專利名稱：：光罩回收處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種適用于高科技半導(dǎo)體、面板制造產(chǎn)業(yè)等需使用光罩產(chǎn)業(yè)的工藝，具體涉及廢棄光罩經(jīng)去除金屬鉻膜后，加以回收再生利用的方法。
背景技術(shù)：
：光罩(PhotoMask)是一種利用電子束曝光系統(tǒng)將鉻膜上的圖形制作在玻璃或石英上的工具，該玻璃或石英上含有鉻膜(Cr)之處是光無法透過去的。以光罩使用于半導(dǎo)體工廠的制造過程為例，半導(dǎo)體或晶圓制造過程是由數(shù)百道至上千道的工藝所構(gòu)成，重復(fù)著影印法、溶蝕、薄膜、擴(kuò)散、離子植入等等過程。光罩就是使用在影印法工藝(Photol池ography)中，晶圓在進(jìn)入曝光機(jī)臺(tái)(stepper或scanner)進(jìn)行曝光前，需先由光刻膠涂布機(jī)(PRcoater)涂上一層固定厚度的光刻膠(photoresister)，再送到曝光機(jī)臺(tái)進(jìn)行曝光，把光罩上的圖案(Pattern)重現(xiàn)在晶圓上面，曝光后經(jīng)過顯影、定影步驟，才算完成影印法工藝，再經(jīng)過溶蝕工藝去掉光刻膠，就會(huì)得到所需要的圖案(Pattem)。然而使用后遭淘汰的光罩以目前處理方式是直接銷毀，而無進(jìn)一步的利用價(jià)值。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明主要目的在于提供一種去除金屬鉻膜后的光罩回收處理方法，將回收后的光罩再利用，即對(duì)玻璃或石英材質(zhì)的光罩上的金屬鉻膜予以去除，將該光罩還原成未加工前的成品。本發(fā)明可應(yīng)用的
技術(shù)領(lǐng)域：
涵蓋半導(dǎo)體及面板制造領(lǐng)域，光罩(PhotoMask)的使用就如同使用一張底片一樣，直接將電路布局圖轉(zhuǎn)印在半導(dǎo)體的晶圓上，借由優(yōu)異技術(shù)，透過光罩來投射單一影像至晶圓上。隨著半導(dǎo)體細(xì)線化的趨勢(shì)，納米級(jí)以下的光罩己成為全球光罩廠研發(fā)努力的目標(biāo)，因此未來光罩需求量將會(huì)與日俱增持續(xù)成長(zhǎng)，光罩(PhotoMask)的應(yīng)用范圍亦將隨著產(chǎn)業(yè)發(fā)展而擴(kuò)增。本發(fā)明的一種光罩(PhotoMask)回收處理方法，其處理實(shí)施步驟為步驟一、溶蝕用化學(xué)溶蝕液去除回收光罩表面的金屬鉻膜；步驟二、洗凈、烘干將經(jīng)過溶蝕后的光罩洗凈烘干；步驟三、工藝檢驗(yàn)檢測(cè)光罩的表面狀態(tài)；步驟四、研磨以研磨方式去除回收的光罩表面可能殘留的化學(xué)成份及異物，確實(shí)完成清潔；步驟五、洗凈、烘干將經(jīng)過研磨后的光罩洗凈烘干；步驟六、工藝檢驗(yàn)若檢測(cè)未符合規(guī)定則再次經(jīng)過步驟四、步驟五的流程。檢驗(yàn)合格則為成品。