專利名稱:用于測(cè)試液晶顯示器件的裝置及其測(cè)試方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種液晶顯示器件,具體地,涉及一種用于測(cè)試液晶顯示器件的裝置和測(cè)試方法,其適用于大尺寸的液晶顯示器件并且能夠縮短測(cè)試時(shí)間。
背景技術(shù):
對(duì)各種便攜式電子器件(例如,移動(dòng)電話、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)、以及筆記本計(jì)算機(jī))的需求的增長(zhǎng)增加了對(duì)重量輕、外形薄的小平板顯示器件的需求。這種平板顯示器件包括液晶顯示(LCD)器件、等離子體顯示板(PDP)器件、場(chǎng)致發(fā)射顯示(FED)器件、以及真空熒光顯示(VFD)器件。在這些不同器件中,因?yàn)長(zhǎng)CD器件的大規(guī)模生產(chǎn)技術(shù)簡(jiǎn)單、驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)容易、并且圖像質(zhì)量高,所以LCD器件得到了積極的發(fā)展。
LCD器件包括下基板、上基板、以及形成在這兩個(gè)基板之間的液晶層。下基板是驅(qū)動(dòng)器件陣列基板,包括多個(gè)像素。在每個(gè)像素中形成諸如薄膜晶體管的驅(qū)動(dòng)器件。上基板是濾色器基板,包括用于實(shí)現(xiàn)實(shí)際顏色的濾色器層。另外,分別在下基板和上基板上形成像素電極和公共電極,并在像素電極和公共電極上設(shè)置用于配向液晶分子的配向膜。
通過沿著基板的外邊緣形成的密封劑將下基板和上基板連接在一起。形成在上基板和下基板之間的間隔物(spacer)保持均勻的單元間隙(cell gap)。通過形成在下基板上的驅(qū)動(dòng)器件驅(qū)動(dòng)液晶分子,其中對(duì)穿過液晶層透射的光的量進(jìn)行控制以顯示圖像。
在具有這種結(jié)構(gòu)的LCD器件中,通過用于形成驅(qū)動(dòng)器件的驅(qū)動(dòng)器件陣列基板工藝來形成下基板,通過用于形成濾色器的濾色器基板工藝來形成上基板。
在驅(qū)動(dòng)器件陣列基板工藝中,形成設(shè)置在下基板上的多條選通線和多條數(shù)據(jù)線,它們交叉以限定像素區(qū)。在每個(gè)像素區(qū)都形成薄膜晶體管,即與選通線和數(shù)據(jù)線相連的驅(qū)動(dòng)器件,之后,形成與該薄膜晶體管相連的像素電極,從而當(dāng)通過薄膜晶體管向其施加信號(hào)時(shí)驅(qū)動(dòng)液晶層。
另外,在濾色器基板工藝中,在上基板上形成黑底,隨后在其上形成濾色器,然后最后形成公共電極。
之后,通過間隔物和密封劑形成工藝將兩個(gè)基板連接在一起,然后將連接的基板分割為多個(gè)板單元,由此完成液晶顯示板。
在連接兩個(gè)基板之前,另行執(zhí)行測(cè)試處理以檢測(cè)缺陷,例如薄膜晶體管的短路或者斷路,以及形成在薄膜晶體管(TFT)陣列基板上的線之間的短路或者斷路。
圖1是表示用于測(cè)試TFT陣列基板的方法的示意圖。
如圖所示,用于測(cè)試TFT陣列基板的裝置1包括待測(cè)試的TFT陣列基板10;安裝在TFT陣列基板10上方的調(diào)制器(modulator)35;以及安裝在調(diào)制器35上方的相機(jī)40。
調(diào)制器35包括在一基板20和反射板33之間注入的聚合物散布型液晶(PDLC)層30,在基板20上形成有透明電極31。由液晶滴形成PDLC層30,通過將液晶與聚合物混和、并隨后向該混和物發(fā)射紫外線而使液晶與聚合物分離,從而獲得所述液晶滴。PDLC層30由包括樹脂和硬化劑的環(huán)氧樹脂制成。由透明電極31和像素電極11之間的電壓差來驅(qū)動(dòng)PDLC層30,透明電極31形成于調(diào)制器35的基板20上,而像素電極11形成于TFT陣列基板10上。
