒尺寸。在第六實(shí)施方式中，BN粉末包括hBN片的不規(guī)則形態(tài)的團(tuán)聚體，其具有l(wèi)(Him以上的平均粒度。在一實(shí)施方式中，BN粉末為亞微米級(jí)，其平均初級(jí)粒子大小范圍為0.1(100nm)-0.8pm(800nm)。在第二實(shí)施方式中，BN粉末的平均初級(jí)粒子大小范圍為200nm-700nm。在第三實(shí)施方式中，BN4分末的平均初級(jí)粒子大小范圍為200nm-600nm。在第四實(shí)施方式中，BN粉末的平均初級(jí)粒子大小范圍為200nm-500nm。在第五實(shí)施方式中，亞微米級(jí)的BN粉末的平均初級(jí)粒子大小小于50nm。例如用在亮度增強(qiáng)膜內(nèi)的第六實(shí)施方式中，亞微米級(jí)的BN粉末的平均初級(jí)粒子大小為5-50nm。在又一實(shí)施方式中，BN粉末具有hBN片的球狀團(tuán)聚體形態(tài)。在球狀BN粉末的一實(shí)施方式中，團(tuán)聚體具有10-500pm的平均團(tuán)聚體尺寸分布(agglomeratesizedistributionASD)或者直徑。在另一實(shí)施方式中，BN4分末具有球狀團(tuán)聚體形態(tài)，其ASD范圍為30-125pm。在一實(shí)施方式中，ASD一實(shí)施方式中為10-40(xm。在一實(shí)施方式中，BN粉末具有片狀的形態(tài)，其沿b軸的平均長(zhǎng)度為至少約lpm，通常為約l-20pm,其厚度不超過(guò)約5pm。在另一實(shí)施方式中，該4分末具有片狀的形態(tài)，其平均長(zhǎng)寬比(aspectratio)大約為50-300。在一實(shí)施方式中，該BN是具有高度有序六方結(jié)構(gòu)的h-BN粉末，其結(jié)晶指數(shù)至少為0.12。在另一實(shí)施方式中，BN粉末的結(jié)晶度大約為0.2-0.55,且在又一實(shí)施方式中大約為0.3-0.55。在又一實(shí)施方式中，BN的結(jié)晶指數(shù)為至少0.55。在一實(shí)施方式中，BN粉末的氧含量范圍為0.1-15wt.%。在又一實(shí)施方式中，BN粉末為亞微米級(jí)大小，其氧含量為10-15wt.%。在一實(shí)施方式中，氮化硼粒子用表面處理劑功能化或進(jìn)行處理。通常，表面處理劑具有將連接到粒子表面(共價(jià)地、離子地或通過(guò)強(qiáng)物理吸附)的第一端和賦予粒子與樹(shù)脂的相容性和/或與光學(xué)膜的樹(shù)脂母體起反應(yīng)的第二端。表面處理劑的實(shí)例包括但不限制于有機(jī)硅化合物，諸如硅烷、硅氮烷、硅氧烷等等；醇類；胺類；羧酸類；磺酸類；膦酸類；鋯酸鹽和鈦酸鹽。表面改性劑所需的數(shù)量取決于多個(gè)因素，例如氮化硼粒子大小、粒子類型(球狀或片狀)、改性劑分子量、改性劑類型和表面處理方法。一實(shí)施方式中，在用于光學(xué)膜組合物之前，用硅烷在高溫的酸性或堿性條件下對(duì)氮化硼進(jìn)行約1-24小時(shí)的處理。在一實(shí)施方式中，氮化硼粒子首先用含有氧化取代基的羧酸改性劑功能化，例如聚醚羧酸類，諸如2-[2-(2-甲氧基乙氧基)乙氧基]乙酸(MEEAA)、2-(2-曱氧基乙氧基)乙酸(MEAA)和單(聚乙二醇)琥珀酸酯。在另一實(shí)施方式中，BN粒子用具有羧酸官能團(tuán)的非極性改性劑進(jìn)行功能化，該改性劑包括辛酸、十二烷酸、硬脂酸、油酸和它們的組合。在一些實(shí)施方式中，在可聚合的有機(jī)母體內(nèi)，該羧酸可以是反應(yīng)性的(例如該羧酸具有可聚合的基團(tuán))。在其它的實(shí)施方式中，該羧酸既包括具有可聚合基團(tuán)的羧酸又包括沒(méi)有可聚合基團(tuán)的羧酸。反應(yīng)性的羧酸表面改性劑(例如具有可聚合基團(tuán)的羧酸)例如包括丙烯酸、曱基丙烯酸、(3-羧乙基丙烯酸酯、單-2-(曱基丙烯酰氧乙基)琥珀酸酯和它們的組合。一種能賦予BN粒子極性和反應(yīng)性的有用表面改性劑為單(甲基丙烯酰氧聚乙二醇)琥珀酸酯。這種材料可特別適合添加到輻射可固化的丙烯酸酯和/或曱基丙烯酸酯有機(jī)母體材料中。在一實(shí)施方式中，氮化硼粒子首先用硅烷功能化。