專利名稱：干涉式調(diào)制的方法和支柱結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明主要涉及光學(xué)調(diào)制器裝置和制造光學(xué)調(diào)制器的方法，且更特定地說，涉及用于顯示器中的干涉式調(diào)制器。
背景技術(shù)：
可將多種不同類型的空間光調(diào)制器用于成像應(yīng)用。一種類型的空間光調(diào)制器為干涉式調(diào)制器?？蓪⒏缮媸秸{(diào)制器裝置排列成一陣列配置，以提供一具有有利的運行和性能特征的顯示器組合。干涉式調(diào)制器裝置通過使用光學(xué)干涉提供具有豐富顏色特征以及低功率消耗的顯示器來運作。干涉式調(diào)制器具有至少兩種狀態(tài)且被配置以在所述狀態(tài)中的至少一個狀態(tài)下，反射入射光并干涉以向觀察者呈現(xiàn)對應(yīng)的不同外觀。在一個狀態(tài)下，一相對窄帶反射可向觀察者呈現(xiàn)出清楚的顏色，諸如紅色、綠色或藍(lán)色。在另一狀態(tài)下，干涉式調(diào)制器可影響所述入射光，以致向一觀察者呈現(xiàn)出反射暗色或黑色外觀。
為了在各種觀察狀態(tài)下提供增強(qiáng)的對比度，需要干涉式裝置陣列在暗色狀態(tài)下呈現(xiàn)一更加統(tǒng)一的暗色或黑色外觀。同樣，在有色觀察狀態(tài)下需要呈現(xiàn)出更加豐富和更加鮮明的顏色。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的系統(tǒng)、方法及裝置各具有若干方面，任一單個方面均不能單獨決定其所期望的屬性?，F(xiàn)將對其更突出的特性作簡要說明，而并不限定本發(fā)明的范圍。在考慮這一論述，尤其是在閱讀了題為“具體實施方式
”的部分之后，人們即可理解本發(fā)明的系統(tǒng)、方法及裝置的特征如何提供其優(yōu)點，包括譬如改良的設(shè)備性能。
一實施例提供了一包括一支柱結(jié)構(gòu)的空間光調(diào)制器(例如，干涉式調(diào)制器)，其中所述支柱結(jié)構(gòu)包含一光學(xué)元件。在一優(yōu)選實施例中，在所述支柱結(jié)構(gòu)中的光學(xué)元件為一反射元件，例如，鏡面。在另一實施例中，在所述支柱結(jié)構(gòu)中的光學(xué)元件為一標(biāo)準(zhǔn)具，例如，一暗色標(biāo)準(zhǔn)具(dark etalon)。在另一實施例中，所述支柱結(jié)構(gòu)包含一反射元件和一暗色標(biāo)準(zhǔn)具。
可以各種方式配置在所述支柱結(jié)構(gòu)中的光學(xué)元件。例如，在一些實施例中，在所述支柱結(jié)構(gòu)中的光學(xué)元件減少了否則將從所述支柱結(jié)構(gòu)回射的光的數(shù)量。在其他實施例中，在所述支柱結(jié)構(gòu)中的光學(xué)元件增加了干涉式調(diào)制器的背光。在各種實施例中，在所述支柱結(jié)構(gòu)中的光學(xué)元件通過將光重新引導(dǎo)入干涉腔內(nèi)來增加干涉式調(diào)制器的亮度。
另一實施例提供了一種制造干涉式調(diào)制器的方法。在此方法中，將一反射層沉積在一襯底之上以形成一第一鏡面。在所述第一鏡面上沉積一犧牲層。在所述犧牲層中形成孔徑且在所述孔徑中沉積支柱材料。在所述支柱材料上形成一光學(xué)元件且在所述犧牲層和光學(xué)元件上形成一可移動的第二鏡面。除去所述犧牲層，以形成一干涉腔。
另一實施例包含一種包含用于反射光和產(chǎn)生光學(xué)干涉的第一和第二構(gòu)件的干涉式調(diào)制器。所述干涉式調(diào)制器進(jìn)一步包含用于支撐所述第二反射構(gòu)件以便分離所述第一和第二反射構(gòu)件的構(gòu)件。所述第二反射構(gòu)件可相對于所述第一反射構(gòu)件移動。所述支撐構(gòu)件包中括用于操縱進(jìn)入所述支撐構(gòu)件的光的構(gòu)件。
另一實施例包含一種調(diào)制光的方法。在此方法中，反射已傳播至第一和第二反射表面的光從而產(chǎn)生光學(xué)干涉。由至少一個支柱結(jié)構(gòu)來支撐此第二反射表面。操縱傳播入所述支柱構(gòu)件中的光，且相對于所述第一反射表面移動所述第二反射表面從而影響光學(xué)干涉。
以下將更加詳細(xì)地描述這些和其他實施例。


從下文描述和附圖(不按比例)將不難發(fā)現(xiàn)本發(fā)明的這些和其他方面，下文的描述和附圖意欲說明而非限制本發(fā)明，且其中
圖1為一等角視圖，其顯示一干涉式調(diào)制器顯示器的一個實施例的一部分，其中一第一干涉式調(diào)制器的一可移動反射鏡處于一釋放位置，且一第二干涉式調(diào)制器的一可移動反射鏡處于一激勵位置。
圖2為一系統(tǒng)方框圖，其顯示一包含一3×3干涉式調(diào)制器顯示器的電子裝置的一個實施例。
圖3為圖1所示干涉式調(diào)制器的一個例示性實施例的可移動鏡位置與所施加電壓的關(guān)系圖。
圖4為可用于驅(qū)動干涉式調(diào)制器顯示器的幾組行電壓和列電壓的示意圖。
圖5A顯示在圖2所示的3×3干涉式調(diào)制器顯示器中的一個例示性顯示數(shù)據(jù)幀。
圖5B顯示可用于寫入圖5A所示幀的行信號和列信號的一個例示性時序圖。
圖6A為一圖1所示的裝置的截面圖。
圖6B為一干涉式調(diào)制器的一替代實施例的一截面圖。
圖6C為一干涉式調(diào)制器的另一替代實施例的一截面圖。
圖7A顯示一示意性說明一透明的支柱結(jié)構(gòu)的干涉式調(diào)制器的橫截面。圖7B顯示一示意性說明一反射性的支柱結(jié)構(gòu)的干涉式調(diào)制器的橫截面。
圖8A為一具有金屬支柱的干涉式調(diào)制器的陣列的顯微照相的再現(xiàn)。圖8B為一具有二氧化硅支柱的干涉式調(diào)制器的陣列的顯微照相的再現(xiàn)。
