專利名稱：載置臺(tái)裝置及曝光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種載置臺(tái)裝置，特別涉及適合用于獨(dú)立地構(gòu)成對(duì)準(zhǔn)系和曝光系的曝光裝置的載置臺(tái)裝置。
背景技術(shù)：
在日本特開(kāi)2001-217183號(hào)公報(bào)中公開(kāi)了這樣的曝光裝置的構(gòu)成，在該構(gòu)成中，分別獨(dú)立地構(gòu)成對(duì)準(zhǔn)系和曝光系，而且將平面電動(dòng)機(jī)用作定位載置臺(tái)。圖8為示出由日本特開(kāi)2001-217183號(hào)公報(bào)公開(kāi)的曝光裝置的載置臺(tái)裝置的圖。
圖中PL為投影光學(xué)系，ALG示出對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系。作為基座的定子112具有測(cè)量(對(duì)準(zhǔn))區(qū)域和曝光區(qū)域，兩個(gè)可動(dòng)載置臺(tái)(WST1、WST2)可在測(cè)量區(qū)域和曝光區(qū)域獨(dú)立地移動(dòng)。因此，屬于這樣的曝光系統(tǒng)，該曝光系統(tǒng)通過(guò)與曝光同時(shí)地進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量，從而提高吞吐能力。
平面電動(dòng)機(jī)具有排列于可動(dòng)載置臺(tái)(WST1、WST2)背面的圖中未示出的磁鐵組和按矩陣狀排列于定子112內(nèi)的線圈組98，磁鐵組的磁通與在線圈中流動(dòng)的電流的相互作用產(chǎn)生的洛倫茲力可相對(duì)定子112使可動(dòng)載置臺(tái)(WST1、WST2)相對(duì)移動(dòng)。
另外，關(guān)于平面電動(dòng)機(jī)的線圈冷卻構(gòu)造，圖7示出在日本特開(kāi)2001-175434號(hào)公報(bào)中公開(kāi)的構(gòu)成。平面電動(dòng)機(jī)定子的線圈組具有由定子主體32密閉的構(gòu)造，在圖7中，從88A(88B)流入制冷劑，從92A(92B)排出制冷劑，從而由制冷劑冷卻定子內(nèi)的線圈組。
其中，用于進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量的載置臺(tái)動(dòng)作和用于進(jìn)行曝光的載置臺(tái)動(dòng)作一般不同。由于在曝光過(guò)程中對(duì)曝光對(duì)象的所有照射區(qū)域進(jìn)行掃描動(dòng)作，所以，載置臺(tái)在某一程度對(duì)整個(gè)區(qū)域均勻移動(dòng)，但在對(duì)準(zhǔn)測(cè)量中，隨要求的精度和測(cè)量方法不同，對(duì)載置臺(tái)要求的移動(dòng)也多種多樣。為此，可以預(yù)想到，通常配置于曝光區(qū)域的線圈組與配置于測(cè)量區(qū)域的線圈組的通電量也不同，當(dāng)然線圈組的發(fā)熱量也不同。
例如，在對(duì)準(zhǔn)測(cè)量中，如采取不測(cè)量晶片整體而是僅測(cè)量某一代表點(diǎn)的方式，則在對(duì)準(zhǔn)測(cè)量中要求的載置臺(tái)的移動(dòng)可比曝光區(qū)域少，線圈的通電量和通電時(shí)間也比曝光區(qū)域的線圈小。因此，測(cè)量區(qū)域的線圈組的發(fā)熱量比曝光區(qū)域的發(fā)熱量小，即定子內(nèi)線圈組的發(fā)熱在兩個(gè)區(qū)域間產(chǎn)生大的差異。
為此，在如圖8所法那樣獨(dú)立地具有曝光區(qū)域和測(cè)量區(qū)域這樣兩個(gè)區(qū)域的曝光裝置中，對(duì)于如圖7所示那樣將定子內(nèi)的線圈組全部集中起來(lái)進(jìn)行冷卻的構(gòu)造，可預(yù)想到冷卻效率不好。通常，對(duì)于在圖7的制冷劑配管89A(89B)中流動(dòng)的制冷劑，相對(duì)發(fā)熱大的線圈以達(dá)到容許溫度或其以下的方式進(jìn)行流量設(shè)定。