示例性的硅烷類包括但不限制于烷基三烷氧基硅烷類，諸如正辛基三曱氧基硅烷、正辛基三乙氧基硅烷、異辛基三曱氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、十八烷基三曱氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷和己基三甲氧基硅烷；曱基丙烯酰氧烷基三烷氧基硅烷類或丙烯酰氧烷基三烷氧基硅烷類，諸如3-曱基丙烯酰氧丙基三曱氧基硅烷、3-丙烯酰氧丙基三曱氧基硅烷和3-(曱基丙烯酰氧)丙基三乙氧基硅烷；曱基丙烯酰氧烷基烷基二烷氧基硅烷類或丙烯酰氧烷基烷基二烷氧基硅烷類，諸如3-(曱基丙烯酰氧)丙基曱基二曱氧基硅烷和3-(丙烯酰氧丙基)曱基二甲氧基硅烷；曱基丙烯酰氧烷基二烷基烷氧基硅烷類或丙烯酰氧烷基二烷基烷氧基硅烷類，諸如3-(曱基丙烯酰氧)丙基二曱基乙氧基硅烷；巰基烷基三烷氧基硅烷類，諸如3-巰基丙基三曱氧基硅烷；芳基三烷氧基硅烷類，諸如苯乙烯基乙基三曱氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氣基硅烷和對(duì)曱苯基三乙氧基硅烷；乙烯基硅烷類，諸如乙烯基甲基二乙酸基^f圭烷、乙烯基二曱基乙氧基硅烷，乙烯基曱基二乙氧基硅烷、乙烯基三曱氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三乙酸基硅烷、乙烯基三異丙氧基硅烷、乙烯基三曱氧基硅烷、乙烯基三苯氧基硅烷、乙烯基三叔丁氧基硅烷、乙烯基三(異丁氧基)硅烷、乙烯基三異丙烯氧基硅烷和乙烯基三(2-曱氧基乙氧基)硅烷；3-縮水甘油氧基丙基三烷氧基硅烷，諸如縮水甘油氧基丙基三曱氧基硅烷；聚醚硅烷類，諸如N-(3-三乙氧基甲硅烷基丙基)曱氧基乙氧基乙氧基乙基氨基曱酸酯(PEG3TES)、N-(3-三乙氧基曱硅烷基丙基)甲氧基乙氧基乙氧基乙基氨基曱酸酯(PEG2TES)和SILQUESTA-1230和它們的組合。在一實(shí)施方式中，BN粉末的面內(nèi)(ab面，垂直于c軸)和穿越面(thruplane,平行于c軸)的折射率("RI")分別為1,65和2.13(正如文獻(xiàn)T.Ishii，T.Sato，GrowthofsinglecrystalsofHexagonalBoronNitride,JournalofCrystalGrowth61(1983)689-690所報(bào)導(dǎo)的)。然而，與現(xiàn)有技術(shù)的填料，例如聚(曱基丙烯酸曱酯)和Tospearl②的聚曱基硅倍半氧烷(Polymethylsilsesquioxane)相比，不同方向上不同的折射率使得氮化硼相對(duì)具有單一折射率的材料而言，具有更好的雙折射性能。在一實(shí)施方式中，光學(xué)膜組合物中作為分散體存在的BN粉末具有足夠的量，以供光學(xué)膜仍具有必需的性能，例如折射率、擴(kuò)散性、硬度、耐用性等等，而同時(shí)與不添加氮化硼粒子的光學(xué)膜相比，光學(xué)膜的熱導(dǎo)率增加了至少10%。在一實(shí)施方式中，所存在的BN粉末的重量為含BN粉末的層總重量的0.1-10wt.%。在第二實(shí)施方式中，該重量范圍為0.5-5wt.%。在其中BN粉末用于抗反射膜或擴(kuò)散膜的第三實(shí)施方式中，所存在的BN粉末的重量范圍為0.5-約8wt。/。，仍然使該膜具有抗反射膜所需要的充足光擴(kuò)散。在第四實(shí)施方式中，所存在的BN粉末的重量范圍為0.2-5wt.%,仍使該膜具有至少1.50的折射率?；啄阁w可將氮化硼粒子引入到形成膜的光學(xué)基底層的母體中。在另一實(shí)施方式中，將氮化硼粒子引入到設(shè)置在光學(xué)膜的基底層之上的透明涂層中。本發(fā)明光學(xué)膜中所用的基底層可以是任何形狀并且可包括本領(lǐng)域技術(shù)人員所已知的任何材料，例如玻璃或塑料，其重量為基底層總重量的90-約99.8wt.%。光學(xué)層中的塑料材料可以是具有足夠高折射率的任何適合的材料。聚合材料的折射率通常為至少1.40,至少1.45或至少1.50。對(duì)所述塑料基底的材料沒(méi)有特別的限制，對(duì)其可能的選擇包括但不限制于苯乙烯-丙烯腈、醋酸丁酸纖維素、醋酸-丙酸纖維素、三乙酸纖維素、聚醚砜、聚曱基丙烯酸曱酯、聚氨酯、聚酯、聚碳酸酯、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚對(duì)苯二曱酸乙二醇酯、聚酰亞胺、聚烯烴樹(shù)脂，例如聚乙烯(PE)或聚丙烯(PP)、聚萘二曱酸乙二醇酯、基于萘二羧酸類的共聚物或共混物，聚環(huán)烯烴類和聚氨酯樹(shù)脂、纖維素三乙酸S旨(TAC)或它們的混合物。在一實(shí)施方式中，基底母體包括選自聚酯樹(shù)脂、聚碳酸酯樹(shù)酯或其混合物之一的材料。在另一實(shí)施方式中，該基底母體包括聚對(duì)苯二曱酸乙二醇酯(PET)。在一實(shí)施方式中，將氮化硼粒子引入到設(shè)置在光學(xué)膜基底上的透明涂人員所已知的任何適于制備光^膜的聚-單體來(lái)獲得。