圖9顯示一示意性說明包含反射元件的支柱結(jié)構(gòu)的干涉式調(diào)制器的橫截面，其中一些所述反射元件形成了標(biāo)準(zhǔn)具。
圖10顯示一示意性說明包含反射元件的支柱結(jié)構(gòu)的背光照明(backlit)干涉式調(diào)制器的橫截面，其中所述反射元件被配置以用于將光引導(dǎo)入干涉式調(diào)制器的光學(xué)空腔內(nèi)。
圖11顯示一示意性說明包含反射元件的支柱結(jié)構(gòu)的順光照明(front lit)干涉式調(diào)制器的橫截面，其中所述反射元件被配置以增加所述干涉式調(diào)制器的亮度。
圖12顯示一說明了制造一具有一包含一光學(xué)元件的支柱結(jié)構(gòu)的干涉式調(diào)制器的過程的流程圖。
圖13A和圖13B為一系統(tǒng)方塊圖，說明包含復(fù)數(shù)個干涉式調(diào)制器的視覺顯示裝置的實施例。
具體實施例方式
如下文更加全面描述的那樣，可將反射光學(xué)元件包括在干涉式調(diào)制器中的支柱結(jié)構(gòu)內(nèi)。在一些實施例中，這些反射光學(xué)元件可形成反射一特定顏色或波長范圍的標(biāo)準(zhǔn)具。這些標(biāo)準(zhǔn)具可包含(例如)暗色標(biāo)準(zhǔn)具，會導(dǎo)致觀察者觀察時所述支柱結(jié)構(gòu)呈暗色。當(dāng)所述干涉式調(diào)制器處于一暗色狀態(tài)下時，此等光學(xué)元件可通過提供一更加均勻的暗色或黑色外觀(減小顯示器相對明亮的區(qū)域)來增加顯示器的對比度。同樣地，當(dāng)所述干涉式調(diào)制器處于一明亮狀態(tài)下時，提供未被明亮區(qū)域“洗掉”的更加明亮更加鮮明的顏色。也可包括將照明(背光照明或正光照明)引導(dǎo)至所述干涉式調(diào)制器的光學(xué)空腔內(nèi)的反射元件。
從下文描述中將不難發(fā)現(xiàn)，本文中所描述的結(jié)構(gòu)可在任何經(jīng)配置以顯示一無論是運動(視頻)或靜止(靜止圖像)且無論是文字或圖片形式的圖像的裝置中實施。更具體而言，預(yù)期所述結(jié)構(gòu)和方法可在例如(但不限于)以下多種電子裝置中實施或與這些電子裝置相關(guān)聯(lián)移動電話、無線裝置、個人數(shù)據(jù)助理(PDA)、手持式計算機(jī)或便攜式計算機(jī)、GPS接收器/導(dǎo)航器、照相機(jī)、MP3播放器、攝錄機(jī)(camcorder)、游戲機(jī)、手表、時鐘、計算器、電視監(jiān)視器、平板顯示器、計算機(jī)監(jiān)視器、汽車顯示器(例如，里程表顯示器等)、駕駛艙控制器及/或顯示器、照相機(jī)視圖顯示器(例如，車輛的后視照相機(jī)顯示器)、電子照片、電子告示牌或標(biāo)牌、投影儀、建筑結(jié)構(gòu)(例如磚瓦的布局)、包裝及美學(xué)結(jié)構(gòu)(例如，一件珠寶的圖像顯示器)。更一般而言，可在電子交換裝置、其制造和使用中實施本文中所描述的結(jié)構(gòu)和方法。
以下的詳細(xì)描述是針對本發(fā)明的一些特定實施例。然而，可以許多不同的方式實施本發(fā)明。在此描述中，參考了附圖，在所有附圖中，相同的部分被標(biāo)識以相同的數(shù)字。
圖1說明一包含一干涉式MEMS顯示元件的干涉式調(diào)制器顯示器的實施例。在此等裝置中，像素處于亮或暗的狀態(tài)下。在亮(“開”或“打開”)狀態(tài)下，所述顯示元件將很大一部分的入射可見光反射給使用者。當(dāng)處于暗(“關(guān)”或“關(guān)閉”)狀態(tài)下時，所述顯示元件幾乎不把入射可視光反射給使用者。視所述實施例而定，可顛倒“開”和“關(guān)”狀態(tài)的光反射特性。可配置MEMS像素以主要反射選定顏色，允許在黑白顯示之外的彩色顯示。
圖1為一顯示在一可視顯示器的一系列像素中的兩個相鄰像素的等角視圖，其中各像素包含一MEMS干涉式調(diào)制器。在一些實施例中，一干涉式調(diào)制器顯示器包含一由這些干涉式調(diào)制器組成的行/列陣列。各干涉式調(diào)制器包括一對反射層，所述反射層彼此相隔一可變和可控距離以形成一具有至少一個可變維的光學(xué)諧振腔。在一實施例中，所述反射層中的一個可在兩個位置之間移動。在第一位置中，參考本文中的釋放狀態(tài)，所述可移動層安置在離一固定的部分反射層相對較遠(yuǎn)的距離處。在第二位置中，所述可移動層安置在更加接近地鄰接所述部分反射層處。從所述兩層反射的入射光視可移動反射層的位置而定積極地或消極地干涉，為每個像素產(chǎn)生一全反射或非反射狀態(tài)。
圖1中所顯示的像素陣列部分包括兩個相鄰接的干涉式調(diào)制器12a和12b。在左邊的干涉式調(diào)制器12a中，所說明的可移動且高反射的層14a處于離固定的部分反射層16a一預(yù)定距離處的釋放位置處。在右邊的干涉式調(diào)制器12b中，所顯示的可移動高反射層14b處于鄰接所述固定的部分反射層16b的激勵位置處。
固定層16a、16b為導(dǎo)電、部分透明且部分反射的，且可通過例如在一透明襯底20上沉積一或多個由鉻和氧化銦錫造成的層來制成。將這些層圖案化成平行的條帶，且可在一顯示裝置中形成行電極，這在下文將進(jìn)一步描述。可將所述可移動層14a、14b形成為沉積在支柱18頂上的一或多個沉積金屬層層(與行電極16a、16b垂直)的一系列平行條和一沉積在支柱18之間的介入犧牲材料。當(dāng)蝕刻掉所述犧牲材料時，通過一界定的氣隙19將所述可變形金屬層從所述固定金屬層中分離出來。高導(dǎo)電的和反射材料(諸如，鋁)可用作可變形層，且這些條可在一顯示裝置中形成列電極。
無施加電壓的情況下，空腔19保持在層14a、16a之間，且可變形層處于由圖1中的像素12a所顯示的機(jī)械放松狀態(tài)。然而，當(dāng)將一電位差施加至一選定行和列時，在對應(yīng)像素的行和列電極的交叉部分處所形成的電容器變?yōu)槌潆姡异o電力將所述電極拉到一起。若電壓足夠高，則使可移動層變形且被壓抵于所述固定層(可在所述固定層上沉積一在此圖中未示的介電材料，以防止短路且控制間距)，如圖1中右邊的像素12b所示。無論所施加的電位差的極性如何，運轉(zhuǎn)狀態(tài)(behavior)均相同。以此方式，可控制所述反射與非反射像素狀態(tài)的行/列激勵在許多方面與常規(guī)的LCD和其他顯示技術(shù)相類似。
