專利名稱：基板結(jié)構(gòu)及薄膜圖案層的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基板結(jié)構(gòu)及一種薄膜圖案層的制造方法。
背景技術(shù)：
目前制造薄膜圖案層的方法主要包括光微影法及噴墨法。
光微影法通過在預(yù)備涂敷所需薄膜的基板結(jié)構(gòu)上，涂敷光阻材料，將具有預(yù)定圖案的光罩設(shè)在光阻材料上，進行曝光及顯影，或加上蝕刻制程，而形成具有預(yù)設(shè)圖案的薄膜圖案層。該光微影法需要抽真空裝置等大型設(shè)備或復(fù)雜的制程，并且，材料的使用效率較低而造成制造成本高。
噴墨法如圖1所示，使用一部噴墨裝置將由所需薄膜材料形成的墨水314噴射在一種基板結(jié)構(gòu)300上的多個擋墻304形成的收容空間內(nèi)，墨水314被干燥后在該基板結(jié)構(gòu)上形成預(yù)定的薄膜圖案層。該噴墨法能夠一次形成薄膜圖案層，使得制程大量簡化，成本大幅降低。但是，噴墨法使用一般的擋墻結(jié)構(gòu)，當墨水314填充過量而向四周溢出時，溢出墨水314會與相鄰收容空間內(nèi)的墨水相混合而使得干燥固化后所形成的薄膜圖案層良率下降。

發(fā)明內(nèi)容有鑒于此，有必要提供一種可避免出現(xiàn)在制造薄膜圖案層時發(fā)生墨水相混的情況的基板結(jié)構(gòu)及一種薄膜圖案層的制造方法。
一種基板結(jié)構(gòu)，包括一個基板及多個形成在該基板上的擋墻，該多個擋墻及基板間形成多個第一收容空間，該第一收容空間用于收容一噴墨裝置噴入的墨水，其中，兩相鄰的第一收容空間之間的擋墻進一步包括至少一個第二收容空間，該第二收容空間用于收容過量填充而從所述第一收容空間溢出的墨水。
一種薄膜圖案層的制造方法，其步驟如下提供一種上述基板結(jié)構(gòu)；通過一部噴墨裝置將墨水填充在該多個第一收容空間中；干燥固化該多個第一收容空間中的墨水而形成薄膜圖案層。
相較于現(xiàn)有技術(shù)，所述的基板結(jié)構(gòu)，其兩相鄰的第一收容空間之間的擋墻包括至少一個第二收容空間，該第二收容空間用于收容過量填充而從第一收容空間溢出的墨水，藉此可避免填充至兩相鄰第一收容空間的墨水出現(xiàn)相混的情況，從而可提高薄膜圖案層的產(chǎn)品良率。
所述的薄膜圖案層的制造方法，利用所述基板結(jié)構(gòu)制造薄膜圖案層，因此，所制造的薄膜圖案層產(chǎn)品良率高。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)的一種帶擋墻的基板結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本發(fā)明第一實施例提供的一種基板結(jié)構(gòu)的平面示意圖。
圖3為圖2所示的基板結(jié)構(gòu)的一種剖面示意圖。
圖4為圖2所示的基板結(jié)構(gòu)的另一種剖面示意圖。
圖5為本發(fā)明第二實施例提供的一種基板結(jié)構(gòu)的平面示意圖。
圖6至圖20為本發(fā)明第三實施例提供的一種薄膜圖案層的制造方法的流程圖。
具體實施方式
下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明實施例作進一步的詳細說明。
請一并參閱圖2至圖3，是本發(fā)明第一實施例提供一種基板結(jié)構(gòu)100，其包括一個基板101及位于該基板101上的多個擋墻104。
本實施例中，基板101選自玻璃。當然，基板101也可選自石英玻璃、硅晶圓、金屬板或塑料板等。其中，多個擋墻104是通過光微影法形成于該基板101上(詳后述)或該基板101與多個擋墻104是一體成型(詳后述)。
該多個擋墻104及基板101間形成多個第一收容空間106，該第一收容空間106用于收容一部噴墨裝置噴入的墨水(詳后述)。其中，兩相鄰的第一收容空間106之間的擋墻104進一步包括一個第二收容空間108，該第二收容空間108用于收容過量填充而從第一收容空間106溢出的墨水。本實施例中，第二收容空間108是一個方形槽，該方形槽的開口方向與第一收容空間106的開口方向相同，該方形槽的深度等于第一收容空間106的深度，如圖3所示。另外，該方形槽的深度也可小于第一收容空間106的深度，如圖4所示。第二收容空間108可為V形槽或U形槽等其它形式，或可于擋墻104內(nèi)設(shè)置多個第二收容空間108，能起到收容溢出墨水的功效即可，而不必以具體實施例為限。