如果不向PDLC層30施加電壓,則液晶滴為隨機(jī)排列,從而散射入射光。因此,在相機(jī)40中觀察到暗色圖像。相反地,如果向透明電極31和像素電極11施加電壓,則PDLC層30的液晶滴中的液晶分子排列為與電場(chǎng)平行,從而利用反射板33反射入射光并透射所反射的光。因此,在相機(jī)40中看到亮色圖像。由此,通過改變像素電極11和透明電極31之間的電壓可改變相機(jī)觀察到的所顯示的圖像的亮度,其中像素電極11形成于TFT陣列基板10上,透明電極31形成在調(diào)制器35中。
當(dāng)在TFT陣列基板10出現(xiàn)諸如斷路或短路的缺陷時(shí),通過相機(jī)觀察,該區(qū)域中的圖像亮度不同于其它區(qū)域中的圖像亮度,使得缺陷容易被檢測(cè)。
然而,具有這種結(jié)構(gòu)的用于測(cè)試TFT陣列基板的現(xiàn)有技術(shù)的裝置有很多問題,包括以下首先,因?yàn)橛糜诂F(xiàn)有測(cè)試裝置的調(diào)制器35具有由交替層壓的TiO2和SiO2形成的反射板,所以制造大尺寸的調(diào)制器很困難。因此,為了測(cè)試TFT陣列基板的整個(gè)表面,必須移動(dòng)調(diào)制器來反復(fù)執(zhí)行測(cè)試。由于這個(gè)原因,需要很長(zhǎng)時(shí)間來完成測(cè)試,并且該調(diào)制器不適于大尺寸的液晶顯示器件。
另外,調(diào)制器35與TFT陣列基板10保持大約10~20μm的距離。當(dāng)在TFT陣列基板10工藝中使用有機(jī)鈍化層以確??讖奖葧r(shí),在該基板的表面可能形成凸起。如果調(diào)制器的反射板與該凸起接觸,則損壞反射板。從而,必須以新調(diào)制器來更換該調(diào)制器,因此增加了成本。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是提供了一種用于測(cè)試液晶顯示器件的裝置,該裝置通過在用于測(cè)試TFT陣列基板的測(cè)試裝置的調(diào)制器中使用諸如MEP(Microencapsulated Electrophoretic,微封裝電泳)膜的電泳膜代替PDLC層,從而適于大尺寸液晶顯示器件并能夠縮短測(cè)試時(shí)間。
為了實(shí)現(xiàn)這些和其它優(yōu)點(diǎn),并根據(jù)本發(fā)明的目的,如在此具體實(shí)施和廣義說明的,提供了一種用于測(cè)試液晶顯示器件的裝置,其包括待測(cè)試的TFT(薄膜晶體管)陣列基板;安裝在TFT陣列基板上方的調(diào)制器,該調(diào)制器包括形成在透明基板上的透明電極和MEP(微封裝電泳)膜;以及安裝在調(diào)制器上方的相機(jī),用于測(cè)量圖像的亮度。
另外,還包括用于向調(diào)制器發(fā)射光的光源,并且TFT陣列基板包括透明基板;在透明基板上水平和垂直設(shè)置的多條選通線和多條數(shù)據(jù)線,用以限定像素;形成在選通線和數(shù)據(jù)線的各個(gè)交叉處的薄膜晶體管;以及形成在各像素區(qū)并與所述薄膜晶體管電連接的像素電極。
為了實(shí)現(xiàn)這些和其它優(yōu)點(diǎn),并根據(jù)本發(fā)明的目的,如在此具體實(shí)施和廣義說明的,提供了一種用于測(cè)試液晶顯示器件的裝置,其包括待測(cè)試的TFT(薄膜晶體管)陣列基板;安裝在TFT陣列基板上方的調(diào)制器,該調(diào)制器包括形成在一透明基板上的透明電極和電子紙(electronicpaper);以及安裝在調(diào)制器上方的相機(jī),用于測(cè)量圖像的亮度。
為了實(shí)現(xiàn)這些和其它優(yōu)點(diǎn),并根據(jù)本發(fā)明的目的,如在此具體實(shí)施和廣義說明的,提供了一種用于測(cè)試液晶顯示器件的方法,其包括制備包括第一透明電極的測(cè)試基板;布置一調(diào)制器,其位于距測(cè)試基板預(yù)定間隔處,并包括第二透明電極和具有電子墨水(electronic ink)的MEP膜;向調(diào)制器發(fā)射光;在第一透明電極和第二透明電極之間施加電壓;利用第一透明電極和第二透明電極之間的電壓根據(jù)極性使電子墨水分為上側(cè)和下側(cè);以及由相機(jī)來觀察由分為上側(cè)和下側(cè)的電子墨水所反射或者吸收(未反射)的光的亮度。
如上所述,本發(fā)明提供了一種用于測(cè)試TFT陣列基板的裝置,其包括調(diào)制器及其測(cè)試裝置,該調(diào)制器具有諸如MEP(微封裝電泳)膜或者電子紙的電泳膜。