圖2至圖5B顯示一個在顯示器應(yīng)用中使用一干涉式調(diào)制器陣列的例示性過程及系統(tǒng)。圖2為一系統(tǒng)方塊圖，其顯示一可包含本發(fā)明若干方面的電子裝置的一個實施例。在所述例示性實施例中，所述電子裝置包括一處理器21，其可為任何通用單芯片或多芯片微處理器，例如ARM、Pentium、PentiumII、Pentium III、Pentium IV、PentiumPro、8051、MIPS、Power PC、ALPHA或任何專用微處理器，例如數(shù)字信號處理器、微控制器或可編程門陣列。按照業(yè)內(nèi)慣例，可將處理器21配置以執(zhí)行一個或多個軟件模塊。除執(zhí)行一個操作系統(tǒng)外，還可將所述處理器配置以執(zhí)行一個或多個軟件應(yīng)用程序，包括網(wǎng)頁瀏覽器、電話應(yīng)用程序、電子郵件程序或任何其他軟件應(yīng)用程序。
在一實施例中，處理器21還配置成與一陣列控制器22進(jìn)行通信。在一實施例中，陣列控制器22包括向像素陣列30提供信號的行驅(qū)動電路24和列驅(qū)動電路26。圖1中所示陣列的截面圖在圖2中以線1-1示出。對于MEMS干涉式調(diào)制器而言，所述行/列激勵協(xié)議可利用圖3中所示的這些裝置的滯后特性。其可能需要例如10伏的電位差來使像素從釋放狀態(tài)變形至受激勵狀態(tài)。然而，當(dāng)電壓從所述值降低時，隨著電壓回降至10伏以下，所述可移動層保持其狀態(tài)。在圖3所示的例示性實施例中，可移動層不會完全釋放，直到電壓降至2伏以下。因而，在圖3所示的實例中存在一電壓范圍(為約3至7V)，在所述電壓范圍中存在一施加電壓窗口，在所述窗口內(nèi)，裝置將保持在釋放或受激勵狀態(tài)。這在本文中稱為“滯后窗口”或“穩(wěn)定窗口”。對于具有圖3的滯后特征的顯示器陣列，行/列激勵協(xié)議可設(shè)計成在行選通期間，使所選通行中待激勵的像素暴露于一約10伏的電壓差，并使待釋放的像素暴露于一接近0伏的電壓差。在選通之后，使像素暴露于一約5伏的穩(wěn)態(tài)電壓差，以使其保持于行選通使其所處的任何狀態(tài)。在被寫入之后，在本實例中，每一像素在“穩(wěn)定窗口”內(nèi)均經(jīng)歷一3-7伏的電位差。所述特性使圖1所示的像素設(shè)計在相同的施加電壓條件下穩(wěn)定在一既有的激勵狀態(tài)或釋放狀態(tài)下。由于無論是處于受激勵狀態(tài)還是釋放狀態(tài)，干涉式調(diào)制器的每一像素基本上都是一由所述固定鏡及移動反射鏡形成的電容器，所以所述穩(wěn)定狀態(tài)可在一滯后窗口內(nèi)保持在一電壓下而幾乎無功率消耗。如果所施加的電位固定，則基本上無電流流入像素。
在典型應(yīng)用中，可通過根據(jù)第一行中所期望的一組受激勵像素確定一組列電極而形成一顯示幀。此后，將行脈沖施加于行1的電極，從而激勵與所確定的列線對應(yīng)的像素。此后，將所確定的一組列電極變成與第二行中所期望的一組受激勵像素對應(yīng)。接著，將脈沖施加于行2電極，從而根據(jù)所確定的列電極來激勵行2中的適當(dāng)像素。行1的像素不受行2脈沖的影響，且保持在其在行1脈沖期間所設(shè)定的狀態(tài)下。可按順序性方式對整個系列的行重復(fù)此過程，以產(chǎn)生所述幀。通常，通過以某一所需幀數(shù)/秒的速度連續(xù)重復(fù)此過程，用新的顯示數(shù)據(jù)刷新和/或更新這些幀。其他還有很多種用于驅(qū)動像素陣列的行和列電極以產(chǎn)生顯示幀的協(xié)議也已經(jīng)為人們所熟知，且可與本發(fā)明結(jié)合使用。
圖4、圖5A和圖5B顯示用于在圖2所示的3×3陣列上形成一顯示幀的一種可能的激勵協(xié)議。圖4顯示可用于那些展現(xiàn)圖3的滯后曲線的像素的可能的一組列和行電壓電平。在圖4所示的實施例中，激勵一像素包括將適當(dāng)?shù)牧性O(shè)定至-Vbias，并將適當(dāng)?shù)男性O(shè)定至+ΔV，可分別對應(yīng)于-5V和+5V。通過將適當(dāng)?shù)牧性O(shè)定至+Vbias并將適當(dāng)?shù)男性O(shè)定至相同的+ΔV來實現(xiàn)像素的釋放，在像素上產(chǎn)生0伏的電位差。在那些行電壓保持在0伏的行中，像素穩(wěn)定在其最初所處的任何狀態(tài)，而與所述列是處于+Vbias還是-Vbias無關(guān)。
圖5B為一顯示一系列施加至圖2所示的3×3陣列的行和列信號的時序圖，其將形成圖5A所示的顯示器排列，其中受激勵像素為非反射性的。在寫入圖5A所示的幀之前，像素可處于任何狀態(tài)，且在本實例中，所有的行均處于0伏，且所有的列均處于+5伏。在這些施加電壓下，所有的像素穩(wěn)定于其現(xiàn)有的受激勵狀態(tài)或釋放狀態(tài)。
在圖5A所示的幀中，像素(1，1)、(1，2)、(2，2)、(3，2)和(3，3)受激勵。為實現(xiàn)此，在行1的“行時間(line time)”期間，將列1和列2設(shè)定為-5伏，且將列3設(shè)定為+5伏。這不會改變?nèi)魏蜗袼氐臓顟B(tài)，因為所有的像素均保持處于3-7伏的穩(wěn)定窗口內(nèi)。此后，通過一從0伏上升至5伏然后又回到0伏的脈沖來選通行1。此激勵了像素(1，1)和(1，2)并釋放了像素(1，3)。陣列中的其他像素均不受影響。為將行2設(shè)定為所期望的狀態(tài)，將列2設(shè)定為-5伏，且將列1和列3設(shè)定為+5伏。此后，向行2施加相同的選通脈沖將激勵像素(2，2)并釋放像素(2，1)和(2，3)。同樣，陣列中的其他像素均不受影響。類似地，通過將列2和列3設(shè)定為-5伏并將列1設(shè)定為+5伏而對行3進(jìn)行設(shè)定。行3的選通脈沖將行3像素設(shè)定為如圖5A所示。在寫入幀之后，行電位為0，而列電位可保持在+5伏或-5伏，且此后顯示器將穩(wěn)定于圖5A所示的排列。應(yīng)了解，可對由數(shù)十或數(shù)百個行和列構(gòu)成的陣列使用相同的程序。還應(yīng)了解，用于執(zhí)行行和列激勵的電壓的時間、順序及電平可在上述的一般原理內(nèi)有很大變化，且上述實例僅為例示性的，而任何激勵電壓方法均可用于本發(fā)明。