適i的聚合i體實(shí)例例如包括環(huán)氧二丙烯酸酯、卣代環(huán)氧二丙烯酸酯、曱基丙烯酸曱酯、異冰片基丙烯酸酯、2-苯氧基乙基丙烯酸酯、丙烯酰胺、笨乙烯、卣代苯乙烯、丙烯酸、丙烯腈、曱基丙烯腈、二苯基環(huán)氧乙基丙烯酸酯(biphenylepoxyethylacrylate)、卣代二苯基環(huán)氧乙基丙烯酸酯、烷氧基化環(huán)氧二丙烯酸酯、卣代烷氧基化環(huán)氧二丙烯酸酯、脂族氨基曱酸酯二丙烯酸S旨(urethanediacrylate)、脂族氨基曱酸酯六丙烯酸酯、芳族氨基甲酸酯六丙烯酸酯、雙酚-A環(huán)氧二丙烯酸酯、線性酚醛環(huán)氧丙烯酸酯(novolacepoxyacrylate)、聚酯丙烯酸酯、聚酯二丙烯酸酯、丙烯酸酯封端的氨基甲酸酯低聚物或它們的混合物。優(yōu)選的聚合單體包括卣代環(huán)氧二丙烯酸酯、曱基丙烯酸曱酯、2-苯氧基乙基丙烯酸酯、脂族氨基曱酸酯二丙烯酸酯、脂族氨基曱酸酯六丙烯酸酯和芳族氨基曱酸酯六丙烯酸酯。在一實(shí)施方式中，該聚合物母體包括選自聚碳酸酯、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚(曱基丙烯酸曱酯)、環(huán)氧類和丙烯酸酯類的材料。與本發(fā)明BN填料一起使用的聚合物母體的選擇依賴于多種因素，包括最終的應(yīng)用、樹(shù)脂的質(zhì)量控制等等。在一實(shí)施方式中，用于涂層的聚合物母體包括粘合劑聚合物，其選自以下，包括三乙酸纖維素、聚對(duì)苯二曱酸乙二醇酯、二乙酰纖維素、醋酸丁酸纖維素、醋酸丙酸纖維素、聚醚砜、聚(曱基)丙烯酸系樹(shù)脂、聚氨酯系樹(shù)脂、聚酯、聚碳酸酯、芳族聚酰胺、聚烯烴類、衍生自氯乙烯的聚合物，聚氯乙烯，聚砜，聚醚，聚降冰片烯、聚曱基戊烯、聚醚酮和(曱基)丙烯腈。在另一實(shí)施方式中，該粘合劑聚合物選自丙烯酸類或甲基丙烯酸類聚合物。在第三實(shí)施方式中，該粘合劑是上述聚合物之一的氟衍生物或其混合物。任選組分除了光擴(kuò)散和導(dǎo)熱的氮化硼填料以外，光學(xué)膜也可以包括其它有機(jī)或無(wú)機(jī)的擴(kuò)散組分或其混合物，它們并不會(huì)對(duì)該膜所要求的熱導(dǎo)率和光學(xué)性能有顯著的不利影響。在一擴(kuò)散膜的實(shí)施方式中，該膜組合物進(jìn)一步包含任選的光擴(kuò)散有機(jī)材料，包括聚(丙烯酸酯類)；聚(曱基丙烯酸烷基酯類)，諸如聚(曱基丙烯酸曱酯)(PMMA)、聚(四氟乙烯)(PTFE);硅酮類，例如購(gòu)自MomentivePerformanceMaterials公司的商標(biāo)名TOSPEARL的水解聚(烷基三烷氧基硅烷類)；和含有前述有機(jī)材料至少之一的混合物，其中烷基基團(tuán)具有1-約12個(gè)碳原子。在另一擴(kuò)散膜的實(shí)施方式中，任選的光擴(kuò)散無(wú)機(jī)材料包含以下材料，包括銻、鈦、鋇和鋅，例如上述的氧化物或硫化物，諸如氧化鋅、氧化銻和含有上述無(wú)機(jī)材料至少之一的混合物。在又一實(shí)施方式中，除了氮化硼填料/任選擴(kuò)散組分以外，該基底(basesubstrate)或涂膜可含有本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的添加劑，例如流平劑、光引發(fā)劑、消泡劑、抗靜電劑等等。制備光學(xué)膜或光學(xué)片的方法在一實(shí)施方式中，首先使用本領(lǐng)域熟知的方法和裝置共混、混熔或者熔融捏合用于光學(xué)膜或光學(xué)片基底的組分。在一實(shí)施方式中，組分的制備方法是，將光擴(kuò)散聚碳酸酯樹(shù)脂與氮化硼和任選的擴(kuò)散添加劑混合，然后在適合的擠出機(jī)中熔融捏合所述混合物以形成粒料。然后通過(guò)常規(guī)方法，例如擠出、注塑或熔劑流延成商業(yè)用光擴(kuò)散基底，將該粒料用于形成本發(fā)明的光學(xué)膜或光學(xué)片。在本發(fā)明的一實(shí)施方式中，熔劑流延法可用于制備低延遲性的光擴(kuò)散膜或光擴(kuò)散片。在光學(xué)膜或光學(xué)片進(jìn)一步涂覆有保護(hù)涂層的實(shí)施方式中，該涂層可通過(guò)輥涂、噴涂或絲網(wǎng)印刷加以涂覆。在另一光學(xué)膜或光學(xué)片的實(shí)施方式中，基底(具有或不具有本發(fā)明的氮化硼填料)另外涂覆有涂膜或片層。該涂料組合物的制備方法可包括(a)首先將聚合物母體、光引發(fā)劑和填料;敞粒(該填料微?？