專利名稱：主動(dòng)元件陣列基板以及彩色濾光基板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一陣列基板的制作方法以及濾光基板的制作方法，特別是有關(guān)于一種液晶顯示器的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法以及彩色濾光基板的制作方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)今社會(huì)多媒體技術(shù)相當(dāng)發(fā)達(dá)，多半受惠于半導(dǎo)體元件或顯示裝置的進(jìn)步。就顯示器而言，具有高畫質(zhì)、空間利用效率佳、低消耗功率、無輻射等優(yōu)越特性的液晶顯示面板已逐漸成為市場(chǎng)的主流。一般的液晶面板主要是由兩片基板以及一配置于二基板間的液晶層所構(gòu)成。不論是主動(dòng)矩陣式液晶顯示器或者是被動(dòng)矩陣式液晶顯示器，兩片基板上都必須具有配向膜，此配向膜的主要功能在于對(duì)液晶分子進(jìn)行配向，而使得液晶分子會(huì)在兩片基板之間呈現(xiàn)特定的排列。
在常見的扭轉(zhuǎn)向列型(twisted nematic，TN)液晶顯示器中，配向膜的制作是在形成配向材料層之后，以研磨(rubbing)的方式進(jìn)行配向處理。詳細(xì)地說，操作人員是利用配置于滾輪(roller)上的配向布毛來對(duì)形成于一基板上的配向材料層進(jìn)行配向，以在配向材料層的表面上形成許多溝槽，而形成配向膜。這樣液晶分子便能沿著配向膜上的溝槽排列。
已知技術(shù)還有一種利用離子束的配向方法。此種配向方法是通過離子束以特定傾斜角轟擊(bombardment)配向材料層的表面來達(dá)成配向的效果。其方法是在配向材料層形成之后，先利用光刻工藝以形成一屏蔽而遮蔽部份區(qū)域并暴露另外的區(qū)域。然后，以離子束沿特定的方向入射至配向材料層的表面。有關(guān)于離子束配向方法的詳細(xì)資料可參照專利號(hào)US 6654089、US 6313896以及US 2003/0142257的專利文件。但是此種方式必須使用光刻工藝來形成掩膜，由于需使用光掩膜以及曝光工藝，因此工藝復(fù)雜且成本較高。
除了扭轉(zhuǎn)向列型液晶顯示器以外，另一種常見的顯示器就是多域垂直配向型(multi-domain vertical alignment，MVA)液晶顯示器。在廣視角的多域垂直配向液晶顯示器中，通常是在彩色濾光基板及/或薄膜晶體管陣列基板上制作多個(gè)突起物(protrusion)或狹縫(slit)圖案，由這些突起物以及狹縫圖案的作用，不同區(qū)域的液晶分子呈現(xiàn)出不同的排列，以達(dá)到廣視角的目的。然而，在突起物或狹縫圖案處附近，也常常由于電場(chǎng)不均勻，容易造成顯示不均(mura)的缺陷。此外，突起物與狹縫圖案的設(shè)計(jì)也會(huì)降低顯示面板的透光度及開口率。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，其可改善多域垂直配向型液晶顯示器的顯示不均現(xiàn)象，且可提高其透光度及開口率。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種彩色濾光基板的制作方法，其可改善多域垂直配向型液晶顯示器的顯示不均現(xiàn)象，且可提高其透光度及開口率。
為達(dá)上述目的，本發(fā)明提出一種主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，此方法包括下列步驟。首先，提供一基板。在基板上形成一像素陣列。在像素陣列上形成一配向材料層，此配向材料層上具有多數(shù)個(gè)配向區(qū)域。利用噴墨印刷工藝以在配向材料層上的一部份配向區(qū)域上形成一掩膜層，并暴露配向材料層上另一部份的配向區(qū)域。接著，對(duì)被暴露出來的配向材料層進(jìn)行一粒子束配向工藝。之后，移除掩膜層。利用噴墨印刷工藝以在已經(jīng)由粒子束配向的配向材料層上形成另一掩膜層，并暴露尚未經(jīng)粒子束配向的配向材料層。然后，對(duì)被暴露出來的配向材料層進(jìn)行另一粒子束配向工藝。移除另一掩膜層。
依照本發(fā)明一實(shí)施例所述的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，其中像素陣列包括多數(shù)個(gè)次像素，且每一次像素對(duì)應(yīng)到至少兩個(gè)配向區(qū)域。
依照本發(fā)明一實(shí)施例所述的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，其中像素陣列包括多數(shù)個(gè)次像素，且每一配向區(qū)域內(nèi)對(duì)應(yīng)有至少兩個(gè)次像素，而且對(duì)于每一配向區(qū)域而言，其配向方向會(huì)與鄰接于此配向區(qū)域四周的其它配向區(qū)域的配向方向不同。