按照上述原理運行的干涉式調(diào)制器的詳細(xì)結(jié)構(gòu)可有很大不同。例如，圖6A-6C顯示移動鏡結(jié)構(gòu)的三個不同實施例。圖6A為圖1所示實施例的截面圖，其中一金屬材料條帶14沉積于垂直延伸的支撐件18上。在圖6B中，可移動反射材料14僅附接到支撐件的隅角處，于系鏈32上。在圖6C中，可移動反射材料14從一可變形膜34懸掛下來。本實施例具有優(yōu)勢，因為反射材料14的結(jié)構(gòu)設(shè)計及所用材料可在光學(xué)特性方面得到優(yōu)化，且可變形層34的結(jié)構(gòu)設(shè)計和所用材料可在所期望的機(jī)械特性方面得到優(yōu)化。在許多公開文件中，包括(例如)第2004/0051929號美國公開申請案，描述了各種不同類型的干涉式裝置的制造。可將多種已知的技術(shù)用于產(chǎn)生以上所描述的涉及一系列材料沉積、圖案化和蝕刻步驟的結(jié)構(gòu)。
以上所描述的一般設(shè)計的干涉式調(diào)制器包含至少一個支柱結(jié)構(gòu)。(參看，例如，圖1和圖6中的支柱18)?！爸е被颉爸еY(jié)構(gòu)”為位于干涉腔側(cè)面或隅角處(或在毗連的干涉腔之間)，用于支撐電極(和/或鏡)和/或維持或有助于維持電極(和/或鏡面)間所需距離的結(jié)構(gòu)。因此，所述支柱結(jié)構(gòu)可鄰接于一開區(qū)域且可為一垂直延伸支撐件(例如，支撐件18)。如上所述，由支柱結(jié)構(gòu)支撐的電極或鏡面可包含一柔性構(gòu)件，所述柔性構(gòu)件隨著在腔內(nèi)施加電場而在干涉式調(diào)制器中的開區(qū)域中彎曲。支柱結(jié)構(gòu)一般具有大約3至大約15微米的寬度，但是支柱結(jié)構(gòu)的寬度可在此范圍之外。支柱結(jié)構(gòu)的形狀也可變化。所述支柱結(jié)構(gòu)可具有一近似地對應(yīng)于干涉腔高度(例如，在上和下鏡面之間的間隔)的高度。然而，支柱結(jié)構(gòu)的高度可更大或更小的。例如，可使所述支柱結(jié)構(gòu)形成在一材料層上或在一支座上且因此可將其升至所述下鏡面上的電平。同樣地，所述支柱結(jié)構(gòu)可延伸至一高于上鏡面的高度或至一低于下鏡面的深度。參看，例如，圖6C，其中顯示了附接于一由所述支柱結(jié)構(gòu)所支撐的電極的上鏡面。
可由各種彼此具有明顯不同光學(xué)特性的材料(例如，金屬、二氧化硅、金屬氧化物、聚合物等)來形成支柱結(jié)構(gòu)。已發(fā)現(xiàn)，所述支柱結(jié)構(gòu)的配置及構(gòu)成其的材料可很大地影響干涉式調(diào)制器的性能。例如，圖7A顯示了一示意性說明一透明支柱結(jié)構(gòu)305和一干涉腔310的干涉式調(diào)制器的橫截面。如圖7A中的一系列箭頭325所示，穿過襯底315進(jìn)入且進(jìn)入支柱結(jié)構(gòu)305的光可從上鏡面結(jié)構(gòu)320反射再往回穿過襯底315退出。當(dāng)是出于與由所述一系列箭頭325所示的反射光的光學(xué)特征無關(guān)的原因而選擇支柱305的配置和用于制造支柱305的材料時，支柱的光學(xué)特征基本上不受控制且未必是有利的。
如另一實例，圖7B顯示一示意性說明一反射支柱結(jié)構(gòu)350和一干涉腔355的干涉式調(diào)制器的橫截面。如圖7B中的一系列箭頭365所示，穿過襯底360進(jìn)入的光自支柱350的底部反射再往回穿過襯底360退出。如同圖7A，由一系列箭頭365所示的入射光的光學(xué)特征是不受控制的且未必是有利的。
如另一實例，圖8A顯示一具有金屬支柱的干涉式調(diào)制器的陣列的顯微照相。亮點405是由從金屬支柱的底部反射的光產(chǎn)生。圖8B顯示了一類似的顯微照相，其中暗點410是由穿過透明二氧化硅支柱的光產(chǎn)生。暗點410的顏色通常不同于從干涉式調(diào)制器退出的光。
現(xiàn)已發(fā)現(xiàn)，可將光學(xué)元件并入到干涉式調(diào)制器的支柱結(jié)構(gòu)中以提供各種所需的光學(xué)效應(yīng)。在一實施例中，所述光學(xué)元件為一反射器。此反射器可具有各種配置。例如，圖9顯示一示意性說明包含光學(xué)元件的支柱結(jié)構(gòu)的干涉式調(diào)制器的橫截面。在圖9中，將一反射器550是制造于一透明支柱結(jié)構(gòu)555內(nèi)。此反射器550具有一用于反射入射在其上的入射光的反射表面。此反射器550可包含一諸如金屬的反射材料。可使用半導(dǎo)體制造技術(shù)來形成所述反射器550，例如，通過沉積二氧化硅作為下支柱部分555A，接著形成包含諸如金屬的反射器550，接著沉積額外的二氧化硅作為上支柱部分555B。在所述支柱結(jié)構(gòu)內(nèi)的光學(xué)元件也可為一反射器，所述反射器為標(biāo)準(zhǔn)具的一個組件(Fabry-Perot干涉儀)，例如，由上金屬反射器570和反射器575所形成的標(biāo)準(zhǔn)具565。所述標(biāo)準(zhǔn)具565形成一含有(例如)二氧化硅的支柱結(jié)構(gòu)材料的光學(xué)空腔(Fabry-Perot空腔)。可通過控制在所述支柱結(jié)構(gòu)585內(nèi)的反射器570的垂直位置(以及在反射器570和575之間的材料)來控制退出標(biāo)準(zhǔn)具565的反射光580的顏色。可通過調(diào)節(jié)反射器的垂直位置調(diào)節(jié)反射光580的顏色以呈現(xiàn)一黑色外觀，以便吸收幾乎全部的入射光或可見入射光或不將其往回反射給觀察者，從而產(chǎn)生一暗色標(biāo)準(zhǔn)具。也可通過將兩個金屬反射器層590、592并入圖9所說明的支柱結(jié)構(gòu)中，將一標(biāo)準(zhǔn)具588(例如，暗色或有色標(biāo)準(zhǔn)具)并入到一支柱結(jié)構(gòu)中。可通過控制在所述反射器層之間的支柱材料591的厚度來調(diào)節(jié)標(biāo)準(zhǔn)具588的顏色。