砂ū景l(fā)明的氮化硼填料)相混合，以形成膠質(zhì)的涂料組合物；(b)將該膠質(zhì)涂料組合物涂覆到透明基底上以形成涂層；(c)視情況利用滾壓加工(rollerembossment)或熱擠出將該涂層形成光聚焦結(jié)構(gòu)(light-focusingstructure);和(d)將該涂層暴露于高能射線、熱或常溫下的兩者中以固化涂層。在一實(shí)施方式中，通過(guò)暴露于可引發(fā)光聚合物反應(yīng)的高能射線中來(lái)實(shí)施涂層的固化。該高能射線意指在一定波長(zhǎng)范圍內(nèi)的光源，諸如紫外光(UV-light)、紅外光、可見(jiàn)光、熱射線(照射或輻照)等，優(yōu)選紫外光。曝光強(qiáng)度的范圍可以是l-300mJ/cm2，優(yōu)選10-100mJ/cm2。在本發(fā)明的光學(xué)膜或光學(xué)片具有涂層形態(tài)的又一實(shí)施方式中，涂層的形成方法包括制備在聚合物母體中包含氮化硼粒子的涂料組合物；使該涂料組合物與微觀復(fù)制工具相接觸；最后使該涂料組合物聚合以形成具有顯微結(jié)構(gòu)表面的光學(xué)層。顯微結(jié)構(gòu)表面具有搡控亮度、亮度均勻性(luminanceuniformity)或^見(jiàn)角的作用。本發(fā)明光學(xué)基底的用途和性能在一實(shí)施方式中，本發(fā)明的光學(xué)基底用在組成LCD面板或LCD背光單元的各種分層的片或膜中，其包括但不限制于偏光膜、延遲膜、亮度增強(qiáng)膜、擴(kuò)散膜、反射膜、轉(zhuǎn)向膜(tumingfilm)和具有整體結(jié)構(gòu)的膜，例如亮度增強(qiáng)的整體偏光膜。在一實(shí)施方式中，可將該膜用作抗反射涂層，以減少來(lái)自鏡頭和照相透鏡表面的不想要的反射。在另一實(shí)施方式中，將該膜用作反射鏡涂層，以反射落在其上的99%以上的光線。在又一實(shí)施方式中，該光學(xué)基底可用在例如投影顯示器、交通信號(hào)和照明標(biāo)志應(yīng)用中的光轉(zhuǎn)向。光學(xué)基底可以以任何一種以下的形態(tài)用在LCD顯示器中，包括但不限制于反射片、擴(kuò)散片、亮度增強(qiáng)膜、反射偏光鏡等，其依賴于需要的性能和成本。該LCD顯示器可進(jìn)一步包括其它組件，例如光導(dǎo)或諸如冷陰極熒光燈(CCFLs)、熱陰極焚光燈(HCFLs)、發(fā)光二極管(LEDs)和有機(jī)發(fā)光二極管(OLEDs)的光源，每個(gè)背光的光源數(shù)目依賴于光源的種類和應(yīng)用在1個(gè)或兩個(gè)到數(shù)千個(gè)光源之間變化。在一實(shí)施方式中，將該基底用于表面光源的應(yīng)用中，其具有允許光從側(cè)端進(jìn)入的光導(dǎo)片，安裝在該片的一端的光源，和在該片的輸出面上的含有BN粒子的本發(fā)明的光擴(kuò)散膜。在又一實(shí)施方式中，使用該基底的裝置包括發(fā)光的光源，導(dǎo)光的光導(dǎo)，沿光導(dǎo)設(shè)置以反射來(lái)自光導(dǎo)的光線的反射裝置，在光導(dǎo)后面以將從腔體逸出的光反射回光導(dǎo)的反射膜，和接收來(lái)自光導(dǎo)的光線的一系列光學(xué)膜，包括擴(kuò)散膜。在另一實(shí)施方式中的背光顯示裝置包括:若干發(fā)光的光源，光擴(kuò)散片，放置在光源后面以將從腔體逸出的光反射回到光擴(kuò)散片的反射膜和接收來(lái)自光擴(kuò)散片的光線的一系列光學(xué)膜，包括擴(kuò)散膜。在一實(shí)施方式中，本發(fā)明的擴(kuò)散膜包括約95-99.8wt.。/。的作為基底母體的聚碳酸酯和約0.2-5wtQ/。的氮化硼粒子。雖然使用氮化硼的光學(xué)基底的厚度依賴于應(yīng)用，但其通常在5pm-lcm之間。在一實(shí)施方式中，該光學(xué)膜或光學(xué)片的厚度范圍為0.025mm-約0.5mm。在一實(shí)施方式中，該光學(xué)膜或光學(xué)片基底的厚度范圍為1-50密耳。在一實(shí)施方式中，光學(xué)膜或光學(xué)片具有包含氮化硼粒子的涂層，其中該涂膜的厚度為5-100pm。在另一實(shí)施方式中，該涂膜的厚度為10-40nm。在又一實(shí)施方式中，該光學(xué)膜/片的厚度高達(dá)lcm厚。霧度(haze)是當(dāng)光經(jīng)過(guò)透明材料時(shí)的散射或擴(kuò)散。霧度可以是成型或模制方法的結(jié)果，或者表面組織(例如棱柱的表面特征)的結(jié)果，是材料固有的。