專利名稱：采用有機(jī)發(fā)光二極管陣列作為光源的曝光設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種曝光設(shè)備。更具體而言，本發(fā)明涉及一種這樣的曝光設(shè)備其允許從有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)發(fā)出的光束被聚焦，使得由光束產(chǎn)生的圖像在光敏介質(zhì)的表面上互相交疊。
背景技術(shù)：
曝光設(shè)備是一種使光束掃描到光敏介質(zhì)上以形成靜電潛像的設(shè)備，所述靜電潛像對(duì)應(yīng)于想要在電子照像成像設(shè)備中印刷出來(lái)的圖像。
根據(jù)光束掃描類型和光束掃描方式將曝光設(shè)備劃分為激光掃描型曝光設(shè)備和打印頭型曝光設(shè)備。
激光掃描型曝光設(shè)備是這樣一種曝光設(shè)備，其中，由光源發(fā)射的光束在沿光敏介質(zhì)的主掃描方向經(jīng)過(guò)時(shí)形成靜電潛像。
或者，打印頭型曝光設(shè)備是這樣一種曝光設(shè)備，其中，沿光敏介質(zhì)的縱長(zhǎng)方向布置發(fā)光源(LED或OLED)陣列，將從發(fā)光源發(fā)出的光束照射到光敏介質(zhì)上，以形成靜電潛像。
美國(guó)專利No.6816181B2公開(kāi)了打印頭曝光設(shè)備的一個(gè)例子。
圖1是相關(guān)技術(shù)的打印頭型曝光設(shè)備的示范性透視圖。圖2是沿圖1的A-A’線得到的曝光設(shè)備的截面的正視圖。
參考圖1和圖2，曝光設(shè)備10包括打印頭19、施加電壓的驅(qū)動(dòng)裝置52和輸出控制驅(qū)動(dòng)裝置52的控制信號(hào)的控制器50。
打印頭19具有有機(jī)電致發(fā)光(EL)元件陣列、透明基板12和微凸透鏡陣列16。
有機(jī)EL元件陣列設(shè)置于透明基板12的上側(cè)，每一有機(jī)EL元件沿透明基板12的縱長(zhǎng)方向間隔預(yù)定間隔。有機(jī)EL元件陣列包括多個(gè)相對(duì)于透明基板12的長(zhǎng)度方向垂直設(shè)置的透明電極20(用作陽(yáng)極)。有機(jī)化合物層22沿透明基板12的縱長(zhǎng)方向疊置于透明電極20上。金屬電極24(用作陰極)設(shè)置于有機(jī)化合物層22上。有機(jī)化合物層22、透明電極20和金屬電極24相互交疊的部分18起著發(fā)光的發(fā)光源的作用。
透明電極20在可見(jiàn)光的400-700nm的波長(zhǎng)范圍內(nèi)，具有超過(guò)50％的透光率。有機(jī)化合物層22可以是由一層構(gòu)成的發(fā)光層，或者可以包括除了發(fā)光層以外的其他層(例如，空穴注入層、空穴輸運(yùn)層、電子注入層和電子輸運(yùn)層)。
透明基板12設(shè)置于有機(jī)EL元件陣列和微凸透鏡陣列16之間，以便通過(guò)微凸透鏡陣列16透射從發(fā)光源18發(fā)射的光。
微凸透鏡陣列16沿縱長(zhǎng)方向設(shè)置于透明基板12的下側(cè)上。將對(duì)應(yīng)于多個(gè)發(fā)光源18的多個(gè)微凸透鏡陣列16設(shè)置為不互相交疊。微凸透鏡陣列16聚焦光，從而使穿過(guò)透明基板12的光被聚焦到光敏體14上，作為一個(gè)曝光束點(diǎn)(exposure spot)28。
在打印頭19中，沿打印頭19的主掃描方向，在兩個(gè)相鄰的發(fā)光源18之間形成了尺寸大于或等于發(fā)光源的尺寸的空間。因此，由相鄰發(fā)光源發(fā)出的、并通過(guò)微凸透鏡陣列16被聚焦到光敏體14上的光形成的曝光束點(diǎn)之間形成了尺寸大于或等于曝光束點(diǎn)28的尺寸的空隙。
因此，為了填充主掃描方向上曝光束點(diǎn)28之間的空間，打印頭19應(yīng)當(dāng)根據(jù)輸入圖像信號(hào)沿主掃描方向移動(dòng)與兩個(gè)相鄰的發(fā)光源18之間的空白空間相當(dāng)?shù)木嚯x。
因此，除了開(kāi)啟和關(guān)閉相應(yīng)的發(fā)光源18之外，還應(yīng)用向控制器50和驅(qū)動(dòng)裝置52添加沿主掃描方向移動(dòng)打印頭19以填充兩個(gè)相鄰的曝光束點(diǎn)28之間的空白空間的功能。因此，由于添加了機(jī)械元件，而使驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)自身變得復(fù)雜。而且，當(dāng)微透鏡與每一發(fā)光源18具有一對(duì)一的對(duì)應(yīng)關(guān)系時(shí)，難以控制焦距，并且聚焦深度短，因此，在安裝設(shè)備時(shí)，控制誤差敏感。