更具體來說，本發(fā)明的光罩(PhotoMask)回收處理方法包括以下更詳細(xì)步驟-步驟一、溶蝕1-1將含金屬鉻膜的光罩置于溶蝕槽中浸泡處理，溶蝕槽內(nèi)含溶蝕液，令溶蝕液加熱到攝氏206(TC后，光罩完全浸泡于溶蝕槽中1020分鐘；1-2再將光罩浸泡于另一純水槽中，進(jìn)行約1分鐘純水浸泡清洗；1-3將光罩浸泡于另一含中和液的中和槽中，并令該中和液加熱到攝氏4050°C后，將光罩浸泡于中和槽中約3分鐘；l-4最后將光罩浸泡于另一純水槽中，進(jìn)行約1分鐘純水浸泡清洗；步驟二、洗凈、烘干將經(jīng)過溶蝕后的光罩洗凈烘干；步驟三、工藝檢驗(yàn)檢測(cè)光罩的表面狀態(tài)；步驟四、研磨去除光罩表面可能殘留的化學(xué)成份及異物；步驟五、洗凈、烘干將經(jīng)過研磨后的光罩洗凈烘干；步驟六、工藝檢驗(yàn)若檢測(cè)未符合規(guī)定則再次經(jīng)過步驟四、步驟五的流程；檢驗(yàn)合格則為成品。圖1所示是本發(fā)明光罩回收處理方法的流程圖。具體實(shí)施方式本發(fā)明有鑒于現(xiàn)階段光罩(PhotoMask)的應(yīng)用仍有待改善，提出一種設(shè)計(jì)合理且可使光罩回收再利用的新工藝發(fā)明。關(guān)于本發(fā)明的光罩回收處理步驟其工藝技術(shù)請(qǐng)參閱本發(fā)明圖1的流程圖。步驟一、溶蝕1-1、將回收的光罩進(jìn)行去除金屬鉻膜的處理，就是將光罩置于溶蝕槽中浸泡處理，溶蝕槽內(nèi)含溶蝕液(硝酸銨鈰硝酸溶液Ce(NH4)2(N03)/HN03或過氯酸HC104，濃度10%~25%(w/v))，并令該溶蝕槽中的溶蝕液加熱到攝氏206(TC后，將含金屬鉻膜的光罩(PhotoMask)完全浸泡于溶蝕槽中10~20分鐘，將含金屬鉻膜等成份的大型光罩，作分子游離化的化學(xué)處理，借以將金屬鉻膜帶出，使其與光罩底層表面(石英玻璃)達(dá)到松脫分離狀態(tài)。1-2、經(jīng)上一步驟處理后，再將光罩浸泡于另一純水(Spec:IOQ以上)槽中，進(jìn)行約1分鐘純水浸泡清洗，借以將光罩(PhotoMask)表面所附著的溶蝕液及殘留物質(zhì)完全清洗干凈。1-3、待上述步驟的初步溶蝕液浸泡去出金屬鉻膜與純水浸泡清洗完成后，再將光罩浸泡于另含中和液的中和槽中，該中和槽中的中和液內(nèi)含氫氧化鈉NaOH、或氫氧化鉀KOH，濃度為5%~45%(w/v)，并令該槽中的中和液(氫氧化鈉NaOH、或氫氧化鉀KOH，濃度5%~45%)加熱到攝氏405(TC后，將光罩浸泡于中和槽中約3分鐘，使其中和光罩底層表面(石英玻璃)狀態(tài)。1-4、完成浸泡于中和液后，光罩再浸泡于另一純水溶蝕槽(Spec:IOQ以上)中，進(jìn)行約1分鐘純水浸泡清洗，借以將光罩(PhotoMask)表面所附著的溶蝕液及殘留物質(zhì)完全清洗干凈。步驟二、洗凈、烘干將經(jīng)過溶蝕過程的光罩經(jīng)刷具(Brush)、海綿體(sponge)及風(fēng)刀，洗凈并烘干。步驟三、工藝檢驗(yàn)使用目視檢査法，確認(rèn)檢測(cè)光罩的表面狀態(tài)，其檢測(cè)項(xiàng)目包括凹陷、刮傷、氣泡和微粒、表面臟污等等項(xiàng)目，其中凹陷、刮傷、氣泡和微粒均不可存在，表面臟污許可值不可大于5um。步驟四、研磨使用氧化鈰(Ce02)粉末以水調(diào)和，其濃度為5~30%(w/v)(如10%，以1KG氧化鈰粉末調(diào)配10L的水)，以研磨方式，對(duì)光罩表面研磨10~30分鐘，借以將回收的光罩(PhotoMask)表面可能殘留的化學(xué)成份及異物去除，使其光罩底層表面(石英玻璃)確實(shí)完成清潔步驟。步驟五、洗凈、烘干將經(jīng)過研磨過程的光罩經(jīng)刷具(Bmsh)、海綿體(sponge)及風(fēng)刀，洗凈并烘步驟六、工藝檢驗(yàn)若檢驗(yàn)未符合規(guī)定則再次經(jīng)過步驟四、步驟五的流程。