為此，在集中冷卻定子內(nèi)的線圈組的構(gòu)成的場(chǎng)合，如線圈發(fā)熱的偏差大，則相對(duì)發(fā)熱小的線圈用過(guò)度的制冷劑流量進(jìn)行冷卻。結(jié)果，整體大量的制冷劑流動(dòng)的分配產(chǎn)生不易抑制線圈最高溫度的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，在具有不同的處理區(qū)域的載置臺(tái)裝置中，以良好的效率冷卻搭載了對(duì)象物的動(dòng)子的驅(qū)動(dòng)產(chǎn)生的發(fā)熱。
為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明的載置臺(tái)裝置使用平面電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)搭載了對(duì)象物的動(dòng)子；其特征在于上述載置臺(tái)裝置包含具有線圈組的定子單元和在上述定子單元上移動(dòng)的動(dòng)子，上述定子單元具有對(duì)上述對(duì)象物進(jìn)行第一處理的第一區(qū)域和對(duì)上述對(duì)象物進(jìn)行第二處理的第二區(qū)域，上述定子單元內(nèi)的線圈組在各區(qū)域獨(dú)立地被溫度調(diào)節(jié)。
按照本發(fā)明，在具有不同的處理區(qū)域的載置臺(tái)裝置中，可按良好的效率冷卻由搭載了對(duì)象物的動(dòng)子的驅(qū)動(dòng)產(chǎn)生的熱。
圖1A、1B為示出實(shí)施例1的載置臺(tái)裝置的圖。
圖2為示出定子單元的詳細(xì)圖。
圖3A為奇數(shù)層的線圈排列。
圖3B為偶數(shù)層的線圈排列。
圖4為示出曝光裝置的圖。
圖5為示出器件制造方法的圖。
圖6為示出圖5的晶片處理的圖。
圖7為示出已有例的平面電動(dòng)機(jī)的冷卻構(gòu)成的圖。
圖8為示出已有例的雙載置臺(tái)的構(gòu)成的圖。
具體實(shí)施例方式
(實(shí)施例1)圖1A、1B示出實(shí)施例1的載置臺(tái)裝置。圖1A為從鉛直方向上方觀看載置臺(tái)裝置的圖，圖1B為從水平方向觀看載置臺(tái)裝置的截面圖。載置臺(tái)裝置分成曝光區(qū)域和測(cè)量區(qū)域，在曝光區(qū)域配置曝光用光學(xué)系PL，在測(cè)量區(qū)域配置對(duì)準(zhǔn)測(cè)量用的測(cè)量光學(xué)系A(chǔ)LG。
在定子單元3上，兩個(gè)可動(dòng)載置臺(tái)(WST1、WST2)可在各區(qū)域進(jìn)行曝光動(dòng)作和測(cè)量動(dòng)作。另外，可動(dòng)載置臺(tái)WST1和WST2可在測(cè)量區(qū)域與曝光區(qū)域之間相互交替移動(dòng)(交換)，例如結(jié)束了晶片的測(cè)量動(dòng)作的可動(dòng)載置臺(tái)WST2與結(jié)束了曝光的可動(dòng)載置臺(tái)WST1進(jìn)行區(qū)域的交替，可動(dòng)載置臺(tái)WST2接著進(jìn)入曝光動(dòng)作，可動(dòng)載置臺(tái)WST1將曝光完畢的晶片轉(zhuǎn)移到圖中未示出的晶片輸送系后，獲取新的晶片，轉(zhuǎn)移到對(duì)準(zhǔn)動(dòng)作。通過(guò)形成可這樣同時(shí)地進(jìn)行曝光動(dòng)作和對(duì)準(zhǔn)等測(cè)量動(dòng)作的系統(tǒng)構(gòu)成，從而可縮短整體的晶片處理時(shí)間，提高處理能力。
可動(dòng)載置臺(tái)WST1、WST2在板形的頂板背面配置圖中未示出的磁鐵組，另外，與可動(dòng)載置臺(tái)面對(duì)的定子單元3由多層的線圈列構(gòu)成的線圈組4、5和密閉這些線圈組的冷卻套6、7構(gòu)成。這樣，由通過(guò)可動(dòng)載置臺(tái)的磁鐵組與在線圈組通電的電流的相互作用發(fā)生的洛倫茲力可使可動(dòng)載置臺(tái)WST1、WST2相對(duì)定子單元3移動(dòng)。