因此，存在對(duì)改進(jìn)的曝光設(shè)備的需求，在所述曝光設(shè)備中掃描到光敏體上的圖像相互交疊。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種曝光設(shè)備，其中，所述發(fā)光源是具有控制束擴(kuò)展器的OLED陣列，使得在將從發(fā)光源發(fā)射的光束聚作為曝光束點(diǎn)聚焦到光敏體上時(shí)，在曝光束點(diǎn)之間不形成空白空間。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，曝光設(shè)備將從沿光敏體的縱長(zhǎng)方向設(shè)置的打印頭發(fā)射的光束照射到光敏體上，以形成對(duì)應(yīng)于圖像的靜電潛像。所述打印頭包括具有多個(gè)發(fā)光源的OLED陣列。束擴(kuò)展器聚焦光束，使得對(duì)應(yīng)于所述多個(gè)發(fā)光源發(fā)射的光束且被聚焦到光敏體上的曝光束點(diǎn)相互交疊。
通過(guò)下文中與附圖相結(jié)合的公開(kāi)本發(fā)明的示范性實(shí)施例的詳細(xì)說(shuō)明，本發(fā)明的其他目的、優(yōu)點(diǎn)和特征將變得顯而易見(jiàn)。


通過(guò)參考附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的示范性實(shí)施例，本發(fā)明的上述和其他特征和優(yōu)點(diǎn)將變得更加顯見(jiàn)，在附圖中圖1是常規(guī)打印頭型曝光設(shè)備的示范性透視圖；圖2是沿圖1的A-A’線得到的曝光設(shè)備的截面的正視圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明示范性實(shí)施例的曝光設(shè)備和光敏體的截面的局部正視圖；圖4是圖3的打印頭的透視圖；以及圖5是沿圖4的B-B’線得到的截面的正視圖。
在所有附圖中，類似的附圖標(biāo)記將被理解為表示類似的部分、元件和結(jié)構(gòu)。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在將參考示出了本發(fā)明的示范性實(shí)施例的附圖對(duì)本發(fā)明予以更為充分地說(shuō)明。
參考圖3，將本發(fā)明的示范性實(shí)施例的曝光設(shè)備100安裝成與光敏體200間隔預(yù)定距離。
曝光設(shè)備100包括設(shè)置于殼110內(nèi)的印刷電路板(PCB)120，在殼110內(nèi)形成使光束能夠由其穿過(guò)的通過(guò)部分111。打印頭140安裝在PCB 120上，以發(fā)射光束。驅(qū)動(dòng)裝置130驅(qū)動(dòng)打印頭140以發(fā)射光束。
通過(guò)部分111具有窗150，所述窗150保護(hù)打印頭140免受外部影響，并使光束穿過(guò)其透射。
參考圖4和圖5，打印頭140具有OLED陣列141、透明基板145和光束擴(kuò)展器146。
OLED陣列141包括透明電極142、有機(jī)化合物層143和金屬電極144。
將透明電極142用作陽(yáng)極，在透明基板145的上側(cè)，相對(duì)于透明基板145的縱長(zhǎng)方向基本垂直地設(shè)置多個(gè)透明電極142。所述多個(gè)透明電極142沿透明基板145的縱長(zhǎng)方向間隔預(yù)定間隔。
沿透明基板145的縱長(zhǎng)方向疊置與透明電極142交疊的有機(jī)化合物層143。
金屬電極144被用作陰極，其設(shè)置于有機(jī)化合物層143上。
透明電極142、有機(jī)化合物層143和金屬電極144相互交疊的部分起著由有機(jī)化合物層143發(fā)射光束的發(fā)光源“e”的作用。多個(gè)發(fā)光源“e”沿透明基板145的縱長(zhǎng)方向彼此間隔預(yù)定距離。
透明電極142在可見(jiàn)光的400-700nm的波長(zhǎng)范圍內(nèi)具有超過(guò)50％的透光率。有機(jī)化合物層143可以是由一個(gè)層構(gòu)成的發(fā)光層，或者可以包括除了發(fā)光層以外的其他層(例如，空穴注入層、空穴輸運(yùn)層、電子注入層和電子輸運(yùn)層)。金屬電極144為具有小功函數(shù)的金屬，并且由堿金屬材料或諸如銀(Ag)或鋁(Al)的金屬材料的化合物形成。
透明基板145設(shè)置于OLED陣列141的下側(cè)上，以確保由發(fā)光源“e”發(fā)出的光束的路徑。
透明電極145包括多個(gè)凸面形狀，所述多個(gè)凸面形狀對(duì)應(yīng)于多個(gè)發(fā)光源“e”，并且相鄰布置而不相互交疊。從發(fā)光源“e”發(fā)出的光束在發(fā)散的同時(shí)向前傳播，并在穿過(guò)透明基板145的過(guò)程中被彎曲至匯聚方向。