該基板結(jié)構(gòu)100用于制造薄膜圖案層時，填充墨水至第一收容空間106內(nèi)，然后進行固化干燥墨水后第一收容空間106內(nèi)形成薄膜圖案層。當填充墨水過量而溢出流向四周時，流出的墨水會流入第二收容空間108內(nèi)而不至于流向相鄰的第一收容空間106內(nèi)。當填充至兩相鄰的第一收容空間之間的墨水是不同時，第二收容空間108的設(shè)置可避免兩相鄰第一收容空間106內(nèi)的墨水相混，從而提高不同顏色薄膜層(如顏色濾光片的顏色層等)的產(chǎn)品良率或不同材料薄膜層(如有機發(fā)光二極管的發(fā)光層等)的產(chǎn)品良率。當填充至兩相鄰的第一收容空間之間的墨水是相同時，為增加相同薄膜圖案層的均勻度會填充過量的墨水至第一收容空間106，此時溢出的墨水可流到第二收容空間108內(nèi)?；蛟谥圃煸搶?dǎo)電薄膜圖案層時，溢出的墨水可流到第二收容空間108內(nèi)，并間隔兩相鄰的導(dǎo)電薄膜圖案層，從而可防止兩相鄰的導(dǎo)電薄膜圖案層間發(fā)生短路。
請參閱圖5，本發(fā)明第二實施例提供的一種基板結(jié)構(gòu)100’。第二收容空間108’是僅設(shè)置在橫向排列的兩相鄰第一收容空間106’間的擋墻104’內(nèi)。本實施例提供的基板結(jié)構(gòu)100’，其縱向排列的第一收容空間106’是用于填充相同的墨水，橫向排列的第一收容空間106’是用于填充不同的墨水。
請一并參閱圖6到圖20，是本發(fā)明第三實施例提供一種薄膜圖案層的制造方法的流程圖，其步驟如下步驟一提供一種基板結(jié)構(gòu)，該基板結(jié)構(gòu)選自本發(fā)明第一實施例提供的基板結(jié)構(gòu)100。
該具有多個擋墻104的基板結(jié)構(gòu)100的制造方法(一)具體包括以下步驟利用干膜法(Dry Film Lamination)、濕式旋轉(zhuǎn)法(Wet Spin Coating)或濕式裂縫式涂敷法(Wet Slit Coating)在該基板101上表面涂敷負型光阻材料層202，如圖6所示；利用光罩式曝光機，將具有預(yù)定第一收容空間及第二收容空間的擋墻圖案的第一光罩200設(shè)置在該第一負型光阻材料層202與一部曝光機(圖未示)光源間，并曝光該第一負型光阻材料層202，如圖7所示；利用顯影方式，將未曝光處的第一負型光阻材料層去除，形成設(shè)在基板結(jié)構(gòu)100上表面的多個擋墻104，如圖3所示。
該方法(一)是利用第一負型光阻材料202在基板101表面形成的多個擋墻104?？梢岳斫?，上述方法(一)亦可使用正型光阻材料，其相應(yīng)的光罩設(shè)計及制程中曝光處材料是留下或去除具有差異外，并不影響本發(fā)明的實施。
該具有多個擋墻104的基板結(jié)構(gòu)100的制造方法(二)具體包括以下步驟在該基板101上表面以蒸鍍或濺鍍形成一層薄膜層204；在該薄膜層204的表面上涂敷一層第一負型光阻材料層202，如圖8所示；將具有預(yù)定第一收容空間的擋墻圖案的第二光罩206設(shè)置在該第一負型光阻材料層202與一個曝光機光源間，曝光該第一負型光阻材料層202，如圖9所示；依序利用顯影及蝕刻方式將未曝光處的第一負型光阻材料層202及第一收容空間圖案的該薄膜層204去除，如圖10所示；完全去除剩下的該第一負型光阻材料層202；在該薄膜層204上表面涂敷一層第二負型光阻材料層208，如圖11所示；將具有預(yù)定第二收容空間的擋墻圖案的第三光罩210設(shè)置在該第二負型光阻材料層208與一個曝光機光源間，曝光該第二負型光阻材料層208，如圖12所示；利用顯影方式將未曝光處的第二負型光阻材料層208去除，形成設(shè)立在基板101上表面的多個擋墻104，如圖4所示。