另外，在冷卻套6、7的內(nèi)部裝入進(jìn)行了溫度管理的純水和惰性制冷劑等制冷劑，使得可直接冷卻線圈。線圈的冷卻也可通過(guò)在線圈間設(shè)置冷卻管而進(jìn)行。
圖2為放大定子單元3內(nèi)的線圈組4、5的部分的圖。如上述那樣，線圈組在鉛直方向具有多層的線圈列。圖中，從上數(shù)第一層的線圈列11為作用于X軸方向和ωz方向(繞Z軸的回轉(zhuǎn)方向)的驅(qū)動(dòng)的線圈列，通過(guò)如圖3A那樣沿X軸方向排列多個(gè)在Y軸方向具有長(zhǎng)的直線部分的線圈18而構(gòu)成。
同樣，從上數(shù)第二層的線圈列12為作用于Y軸方向和ωz方向的驅(qū)動(dòng)的線圈列，通過(guò)如圖3B那樣沿Y軸方向排列多個(gè)在X軸方向具有長(zhǎng)的直線部分的線圈19而構(gòu)成。另外，第三層的線圈列13為作用于Z軸方向和ωy方向(繞Y軸的回轉(zhuǎn)方向)的線圈列，如圖3A那樣排列，第四層的線圈列14為作用于Z軸方向和ωx方向(繞X軸的回轉(zhuǎn)方向)的線圈列，如圖4那樣排列。由該4層的線圈列可朝6軸方向驅(qū)動(dòng)可動(dòng)載置臺(tái)。
線圈組的配置不限于此，也可為如圖8那樣以矩陣狀排列線圈的構(gòu)成。進(jìn)一步說(shuō)，平面電動(dòng)機(jī)最好在定子單元具有作為發(fā)熱部分的線圈組。
各線圈列由支承構(gòu)件10支承在底座定臺(tái)17，各線圈列之間成為制冷劑流路。即，線圈的表背面可與循環(huán)的制冷劑接觸地直接冷卻。通過(guò)這樣在包圍線圈組的冷卻套內(nèi)使制冷劑循環(huán)而冷卻，從而迅速地將從線圈發(fā)生的發(fā)熱散去，防止線圈溫度的過(guò)度上升和定子單元的溫度上升。
在這里，冷卻套4、5在曝光區(qū)域和測(cè)量區(qū)域分別獨(dú)立地構(gòu)成，可相對(duì)各區(qū)域獨(dú)立地進(jìn)行最佳的冷卻。當(dāng)如已有技術(shù)那樣一起對(duì)平面電動(dòng)機(jī)的定子整體進(jìn)行冷卻時(shí)，整體的冷卻效率差，制冷劑溫度調(diào)節(jié)裝置和制冷劑循環(huán)裝置等大型化，但通過(guò)使得可在載置臺(tái)的移動(dòng)不同的測(cè)量區(qū)域和曝光區(qū)域獨(dú)立地進(jìn)行冷卻，從而可在各區(qū)域相對(duì)載置臺(tái)的移動(dòng)進(jìn)行最佳的冷卻(制冷劑流量、溫度、制冷劑種類等)，所以，可預(yù)見(jiàn)到冷卻效率的提高，使與溫度調(diào)節(jié)相關(guān)的裝置也小型化。
具體地說(shuō)，在冷卻以防止線圈的過(guò)熱為目的的場(chǎng)合，對(duì)應(yīng)于發(fā)熱最大的線圈調(diào)整冷卻量(制冷劑流量、制冷劑溫度、制冷劑種類)，為此，當(dāng)一起冷卻測(cè)量區(qū)域和曝光區(qū)域這兩個(gè)區(qū)域時(shí)，即使為線圈整體也設(shè)定為與發(fā)熱最大的線圈相應(yīng)的冷卻量。
然而，由于在通常測(cè)量區(qū)域與曝光區(qū)域的載置臺(tái)的移動(dòng)差別較大，所以，當(dāng)然在測(cè)量區(qū)域與曝光區(qū)域的線圈的發(fā)熱量差異較大。例如，由于曝光區(qū)域的載置臺(tái)的移動(dòng)激烈，在測(cè)量區(qū)域的載置臺(tái)的移動(dòng)為晶片轉(zhuǎn)移等，當(dāng)載置臺(tái)不太移動(dòng)時(shí)，僅曝光區(qū)域的線圈組發(fā)熱較多，測(cè)量區(qū)域的線圈組基本上不發(fā)熱。
然而，在一起冷卻的構(gòu)成的場(chǎng)合，使與曝光區(qū)域的線圈對(duì)應(yīng)的冷卻量流入到冷卻套整體，結(jié)果在測(cè)量區(qū)域的線圈組無(wú)用地流動(dòng)過(guò)剩的冷卻量。這樣，例如定子整體的制冷劑流量被浪費(fèi)，冷卻效率(相對(duì)制冷劑流量的線圈發(fā)熱散去率)下降，與溫度調(diào)節(jié)相關(guān)的裝置變大。