依照本發(fā)明一實(shí)施例所述的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，其中像素陣列包括多數(shù)個(gè)次像素，且每一配向區(qū)域內(nèi)對(duì)應(yīng)有一個(gè)次像素，而且對(duì)于每一配向區(qū)域而言，其配向方向會(huì)與鄰接于此配向區(qū)域四周的其它配向區(qū)域的配向方向不同。
依照本發(fā)明一實(shí)施例所述的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，上述的兩粒子束配向工藝的配向方向不同。
依照本發(fā)明一實(shí)施例所述的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，上述的掩膜層的材質(zhì)包括有機(jī)材質(zhì)。
依照本發(fā)明一實(shí)施例所述的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，其中上述所形成的配向材料層上具有一第一配向區(qū)域、一第二配向區(qū)域、一第三配向區(qū)域以及一第四配向區(qū)域。在形成此配向材料層后，利用噴墨印刷工藝以在配向材料層的第二、第三以及第四配向區(qū)域中形成一第一掩膜層，并暴露出配向材料層的第一配向區(qū)域。對(duì)配向材料層的第一配向區(qū)域進(jìn)行一第一粒子束配向工藝。移除第一掩膜層。接著，利用噴墨印刷工藝以在配向材料層的第一、第三以及第四配向區(qū)域中形成一第二掩膜層，并暴露出配向材料層的第二配向區(qū)域。對(duì)配向材料層的第二配向區(qū)域進(jìn)行一第二粒子束配向工藝。移除第二掩膜層。之后，利用噴墨印刷工藝以在配向材料層的第一、第二以及第四配向區(qū)域中形成一第三掩膜層，并暴露出配向材料層的第三配向區(qū)域。對(duì)配向材料層的第三配向區(qū)域進(jìn)行一第三粒子束配向工藝。移除第三掩膜層。然后，利用噴墨印刷工藝以在配向材料層的第一、第二以及第三配向區(qū)域中形成一第四掩膜層，并暴露出配向材料層的第四配向區(qū)域。對(duì)配向材料層的第四配向區(qū)域進(jìn)行一第四粒子束配向工藝。移除第四掩膜層。
依照本發(fā)明一實(shí)施例所述的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，其中第一配向區(qū)域、第二配向區(qū)域、第三配向區(qū)域以及第四配向區(qū)域的配向方向皆不相同。
依照本發(fā)明一實(shí)施例所述的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，其中配向材料層的材質(zhì)包括聚亞酰胺、聚酰胺、聚乙烯醇、PVC、類鉆石碳膜、碳化硅、氧化硅、氮化硅、氧化鋁或氧化錫。
依照本發(fā)明一實(shí)施例所述的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，其中在形成像素陣列之后，更包括在像素陣列上形成一絕緣層，且此絕緣層具有多數(shù)個(gè)凹陷區(qū)，每一凹陷區(qū)會(huì)與其中一配向區(qū)域?qū)?yīng)。
本發(fā)明又提出一種彩色濾光基板的制作方法，此彩色濾光基板的制作方法包括下列步驟。首先，提供一基板。在基板上形成一彩色濾光陣列。在彩色濾光陣列上形成一配向材料層，此配向材料層上具有多數(shù)個(gè)配向區(qū)域。利用噴墨印刷工藝以在配向材料層上的一部份配向區(qū)域上形成一掩膜層，并暴露配向材料層上另一部份的配向區(qū)域。接著，對(duì)被暴露出來的配向材料層進(jìn)行一粒子束配向工藝。之后，移除掩膜層。利用噴墨印刷工藝以在已經(jīng)由粒子束配向的配向材料層上形成另一掩膜層，并暴露尚未經(jīng)粒子束配向的配向材料層。然后，對(duì)被暴露出來的配向材料層進(jìn)行另一粒子束配向工藝。移除另一掩膜層。
依照本發(fā)明一實(shí)施例所述的彩色濾光基板的制作方法，其中彩色濾光陣列包括多數(shù)個(gè)彩色濾光圖案，且每一彩色濾光圖案對(duì)應(yīng)到至少兩個(gè)配向區(qū)域。
依照本發(fā)明一實(shí)施例所述的彩色濾光基板的制作方法，上述的彩色濾光陣列包括多數(shù)個(gè)彩色濾光圖案，且每一配向區(qū)域內(nèi)對(duì)應(yīng)有至少兩個(gè)彩色濾光圖案，而且對(duì)于每一配向區(qū)域而言，其配向方向會(huì)與鄰接于此配向區(qū)域四周的其它配向區(qū)域的配向方向不同。
依照本發(fā)明一實(shí)施例所述的彩色濾光基板的制作方法，上述的彩色濾光陣列包括多數(shù)個(gè)彩色濾光圖案，且每一配向區(qū)域內(nèi)對(duì)應(yīng)有一個(gè)彩色濾光圖案，而且對(duì)于每一配向區(qū)域而言，其配向方向會(huì)與鄰接于此配向區(qū)域四周的其它配向區(qū)域的配向方向不同。
依照本發(fā)明一實(shí)施例所述的彩色濾光基板的制作方法，上述的兩粒子束配向工藝的配向方向不同。
依照本發(fā)明一實(shí)施例所述的彩色濾光基板的制作方法，上述的掩膜層的材質(zhì)包括有機(jī)材質(zhì)。