另外，方法(二)可改進為在該基板101上表面涂敷一層第一負型光阻材料層202；將具有預(yù)定第一收容空間的擋墻圖案的第二光罩206設(shè)置在該第一負型光阻材料層202與曝光機光源間，曝光該第一負型光阻材料層202；利用顯影方式將未曝光處的該第一負型光阻光阻材料層202去除；在第一負型光阻材料層202上表面涂敷一層第二負型光阻材料層208；將具有預(yù)定第二收容空間的擋墻圖案的第三光罩210設(shè)置在該第二負型光阻材料層208與曝光機光源間，曝光該第二負型光阻材料層208；利用顯影方式將未曝光處的該第二負型光阻材料層208去除，形成設(shè)立在基板101上表面的多個擋墻104。
也可改進為在該基板101上表面涂敷一層第一負型光阻材料層202；將具有預(yù)定第一收容空間的擋墻圖案的第二光罩206設(shè)置在該第一負型光阻材料層202與曝光機光源間，曝光該第一負型光阻材料層202；在第一負型光阻材料層上表面涂敷一層第二負型光阻材料層208；將具有預(yù)定第二收容空間的擋墻圖案的第三光罩210設(shè)置在該第二負型光阻材料層208與曝光機光源間，曝光該第二負型光阻材料層208；利用顯影方式將未曝光處的第一負型光阻材料層202及第二負型光阻材料層208去除，形成設(shè)立在基板101上表面的多個擋墻104。
上述制造方法(二)及其改進是使用兩次或多次的曝光顯影制程，分別制備上下排列的第一層擋墻層及第二層擋墻層，該兩層擋墻的結(jié)合可形成基板結(jié)構(gòu)上的多個擋墻，使第二收容空間108的深度小于第一收容空間106的深度，如圖4所示。當然也可使用具有灰階度設(shè)計的光罩進行一次曝光顯影制程，也可完成相同的結(jié)構(gòu)。
該具有多個擋墻104的基板結(jié)構(gòu)100的制造方法(三)具體包括以下步驟在該基板101上表面以蒸鍍或濺鍍形成一薄膜層204；在該薄膜層的上表面涂敷一層第一負型光阻材料層202，如圖13所示；將具有預(yù)定第一收容空間及第二收容空間的擋墻圖案的第一光罩200設(shè)置在該第一負型光阻材料層202與曝光機光源間，曝光該第一負型光阻材料層202，如圖14所示；利用顯影將未曝光處的該第一光阻材料層202去除，的后用蝕刻方式將第一收容空間圖案及第二收容空間圖案的薄膜層204同時去除而形成如圖3所示的設(shè)立在基板101上表面的多個擋墻104，或僅將第一收容空間圖案的薄膜層204去除而形成如圖4所示的設(shè)立在基板101上表面的多個擋墻104。
上述提供幾種具有多個擋墻104的基板結(jié)構(gòu)100的制造方法，其是使用曝光微影及微影蝕刻制程來完成。當然，以曝光微影及微影蝕刻制程得到基板結(jié)構(gòu)100的方法步驟不必以上述幾種方法的具體步驟為限。
另外需要指出的是，上述方法(二)及方法(三)亦可使用正型光阻材料，其相應(yīng)的光罩設(shè)計及制程中曝光處材料是留下或去除具有差異外，并不影響本發(fā)明的實施。
請一并參閱圖15至圖16，本實施例還提供的一種基板結(jié)構(gòu)100的制造方法，其基板101與多個擋墻104是一體成型的。該方法具體包括以下步驟提供一部射出成型機500及一個具有預(yù)定擋墻圖案的模具400；利用射出成型機500將基板結(jié)構(gòu)材料100”射出至該模具400中，如圖15所示；脫模，得到一種其基板101表面具有多個擋墻104的基板結(jié)構(gòu)100，如圖16所示。
該模具400具有立體結(jié)構(gòu)模型408，該模型408具有預(yù)定的擋墻圖案。該模型408貼合固定在金屬板406上，作為模仁。模具400包括定模402及動模404，貼合有金屬板406的金屬立體結(jié)構(gòu)模型408固定在動模404的底壁上。其中，在定模402上形成有供熔融材料流入的注料口416及流道412，該流道412向動模404一側(cè)截面成錐形變大。在定模402與動模404的結(jié)合面，沿兩模402、404形成澆口410，澆口410與流道412連通。通過定模402與動模404接合，形成用于基板結(jié)構(gòu)100成型用的模腔414，模腔414與澆口410、流道412及注料口416均連通。制造基板結(jié)構(gòu)時，利用射出成型機500將熔融的基板100”射入模具400中，該基板結(jié)構(gòu)材料100”通過注料口416、流道412及澆口410進入模腔414。當模腔414的封閉空間被流動注入的熔融材料100”充滿時，再經(jīng)過冷卻工序，打開動模404，使已成型的基板結(jié)構(gòu)100脫模。