鑒于這些情況，在圖1A、1B中成為在測(cè)量區(qū)域和曝光區(qū)域獨(dú)立地進(jìn)行冷卻的構(gòu)成。即，在測(cè)量區(qū)域與曝光區(qū)域中載置臺(tái)的移動(dòng)方式差別較大，所以，獨(dú)立地實(shí)現(xiàn)冷卻的最佳化，從而提高載置臺(tái)整體的冷卻效率。作為冷卻的最佳化，例如可列舉出在測(cè)量區(qū)域和曝光區(qū)域改變制冷劑流量、溫度、制冷劑種類中的至少一個(gè)的例子。
另外，如圖1A、1B也示出的那樣，可改變制冷劑流動(dòng)的方向。例如，通過(guò)在曝光區(qū)域和測(cè)量區(qū)域改變制冷劑流動(dòng)的方向，可在各區(qū)域使制冷劑從最大發(fā)熱的線圈近旁流入，可進(jìn)行最佳的冷卻。
但是，上述例子的主旨為在測(cè)量區(qū)域和曝光區(qū)域獨(dú)立地進(jìn)行冷卻的最佳化，當(dāng)然，對(duì)各區(qū)域進(jìn)行最佳化，可能有時(shí)使得制冷劑的流動(dòng)方向相同，制冷劑流量也可能相同，所以，不一定非要改變測(cè)量區(qū)域和曝光區(qū)域的冷卻方法(制冷劑流量、溫度、制冷劑種類等)。
另外，在圖1A、1B中，定子單元3在測(cè)量區(qū)域和曝光區(qū)域分別獨(dú)立地構(gòu)成，但定子單元自身可在各區(qū)域獨(dú)立，也可為一體構(gòu)成，只要冷卻套6、7內(nèi)可獨(dú)立進(jìn)行溫度調(diào)節(jié)即可。
下面說(shuō)明如圖1A、1B那樣使定子單元3在曝光區(qū)域和測(cè)量區(qū)域獨(dú)立的背景。
在獨(dú)立地具有對(duì)準(zhǔn)系和曝光系的曝光裝置的平面電動(dòng)機(jī)中，從定子的制作和維修的觀點(diǎn)看也產(chǎn)生問(wèn)題。即，平面電動(dòng)機(jī)的定子單元的大小根據(jù)晶片的大小大體決定最小尺寸，在將12英寸(300mm)晶片為對(duì)象的場(chǎng)合，測(cè)量區(qū)域和曝光區(qū)域的可動(dòng)載置臺(tái)的必要行程為400mm左右(用于在晶片整體區(qū)域移動(dòng)的距離+載置臺(tái)的加減速區(qū)域等用的距離)。即，如可動(dòng)載置臺(tái)(WST1、WST2)的大小為400mm左右，則定子單元最低也可考慮需要大于等于700mm(晶片大小300mm+行程400mm)的大小。
為此，合并了測(cè)量區(qū)域和曝光區(qū)域的定子單元的大小最低也為700mm(圖8中X方向)×1400mm(圖8中Y方向)。實(shí)際上由于種種原因?yàn)樽兊酶蟮姆较?。?dāng)一體制作該大小的定子單元時(shí)，材料的獲得很困難，由加工設(shè)備的制約受到加工自由度限制的可能性高。可以預(yù)想到成本也相應(yīng)增大。即，還存在獨(dú)立地具有測(cè)量區(qū)域和曝光區(qū)域使定子尺寸增大帶來(lái)的制作上的問(wèn)題。
然而，在如圖1A、1B那樣形成為在曝光區(qū)域和測(cè)量區(qū)域分割定子單元的單元構(gòu)成的場(chǎng)合，制作規(guī)模也成為一半，在制作定子單元時(shí)也可同時(shí)制作曝光區(qū)域用單元和測(cè)量區(qū)域用單元，所以，制作準(zhǔn)備時(shí)間的減少也成為可能。從維修的觀點(diǎn)考慮，僅相對(duì)存在問(wèn)題的單元采取對(duì)策即可，所以，維修可按小規(guī)模進(jìn)行的場(chǎng)合較多。
另外，在上述的說(shuō)明中，列舉出使用平面電動(dòng)機(jī)的載置臺(tái)裝置的例子，但對(duì)于在曝光區(qū)域和測(cè)量區(qū)域分別設(shè)置用于驅(qū)動(dòng)載置臺(tái)的線性電動(dòng)機(jī)的載置臺(tái)裝置，獨(dú)立地進(jìn)行各驅(qū)動(dòng)單元的溫度調(diào)節(jié)在冷卻效率的觀點(diǎn)也有效果。但是，使用平面電動(dòng)機(jī)的載置臺(tái)裝置可由簡(jiǎn)單的構(gòu)成獨(dú)立地進(jìn)行曝光區(qū)域和測(cè)量區(qū)域的冷卻，而且線圈發(fā)熱量大，所以，效果良好。
圖4示出與上述同樣的載置臺(tái)裝置為晶片載置臺(tái)的半導(dǎo)體器件制作用的曝光裝置。