電泳膜具有這樣的特性外部電場(chǎng)可使極性不同的粒子組分離,并且,本發(fā)明中的調(diào)制器使用包括白色粒子和黑色粒子的電泳膜,例如MEP膜或者電子。
根據(jù)本發(fā)明的測(cè)試裝置的調(diào)制器的優(yōu)點(diǎn)在于,因?yàn)槟軌蛑圃齑蟪叽绲恼{(diào)制器,所以可以容易地對(duì)大尺寸LCD器件進(jìn)行測(cè)試,并且可以縮短測(cè)試時(shí)間。用于現(xiàn)有技術(shù)的調(diào)制器的PDLC層需要由交替層壓TiO2和SiO2制造的特殊反射板,這導(dǎo)致難以制造大尺寸的調(diào)制器,與該P(yáng)DLC層相比,本發(fā)明中使用的電泳膜(即MEP(微封裝電泳)膜或者電子紙)因?yàn)槠渥陨韮?yōu)異的反射特性而不需要反射板,從而可以制造大尺寸的調(diào)制器。
在以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的詳細(xì)說明中,本發(fā)明的上述和其它特征、方面和優(yōu)點(diǎn)將更加明顯。
為進(jìn)一步理解本發(fā)明而提供的附圖被并入且構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分,其示出了本發(fā)明的實(shí)施例,并且與文字說明一起用于解釋本發(fā)明的原理。
在附圖中圖1是表示現(xiàn)有的用于測(cè)試液晶顯示器件的裝置的示意圖;圖2是表示根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的用于測(cè)試液晶顯示器件的裝置的示意圖;圖3是詳細(xì)表示TFT陣列基板的圖;圖4是詳細(xì)表示測(cè)試裝置的調(diào)制器的圖;圖5是詳細(xì)表示調(diào)制器的MEP膜的圖;圖6是表示本發(fā)明另一實(shí)施例的圖;以及圖7A和7B是表示電子紙的驅(qū)動(dòng)的圖。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在將詳細(xì)說明本發(fā)明的實(shí)施例,其示例在附圖中示出。
圖2至3示出了本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,其中圖2是表示根據(jù)本發(fā)明的測(cè)試裝置的示意性剖面圖,圖3是TFT陣列基板的平面圖。圖4是詳細(xì)表示測(cè)試裝置的調(diào)制器的圖,圖5是表示當(dāng)接收到電場(chǎng)時(shí)在調(diào)制器的MEP膜內(nèi)部產(chǎn)生的對(duì)電子墨水的驅(qū)動(dòng)的圖。
首先,如圖2所示,根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的用于測(cè)試LCD器件的裝置100包括待測(cè)試的TFT陣列基板110、包括MEP膜(微封裝電泳膜)130的調(diào)制器135、以及用于觀察調(diào)制器135的亮度的相機(jī)140。
如圖3所示,TFT陣列基板110包括選通線104和數(shù)據(jù)線106,它們被水平和垂直地設(shè)置以限定像素101;以及形成在選通線104和數(shù)據(jù)線106的各個(gè)交叉處的TFT(薄膜晶體管)。該TFT包括與選通線104相連的柵極103;形成于柵極103上的半導(dǎo)體層108,當(dāng)向柵極103施加掃描信號(hào)時(shí)激活該半導(dǎo)體層108;以及形成于半導(dǎo)體層108上的源極/漏極105。在像素101的顯示區(qū)形成像素電極111,像素電極111與源極105a和漏極105b相連,以當(dāng)半導(dǎo)體層108激活時(shí)通過源極105a和漏極105b接收掃描信號(hào)而操作液晶(未示出)。這里,像素電極111由透明導(dǎo)電材料(例如ITO(銦錫氧化物)或者IZO(銦鋅氧化物))制成,以下將像素電極111稱為第一透明電極。