該方法是利用射出成型的技術(shù)，一次形成具有多個擋墻104的基板結(jié)構(gòu)100，可相應(yīng)更改模仁而形成如圖3或圖4所示的基板結(jié)構(gòu)。本實施例的步驟一目的是為了得到一種具有多個擋墻的基板結(jié)構(gòu)，而達到該目的不必以上述具體方法為限。
步驟二通過一噴墨裝置110將由薄膜材料形成的墨水112填充在多個第一收容空間106中，如圖17所示。
該噴墨裝置110可選用熱泡式噴墨裝置(Thermal Bubble Ink Jet PrintingApparatus)或壓電式噴墨裝置(Piezoelectric Ink Jet Printing Apparatus)。
在填充過程中，墨水112過量填充至第一收容空間106內(nèi)時有發(fā)生。當墨水112填充過量而溢出流向四周時，流出的墨水會流入第二收容空間108內(nèi)而不至于流向相鄰的第一收容空間106內(nèi)，如圖18所示，避免兩相鄰第一收容空間106內(nèi)的墨水相混，從而提高不同顏色薄膜層(如顏色濾光片的紅綠藍顏色層等)的產(chǎn)品良率或不同材料薄膜層(如有機發(fā)光二極管的電子空洞傳輸層與發(fā)光層等)的產(chǎn)品良率。
步驟三干燥固化收容空間106中的墨水112’而形成薄膜圖案層114，如圖19所示。此步驟主要通過一部抽真空裝置、一部加熱裝置或一部發(fā)光裝置，將收容空間的墨水112’進行干燥固化，或者同時采用上述三者方式的任兩種或任三種進行干燥固化，而發(fā)光裝置包括紫外光發(fā)光照射裝置。
本實施的薄膜圖案層的制造方法可進一步包括一步步驟四，該步驟四具體為利用研磨或蝕刻方式，將擋墻104相對于薄膜圖案層114突出的部分磨平，如圖20所示，以達成平坦度的要求。
本發(fā)明第三實施例的薄膜圖案層的制造方法也可使用本發(fā)明第二實施例提供的基板結(jié)構(gòu)100’。使用該基板結(jié)構(gòu)100’的薄膜圖案層的制造方法可參考本發(fā)明第三實施例的薄膜圖案層的制造方法。
本發(fā)明第一、第二實施例所提供的基板結(jié)構(gòu)100、100’，兩相鄰的第一收容空間106、106’之間的擋墻104、104’包括第二收容空間108、108’，該第二收容空間108、108’用于收容過量填充而從第一收容空間106、106’溢出的墨水，藉此可避免填充至兩相鄰第一收容空間106、106’的墨水出現(xiàn)相混的情況，從而可提高薄膜圖案層的產(chǎn)品良率。本發(fā)明第三實施例提供的薄膜圖案層的制造方法，利用本發(fā)明第一、第二實施例提供的基板結(jié)構(gòu)100、100’制造薄膜圖案層，因此，所制造的薄膜圖案層產(chǎn)品良率高。
需要指出的是，利用該基板結(jié)構(gòu)制造薄膜圖案層的制程可適用于彩色濾光片的制造及有機發(fā)光裝置的制造等。在彩色濾光片的制程中，可用此制程完成紅綠藍三色顏色層的制造，相應(yīng)地，多個擋墻由黑矩陣(第一擋墻層)與黑矩陣上的第二層擋墻層形成，因此黑矩陣、第二層擋墻層與玻璃構(gòu)成第一收容空間，黑矩陣、第二層擋墻層構(gòu)成第二收容空間。當然也可利用灰階度設(shè)計的光罩進行一次曝光顯影制程，直接由黑矩陣構(gòu)成前述相同的結(jié)構(gòu)。而在有機發(fā)光裝置的制造中，可用此制程完成有機發(fā)光裝置的導(dǎo)線層，發(fā)光層及電子空洞傳輸層等的制造。但是，所形成的薄膜圖案及所需的墨水會有所不同。