將圖9所示的反射器550、570、590和592具有大體上平行于反射器575的反射表面。所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員將了解可將諸如反射器的光學(xué)元件定向在各種角度且可配置為各種形狀。圖10顯示可被并入到干涉式調(diào)制器的支柱結(jié)構(gòu)中的光學(xué)元件的其他實例。在圖10中，已使用半導(dǎo)體制造技術(shù)將反射器605、610、615、620制造到支柱結(jié)構(gòu)606、611、616、621內(nèi)。使反射器605、610、615、620的表面以各種角度傾斜?？墒褂盟鶎兕I(lǐng)域的技術(shù)人員所熟知的各種技術(shù)制造具有有角表面的光學(xué)元件。舉例而言，所述技術(shù)包括錐形角蝕刻(參看，例如，第5,473,710號美國專利)。在圖10的左側(cè)，上鏡面625處于一高出的位置。如由一系列箭頭635所示，來自背光源630的光從反射器605、610的傾斜表面反射到上鏡面625。因此，反射器605、610為配置用于將光引導(dǎo)入干涉腔623內(nèi)的光學(xué)元件的實例。所引導(dǎo)的光也從上鏡面625反射且按照箭頭626所示退出，從而增加了干涉式調(diào)制器的亮度。
在圖10的右側(cè)，上鏡面650處于一降低位置。如一系列箭頭665所示，來自背光源660的光從反射器615、620的傾斜表面反射，大體上反射回源660(而非穿過支柱結(jié)構(gòu))。圖10還顯示了通過將兩個金屬反射器671、672并入包括反射器620的支柱結(jié)構(gòu)621中來形成一暗色標(biāo)準(zhǔn)具673。因此，圖10顯示了在支柱結(jié)構(gòu)內(nèi)使用光學(xué)元件來控制背光照明和在相同支柱結(jié)構(gòu)中并入多個光學(xué)元件。所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員將了解，圖10說明了一光學(xué)元件在支柱結(jié)構(gòu)中的性能可根據(jù)一鄰近的干涉式調(diào)制器的狀態(tài)(例如，驅(qū)動或不驅(qū)動)而變化。
圖11說明了在一支柱結(jié)構(gòu)中使用光學(xué)元件，以通過將來自干涉式調(diào)制器前端的光重新引導(dǎo)入干涉腔內(nèi)而增加干涉式調(diào)制器的亮度。在圖11的左側(cè)，上鏡面705處于一高出的位置。一系列箭頭710代表來自前端光源702的光，其進(jìn)入支柱結(jié)構(gòu)715，從有角反射器720反射至上鏡面705，且接著往回大體上在光源702的方向上退出干涉腔725，由此增加了亮度。在圖11的右側(cè)，上鏡面750處于一降低位置，且一類似配置用于通過重新引導(dǎo)光(由一系列箭頭755所示)遠(yuǎn)離光源703來增加黑色度。因此，來自前端光源703的光從反射器760的有角表面反射且在大體上遠(yuǎn)離光源703的方向中從干涉腔765的背面退出。
所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員將了解，可將各種具有若干配置的光學(xué)元件并入到支柱結(jié)構(gòu)中。所述光學(xué)元件的非限制性實例包括反射器、標(biāo)準(zhǔn)具、光散射元件(諸如微觀玻璃粒子)、光衍射元件、全內(nèi)反射(TIR)元件和折射元件。透鏡和棱鏡均有可能。諸如反射器表面的光學(xué)元件的表面可以為彎曲的(例如球面的或拋物線的)或平坦的，且以各種角度傾斜或下傾。同樣，可以各種方式配置透鏡，例如，凸面的、凹面的等等，而且也可在所述支柱結(jié)構(gòu)內(nèi)以各種角度傾斜或下傾。非對稱以及對稱的形狀和構(gòu)造均可能。所述光學(xué)元件的表面可為光滑或粗糙的。反射可為鏡面反射或漫射。所述光學(xué)元件可定位在所述支柱結(jié)構(gòu)中的不同位置。所述光學(xué)元件可定位在不同高度處且在所述支柱內(nèi)可為偏離中心的。所述光學(xué)元件可具有不同的定向而且可以是傾斜的。不同的支柱結(jié)構(gòu)可具有具不同特征的光學(xué)元件。
另一實例提供了一種用于制造一干涉式調(diào)制器的方法?？墒褂盟鶎兕I(lǐng)域的技術(shù)人員所熟知的技術(shù)來執(zhí)行方法800的步驟(圖12)。所述過程開始于步驟805，將一反射層沉積到一襯底上以形成一第一鏡面?？赏ㄟ^(例如)化學(xué)氣相沉積一諸如金屬(例如，氧化銦錫和/或鉻)的半反射材料來執(zhí)行反射層的沉積。步驟805中的第一鏡面的形成可進(jìn)一步包含在所述金屬層上沉積一介電材料(例如，二氧化硅)。所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員將了解，所述第一鏡面可為一光學(xué)堆疊，且因此步驟805中的第一鏡面的形成可涉及沉積多個金屬層，例如，鉻和氧化銦錫。