依照本發(fā)明一實(shí)施例所述的彩色濾光基板的制作方法，其中上述所形成的配向材料層上具有一第一配向區(qū)域、一第二配向區(qū)域、一第三配向區(qū)域以及一第四配向區(qū)域。在形成此配向材料層后，利用噴墨印刷工藝以在配向材料層的第二、第三以及第四配向區(qū)域中形成一第一掩膜層，并暴露出配向材料層的第一配向區(qū)域。對(duì)配向材料層的第一配向區(qū)域進(jìn)行一第一粒子束配向工藝。移除第一掩膜層。接著，利用噴墨印刷工藝以在配向材料層的第一、第三以及第四配向區(qū)域中形成一第二掩膜層，并暴露出配向材料層的第二配向區(qū)域。對(duì)配向材料層的第二配向區(qū)域進(jìn)行一第二粒子束配向工藝。移除第二掩膜層。之后，利用噴墨印刷工藝以在配向材料層的第一、第二以及第四配向區(qū)域中形成一第三掩膜層，并暴露出配向材料層的第三配向區(qū)域。對(duì)配向材料層的第三配向區(qū)域進(jìn)行一第三粒子束配向工藝。移除第三掩膜層。然后，利用噴墨印刷工藝以在配向材料層的第一、第二以及第三配向區(qū)域中形成一第四掩膜層，并暴露出配向材料層的第四配向區(qū)域。對(duì)配向材料層的第四配向區(qū)域進(jìn)行一第四粒子束配向工藝。移除第四掩膜層。
依照本發(fā)明一實(shí)施例所述的彩色濾光基板的制作方法，上述的第一配向區(qū)域、第二配向區(qū)域、第三配向區(qū)域以及第四配向區(qū)域的配向方向皆不相同。
依照本發(fā)明一實(shí)施例所述的彩色濾光基板的制作方法，上述的配向材料層的材質(zhì)包括聚亞酰胺、聚酰胺、聚乙烯醇、PVC、類鉆石碳膜、碳化硅、氧化硅、氮化硅、氧化鋁或氧化錫。
依照本發(fā)明一實(shí)施例所述的彩色濾光基板的制作方法，其中形成上述的彩色濾光陣列的方法包括在基板上形成一黑矩陣層以及于黑矩陣層的圖案之間形成多個(gè)彩色濾光圖案，其中黑矩陣層的厚度大于彩色濾光圖案的厚度。
本發(fā)明的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法以及彩色濾光基板的制作方法中，配向膜的配向方法是利用噴墨印刷工藝在特定區(qū)域形成掩膜層。相較于傳統(tǒng)以光刻工藝形成掩膜層，本發(fā)明的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法以及彩色濾光基板的制作方法具有簡(jiǎn)單以及成本低的優(yōu)點(diǎn)。而所制作出的主動(dòng)元件陣列基板與彩色濾光基板不但可用于組裝一液晶顯示面板，以使液晶分子往不同的方向排列，因此本發(fā)明不需使用狹縫圖案或突起物的設(shè)計(jì)，即可以使液晶顯示面板達(dá)到廣視角的目的。而且利用本發(fā)明的主動(dòng)元件陣列基板與/或彩色濾光基板組裝成的液晶顯示面板具有較高的開口率及透光度且不易有顯示不均的現(xiàn)象產(chǎn)生。


圖1A至圖10本發(fā)明一實(shí)施例的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法流程圖。
圖2A至圖2D本發(fā)明一實(shí)施例的彩色濾光基板的制作方法簡(jiǎn)化流程圖。
圖3彩色濾光基板的制作方法中對(duì)第一配向區(qū)域進(jìn)行配向的步驟的剖面示意圖。
附圖標(biāo)號(hào)
200配向材料層212第一配向區(qū)域214第二配向區(qū)域216第三配向區(qū)域218第四配向區(qū)域310第一掩膜層320第二掩膜層330第三掩膜層340第四掩膜層40粒子束500配向膜100基板600像素陣列600a、800a次像素620絕緣層622凹陷區(qū)700主動(dòng)元件陣列基板800彩色濾光陣列810黑矩陣層820彩色濾光圖案900彩色濾光基板D1第一方向D2第二方向D3第三方向D4第四方向R1第一配向方向
R2第二配向方向R3第三配向方向R4第四配向方向具體實(shí)施方式
圖1A至圖10繪示本發(fā)明一實(shí)施例的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法流程圖。為了清楚表達(dá)此主動(dòng)元件陣列基板的制作方法的流程，部分圖標(biāo)會(huì)同時(shí)顯示出俯視圖及其剖面圖。請(qǐng)先參照?qǐng)D1A，主動(dòng)元件陣列基板的制作方法是先提供一基板100，此基板100例如為一玻璃基板、石英基板或是其它適當(dāng)材料的基板。
請(qǐng)參照?qǐng)D1B，在基板100上形成一像素陣列600。其中，此像素陣列600包括多個(gè)次像素600a。而在形成像素陣列600之后，更包括在像素陣列600上形成一絕緣層620。在一較佳實(shí)施例中，絕緣層620具有多數(shù)個(gè)凹陷區(qū)622。