均合乎標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格的光罩，則判為良品。其檢驗(yàn)項(xiàng)目及標(biāo)準(zhǔn)如下:<table>tableseeoriginaldocumentpage6</column></row><table>當(dāng)經(jīng)過上述溶蝕、洗凈/烘干、工藝檢測(cè)、研磨、洗凈/烘干等工藝后，最后步驟的工藝檢測(cè)即對(duì)光罩表面狀態(tài)進(jìn)行嚴(yán)格檢驗(yàn)，同時(shí)檢驗(yàn)光罩的透光率、抗uv紫外線及其表面粗糙度是否合于規(guī)定。本發(fā)明借由經(jīng)搜尋及査閱國(guó)內(nèi)外已公開發(fā)表及核準(zhǔn)的專利案中，亦未見有與本發(fā)明申請(qǐng)專利范圍的內(nèi)容實(shí)質(zhì)相同或類似者，顯見本發(fā)明極具新穎性、創(chuàng)作性與實(shí)用性。權(quán)利要求1.一種光罩回收處理方法，其特征在于，其步驟為步驟一、溶蝕1-1將含金屬鉻膜的光罩置于溶蝕槽中浸泡處理，溶蝕槽內(nèi)含溶蝕液，令溶蝕液加熱到攝氏20～60℃后，光罩完全浸泡于溶蝕槽中10～20分鐘；1-2再將光罩浸泡于另一純水槽中，進(jìn)行約1分鐘純水浸泡清洗；1-3將光罩浸泡于另一含中和液的中和槽中，并令該中和液加熱到攝氏40～50℃后，將光罩浸泡于中和槽中約3分鐘；1-4最后將光罩浸泡于另一純水槽中，進(jìn)行約1分鐘純水浸泡清洗；步驟二、洗凈、烘干將經(jīng)過溶蝕后的光罩洗凈烘干；步驟三、工藝檢驗(yàn)檢測(cè)光罩的表面狀態(tài)；步驟四、研磨去除光罩表面可能殘留的化學(xué)成份及異物；步驟五、洗凈、烘干將經(jīng)過研磨后的光罩洗凈烘干；步驟六、工藝檢驗(yàn)若檢測(cè)未符合規(guī)定則再次經(jīng)過步驟四、步驟五的流程；檢驗(yàn)合格則為成品。2、如權(quán)利要求1所述的光罩回收處理方法，其特征在于，步驟1-1中，溶蝕液為硝酸銨鈰硝酸溶液Ce(NH4)2(N03)/HN03，濃度10%~25%(w/v)。3、如權(quán)利要求1所述的光罩回收處理方法，其特征在于，步驟1-1中，溶蝕液為過氯酸HC104，濃度10%~25%(w/v)。4、如權(quán)利要求1所述的光罩回收處理方法，其特征在于，步驟l-3中，中和液內(nèi)含氫氧化鈉NaOH、或氫氧化鉀KOH，濃度為5%~45%(w/v)。全文摘要本發(fā)明涉及一種去除金屬鉻膜后的光罩(PhotoMask)回收處理方法，其處理程序是將回收后含有金屬鉻膜的光罩經(jīng)過溶蝕去除光罩上的金屬鉻膜，并將光罩進(jìn)行洗凈烘干，再行檢測(cè)其光罩表面狀態(tài)，研磨并去除光罩表面可能殘留的化學(xué)成份及異物，之后將經(jīng)過研磨后的光罩洗凈烘干，最后檢驗(yàn)符合標(biāo)準(zhǔn)。經(jīng)過這些工藝步驟后，可使回收后的光罩再生成為具利用價(jià)值的產(chǎn)品。文檔編號(hào)G03F7/42GK101149570SQ20061012703公開日2008年3月26日申請(qǐng)日期2006年9月21日優(yōu)先權(quán)日2006年9月21日發(fā)明者陳志士申請(qǐng)人:英志企業(yè)股份有限公司