該曝光裝置用于半導(dǎo)體集成電路等半導(dǎo)體器件、微型機(jī)械、薄膜磁頭等微細(xì)圖案形成的器件的制造，通過(guò)作為原版的標(biāo)線片在作為基板的半導(dǎo)體晶片W上通過(guò)作為投影系的投影透鏡503(該用詞為折射透鏡、反射透鏡、反射折射透鏡系統(tǒng)、帶電粒子透鏡等的總稱)照射來(lái)自照明系單元501的作為曝光能量的曝光光(該用詞為可見(jiàn)光、紫外光、EUV光、X射線、電子射線、帶電粒子射線等的總稱)，從而在搭于晶片載置臺(tái)504的基板上形成所期望的圖案。另外，這樣的曝光裝置隨著曝光光成為短波長(zhǎng)光，從而需要在真空氣氛下的曝光。
在搭載于晶片載置臺(tái)504的夾具上保持作為基板的晶片(對(duì)象物)，由照明系單元501將搭載于標(biāo)線片載置臺(tái)502的作為原版的標(biāo)線片的圖案通過(guò)分步重復(fù)或分步掃描進(jìn)行轉(zhuǎn)印。在這里，上述載置臺(tái)裝置作為這些晶片載置臺(tái)504使用。
通過(guò)這樣將上述載置臺(tái)裝置適用于曝光裝置，從而可提供降低了運(yùn)行成本的曝光裝置。
下面，說(shuō)明利用該曝光裝置的半導(dǎo)體器件的制造過(guò)程。圖5為示出半導(dǎo)體器件的整體的制造過(guò)程的流程的圖。在步驟1(電路設(shè)計(jì))中，進(jìn)行半導(dǎo)體器件的電路設(shè)計(jì)。在步驟2(掩模制作)中根據(jù)設(shè)計(jì)的電路圖案制作掩模。
在步驟3(晶片制造)中使用硅等材料制造晶片。在步驟4(晶片處理)被稱為前工序，使用上述掩模和晶片，由上述曝光裝置利用光刻技術(shù)在晶片上形成實(shí)際的電路。接下來(lái)的步驟5(組裝)被稱為后工序，為使用步驟5制作的晶片進(jìn)行半導(dǎo)體芯片化的工序，包含裝配工序(切片、粘接)、封裝工序(芯片封入)等組裝工序。在步驟6(檢測(cè))中，進(jìn)行由步驟5制作的半導(dǎo)體器件的動(dòng)作確認(rèn)試驗(yàn)、耐久性試驗(yàn)等檢查。經(jīng)過(guò)這樣的工序，半導(dǎo)體器件完成，在步驟7將其出廠。
上述步驟4的晶片處理具有以下的步驟(圖6)，即使晶片的表面氧化的氧化步驟，在晶片表面形成絕緣膜的CVD步驟，在晶片上通過(guò)蒸鍍形成電極的電極形成步驟，將離子注入到晶片的離子注入步驟，在晶片涂覆感光劑的抗蝕劑處理步驟，由上述曝光裝置將電路圖案轉(zhuǎn)印到抗蝕劑處理步驟后的晶片的曝光步驟，對(duì)由曝光步驟曝光后的晶片進(jìn)行顯影的顯影步驟，除去由顯影步驟進(jìn)行了顯影的抗蝕劑像以外的部分的腐蝕步驟，除去腐蝕完成后不用的抗蝕劑的抗蝕劑剝離步驟。反復(fù)進(jìn)行這些步驟，在晶片上多重地形成電路圖案。
通過(guò)這樣在器件制造工序的一部分使用上述曝光裝置，從而可制造廉價(jià)的器件。
以上通過(guò)優(yōu)選實(shí)施例說(shuō)明了本發(fā)明，應(yīng)該理解，本發(fā)明不限于該公開(kāi)的實(shí)施例。本發(fā)明包含屬于后附權(quán)利要求的精神和范圍的各種修改和等同的布置。
權(quán)利要求
1.一種載置臺(tái)裝置，使用平面電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)搭載了對(duì)象物的動(dòng)子，其特征在于包含具有線圈組的定子單元和在上述定子單元上移動(dòng)的動(dòng)子，上述定子單元具有(a)用于對(duì)上述對(duì)象物進(jìn)行第一處理的第一區(qū)域和(b)用于對(duì)上述對(duì)象物進(jìn)行第二處理的第二區(qū)域，其中，上述定子單元內(nèi)的線圈組在第一和第二區(qū)域獨(dú)立地被溫度調(diào)節(jié)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的載置臺(tái)裝置，其特征在于上述定子單元具有包圍上述線圈組的冷卻套，通過(guò)使制冷劑在上述冷卻套內(nèi)流動(dòng)而冷卻上述線圈組。