根據(jù)本發(fā)明的示范性實(shí)施例，以多個(gè)凸面形狀形成透明基板145，但是透明基板145并不僅限于該形狀，可以將其修改成各種替換性形狀。
光束擴(kuò)展器146包括相互疊置并耦合的負(fù)透鏡陣列147、透明間隔體148和正透鏡陣列149。
負(fù)透鏡陣列147設(shè)置于透明基板145的下側(cè)，從而與透明基板145對(duì)應(yīng)。
透明間隔體148設(shè)置于負(fù)透鏡陣列147的下側(cè)，以確保穿過(guò)負(fù)透鏡陣列147的光束的路徑。
正透鏡陣列149設(shè)置于透明間隔體148的下側(cè)上，其將多個(gè)發(fā)光源“e”發(fā)出的光束聚焦到光敏體200的表面上，使得所得到的曝光束點(diǎn)160相互交疊。
正透鏡陣列149包括多個(gè)凸透鏡，所述多個(gè)凸透鏡對(duì)應(yīng)于相應(yīng)的發(fā)光源“e”，并且相鄰設(shè)置而不相互交疊。
使多個(gè)發(fā)光源“e”發(fā)出的光束在通過(guò)正透鏡陣列149之后，聚焦到光敏體200的表面上，使得多個(gè)曝光束點(diǎn)160可以相互交疊。因此，在多個(gè)曝光束點(diǎn)160之間未形成空白空間。
由于在本領(lǐng)域，通過(guò)耦合負(fù)透鏡陣列147、透明間隔體148和正透鏡陣列149制造光束擴(kuò)展器146的方法是已知的，因此在此省略了對(duì)其的說(shuō)明。
如上所述，本發(fā)明的示范性實(shí)施例的曝光設(shè)備具有下述效果。
首先，由于實(shí)施聚焦，使得曝光束點(diǎn)在光敏體上相互交疊，從而去除了曝光束點(diǎn)之間的空白空間，因此，打印頭無(wú)需移動(dòng)，因而簡(jiǎn)化了對(duì)它的控制和驅(qū)動(dòng)。
第二，由于減小了從發(fā)光源發(fā)出的光束的發(fā)散角，因此，增大了聚焦深度，并且由此顯著降低了由于發(fā)光源相對(duì)于光敏體的定位誤差導(dǎo)致的曝光束點(diǎn)尺寸的不均勻性。
雖然已經(jīng)參考本發(fā)明的示范性實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了具體的圖示和描述，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解，在不背離權(quán)利要求界定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可以在其中做出各種形式和細(xì)節(jié)方面的改變。
本申請(qǐng)要求于2005年8月16日在韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的韓國(guó)專利申請(qǐng)No.10-2005-0074928的權(quán)益，在此將其全文引入以供參考。
權(quán)利要求
1.一種曝光設(shè)備，用于將打印頭發(fā)射的光束照射到光敏體上，以形成與圖像對(duì)應(yīng)的靜電潛像，所述打印頭沿所述光敏體的縱長(zhǎng)方向設(shè)置，所述打印頭包括具有多個(gè)發(fā)光源的有機(jī)發(fā)光二極管陣列；以及束擴(kuò)展器，其聚焦光束，使得與所述多個(gè)發(fā)光源發(fā)射的光束對(duì)應(yīng)的曝光束點(diǎn)被聚焦到所述光敏體上并互相交疊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述束擴(kuò)展器包括負(fù)透鏡陣列；正透鏡陣列，其控制從所述多個(gè)發(fā)光源發(fā)射的光束，使之以預(yù)定尺寸相互交疊；以及透明間隔體，其設(shè)置在所述負(fù)透鏡陣列和所述正透鏡陣列之間，以確保光束的路徑。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，所述正透鏡陣列包括對(duì)應(yīng)于所述多個(gè)發(fā)光源的多個(gè)凸透鏡。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，所述多個(gè)凸透鏡鄰近布置，不相互交疊。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，在所述有機(jī)發(fā)光二極管陣列和所述負(fù)透鏡陣列之間設(shè)置透明基板。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中，所述透明基板具有與所述多個(gè)發(fā)光源對(duì)應(yīng)的多個(gè)凸形圖案。