請(qǐng)參照?qǐng)D1C，在像素陣列600上形成一配向材料層200，此配向材料層200的材質(zhì)例如為聚亞酰胺、聚酰胺(polyamide)、聚乙烯醇、PVC、類鉆石碳膜(diamond like carbon，DLC)、碳化硅(SiC)、氧化硅(SiO2)、氮化硅(Si3N4)、氧化鋁(Al2O3)、氧化錫(SnO2)或其它適當(dāng)材質(zhì)。此配向材料層200具有一第一配向區(qū)域212、一第二配向區(qū)域214、一第三配向區(qū)域216以及一第四配向區(qū)域218。更詳細(xì)而言，每一次像素600a對(duì)應(yīng)至少兩個(gè)配向區(qū)域，而在本實(shí)施例中每一次像素600a對(duì)應(yīng)第一配向區(qū)域212、第二配向區(qū)域214、第三配向區(qū)域216以及第四配向區(qū)域218。此外，每一凹陷區(qū)622會(huì)與其中一配向區(qū)域?qū)?yīng)。
值得一提的是，本發(fā)明除了在每一次像素設(shè)計(jì)至少兩配向區(qū)域之外，也可以設(shè)計(jì)在每一配向區(qū)域內(nèi)對(duì)應(yīng)有至少兩個(gè)次像素，而且對(duì)于每一配向區(qū)域而言，其配向方向會(huì)與鄰接于此配向區(qū)域四周的其它配向區(qū)域的配向方向不同。依照本發(fā)明的另一實(shí)施例，還可以是在每一配向區(qū)域內(nèi)僅對(duì)應(yīng)配置有一個(gè)次像素，而且對(duì)于每一配向區(qū)域而言，其配向方向會(huì)與鄰接于此配向區(qū)域四周的其它配向區(qū)域的配向方向不同。
然后，請(qǐng)參照?qǐng)D1D至圖10，利用噴墨印刷工藝以及粒子束配向工藝分別對(duì)配向材料層200的第一配向區(qū)域212、第二配區(qū)域214、第三配向區(qū)域216以及第四配向區(qū)域218進(jìn)行配向，其詳細(xì)的步驟敘述如下。
如圖1D所示，利用一噴墨印刷工藝，在配向材料層200的第二配向區(qū)域214、第三配向區(qū)域216以及第四配向區(qū)域218上形成一第一掩膜層310，并暴露配向材料層200上的第一配向區(qū)域212。此第一掩膜層310的材質(zhì)例如為有機(jī)材質(zhì)或是其它適當(dāng)?shù)牟馁|(zhì)。
如圖1E所示，接著，利用一粒子束40沿著一第一方向D1轟擊配向材料層200的表面，以對(duì)被暴露出來的配向材料層200的第一配向區(qū)域212進(jìn)行一粒子束配向工藝。粒子束40例如為離子束或原子束等。
如圖1F所示，當(dāng)進(jìn)行完粒子束配向工藝后，第一配向區(qū)域212便具有一第一配向方向R1。之后，移除第一掩膜層310。移除第一掩膜層310的方法例如是使用濕刻蝕工藝將第一掩膜層310剝除，而濕刻蝕所采用的配方例如是硫酸水溶液、含臭氧的硫酸、含臭氧的水溶液或其它適當(dāng)?shù)娜芤?。然而，移除第一掩膜?10的方法并不限定為濕刻蝕。
如圖1G所示，利用噴墨印刷工藝，在配向材料層200的第一配向區(qū)域212、第三配向區(qū)域216以及第四配向區(qū)域218上形成一第二掩膜層320，并暴露配向材料層200上的第二配向區(qū)域214。其中，第二掩膜層320的材質(zhì)例如與第一掩膜層310的材質(zhì)相同。
如圖1H所示，接著，以粒子束40沿著一第二方向D2轟擊配向材料層200的表面，以對(duì)被暴露出來的配向材料層200的第二配向區(qū)域214進(jìn)行一粒子束配向工藝。
如圖1I所示，在完成粒子束配向工藝后，第二配向區(qū)域214會(huì)具有一第二配向方向R2。之后，移除第二掩膜層320。
如圖1J所示，利用噴墨印刷工藝，在配向材料層200的第一配向區(qū)域212、第二配向區(qū)域214以及第四配向區(qū)域218上形成一第三掩膜層330，并暴露配向材料層200上的第三配向區(qū)域216。其中，第三掩膜層330的材質(zhì)例如與第一掩膜層310的材質(zhì)相同。
如圖1K所示，以粒子束40沿著一第三方向D3轟擊配向材料層200的表面，以對(duì)于被暴露出來的配向材料層200的第三配向區(qū)域216進(jìn)行一粒子束配向工藝。
如圖1L所示，在完成粒子束配向工藝后，第三配向區(qū)域216即具有一第三配向方向R3。之后，移除第三掩膜層330。
如圖1M所示，利用噴墨印刷工藝，在配向材料層200的第一配向區(qū)域212、第二配向區(qū)域214以及第三配向區(qū)域216上形成一第四掩膜層340，并暴露配向材料層200上的第四配向區(qū)域218。其中，第四掩膜層340的材質(zhì)例如與第一掩膜層310的材質(zhì)相同。
如圖1N所示，以粒子束40沿著一第四方向D4轟擊配向材料層200的表面，以便對(duì)被暴露出來的配向材料層200的第四配向區(qū)域218進(jìn)行一粒子束配向工藝。
如圖10所示，在完成粒子束配向工藝后，第四配向區(qū)域218即具有一第四配向方向R4。然后，移除第四掩膜層340。
在完成上述步驟后，主動(dòng)元件陣列基板700即可形成。需注意的是，上述的步驟中，粒子束40是沿著不同的方向入射至配向材料層200的表面，因此第一方向D1、第二方向D2、第三方向D 3以及第四方向D4皆不相同。此外，第一配向區(qū)域212、第二配向區(qū)域214、第三配向區(qū)域216以及第四配向區(qū)域218的配向方向皆不相同。換言之，第一配向方向R1、第二配向方向R2、第三配向方向R3以及第四配向方向R4皆不相同。