另外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以在本發(fā)明精神內(nèi)做其它變化，當然，這些依據(jù)本發(fā)明精神所做的變化，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護的范圍的內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種基板結(jié)構(gòu)，包括一個基板；及多個形成在該基板上的擋墻，該多個擋墻及基板間形成多個第一收容空間，該第一收容空間用于收容一部噴墨裝置噴入的墨水；其特征在于兩相鄰的第一收容空間之間的擋墻進一步包括至少一個第二收容空間，該第二收容空間用于收容過量填充而從所述第一收容空間溢出的墨水。
2.如權(quán)利要求1所述的基板結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的第二收容空間的深度等于第一收容空間的深度。
3.如權(quán)利要求1所述的基板結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的第二收容空間的深度小于第一收容空間的深度。
4.如權(quán)利要求1所述的基板結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的基板選自玻璃、石英玻璃、硅晶圓、金屬及塑料中的一種。
5.如權(quán)利要求1所述的基板結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的多個擋墻是通過光微影法形成在基板上。
6.如權(quán)利要求1所述的基板結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的基板與多個擋墻是一體成型。
7.如權(quán)利要求1所述的基板結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的第二收容空間是方形槽、V形槽或U形槽，該槽的開口方向與第一收容空間的開口方向相同。
8.一種薄膜圖案層的制造方法，其步驟如下提供一種如權(quán)利要求1至7任一項所述的基板結(jié)構(gòu)；通過一部噴墨裝置將墨水填充在該多個第一收容空間中；干燥固化該第一收容空間中的墨水而形成薄膜圖案層。
9.如權(quán)利要求8所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于所述的提供一種基板結(jié)構(gòu)的步驟包括下列分步驟提供一個基板；在該基板上形成多個擋墻。
10.如權(quán)利要求9所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于所述的在基板上形成多個擋墻的步驟包括以下分步驟在該基板上表面涂敷一層第一光阻材料層；將具有預(yù)定第一收容空間及第二收容空間的擋墻圖案的第一光罩設(shè)于該第一光阻材料層與一部曝光機光源間，并曝光該第一光阻材料層；利用顯影方式將非擋墻圖案部分的光阻材料層去除，形成設(shè)立在基板上表面的多個擋墻。
11.如權(quán)利要求9所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于所述的在基板上形成多個擋墻的步驟包括以下分步驟在該基板上表面以蒸鍍或濺鍍形成一層薄膜層；在該薄膜層的上表面涂敷一層第一光阻材料層；將具有預(yù)定第一收容空間的擋墻圖案的第二光罩設(shè)置在該第一光阻材料層與曝光機光源間，曝光該第一光阻材料層；依序利用顯影及蝕刻方式將非擋墻圖案的該第一光阻材料層及該薄膜層去除；完全去除剩下的該第一光阻材料層；在該薄膜層的上表面涂敷一層第二光阻材料層；將具有預(yù)定第二收容空間的擋墻圖案的第三光罩設(shè)置在該第二光阻材料層與曝光機光源間，曝光該第二光阻材料層；利用顯影方式將非擋墻圖案的該第二光阻材料層去除，形成設(shè)立在基板上表面的多個擋墻。