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其中，耦合所述負(fù)透鏡陣列，使之對(duì)應(yīng)于所述透明基板。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，將所述打印頭安裝于殼內(nèi)，在所述殼中形成有通過(guò)部分，光束穿過(guò)所述通過(guò)部分透射。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中，所述通過(guò)部分具有用于保護(hù)所述打印頭的窗。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述有機(jī)發(fā)光二極管陣列包括透明電極；有機(jī)化合物層；以及金屬電極。
11.一種成像設(shè)備，包括光敏體；曝光設(shè)備，其具有沿光敏體的縱長(zhǎng)方向設(shè)置的打印頭，所述曝光設(shè)備將所述打印頭發(fā)射的光束照射到所述光敏體上，以形成與圖像對(duì)應(yīng)的靜電潛像，所述打印頭包括具有多個(gè)發(fā)光源的有機(jī)發(fā)光二極管陣列；以及束擴(kuò)展器，其聚焦光束，使得與所述多個(gè)發(fā)光源發(fā)射的光束對(duì)應(yīng)的曝光束點(diǎn)被聚焦到所述光敏體上并互相交疊。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的成像設(shè)備，其中，所述束擴(kuò)展器包括負(fù)透鏡陣列；正透鏡陣列，其控制從所述多個(gè)發(fā)光源發(fā)射的光束，使之以預(yù)定尺寸相互交疊；以及透明間隔體，其設(shè)置在所述負(fù)透鏡陣列和所述正透鏡陣列之間，以確保光束的路徑。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的成像設(shè)備，其中，所述正透鏡陣列包括對(duì)應(yīng)于所述多個(gè)發(fā)光源的多個(gè)凸透鏡。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的成像設(shè)備，其中，所述多個(gè)凸透鏡鄰近布置，不相互交疊。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的成像設(shè)備，其中，在所述有機(jī)發(fā)光二極管陣列和所述負(fù)透鏡陣列之間設(shè)置透明基板。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的成像設(shè)備，其中，所述透明基板具有與所述多個(gè)發(fā)光源對(duì)應(yīng)的多個(gè)凸形圖案。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的成像設(shè)備，其中，耦合所述負(fù)透鏡陣列，使之對(duì)應(yīng)于所述透明基板。
18.根據(jù)權(quán)利要求11所述的成像設(shè)備，其中，將所述打印頭安裝于殼內(nèi)，在所述殼中形成有通過(guò)部分，光束穿過(guò)所述通過(guò)部分透射。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的成像設(shè)備，其中，所述通過(guò)部分具有用于保護(hù)所述打印頭的窗。
20.根據(jù)權(quán)利要求11所述的成像設(shè)備，其中，所述有機(jī)發(fā)光二極管陣列包括透明電極；有機(jī)化合物層；以及金屬電極。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種采用有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)陣列作為發(fā)光源的曝光設(shè)備。所述設(shè)備照射從沿光敏體的縱長(zhǎng)方向設(shè)置的打印頭發(fā)出的光束，以形成對(duì)應(yīng)于圖像的靜電潛像。所述打印頭具有OLED陣列和束擴(kuò)展器，在所述OLED陣列中形成了多個(gè)發(fā)光源，所述束擴(kuò)展器對(duì)光束聚焦，使得對(duì)應(yīng)于所述多個(gè)發(fā)光源發(fā)射的多個(gè)光束的曝光束點(diǎn)被聚焦到光敏體上，并且不互相交疊。
文檔編號(hào)G03G15/00GK1916779SQ20061010879
公開(kāi)日2007年2月21日 申請(qǐng)日期2006年8月16日 優(yōu)先權(quán)日2005年8月16日
發(fā)明者徐云鎬 申請(qǐng)人:三星電子株式會(huì)社