本實(shí)施例中，配向膜的配向方法是利用噴墨印刷工藝形成第一掩膜層310、第二掩膜層320、第三掩膜層330以及第四掩膜層340，以分別對(duì)于第一配向區(qū)域212、第二配向區(qū)域214、第三配向區(qū)域216以及第四配向區(qū)域218進(jìn)行粒子束配向。由于利用噴墨印刷工藝可在特定區(qū)域形成掩膜層，故本實(shí)施例的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法相較于傳統(tǒng)方式較為簡(jiǎn)單且成本低。
值得一提的是，由于此絕緣層620具有多數(shù)個(gè)凹陷區(qū)622(如圖1C所示)，且每一凹陷區(qū)622與其中一配向區(qū)域?qū)?yīng)。因此，在進(jìn)行噴墨印刷工藝以在特定配向區(qū)域形成掩膜層時(shí)，噴墨印刷工藝所噴出的有機(jī)材質(zhì)由于凹陷區(qū)周圍有檔墻作用因而不會(huì)擴(kuò)散至要進(jìn)行粒子束配向的配向區(qū)域。舉一例來說，在圖1E為上述配向工藝中對(duì)第一配向區(qū)域212進(jìn)行配向的步驟的剖面示意圖。當(dāng)以噴墨印刷工藝形成第一掩膜層310時(shí)，第一掩膜層310不會(huì)擴(kuò)不會(huì)散至將要進(jìn)行粒子束配向的第一配向區(qū)域212。
另外，也值得注意的是，在圖10中，由于第一、第二、第三與第四配向區(qū)域212、214、216、218內(nèi)的配向方向不同，因此若將此主動(dòng)元件陣列基板700與另一基板組裝成一液晶顯示面板(未繪示)，則不同配向區(qū)域上方的液晶分子會(huì)往不同的方向排列，故可使液晶顯示面板具有較大的視角范圍，而達(dá)到廣視角的目的。此外，由于主動(dòng)元件陣列基板700上的像素電極不需使用狹縫圖案或突起物的設(shè)計(jì)，即可以使液晶顯示面板達(dá)到廣視角的目的。因此，利用主動(dòng)元件陣列基板700組裝成的液晶顯示面板不易出現(xiàn)顯示不均(mura)的現(xiàn)象，且具有較高的透光度及開口率。
需注意的是，在本實(shí)施例中，主動(dòng)元件陣列基板的制作方法雖以具有四個(gè)配向區(qū)域的配向膜500進(jìn)行說明，但本發(fā)明所提出的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法并不限定只能制作具有四個(gè)配向區(qū)域的配向膜500。另外，每一次像素600a也不限定對(duì)應(yīng)四個(gè)配向區(qū)域。
也需注意的是，上述的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法中包括了在像素陣列上形成一絕緣層620，且此絕緣層620中形成有許多的凹陷圖案622。然而，本發(fā)明的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法并不限定要形成具有凹陷圖案622的絕緣層620，也不限定一定要在像素陣列上形成絕緣層。倘若本發(fā)明的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法中所形成的絕緣層不包含有凹陷圖案，甚至是沒有形成此絕緣層，則在進(jìn)行噴墨印刷工藝以在特定配向區(qū)域形成掩膜層時(shí)，所噴出的有機(jī)材質(zhì)的擴(kuò)散可能會(huì)使所形成的掩膜層邊緣的輪廓不均勻，而可能導(dǎo)致配向區(qū)域的邊緣處配向不完整。然而，當(dāng)此主動(dòng)元件陣列基板(未繪示)組裝成一液晶顯示面板(未繪示)后，由于各配向區(qū)域的邊緣處上方會(huì)對(duì)應(yīng)到彩色濾光基板(未繪示)的黑矩陣層，因而可以使得配向不完整的配向區(qū)域邊緣處得以被遮蔽住。因此，所組裝成的液晶顯示面板的顯示品質(zhì)不會(huì)受到影響。
圖2A至圖2D繪示本發(fā)明一實(shí)施例的彩色濾光基板的制作方法簡(jiǎn)化流程圖。為了清楚表達(dá)此主動(dòng)元件陣列基板的制作方法的流程，部份圖標(biāo)會(huì)同時(shí)顯示出俯視圖及其剖面圖。請(qǐng)先參照?qǐng)D2A，彩色濾光基板的制作方法是先提供一基板100。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D2B，在基板100上形成一彩色濾光陣列800。其中，形成該彩色濾光陣列800的方法包括在基板100上形成一黑矩陣層810以及于黑矩陣層810的圖案之間形成多個(gè)彩色濾光圖案820，以形成多數(shù)個(gè)次像素800a，其中黑矩陣層810的厚度例如大于彩色濾光圖案820的厚度。在一實(shí)施例中，是先形成黑矩陣層810之后再形成彩色濾光圖案820。當(dāng)然，本發(fā)明也可以先形成彩色濾光圖案，之后再形成黑矩陣層。
請(qǐng)參照?qǐng)D2C，在彩色濾光陣列800上形成一配向材料層200，此配向材料層200與前述相同，且每一彩色濾光圖案820對(duì)應(yīng)到至少兩個(gè)配向區(qū)域，而在本實(shí)施例中每一彩色濾光圖案820對(duì)應(yīng)到第一配向區(qū)域212、第二配向區(qū)域214、第三配向區(qū)域216以及第四配向區(qū)域218。即每一次像素800a對(duì)應(yīng)到第一配向區(qū)域212、第二配向區(qū)域214、第三配向區(qū)域216以及第四配向區(qū)域218。