此過程繼續(xù)至步驟810，在第一鏡面上沉積一犧牲層。舉例而言，可通過化學(xué)氣相沉積一材料來執(zhí)行犧牲層的沉積，所述材料可在一后來的蝕刻步驟中選擇性地去除。所述犧牲材料的實例包括鉬和硅。此過程繼續(xù)至步驟815，使用所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員所熟知的掩蔽技術(shù)(masking)和蝕刻技術(shù)在所述犧牲層中形成孔徑。此過程繼續(xù)至步驟820，在孔徑中沉積支柱材料。可使用光學(xué)上透射可見光的支柱材料。合適的支柱材料的實例包括二氧化硅和光致抗蝕劑，可通過(例如)已知的旋壓和化學(xué)氣相沉積技術(shù)沉積所述支柱材料。在一實施例中，所沉積的支柱材料部分地填充所述孔徑，這取決于所述支柱內(nèi)的光學(xué)元件的所需垂直位置。在隨后的步驟825中，將用于形成光學(xué)元件的材料層沉積在孔徑內(nèi)的支柱材料上?？墒褂酶鞣N已知的沉積和/或圖案化方法(諸如用于有角表面的錐形蝕刻)形成所述光學(xué)元件。視需要，可將額外的支柱材料沉積在孔徑內(nèi)的光學(xué)元件上。
此過程繼續(xù)至步驟830，在犧牲層和光學(xué)元件上形成一可移動的第二鏡面?？梢愿鞣N方式執(zhí)行所述可移動的第二鏡面的形成，這取決于以上所討論的所需鏡面配置。此過程繼續(xù)至步驟835，除去所述犧牲層以由此形成一干涉腔?？墒褂酶鞣N蝕刻方法來有效除去所述犧牲層，例如，通過使?fàn)奚鼘颖┞吨烈恢T如XeF2的蝕刻劑來選擇性地去除諸如鉬和硅的犧牲材料。所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員將了解，可根據(jù)需要修改圖12中所示的方法以產(chǎn)生具有各種配置的干涉式調(diào)制器。
所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員將了解，一支柱結(jié)構(gòu)可包含復(fù)數(shù)個光學(xué)元件。舉例而言，可使用上述制造方法的局部修改將兩個或兩個以上的反射器制造在一支柱結(jié)構(gòu)中的不同高度處。所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員還將了解，在一支柱結(jié)構(gòu)中使用復(fù)數(shù)個光學(xué)元件可用于提供各種光學(xué)益處或其組合，例如，比使用單一光學(xué)元件更多樣的顏色。
圖13A和圖13B為顯示一顯示裝置2040的一實施例的系統(tǒng)方框圖。所述顯示裝置2040可為(例如)一蜂窩式電話或移動電話。然而，顯示裝置2040的相同組件或其輕微變型也可例示不同類型的顯示裝置，例如電視或便攜式媒體播放器。
顯示裝置2040包括一外殼2041、一顯示器2030、一天線2043、一揚聲器2045、一輸入裝置2048及一麥克風(fēng)2046。外殼2041通常由所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員所熟知的各種制造工藝中的任何一種制成，包括注射成型及真空成形。另外，外殼2041可由多種材料中的任何一種制成，包括(但不限于)塑料、金屬、玻璃、橡膠和陶瓷或其組合。在一實施例中，外殼2041包括可與其他具有不同顏色或包含不同標(biāo)志、圖片或符號的可移動部分互換的可移動部分(未示出)。
例示性顯示裝置2040的顯示器2030可為許多種顯示器中的任何一種，包括如本文中所述的雙穩(wěn)態(tài)顯示器。在其他實施例中，如所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員所熟知，顯示器2030包括一平板顯示器，例如，如上所述的等離子體、EL、OLED、STN LCD或TFT LCD；或一非平板顯示器，例如CRT或其他電子管裝置。不過，如本文所述，出于說明本實施例的目的，顯示器2030包含一干涉式調(diào)制器顯示器。圖13B示意性地顯示例示性顯示裝置2040的一個實施例的組件。所示例示性顯示裝置2040包括一外殼2041且可包括其他至少部分地封閉在外殼2041內(nèi)的組件。例如，在一實施例中，例示性顯示裝置2040包括一網(wǎng)絡(luò)接口2027，網(wǎng)絡(luò)接口2027包括一耦接至一收發(fā)器2047的天線2043。收發(fā)器2047連接至與調(diào)節(jié)硬件2052相連的處理器202 1。調(diào)節(jié)硬件2052可配置成調(diào)節(jié)一信號(例如對信號進(jìn)行濾波)。調(diào)節(jié)硬件2052連接至一揚聲器2045及一麥克風(fēng)2046。處理器2021也連接至一輸入裝置2048及一驅(qū)動控制器2029。驅(qū)動控制器2029耦接至一幀緩沖器2028及陣列驅(qū)動器2022，陣列驅(qū)動器2022又耦接至一顯示器陣列2030。一電源2050根據(jù)所述特定例示性顯示裝置2040的設(shè)計的要求向所有組件提供功率。
網(wǎng)絡(luò)接口2027包括天線2043及收發(fā)器2047，以使例示性顯示裝置2040可通過網(wǎng)絡(luò)與一個或多個裝置通信。在一實施例中，網(wǎng)絡(luò)接口2027還可具有某些處理功能，以降低對處理器2021的要求。天線2043為所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員習(xí)知的任一種用于發(fā)射和接收信號的天線。在一實施例中，所述天線根據(jù)IEEE 802.11標(biāo)準(zhǔn)(包括IEEE 802.11(a)、(b)或(g))發(fā)射和接收RF信號。在另一實施例中，所述天線根據(jù)藍(lán)牙(BLUETOOTH)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)射和接收RF信號。倘若為一蜂窩式電話，則所述天線設(shè)計成接收用于在一無線蜂窩電話網(wǎng)絡(luò)內(nèi)進(jìn)行通信的CDMA、GSM、AMPS或其他習(xí)知信號。收發(fā)器2047預(yù)處理自天線2043接收的信號，以使這些信號可由處理器2021接收及進(jìn)一步處理。收發(fā)器2047還處理自處理器2021接收到的信號，以便可通過天線2043自例示性顯示裝置2040發(fā)射這些信號。