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的載置臺(tái)裝置，其特征在于在上述第一區(qū)域與上述第二區(qū)域中，上述制冷劑流動(dòng)的方向不同。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的載置臺(tái)裝置，其特征在于在上述第一區(qū)域與上述第二區(qū)域中，冷卻上述線圈組的冷卻量不同。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的載置臺(tái)裝置，其特征在于在上述第一區(qū)域與上述第二區(qū)域中，冷卻上述線圈組的制冷劑的流量、溫度、介質(zhì)中的至少一個(gè)不同。
6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的載置臺(tái)裝置，其特征在于上述定子單元在上述第一區(qū)域和上述第二區(qū)域被分割。
7.根據(jù)權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的載置臺(tái)裝置，其特征在于上述動(dòng)子由兩個(gè)動(dòng)子構(gòu)成，該兩個(gè)動(dòng)子構(gòu)成為在上述第一區(qū)域和上述第二區(qū)域使用平面電動(dòng)機(jī)可替換。
8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的載置臺(tái)裝置，其特征在于上述動(dòng)子在與上述定子單元相對(duì)的面具有磁鐵組，該磁鐵組在與上述定子單元的線圈組之間發(fā)生力。
9.一種曝光裝置，使用權(quán)利要求1～8中任一項(xiàng)所述的載置臺(tái)裝置對(duì)基板進(jìn)行定位，其特征在于上述第一處理為對(duì)基板進(jìn)行曝光的處理，上述第二處理為測(cè)量上述基板的位置的處理。
10.一種曝光裝置，具有用于對(duì)基板進(jìn)行曝光的曝光區(qū)域和對(duì)上述基板的位置進(jìn)行測(cè)量的測(cè)量區(qū)域，其特征在于包含在上述曝光區(qū)域?qū)Υ钶d了上述基板的動(dòng)子進(jìn)行驅(qū)動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和在上述測(cè)量區(qū)域驅(qū)動(dòng)上述動(dòng)子的第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；其中，上述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和上述第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)獨(dú)立地被溫度調(diào)節(jié)。
11.一種器件制造方法，其特征在于具有使用權(quán)利要求9或10所述的曝光裝置對(duì)基板進(jìn)行曝光的工序和對(duì)上述晶片進(jìn)行顯影的工序。
全文摘要
本發(fā)明的載置臺(tái)裝置，使用平面電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)搭載了對(duì)象物的動(dòng)子，包含(i)具有線圈組的定子單元和(ii)在上述定子單元上移動(dòng)的動(dòng)子；上述定子單元(a)具有對(duì)上述對(duì)象物進(jìn)行第一處理的第一區(qū)域和(b)對(duì)上述對(duì)象物進(jìn)行第二處理的第二區(qū)域；其中上述定子單元內(nèi)的線圈組在第一和第二區(qū)域獨(dú)立地被溫度調(diào)節(jié)。
文檔編號(hào)G03F7/20GK1673872SQ20051005488
公開(kāi)日2005年9月28日 申請(qǐng)日期2005年3月22日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月24日
發(fā)明者江本圭司 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社