值得一提的是，本發(fā)明除了在每一彩色濾光圖案設(shè)計(jì)至少兩配向區(qū)域之外，也可以設(shè)計(jì)在每一配向區(qū)域內(nèi)對(duì)應(yīng)有至少兩個(gè)彩色濾光圖案，而且對(duì)于每一配向區(qū)域而言，其配向方向會(huì)與鄰接于此配向區(qū)域四周的其它配向區(qū)域的配向方向不同。依照本發(fā)明的另一實(shí)施例，還可以是在每一配向區(qū)域內(nèi)僅對(duì)應(yīng)配置有一個(gè)彩色濾光圖案，而且對(duì)于每一配向區(qū)域而言，其配向方向會(huì)與鄰接于此配向區(qū)域四周的其它配向區(qū)域的配向方向不同。
然后，利用噴墨印刷工藝與粒子束配向工藝，對(duì)于配向材料層200的第一配向區(qū)域212、第二配區(qū)域214、第三配向區(qū)域216以及第四配向區(qū)域218進(jìn)行配向，以形成配向膜500。配向的方法也與上述圖1D至圖10所繪示的方法相同，在此不再贅述，僅以圖2D繪示出完成的配向膜500以及彩色濾光基板900。特別要注意的是，黑矩陣層810的厚度大于彩色濾光圖案820的厚度。因此，在進(jìn)行噴墨印刷工藝以在特定配向區(qū)域形成掩膜層時(shí)，所噴出的有機(jī)材質(zhì)會(huì)由于黑矩陣層810的檔墻作用而不會(huì)從相鄰配向區(qū)域擴(kuò)散至要進(jìn)行粒子束配向的配向區(qū)域。舉一例來說，在圖3為上述配向工藝中對(duì)第一配向區(qū)域212進(jìn)行配向的步驟的剖面示意圖。當(dāng)以噴墨印刷工藝形成第一掩膜層310時(shí)，黑矩陣層810的高度可發(fā)揮檔墻的作用，以防止第一掩膜層310從相鄰第四配向區(qū)域218擴(kuò)散至要進(jìn)行粒子束配向的第一配向區(qū)域212。
值得注意的是，在圖2D中，由于第一、第二、第三與第四配向區(qū)域212、214、216、218內(nèi)的配向方向皆不相同，若將此彩色濾光基板900與另一基板組裝成一液晶顯示面板(未繪示)，則組裝成的液晶顯示面板也將具有較大的視角范圍。另外，由于彩色濾光基板900不需使用突起物或狹縫圖案的設(shè)計(jì)便可使液晶顯示面板達(dá)到廣視角的目的，因此利用彩色濾光基板900組裝成的液晶顯示面板不易有顯示不均的現(xiàn)象，且也具有較高的透光度及開口率。
類似地，本實(shí)施例中，彩色濾光基板的制作方法是以形成四個(gè)配向區(qū)域的配向膜500的例子進(jìn)行說明。然而，本發(fā)明所提出的彩色濾光基板的制作方法并不限定形成具有四個(gè)配向區(qū)域的配向膜500。另外，每一彩色濾光圖案820也不限定對(duì)應(yīng)四個(gè)配向區(qū)域。
在上述的彩色濾光基板的制作方法中，所形成的黑矩陣層810的厚度大于彩色濾光圖案820的厚度。然而，本發(fā)明的彩色濾光基板的制作方法并不限定要形成厚度大于彩色濾光圖案820的黑矩陣層810。在另一實(shí)施例中，黑矩陣層810與彩色濾光圖案820可具有相似厚度。而在進(jìn)行噴墨印刷工藝以在特定配向區(qū)域形成掩膜層時(shí)，所噴出的有機(jī)材質(zhì)會(huì)因?yàn)閿U(kuò)散而使掩膜層邊緣的輪廓不均勻，使得配向區(qū)域邊緣處可能配向不完整。然而，由于配向區(qū)域的邊緣處會(huì)對(duì)應(yīng)到黑矩陣層810所在的位置，因而可以使得配向不完整的配向區(qū)域邊緣處得以被遮蔽住。因此，當(dāng)此彩色濾光基板(未繪示)組裝成一液晶顯示面板(未繪示)后，此液晶顯示面板的顯示品質(zhì)不會(huì)受到影響。
綜上所述，本發(fā)明所提出的配向膜的配向方法、主動(dòng)元件陣列基板的制作方法以及彩色濾光基板的制作方法至少具有下列優(yōu)點(diǎn)一、本發(fā)明所提出的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法以及彩色濾光基板的制作方法中，配向膜配向方法是利用噴墨印刷工藝形成掩膜層。由于利用噴墨印刷工藝可在特定區(qū)域形成掩膜層，故本發(fā)明所提出的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法以及彩色濾光基板的制作方法相較于傳統(tǒng)方式較為簡(jiǎn)單且成本低。
二、本發(fā)明的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法采用上述配向膜的配向方法形成配向膜，所制作出的主動(dòng)元件陣列基板可用于組裝一液晶顯示面板。由于主動(dòng)元件陣列基板不需使用凹陷圖案或突起物的設(shè)計(jì)，即可以使液晶顯示面板達(dá)到廣視角的目的。因此，利用此主動(dòng)元件陣列基板組裝成的液晶顯示面板不易出現(xiàn)顯示不均的現(xiàn)象，且具有較高的透光度及開口率。
