技術(shù)編號(hào)：2700945
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種適用于高科技半導(dǎo)體、面板制造產(chǎn)業(yè)等需使用光罩產(chǎn)業(yè)的工 藝，具體涉及廢棄光罩經(jīng)去除金屬鉻膜后，加以回收再生利用的方法。背景技術(shù)光罩(Photo Mask)是一種利用電子束曝光系統(tǒng)將鉻膜上的圖形制作在玻璃或 石英上的工具，該玻璃或石英上含有鉻膜(Cr)之處是光無法透過去的。以光罩使用于半導(dǎo)體工廠的制造過程為例，半導(dǎo)體或晶圓制造過程是由數(shù)百道 至上千道的工藝所構(gòu)成，重復(fù)著影印法、溶蝕、薄膜、擴(kuò)散、離子植入等等過程。 光罩就是使用在影印法工藝(Pho...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。