為了合適的應(yīng)用，依靠所用的BN粒子的數(shù)量和尺寸，可對(duì)光學(xué)膜或光學(xué)片的透光性/霧度性質(zhì)進(jìn)行調(diào)整/控制。在一光學(xué)擴(kuò)散片的實(shí)施方式中，向聚合物母體添加足夠數(shù)量的BN可使光學(xué)膜或光學(xué)片具有高的透光性和高的霧度。在另一實(shí)施方式中，向聚合物母體添加足夠數(shù)量的合適粒子尺寸的BN可使光學(xué)膜或光學(xué)片具有高的透射性和低的霧度。在又一實(shí)施方式中，對(duì)光學(xué)性能加以調(diào)節(jié)以使該膜或片具有高的反射率和低的霧度。在一實(shí)施方式中，擴(kuò)散膜或擴(kuò)散片的透光百分率至少為70%,霧度至少為10%。在另一實(shí)施方式中，對(duì)光擴(kuò)散膜或片進(jìn)行構(gòu)造以使其具有85-95%的霧度和80-90%的總透光率。在一實(shí)施方式中，通過(guò)添加本發(fā)明的氮化硼粒子，可對(duì)由此發(fā)出的光的擴(kuò)散進(jìn)4亍改善。光的擴(kuò)散可通過(guò)調(diào)制傳遞比(modulationtransferratioMTR)加以測(cè)量。在MTR測(cè)試中，該調(diào)制比越高，對(duì)比度越高。MTR是由強(qiáng)度輪廓(instensityprofile,最大強(qiáng)度和最小強(qiáng)度的比值)計(jì)算得到的一個(gè)比值，也就是該輪廓多么模糊的一個(gè)度量。"平均值，，是該輪廓的平均強(qiáng)度，或者是有多少光可透過(guò)的一個(gè)度量。在一實(shí)施方式中，光學(xué)膜可用作LCD內(nèi)的擴(kuò)散膜，其MTR小于500。在第二實(shí)施方式中，本發(fā)明擴(kuò)散膜的MTR小于300。在第三實(shí)施方式中，本發(fā)明的擴(kuò)散膜引入了足夠數(shù)量的亞微米的BN粒子，使膜具有小于100的MTR。在一實(shí)施方式中，當(dāng)引入到母體材料中時(shí)，氮化硼粒子具有納米尺度的平均初級(jí)粒子大小，并且具有最小的擴(kuò)散作用。它們主要用來(lái)增加母體材料的折射率。本發(fā)明的光學(xué)膜可用作亮度增強(qiáng)膜，其折射率至少為1.50。在第二實(shí)施方式中，使用足夠數(shù)量的氮化硼使本發(fā)明的亮度增強(qiáng)膜具有至少1.55的折射率。在第三實(shí)施方式中，使用氮化硼的本發(fā)明的亮度增強(qiáng)膜具有至少1.60的折射率。在一容量擴(kuò)散片的實(shí)施方式中，當(dāng)引入到母體材料中時(shí)，氮化硼粒子處于具有大擴(kuò)散作用的亞微米尺度。在一使用大氮化硼粒子的光擴(kuò)散基底的實(shí)施方式中，用作光擴(kuò)散基底的光學(xué)膜的特征是具有優(yōu)異的表面粗糙度。具有平均初級(jí)粒子大小小于4pm的氮化硼填料的本發(fā)明一實(shí)施方式中，該膜的中心線平均粗糙度Ra為0.1pm或更小，10個(gè)點(diǎn)的平均粗糙度Rz為1pm或更小，且最大高度表面粗詩(shī)造度(maximumheightsurfaceroughness)Rmax為1或更小。具有平均初級(jí)粒子大小小于2nm的氮化硼填料的另一實(shí)施方式中，表面粗糙度的特征是，具有0.5nm或更小的10個(gè)點(diǎn)的平均粗糙度Rz，和51im或更小的最大高度表面粗糙度Rmax。具有平均初級(jí)粒子大小小于lpm的氮化硼填料的又一實(shí)施方式中，表面粗糙度的特征是，具有0.3imi或更小的IO個(gè)點(diǎn)的平均粗糙度Rz。在一實(shí)施方式中，光學(xué)膜用作亮度增強(qiáng)膜，其具有包含多個(gè)抬升的(raised)光學(xué)結(jié)構(gòu)的表面。在一實(shí)施方式中，該抬升的特征具有對(duì)稱的尖端和溝槽的規(guī)則重復(fù)圖案的形態(tài)，正如美國(guó)專利公開(kāi)號(hào)20050059766所例示的。在亮度增強(qiáng)膜的另一實(shí)施方式中，該膜的特征是具有三維的表面，該表面由隨機(jī)或至少偽隨機(jī)的函數(shù)調(diào)整的表面結(jié)構(gòu)函數(shù)加以限定，如美國(guó)專利公開(kāi)號(hào)20060256444所公開(kāi)的。上述實(shí)施方式中的光學(xué)結(jié)構(gòu)的高度也將依賴于應(yīng)用，^f旦通常在lOOnm-5pm之間。