三、本發(fā)明的彩色濾光基板的制作方法采用上述配向膜的配向方法形成配向膜，所制作出的彩色濾光基板可用于組裝一液晶顯示面板。由于此彩色濾光基板不具有突起物的設(shè)計(jì)，便可使液晶顯示面板達(dá)到廣視角的目的。因此，利用此彩色濾光基板裝成的液晶顯示面板不會(huì)有顯示不均的現(xiàn)象，且也具有較高的透光度及開口率。
雖然本發(fā)明已以具體實(shí)施例揭示，但其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的構(gòu)思和范圍的前提下所作出的等同組件的置換，或依本發(fā)明專利保護(hù)范圍所作的等同變化與修飾，皆應(yīng)仍屬本專利涵蓋之范疇。
權(quán)利要求
1.一種主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，其特征在于包括提供一基板；在該基板上形成一像素陣列；在該像素陣列上形成一配向材料層，該配向材料層上具有多數(shù)個(gè)配向區(qū)域；利用噴墨印刷工藝以在該配向材料層上的一部份配向區(qū)域上形成一掩膜層，并暴露該配向材料層上另一部份的配向區(qū)域；對(duì)被暴露出來的該配向材料層進(jìn)行一粒子束配向工藝；移除該掩膜層；利用噴墨印刷工藝以在已經(jīng)由該粒子束配向的該配向材料層上形成另一掩膜層，并暴露尚未經(jīng)該粒子束配向的該配向材料層；對(duì)被暴露出來的該配向材料層進(jìn)行另一粒子束配向工藝；移除該另一掩膜層。
2.如權(quán)利要求1所述的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，其特征在于該像素陣列包括多數(shù)個(gè)次像素，且每一次像素對(duì)應(yīng)到至少兩個(gè)配向區(qū)域。
3.如權(quán)利要求1所述的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，其特征在于該像素陣列包括多數(shù)個(gè)次像素，且每一配向區(qū)域內(nèi)對(duì)應(yīng)有至少兩個(gè)次像素，而且對(duì)于每一配向區(qū)域而言，其配向方向會(huì)與鄰接于該配向區(qū)域四周的其它配向區(qū)域的配向方向不同。
4.如權(quán)利要求1所述的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，其特征在于該像素陣列包括多數(shù)個(gè)次像素，且每一配向區(qū)域內(nèi)對(duì)應(yīng)有一個(gè)次像素，而且對(duì)于每一配向區(qū)域而言，其配向方向會(huì)與鄰接于該配向區(qū)域四周的其它配向區(qū)域的配向方向不同。
5.如權(quán)利要求1所述的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，其特征在于上述兩粒子束配向工藝的配向方向不同。
6.如權(quán)利要求1所述的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，其特征在于該些掩膜層的材質(zhì)包括有機(jī)材質(zhì)。
7.如權(quán)利要求1所述的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，其特征在于所形成的該配向材料層上具有一第一配向區(qū)域、一第二配向區(qū)域、一第三配向區(qū)域以及一第四配向區(qū)域；利用噴墨印刷工藝以在該配向材料層的該第二、第三以及第四配向區(qū)域中形成一第一掩膜層，并暴露出該配向材料層的該第一配向區(qū)域；對(duì)該配向材料層的該第一配向區(qū)域進(jìn)行一第一粒子束配向工藝；移除該第一掩膜層；利用噴墨印刷工藝以在該配向材料層的該第一、第三以及第四配向區(qū)域中形成一第二掩膜層，并暴露出該配向材料層的該第二配向區(qū)域；對(duì)該配向材料層的該第二配向區(qū)域進(jìn)行一第二粒子束配向工藝；移除該第二掩膜層；利用噴墨印刷工藝以在該配向材料層的該第一、第二以及第四配向區(qū)域中形成一第三掩膜層，并暴露出該配向材料層的該第三配向區(qū)域；對(duì)該配向材料層的該第三配向區(qū)域進(jìn)行一第三粒子束配向工藝；移除該第三掩膜層；利用噴墨印刷工藝以在該配向材料層的該第一、第二以及第三配向區(qū)域中形成一第四掩膜層，并暴露出該配向材料層的該第四配向區(qū)域；對(duì)該配向材料層的該第四配向區(qū)域進(jìn)行一第四粒子束配向工藝；以及移除該第四掩膜層。
8.如權(quán)利要求7所述的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，其特征在于該第一配向區(qū)域、該第二配向區(qū)域、該第三配向區(qū)域以及該第四配向區(qū)域的配向方向皆不相同。
9.如權(quán)利要求1所述的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，其特征在于該配向材料層的材質(zhì)包括聚亞酰胺、聚酰胺、聚乙烯醇、PVC、類鉆石碳膜、碳化硅、氧化硅、氮化硅、氧化鋁或氧化錫。