12.如權(quán)利要求9所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于所述的在基板上形成多個擋墻的步驟包括以下分步驟在該基板上表面涂敷一層第一光阻材料層；將具有預(yù)定第一收容空間的擋墻圖案的第二光罩設(shè)置在該第一光阻材料層與曝光機光源間，曝光該第一光阻材料層；利用顯影方式將非擋墻圖案的該第一光阻光阻材料層去除；在第一光阻材料層上表面涂敷一層第二光阻材料層；將具有預(yù)定第二收容空間的擋墻圖案的第三光罩設(shè)置在該第二光阻材料層與曝光機光源間，曝光該第二光阻材料層；利用顯影方式將非擋墻圖案的該第二光阻材料層去除，形成設(shè)立在基板上表面的多個擋墻。
13.如權(quán)利要求9所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于所述的在基板上形成多個擋墻的步驟包括以下分步驟在該基板上表面涂敷一層第一光阻材料層；將具有預(yù)定第一收容空間的擋墻圖案的第二光罩設(shè)置在該第一光阻材料層與曝光機光源間，曝光該第一光阻材料層；在第一光阻材料層上表面涂敷一層第二光阻材料層；將具有預(yù)定第二收容空間的擋墻圖案的第三光罩設(shè)置在該第二光阻材料層與曝光機光源間，曝光該第二光阻材料層；利用顯影方式將非擋墻圖案的第一光阻材料層及第二光阻材料層去除，形成設(shè)立在基板上表面的多個擋墻。
14.如權(quán)利要求9所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于所述的在基板上形成多個擋墻的步驟包括下列分步驟在該基板上表面以蒸鍍或濺鍍形成一層薄膜層；在該薄膜層的上表面涂敷一層第一光阻材料層；將具有預(yù)定第一收容空間及第二收容空間的擋墻圖案的第一光罩設(shè)置在該第一光阻材料層與曝光機光源間，曝光該第一光阻材料層；依序利用顯影及蝕刻方式將非擋墻圖案的該第一光阻材料層及該薄膜層去除，形成設(shè)立在基板上表面的多個擋墻。
15.如權(quán)利要求10至14項任一項所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于所述的光罩包括使用灰階度設(shè)計的光罩。
16.如權(quán)利要求9所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于所述的在基板上形成多個擋墻的步驟包括至少三次的涂敷、曝光、顯影等分步驟。
17.如權(quán)利要求8所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于所述的提供一種基板結(jié)構(gòu)的步驟包括以下分步驟提供一部射出成型機及一個具有預(yù)定擋墻圖案的模具；利用射出成型機將基板結(jié)構(gòu)材料射出至該模具中；脫模，得到一個其表面具有多個擋墻的基板結(jié)構(gòu)。
18.如權(quán)利要求8所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于所述的噴墨裝置包括熱泡式噴墨裝置或壓電式噴墨裝置。
19.如權(quán)利要求8所述的薄膜圖案層的制造方法，其特征在于所述的干燥固化墨水而形成薄膜圖案層的步驟采用一部抽真空裝置、一部加熱裝置或一部發(fā)光裝置，將收容空間的墨水進行干燥固化，或者同時采用上述三者方式的任兩種或任三種，發(fā)光裝置包括紫外光發(fā)光照射裝置。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種基板結(jié)構(gòu)，其包括一個基板及多個形成在該基板上的擋墻。該多個擋墻及基板間形成多個第一收容空間，第一收容空間用于收容一部噴墨裝置噴入的墨水，兩相鄰的第一收容空間之間的擋墻進一步包括至少一個第二收容空間，第二收容空間用于收容過量填充而從所述第一收容空間溢出的墨水。藉此可避免兩相鄰第一收容空間內(nèi)的墨水相混。本發(fā)明還涉及一種薄膜圖案層的制造方法，其步驟如下提供一種上述基板結(jié)構(gòu)；通過一部噴墨裝置將墨水填充在第一收容空間中；干燥固化第一收容空間中的墨水而形成薄膜圖案層。
文檔編號G02B5/23GK101021685SQ20061000726
公開日2007年8月22日 申請日期2006年2月16日 優(yōu)先權(quán)日2006年2月16日
發(fā)明者周景瑜 申請人:虹創(chuàng)科技股份有限公司