在具有這種結(jié)構(gòu)的LCD器件中,TFT的源極105a和漏極105b與像素中形成的像素電極111電連接,當(dāng)通過源極105a和漏極105b向像素電極111施加信號(hào)時(shí),驅(qū)動(dòng)液晶,從而顯示圖像。
如圖4所示,對(duì)于調(diào)制器135,在由玻璃或者塑料制成的透明基板120上形成第二透明電極131,可以以與TFT陣列基板110的第一透明電極111的材料相同的材料來制成第二透明電極131,并在其上形成MEP膜130。另外,可以在MEP膜130的表面上設(shè)置用于保護(hù)MEP膜130的保護(hù)膜137。
MEP膜130的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是,電子墨水在聚合物粘合劑132中形成微膠囊(capsule)133,分布在微膠囊133中的電子墨水包括白色顏料133a和黑色顏料133b。
如圖5所示,白色顏料133a和黑色顏料133b分別具有正(+)電荷特性和負(fù)(-)電荷特性,白色顏料133a帶正電(+),而黑色顏料133b帶負(fù)電(-)。因此,如果向第一透明電極111和第二透明電極131施加電壓,則由在這兩個(gè)電極111和131之間產(chǎn)生的電場(chǎng)使得白色顏料133a和黑色顏料133b分離。例如,如果對(duì)第一透明電極111施加負(fù)(-)電壓,而對(duì)第二透明電極131施加正(+)電壓,則使得帶有正(+)電荷的白色顏料133a向第一透明電極111移動(dòng),而帶有負(fù)(-)電荷的黑色顏料133b向第二透明電極131移動(dòng)。相反地,如果對(duì)第一透明電極111施加正(+)電壓,而對(duì)第二透明電極131施加負(fù)(-)電壓,則使得白色顏料133a向第二透明電極131移動(dòng),而黑色顏料133b向第一透明電極111移動(dòng)??梢愿淖兒谏伭?33b和白色顏料133a的極性。
如上所述,如果在第一透明電極111和第二透明電極131之間插入了極性不同的白色顏料133a和黑色顏料133b的情況下向這兩個(gè)電極111和131之間施加電場(chǎng),則極性相同的顏料聚集在一起,從而將黑色顏料和白色顏料分別分離到微膠囊133的上側(cè)和下側(cè)。
本發(fā)明致力于使用電子墨水的這些特性來測(cè)試TFT陣列基板。即,在對(duì)TFT陣列基板110的第一透明電極111施加正(+)電壓而對(duì)調(diào)制器135的第二透明電極131施加負(fù)(-)電壓的情況下,通過相機(jī)140觀察到亮圖像,這代表像素的正常工作。這是因?yàn)榫哂姓?+)電荷的白色顏料133a朝著第二透明電極131分布,而白色顏料133a反射外部的光。
另外,因?yàn)榭梢詫EP膜130和調(diào)制器135連接或者拆卸,所以可以更換MEP膜130和調(diào)制器135以對(duì)應(yīng)于待測(cè)試基板的尺寸。即,可以將適合于測(cè)試基板的尺寸的MEP膜130和調(diào)制器135連接到測(cè)試基板上。
通過簡(jiǎn)單的測(cè)試裝置的程序變化即可不需更換調(diào)制器135而容納各種尺寸的測(cè)試基板。即,在選擇MEP膜130以適于最大的測(cè)試基板110的尺寸之后,每當(dāng)測(cè)試基板從一個(gè)尺寸變?yōu)榱硪粋€(gè)時(shí)就對(duì)測(cè)試裝置的程序進(jìn)行控制。由此,可以不更換調(diào)制器就容納各種尺寸的TFT陣列基板。
如上所述,在本發(fā)明中,在TFT陣列基板110的第一透明電極111和調(diào)制器135的第二透明電極131之間插入電子墨水,該電子墨水包括吸收光的黑色顏料133b和反射光的白色顏料133a,并且黑色顏料133b和白色顏料133a彼此電分離,從而可以通過由相機(jī)140觀察的圖像亮度來執(zhí)行對(duì)LCD器件是否正常工作的測(cè)試。除電子墨水之外,在調(diào)制器135中還可以使用任何類型的電泳膜,只要該電泳膜具有相反的極性,并且同時(shí)反射光和吸收光。例如,也可以使用包括多個(gè)小球的電子紙,每個(gè)球都是一半為白而另一半為黑。