在一替代實施例中，收發(fā)器2047可由一接收器替代。在另一替代實施例中，網(wǎng)絡(luò)接口2027可由一可儲存或產(chǎn)生待發(fā)送至處理器2021的圖像數(shù)據(jù)的圖像源替代。例如，所述圖像源可為一數(shù)字視頻光盤(DVD)或一包含圖像數(shù)據(jù)的硬盤驅(qū)動器或一產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)的軟件模塊。
處理器2021通?？刂评拘燥@示裝置2040的整體運行。處理器2021自網(wǎng)絡(luò)接口2027或一圖像源接收數(shù)據(jù)，例如經(jīng)壓縮的圖像數(shù)據(jù)，并將所述數(shù)據(jù)處理成原始圖像數(shù)據(jù)或一種易于處理成原始圖像數(shù)據(jù)的格式。此后，處理器2021將處理后的數(shù)據(jù)發(fā)送至驅(qū)動控制器2029或幀緩沖器2028進(jìn)行存儲。原始數(shù)據(jù)通常指標(biāo)識一圖像內(nèi)每一位置處的圖像特征的信息。例如，這些圖像特征可包括顏色、飽和度及灰度級。
在一實施例中，處理器2021包括一微處理器、CPU或用于控制例示性顯示裝置2040的運行的邏輯單元。調(diào)節(jié)硬件2052通常包括用于向揚聲器2045傳輸信號及從麥克風(fēng)2046接收信號的放大器及濾波器。調(diào)節(jié)硬件2052可為例示性顯示裝置2040內(nèi)的離散組件，或者可并入處理器2021或其他組件內(nèi)。
驅(qū)動控制器2029直接從處理器2021或從幀緩沖器2028接收由處理器2021產(chǎn)生的原始圖像數(shù)據(jù)，并將所述原始圖像數(shù)據(jù)適當(dāng)?shù)刂匦赂袷交愿咚賯鬏斨陵嚵序?qū)動器2022。具體而言，驅(qū)動控制器2029將原始圖像數(shù)據(jù)重新格式化為一具有一光柵類格式的數(shù)據(jù)流，以使其具有一適用于掃描整個顯示器陣列2030的時間次序。此后，驅(qū)動控制器2029將格式化后的信息發(fā)送至陣列驅(qū)動器2022。盡管一驅(qū)動控制器2029(例如一LCD控制器)通常作為一獨立的集成電路(IC)與系統(tǒng)處理器2021相關(guān)聯(lián)，但這些控制器可按多種方式實施。其可作為硬件嵌入處理器2021中、作為軟件嵌入處理器2021中、或以硬件形式與陣列驅(qū)動器2022完全集成在一起。
通常，陣列驅(qū)動器2022自驅(qū)動控制器2029接收格式化后的信息并將視頻數(shù)據(jù)重新格式化為一組平行的波形，所述組平行的波形每秒許多次地施加至來自顯示器的x-y像素矩陣的數(shù)百且有時是數(shù)千條引線。
在一實施例中，驅(qū)動控制器2029、陣列驅(qū)動器2022及顯示器陣列2030適用于本文所述的任何類型的顯示器。例如，在一實施例中，驅(qū)動控制器2029為一傳統(tǒng)的顯示控制器或一雙穩(wěn)態(tài)顯示控制器(例如一干涉式調(diào)制器控制器)。在另一實施例中，陣列驅(qū)動器2022為一傳統(tǒng)驅(qū)動器或一雙穩(wěn)態(tài)顯示驅(qū)動器(例如一干涉式調(diào)制器顯示器)。在一實施例中，一驅(qū)動控制器2029與陣列驅(qū)動器2022集成在一起。此一實施例在例如蜂窩式電話、表及其他小面積顯示器等高度集成的系統(tǒng)中很常見。在又一實施例中，顯示器陣列2030為一典型的顯示器陣列或一雙穩(wěn)態(tài)顯示器陣列(例如一包含一干涉式調(diào)制器陣列的顯示器)。
輸入裝置2048允許使用者能控制例示性顯示裝置2040的運行。在一實施例中，輸入裝置2048包括一小鍵盤(例如QWERTY鍵盤或電話小鍵盤)、一按鈕、一開關(guān)、一觸敏屏幕、一壓敏或熱敏膜。在一實施例中，麥克風(fēng)2046是例示性顯示裝置2040的一輸入裝置。當(dāng)使用麥克風(fēng)2046向所述裝置輸入數(shù)據(jù)時，可由使用者提供語音命令來控制例示性顯示裝置2040的運行。
電源2050可包括所屬領(lǐng)域中眾所周知的各種能量存儲裝置。例如，在一實施例中，電源2050是一可再充電的蓄電池，例如鎳-鎘蓄電池或鋰離子蓄電池。在另一實施例中，電源2050是一可再生能源、電容器或太陽能電池，包括塑料太陽能電池及太陽能電池涂料。在另一實施例中，電源2050經(jīng)配置以從墻上插座接收電力。
如上文所述，在某些實施方案中，控制可編程性駐存于一驅(qū)動控制器中，所述驅(qū)動控制器可位于電子顯示系統(tǒng)中的數(shù)個位置上。在某些情形中，控制可編程性駐存于陣列驅(qū)動器2022中。所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員將了解，可以任意數(shù)量的硬件及/或軟件組件及不同的配置來實施上述優(yōu)化。
盡管上文具體實施方式
已經(jīng)顯示、描述和指出了本發(fā)明應(yīng)用于各種實施例的新穎特征，但是應(yīng)理解，所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員可在不脫離本發(fā)明的精神的情形下對所示的裝置或過程的形式和細(xì)節(jié)做出各種省略、替代或者改變。應(yīng)了解，由于一些特征可獨立于其他特征來使用或?qū)嵺`，所以本發(fā)明可具體體現(xiàn)為不提供本文所述的全部特征和優(yōu)點的形式。
權(quán)利要求
1.一種包含一支柱結(jié)構(gòu)的干涉式調(diào)制器，其中所述支柱結(jié)構(gòu)包含一光學(xué)元件。
2.如權(quán)利要求1所述的干涉式調(diào)制器，其中所述光學(xué)元件包含一標(biāo)準(zhǔn)具的一個鏡面。
3.如權(quán)利要求2所述的干涉式調(diào)制器，其中所述標(biāo)準(zhǔn)具為一暗色標(biāo)準(zhǔn)具。