本發(fā)明進(jìn)一步由以下的非限制性實(shí)施例加以例示實(shí)施例1:平均初級(jí)粒子大小為243nm的BN粉末與平均初級(jí)粒子大小為170nm的Ti02相比較。1102是現(xiàn)有技術(shù)中用于光學(xué)膜的填料。對(duì)MTR進(jìn)行測(cè)量，并比較下文每個(gè)制劑的含有亞微米BN粒子或Ti02的組合物。在第三個(gè)制劑中，將BN的量減少了一半，并用來(lái)自MomentivePerformanceMaterials的碰氧烷微球，即Tospearl3210進(jìn)行代替。MTR和平均值的數(shù)值具有象素單位。MTR數(shù)值反映了擴(kuò)散性，越低的數(shù)字表示越高的霧度。"平均"強(qiáng)度意指全部的透射光，其為在測(cè)量區(qū)域上的立體平均值。因?yàn)檫@兩種膜都具有50%的總透光率，所以該平均值數(shù)值是相同的。在制劑中，使用了如下的成分10%的粒子、10%的SF1528(MomentivePerformanceMaterials)、22.8%的600McstkPDMS和57.2%的D5。將該制劑涂布，形成濕厚度為25微米的膜。在透射率測(cè)試中，這兩種膜都具有可比擬的約50%(~50%)的透光率。結(jié)果表明a)對(duì)于沒(méi)有添加劑的掩膜/膜來(lái)說(shuō)，MTR為3766(具有1537的平均值)；b)對(duì)于含有Ti02的制劑來(lái)說(shuō)，MTR為550(具有356的平均值)；c)對(duì)于含有亞微米BN的制劑來(lái)說(shuō)，MTR為6(具有349的平均值)；和d)對(duì)于含有BN和Tospearl3120的制劑來(lái)說(shuō)，MTR為580(具有377的平均值)。實(shí)施例2每個(gè)實(shí)施例中制劑組成示于表1中。表1實(shí)施例2的制劑組成<table>tableseeoriginaldocumentpage18</column></row><table>按表1中所報(bào)導(dǎo)的重量比將EM210⑧(2-苯氧基乙基丙烯酸酯，市購(gòu)自Eternal公司)和624-100(環(huán)氧丙烯酸酯，Eternal公司出售)相混合，并加入光引發(fā)劑(二苯曱酮，ChivacureBP,來(lái)自TwoBondchemicals)攪拌。在下一步中,將BoronNitridePolarThermPT120(市購(gòu)自MomentivePerformanceMaterials公司)加入到所得的混合物中，以形成膠質(zhì)涂料組合物。然后將該膠質(zhì)涂料組合物涂覆到PET基材(U34,市購(gòu)自TORAY公司)上，經(jīng)干燥后形成厚度25fxm的光學(xué)膜。對(duì)所得的光學(xué)膜進(jìn)行折射率和導(dǎo)熱性測(cè)試。在基底表面上加入氮化硼粒子的涂層的折射率與沒(méi)有加入氮化硼粒子的涂層的折射率幾乎相同，然而熱導(dǎo)率增加了至少10%。因此，氮化硼的加入，可避免光學(xué)膜上光聚焦結(jié)構(gòu)的開(kāi)裂、波紋和變形，以便提高LCDs面板的亮度。本說(shuō)明書(shū)使用了實(shí)施例來(lái)公開(kāi)本發(fā)明，包括優(yōu)選實(shí)施方式，并且能使本領(lǐng)域的技術(shù)人員制造和使用本發(fā)明。本發(fā)明的可專利范圍由權(quán)利要求書(shū)加以定義，并且包括本領(lǐng)域的技術(shù)人員能想到的其它實(shí)施例。如果它們的結(jié)構(gòu)組件與該權(quán)利要求書(shū)的文字表述沒(méi)有什么不同或者如果它們包括與該權(quán)利要求書(shū)的文字表述沒(méi)有實(shí)質(zhì)性差異的等同結(jié)構(gòu)組件，那么這種其它的實(shí)施例就意味著在權(quán)利要求書(shū)的范圍之內(nèi)。本文涉及的所有引文都明確地以引證的方式并入本文中。權(quán)利要求1.光學(xué)基底，包含含有以下物質(zhì)的至少一個(gè)層聚合物或玻璃母體；多個(gè)氮化硼粒子；其中以至少一個(gè)層的總重量計(jì)，所述氮化硼粒子的存在量為0.1-10wt.％。2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)基底，其中以至少一個(gè)層的總重量計(jì)，所述氮化硼粒子的存在量為0.2-10wt.%。3.如權(quán)利要求1-2任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中以至少一個(gè)層的總重量計(jì)，所述氮化硼粒子的存在量為0.5-8wt.