圖6表示使用電子紙的本發(fā)明第二實(shí)施例。如圖所示,根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的調(diào)制器235使用電子紙230。通過將多個(gè)球233與聚合物粘合劑232混和來獲得電子紙230,每個(gè)球都在一半具有白色粒子233a而在另一半具有黑色粒子233b。白色粒子233a帶有負(fù)(-)電荷,而黑色粒子233b帶有正(+)電荷。
如圖6所示,當(dāng)不在第一透明電極211和第二透明電極231之間施加電場(chǎng)時(shí),與聚合物粘合劑232相混和的球233被設(shè)置為其白色粒子233a和黑色粒子233b隨機(jī)排列。然而,如圖7A和7B所示,如果在這兩個(gè)電極211和231之間施加電場(chǎng),則使得白色粒子233a朝著施加了正(+)電壓的電極旋轉(zhuǎn),而黑色粒子233b朝著施加了負(fù)(-)電壓的電極旋轉(zhuǎn)。
即,如圖7A所示,如果對(duì)第一透明電極211施加正(+)電壓而對(duì)第二透明電極231施加負(fù)(-)電壓,則白色粒子233a朝著第一透明電極211排列,而黑色粒子233b朝著第二透明電極231排列。由此,通過相機(jī)(未示出)觀察到的圖像變?yōu)楹谏?br>
另外,如圖7B所示,如果對(duì)第一透明電極211施加負(fù)(-)電壓而對(duì)第二透明電極231施加正(+)電壓,則黑色粒子233b朝著第一透明電極211排列,而白色粒子233a朝著第二透明電極231排列。由此,通過相機(jī)(未示出)觀察到的圖像變?yōu)榘咨?。在這種情況下,可以改變黑色粒子233b和白色粒子233a的極性。
如本文所述,本發(fā)明提供了一種用于測(cè)試LCD器件的裝置。具體地,在本發(fā)明中,提供了具有優(yōu)異的反射特性的電泳膜(例如MEP膜或者電子紙),從而能夠提供一種不需要反射板并能夠制造為大尺寸的調(diào)制器。因此,縮短了LCD器件的測(cè)試時(shí)間,并且可以容易地進(jìn)行對(duì)大尺寸LCD器件的測(cè)試。
如上所述,通過使用包括電泳膜的調(diào)制器作為根據(jù)本發(fā)明的測(cè)試裝置,根據(jù)本發(fā)明的測(cè)試裝置適用于大尺寸LCD器件,并且能夠縮短測(cè)試時(shí)間,從而提高生產(chǎn)率。
由于可以在不脫離本發(fā)明的精神或者本質(zhì)特征的情況下以多種形式來實(shí)施本發(fā)明,所以應(yīng)該理解,除非另外指出,否則上述實(shí)施例不限于以上說明的所有細(xì)節(jié),而可以在如所附權(quán)利要求中限定的本發(fā)明的精神和范圍中廣泛地構(gòu)成這些實(shí)施例,因此,所附權(quán)利要求旨在覆蓋落入權(quán)利要求的邊界和范圍、或者這些邊界和范圍的等同物內(nèi)的所有變化和修改。
權(quán)利要求
1.一種用于測(cè)試液晶顯示器件的裝置,包括TFT(薄膜晶體管)陣列基板;安裝在所述薄膜晶體管陣列基板上方的調(diào)制器,所述調(diào)制器包括透明基板上的透明電極和MEP(微封裝電泳)膜;以及安裝在所述調(diào)制器上方的相機(jī),用于測(cè)量圖像的亮度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,還包括插入在所述透明基板和所述微封裝電泳膜之間的透明電極。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述微封裝電泳膜包括聚合物粘合劑和電子墨水。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置,其中所述電子墨水包括白色顏料和黑色顏料。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置,其中所述白色顏料帶有正(+)電荷,而所述黑色顏料帶有負(fù)(-)電荷。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置,其中所述白色顏料帶有負(fù)(-)電荷,而所述黑色顏料帶有正(+)電荷。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,還包括用于向所述調(diào)制器發(fā)射光的光源。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述薄膜晶體管陣列基板包括透明基板;多條選通線和多條數(shù)據(jù)線,在所述透明基板上水平和垂直設(shè)置,以限定像素區(qū);薄膜晶體管,形成在所述選通線和所述數(shù)據(jù)線的交叉處;以及像素電極,形成在各個(gè)像素區(qū)中并與所述薄膜晶體管電連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其中可根據(jù)所述薄膜晶體管陣列基板的尺寸更換所述電泳膜或者所述調(diào)制器中的一個(gè)。