4.如權(quán)利要求1所述的干涉式調(diào)制器，其中所述光學(xué)元件被配置以使光偏轉(zhuǎn)。
5.如權(quán)利要求1所述的干涉式調(diào)制器，其中所述光學(xué)元件被配置以反射光。
6.如權(quán)利要求1所述的干涉式調(diào)制器，其中所述光學(xué)元件被配置以散射光。
7.如權(quán)利要求1所述的干涉式調(diào)制器，其中所述光學(xué)元件包含一反射表面。
8.如權(quán)利要求7所述的干涉式調(diào)制器，其中所述反射表面被配置以將光引導(dǎo)入所述干涉式調(diào)制器的一干涉腔內(nèi)。
9.如權(quán)利要求8所述的干涉式調(diào)制器，其中所述反射表面被配置以增加所述干涉式調(diào)制器的背光。
10.如權(quán)利要求8所述的干涉式調(diào)制器，其中所述支柱結(jié)構(gòu)進(jìn)一步包含一暗色標(biāo)準(zhǔn)具。
11.如權(quán)利要求8所述的干涉式調(diào)制器，其中所述反射表面被配置以增加所述干涉式調(diào)制器的亮度。
12.如權(quán)利要求1所述的干涉式調(diào)制器，其進(jìn)一步包含界定一光學(xué)空腔的一第一鏡面和一可移動的第二鏡面，所述第一鏡面和所述第二鏡面中的至少一個是由所述支柱結(jié)構(gòu)來支撐。
13.一種制造一干涉式調(diào)制器的方法，其包含在一襯底之上沉積一反射層，以形成一第一鏡面；在所述第一鏡面上沉積一犧牲層；在所述犧牲層內(nèi)形成孔徑；在所述孔徑內(nèi)沉積支柱材料；在所述支柱材料上形成一光學(xué)元件；在所述犧牲層和所述光學(xué)元件上形成一可移動的第二鏡面；及除去所述犧牲層，從而形成一干涉腔。
14.如權(quán)利要求13所述的方法，其中形成所述光學(xué)元件包含錐形蝕刻。
15.如權(quán)利要求13所述的方法，其中形成所述光學(xué)元件包含形成一反射鏡、一標(biāo)準(zhǔn)具或一微透鏡。
16.如權(quán)利要求13所述的方法，其進(jìn)一步包含在所述光學(xué)元件上沉積額外的支柱材料。
17.一種通過權(quán)利要求13-16中任一權(quán)利要求所述的方法制成的干涉式調(diào)制器。
18.一種干涉式調(diào)制器，其包含用于反射光和產(chǎn)生光學(xué)干涉的第一和第二構(gòu)件，所述第二反射構(gòu)件可相對于所述第一反射構(gòu)件移動；和用于支撐所述第二反射構(gòu)件以便分離所述第一與所述第二構(gòu)件的構(gòu)件，其中所述支撐構(gòu)件中包括用于操縱進(jìn)入所述支撐構(gòu)件的光的構(gòu)件。
19.如權(quán)利要求18所述的干涉式調(diào)制器，其中所述第一和所述第二反射構(gòu)件包含至少局部反射表面。
20.如權(quán)利要求18或19所述的干涉式調(diào)制器，其中所述支撐構(gòu)件包含至少一個支柱結(jié)構(gòu)。
21.如權(quán)利要求18所述的干涉式調(diào)制器，其中所述操縱構(gòu)件包含一光學(xué)元件。
22.一種包含權(quán)利要求1-12和17-21中任一權(quán)利要求所述的干涉式調(diào)制器的顯示裝置，其進(jìn)一步包含一與所述干涉式調(diào)制器電通信的處理器，所述處理器被配置以處理圖像數(shù)據(jù)；一與所述處理器電通信的存儲裝置。
23.如權(quán)利要求22所述的裝置，其進(jìn)一步包含一第一控制器，其被配置以發(fā)送至少一個信號至所述至少一個顯示器；和一第二控制器，其被配置以發(fā)送至少一部分所述圖像數(shù)據(jù)至所述第一控制器。
24.如權(quán)利要求23所述的裝置，其進(jìn)一步包含一圖像源模塊，其被配置以發(fā)送所述圖像數(shù)據(jù)至所述處理器。
25.如權(quán)利要求24所述的裝置，其中所述圖像源模塊包含一接收器、收發(fā)器和發(fā)射器中的至少一個。
26.如權(quán)利要求22所述的裝置，其進(jìn)一步包含一輸入裝置，其被配置以接收輸入數(shù)據(jù)且將所述輸入數(shù)據(jù)傳送至所述處理器。
27.一種調(diào)制光的方法，其包含反射傳播至第一和第二反射表面的光，從而產(chǎn)生光學(xué)干涉，所述第二反射表面是由至少一個支柱結(jié)構(gòu)來支撐；操縱傳播至所述支柱結(jié)構(gòu)中的光；和相對于所述第一反射表面移動所述第二反射表面，從而影響所述光學(xué)干涉。
28.如權(quán)利要求27所述的方法，其中所述操縱光包含將所述光引導(dǎo)至所述第一和所述第二反射表面中的至少一個。
29.如權(quán)利要求27所述的方法，其中所述操縱光包含將所述光反射至所述第一和所述第二反射表面中的至少一個。
全文摘要
一種干涉式調(diào)制器包括一包含一光學(xué)元件的支柱結(jié)構(gòu)。在一優(yōu)選實施例中，在所述支柱結(jié)構(gòu)中的光學(xué)元件為一反射元件，例如，鏡面。在另一實施例中，所述支柱結(jié)構(gòu)中的光學(xué)元件為一標(biāo)準(zhǔn)具，例如，一暗色標(biāo)準(zhǔn)具。所述支柱結(jié)構(gòu)中的光學(xué)元件可減少原本將由所述支柱結(jié)構(gòu)回射的光的數(shù)量。在各實施例中，所述支柱結(jié)構(gòu)中的光學(xué)元件通過將光重新引導(dǎo)入所述干涉腔內(nèi)來增加所述干涉式調(diào)制器的亮度。例如，在一些實施例中，所述支柱結(jié)構(gòu)中的光學(xué)元件增加了干涉式調(diào)制器的背光照明。
文檔編號G02B26/00GK1755476SQ20051010344
公開日2006年4月5日 申請日期2005年9月15日 優(yōu)先權(quán)日2004年9月27日
發(fā)明者董明孝, 斯里尼瓦斯·塞瑟拉曼 申請人:Idc公司