%。4.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中以至少一個(gè)層的總重量計(jì)，所述氮化硼粒子的存在量為0.5-5wt.%。5.如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中所述氮化硼粒子的平均初級(jí)粒子大小為至少50pm。6.如權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中所述氮化硼粒子的平均初級(jí)粒子大小為5-50(Hmi。7.如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中所述氮化硼粒子的平均初級(jí)粒子大小為0.10-0.8pm。8.如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中所述氮化硼粒子的平均初級(jí)粒子大小為5-50nm。9.如權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中所述氮化硼粒子包括hBN片的球狀團(tuán)聚體，其平均團(tuán)聚的尺寸分布范圍為30-125pm。10.如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中所述氮化硼粒子的BET比表面積為至少100m2/g。11.如權(quán)利要求1-10任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中所述氮化硼粒子的BET比表面積為200-900m2/g。12.如權(quán)利要求1-11任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中所述氮化硼粒子包括hBN片的球狀團(tuán)聚體。13.如權(quán)利要求1-12任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中所述氮化硼粒子包括hBN片，其平均長(zhǎng)寬比范圍為50-300。14.如權(quán)利要求1-13任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中所述包括多個(gè)氮化硼粒子的至少一個(gè)層是涂層。15.如權(quán)利要求14所述的光學(xué)基底，其中所述涂層包括以下的至少一種環(huán)氧二丙烯酸酯、卣代環(huán)氧二丙烯酸酯、曱基丙烯酸曱酯、異水片基丙烯酸酯、2-苯氧基乙基丙烯酸酯、丙烯酰胺、苯乙烯、卣代笨乙烯、丙烯酸、丙烯腈、曱基丙烯腈、二苯基環(huán)氧乙基丙烯酸酯、卣代二苯基環(huán)氧乙基丙烯酸酯、烷氧基化環(huán)氧二丙烯酸酯、卣代烷氧基化環(huán)氧二丙烯酸酯、脂族氨基曱酸酯二丙烯酸酯、脂族氨基曱酸酯六丙烯酸酯、芳族氨基甲酸酯六丙烯酸酯、雙酚-A環(huán)氧二丙烯酸酯、線性酚醛環(huán)氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、聚酯二丙烯酸酯、丙烯酸酯封端的氨基曱酸酯低聚物和它們的混合物。16.如權(quán)利要求1-15任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中所述光學(xué)基底是膜或片。17.如權(quán)利要求1-16任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中所述母體包括選自以下的聚合物材料苯乙烯-丙烯腈、醋酸丁酸纖維素、醋酸-丙酸纖維素、三乙酸纖維素、聚醚砜、聚曱基丙烯酸曱酯、聚氨酯、聚酯、聚碳酸酯、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚對(duì)苯二曱酸乙二醇酯、聚酰亞胺、聚烯烴、聚環(huán)烯烴、聚氨酯樹(shù)脂、三乙酸纖維素、聚萘二曱酸乙二醇酯、基于萘二羧酸類的共聚物或共混物以及它們的混合物。18.如權(quán)利要求1-17任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中所述光學(xué)基底的厚度約為5(jm-lcm。19.如權(quán)利要求1-18任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中所述光學(xué)基底的厚度約為0.025mm-0.5mm。20.如權(quán)利要求1-19任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中所述包括多個(gè)氮化硼粒子的層是厚度約為5^m-lcm的涂層。