10.一種用于測(cè)試液晶顯示器件的裝置,包括TFT(薄膜晶體管)陣列基板;安裝在所述薄膜晶體管陣列基板上方的調(diào)制器,該調(diào)制器包括形成在透明基板上的透明電極和電子紙;以及安裝在所述調(diào)制器上方的相機(jī),用于測(cè)量圖像的亮度。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置,其中所述電子紙包括多個(gè)球,每個(gè)球都在該球的一半表面具有白色粒子,而在另一半表面具有黑色粒子。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置,其中所述白色粒子帶有負(fù)(-)電荷,而所述黑色粒子帶有正(+)電荷。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置,其中所述白色粒子帶有正(+)電荷,而所述黑色粒子帶有負(fù)(-)電荷。
14.一種用于測(cè)試液晶顯示器件的裝置,包括TFT(薄膜晶體管)陣列基板;調(diào)制器,安裝在所述薄膜晶體管陣列基板上方,包括形成在透明基板上的透明電極和電泳膜;以及安裝在所述調(diào)制器上方的相機(jī),用于測(cè)量圖像的亮度。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的裝置,其中根據(jù)所述薄膜晶體管陣列基板的尺寸,通過可拆卸地連接,來更換所述電泳膜或者所述調(diào)制器。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的裝置,其中所述電泳膜的粒子組包括黑色粒子和白色粒子。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的裝置,其中所述電泳膜為微封裝電泳膜。
18.根據(jù)權(quán)利要求14所述的裝置,其中所述電泳膜為電子紙。
19.一種用于測(cè)試液晶顯示器件的方法,包括制備包括第一透明電極的測(cè)試基板;在距所述測(cè)試基板預(yù)定間隔處設(shè)置調(diào)制器,該調(diào)制器包括第二透明電極和電泳膜;向所述調(diào)制器發(fā)射光;在所述第一透明電極和所述第二透明電極之間施加電壓;以及通過相機(jī)來觀察由第一透明電極和第二透明電極的電壓引起的根據(jù)極性而被分為上側(cè)和下側(cè)的電子墨水所反射的光的亮度。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法,其中可以根據(jù)所述測(cè)試基板的尺寸來改變所述電泳膜或者所述調(diào)制器。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法,其中將所述電泳膜設(shè)置為對(duì)應(yīng)于所述測(cè)試基板的最大尺寸,并通過改變程序來容納各種尺寸的測(cè)試基板。
全文摘要
用于測(cè)試液晶顯示器件的裝置及其測(cè)試方法。一種用于測(cè)試液晶顯示(LCD)器件的裝置包括待測(cè)試的TFT(薄膜晶體管)陣列基板;安裝在所述薄膜晶體管陣列基板上方的調(diào)制器,該調(diào)制器包括透明基板和電泳膜;以及安裝在所述調(diào)制器上方的相機(jī),用于測(cè)量圖像的亮度。
文檔編號(hào)G02F1/167GK1616977SQ200410088669
公開日2005年5月18日 申請(qǐng)日期2004年11月15日 優(yōu)先權(quán)日2003年11月13日
發(fā)明者金東國(guó) 申請(qǐng)人:Lg.菲利浦Lcd株式會(huì)社