10.如權(quán)利要求1所述的主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，其特征在于在形成該像素陣列之后，更包括在該像素陣列上形成一絕緣層，且該絕緣層具有多數(shù)個(gè)凹陷區(qū)，每一凹陷區(qū)會(huì)與其中一配向區(qū)域?qū)?yīng)。
11.一種彩色濾光基板的制作方法，其特征在于包括提供一基板；在該基板上形成一彩色濾光陣列；在該彩色濾光陣列上形成一配向材料層，該配向材料層上具有多數(shù)個(gè)配向區(qū)域；利用噴墨印刷工藝以在該配向材料層上的一部份配向區(qū)域上形成一掩膜層，并暴露該配向材料層上另一部份的配向區(qū)域；對(duì)被暴露出來的該配向材料層進(jìn)行一粒子束配向工藝；移除該掩膜層；利用噴墨印刷工藝以在已經(jīng)由該粒子束配向的該配向材料層上形成另一掩膜層，并暴露尚未經(jīng)該粒子束配向的該配向材料層；對(duì)被暴露出來的該配向材料層進(jìn)行另一粒子束配向工藝；移除該另一掩膜層。
12.如權(quán)利要求11所述的彩色濾光基板的制作方法，其特征在于該彩色濾光陣列包括多數(shù)個(gè)彩色濾光圖案，且每一彩色濾光圖案對(duì)應(yīng)到至少兩個(gè)配向區(qū)域。
13.如權(quán)利要求11所述的彩色濾光基板的制作方法，其特征在于該彩色濾光陣列包括多數(shù)個(gè)彩色濾光圖案，且每一配向區(qū)域內(nèi)對(duì)應(yīng)有至少兩個(gè)彩色濾光圖案，而且對(duì)于每一配向區(qū)域而言，其配向方向會(huì)與鄰接于該配向區(qū)域四周的其它配向區(qū)域的配向方向不同。
14.如權(quán)利要求11所述的彩色濾光基板的制作方法，其特征在于該彩色濾光陣列包括多數(shù)個(gè)彩色濾光圖案，且每一配向區(qū)域內(nèi)對(duì)應(yīng)有一個(gè)彩色濾光圖案，而且對(duì)于每一配向區(qū)域而言，其配向方向會(huì)與鄰接于該配向區(qū)域四周的其它配向區(qū)域的配向方向不同。
15.如權(quán)利要求11所述的彩色濾光基板的制作方法，其特征在于上述兩粒子束配向工藝的配向方向不同。
16.如權(quán)利要求11所述的彩色濾光基板的制作方法，其特征在于該些掩膜層的材質(zhì)包括有機(jī)材質(zhì)。
17.如權(quán)利要求11所述的彩色濾光基板的制作方法，其特征在于所形成的該配向材料層上具有一第一配向區(qū)域、一第二配向區(qū)域、一第三配向區(qū)域以及一第四配向區(qū)域；利用噴墨印刷工藝以在該配向材料層的該第二、第三以及第四配向區(qū)域中形成一第一掩膜層，并暴露出該配向材料層的該第一配向區(qū)域；對(duì)該配向材料層的該第一配向區(qū)域進(jìn)行一第一粒子束配向工藝；移除該第一掩膜層；利用噴墨印刷工藝以在該配向材料層的該第一、第三以及第四配向區(qū)域中形成一第二掩膜層，并暴露出該配向材料層的該第二配向區(qū)域；對(duì)該配向材料層的該第二配向區(qū)域進(jìn)行一第二粒子束配向工藝；移除該第二掩膜層；利用噴墨印刷工藝以在該配向材料層的該第一、第二以及第四配向區(qū)域中形成一第三掩膜層，并暴露出該配向材料層的該第三配向區(qū)域；對(duì)該配向材料層的該第三配向區(qū)域進(jìn)行一第三粒子束配向工藝；移除該第三掩膜層；利用噴墨印刷工藝以在該配向材料層的該第一、第二以及第三配向區(qū)域中形成一第四掩膜層，并暴露出該配向材料層的該第四配向區(qū)域；對(duì)該配向材料層的該第四配向區(qū)域進(jìn)行一第四粒子束配向工藝；以及移除該第四掩膜層。
18.如權(quán)利要求17所述的彩色濾光基板的制作方法，其特征在于該第一配向區(qū)域、該第二配向區(qū)域、該第三配向區(qū)域以及該第四配向區(qū)域的配向方向皆不相同。
19.如權(quán)利要求11所述的彩色濾光基板的制作方法，其特征在于該配向材料層的材質(zhì)包括聚亞酰胺、聚酰胺、聚乙烯醇、PVC、類鉆石碳膜、碳化硅、氧化硅、氮化硅、氧化鋁或氧化錫。
20.如權(quán)利要求11所述的彩色濾光基板的制作方法，其特征在于形成該彩色濾光陣列的方法包括在該基板上形成一黑矩陣層以及于該黑矩陣層的圖案之間形成多個(gè)彩色濾光圖案，其中該黑矩陣層的厚度大于該些彩色濾光圖案的厚度。
全文摘要
一種主動(dòng)元件陣列基板的制作方法，包括下列步驟，提供一基板；在基板上形成一像素陣列；在像素陣列上形成一具有多個(gè)配向區(qū)域的配向材料層；利用噴墨印刷工藝在配向材料層上的一部份配向區(qū)域上形成一掩膜層，并暴露配向材料層上另一部份的配向區(qū)域；對(duì)被暴露出來的配向材料層進(jìn)行一粒子束配向工藝；移除掩膜層；利用噴墨印刷工藝在已經(jīng)由粒子束配向的配向材料層上形成另一掩膜層，并暴露未經(jīng)粒子束配向的配向材料層；對(duì)被暴露出來的配向材料層進(jìn)行另一粒子束配向工藝；移除另一掩膜層。
文檔編號(hào)G02F1/1337GK1888966SQ20061010786
公開日2007年1月3日 申請(qǐng)日期2006年7月26日 優(yōu)先權(quán)日2006年7月26日
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