21.如權(quán)利要求1-20任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中所述基底具有棱柱表面或平坦表面。22.如權(quán)利要求1-21任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中所述基底是亮度增強(qiáng)膜。23.如權(quán)利要求l-22任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中所述基底是MTR小于300的擴(kuò)散膜。24.如權(quán)利要求1-23任一項(xiàng)所述的光學(xué)基底，其中所述至少一個(gè)層進(jìn)一步包括以下的至少一種聚(丙烯酸酯類)、聚(曱基丙烯酸烷基酯類)、聚(四氟乙烯)(PTFE)、聚(烷基三烷氧基硅烷類)；銻、鈦、鋇和鋅的氧化物；和它們的混合物。25.背光顯示裝置，包括至少一個(gè)光源、接收來(lái)自該光源的光的一個(gè)或多個(gè)光學(xué)膜或光學(xué)片，其中以聚合物母體的總重量計(jì)，所述光學(xué)膜或光學(xué)片的至少一個(gè)包括約90-99.8wt.。/o的用于基底母體的聚合物和約0.1-10\￥1.%的氮化硼粒子并且所述氮化硼粒子沿ab面具有至少1.65的折射率。26.如權(quán)利要求25所述的背光顯示裝置，其中所述擴(kuò)散膜的MTR小于300。27.如權(quán)利要求25-26任一項(xiàng)所述的背光顯示裝置，其中所述母體包括選自以下的聚合物材料苯乙烯-丙烯腈、醋酸丁酸纖維素、醋酸-丙酸纖維素、三乙酸纖維素、聚醚砜、聚曱基丙烯酸曱酯、聚氨酯、聚酯、聚碳酸酯、聚氣乙烯、聚苯乙烯、聚對(duì)苯二曱酸乙二醇酯、聚酰亞胺、聚烯烴、聚環(huán)烯烴、聚氨酯樹(shù)脂、三乙酸纖維素、聚萘二甲酸乙二醇酯、基于萘二羧酸類的共聚物或共混物以及它們的混合物。28.如權(quán)利要求25-27任一項(xiàng)所述的背光顯示裝置，其中所述氮化硼粒子的平均初級(jí)粒子大小小于lpm且BET比表面積為至少100m2/g。29.如權(quán)利要求25-28任一項(xiàng)所述的背光顯示裝置，其中所述一個(gè)或多個(gè)光學(xué)膜或光學(xué)片的厚度約5|am-lcm。30.如權(quán)利要求25-29任一項(xiàng)所述的背光顯示裝置，其中所述一個(gè)或多個(gè)光學(xué)膜的厚度約為0.025mm-0.5mm。31.制備光學(xué)基底的方法，該方法包括提供多個(gè)氮化硼粒子，所述氮化硼粒子通過(guò)以下至少一種物質(zhì)進(jìn)行表面改性硅烷，硅氮烷，硅氧烷等；醇類；胺類；羧酸類；磺酸類；膦酸類；鋯酸鹽；鈦酸鹽和它們的混合物；其中所述氮化硼粒子的平均初級(jí)粒子大小范圍為0.10-200pm;制備包含經(jīng)表面改性的氮化硼粒子和聚合物母體的涂料組合物；使所述涂料組合物與微觀復(fù)制工具相接觸；和層。32.制備光學(xué)基底的方法，該方法包括共混約0.1-10wt。/。的氮化硼和約90-99.8wt。/。的聚合物的混合物，該聚合物選自聚合物材料，該聚合物材料選自以下苯乙烯-丙烯腈、醋酸丁酸纖維素、醋酸-丙酸纖維素、三乙酸纖維素、聚醚砜、聚曱基丙烯酸曱酯、聚氨酯、聚酯、聚碳酸酯、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚對(duì)苯二曱酸乙二醇酯、聚酰亞胺、聚烯烴，聚環(huán)烯烴，聚萘二曱酸乙二醇酯、基于萘二羧酸類的共聚物或共混物及它們的混合物；通過(guò)擠出、注塑或溶劑流延之一制備光學(xué)基底。全文摘要本發(fā)明公開(kāi)了諸如膜和片的光學(xué)基底及制備光學(xué)基底的方法。該光學(xué)基底包含至少一個(gè)層，該層含有玻璃或聚合物材料以及氮化硼粒子。該氮化硼粒子具有必需的光學(xué)性能以及優(yōu)異的導(dǎo)熱性，從而將應(yīng)用中，例如液晶顯示器、投影顯示器、交通信號(hào)和照明標(biāo)志產(chǎn)生的過(guò)熱而引起的裂縫、波紋和皺褶的潛在可能減到最小。文檔編號(hào)G02B1/00GK101414014SQ20071008562公開(kāi)日2009年4月22日申請(qǐng)日期2007年3月1日優(yōu)先權(quán)日2006年3月1日發(fā)明者唐納德·萊洛尼斯,山田正子,莫伊特里伊·辛哈,薩拉·E·格諾維斯,辛西婭·安德森,馬修·D·巴茨申請(qǐng)人:莫門(mén)蒂夫性能材料股份有限公司