專利名稱：處理具有傾斜特征的掩模的系統(tǒng)與方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明一般來(lái)說是關(guān)于半導(dǎo)體制造操作，且特別是關(guān)于一種改善的方法與系統(tǒng)，用以制造將被使用在光刻法(photolithography)過程中并具有傾斜特征的掩模。
背景技術(shù)：
現(xiàn)代微電子組件常見的制造方式是使用光刻法過程將電路設(shè)計(jì)印到一個(gè)晶片(wafer)基底(substrate)上。在此過程中，一半導(dǎo)體晶片首先被涂上一光阻層。然后利用一掩模影像(photomask、mask、reticle皆被視為掩模)將此光阻層曝露于一照明光，接著此光阻層被顯影。顯影之后，此上了圖案的光阻會(huì)在此晶片上產(chǎn)生此掩模的圖像。之后，此晶片的最上層被蝕刻、進(jìn)行注入或以其它方式處理，而且剩下的光阻層被剝除。對(duì)于多層的晶片，以上的步驟會(huì)被重復(fù)以產(chǎn)生連續(xù)的上了圖案的多個(gè)層。就其本身而論，掩模的質(zhì)量是很重要的，因?yàn)檠谀５馁|(zhì)量跟電路的質(zhì)量是直接相關(guān)的，這是因?yàn)閺碾娐吩O(shè)計(jì)準(zhǔn)確轉(zhuǎn)換到半導(dǎo)體晶片只在有質(zhì)量好的掩模時(shí)發(fā)生。
在過去，因?yàn)楦鞣N理由，包括質(zhì)量控制的考慮，電路已被設(shè)計(jì)為只具有水平和垂直的線路(lines)，所以容易在晶片上制造電路。所以，在掩模上主要是水平和垂直的線路。隨著電路尺寸被縮得越來(lái)越小，晶片的每一電路小片(die)上的空間變得很珍貴?，F(xiàn)在有時(shí)想要的是有傾斜的線路作為連接(connection)，而不是將水平和垂直的線路用于同樣的目的。雖然為了在小的組件單元(cell)尺寸之下有效率而使用傾斜的方位(orientation)來(lái)布局所設(shè)計(jì)的半導(dǎo)體集成電路不是很困難，然而因?yàn)樗鞋F(xiàn)存的掩模制造機(jī)器被設(shè)計(jì)用以制作在晶片上有關(guān)鍵精確度(critical precision)的垂直和水平線路，所以在掩模上產(chǎn)生這些傾斜的線路是很困難的。
附圖1顯示一典型的掩模寫入系統(tǒng)100的頂視圖。因?yàn)轭A(yù)計(jì)只會(huì)產(chǎn)生垂直和水平的線路，一掩模臺(tái)(mask stage)102、在掩模臺(tái)上的一掩模支架(maskholder)104以及一空白掩模(blank mask)或掩?；虮犊s掩?；?06，都被設(shè)計(jì)以在水平的參考方向(或X方向)與垂直的參考方向(或Y方向)上被準(zhǔn)確地對(duì)準(zhǔn)。掩?；虮犊s掩?；?06被掩模支架104所支持。這些組件的對(duì)準(zhǔn)能通過使用兩個(gè)鏡子108和110而完成，其中這兩個(gè)鏡子108和110反射光到X干涉儀(interferometer)112和Y干涉儀114。在這種傳統(tǒng)的配置方式中，掩模支架104被穩(wěn)固地固定在掩模臺(tái)102上，以致于當(dāng)掩模臺(tái)被對(duì)準(zhǔn)時(shí)其它所有的東西也被對(duì)準(zhǔn)。一旦對(duì)準(zhǔn)了，掩模寫入裝置100能夠如所期望地在此空白掩模上制作掩模圖案(mask pattern)116。掩模圖案例如附圖1中的圖案116可能含有傾斜特征，比如關(guān)于X-Y對(duì)準(zhǔn)配置的傾斜線路。
附圖2A～2C顯示傳統(tǒng)的掩模寫入裝置如何處理傾斜的線路。大多數(shù)的掩模寫入裝置處理這樣的傾斜線路是通過將小的傾斜圖案合并在一起，而不是使用大的連續(xù)區(qū)域。舉例來(lái)說，如在圖2A中所示，傾斜線路200由許多三角形202所形成。如在圖2B～2C中所示，傾斜線路204和水平的線路206(或垂直的線路)之間的連接可通過(部分)重疊這兩個(gè)實(shí)體或通過加入第三個(gè)傾斜的實(shí)體，例如在兩實(shí)體間的三角形208。因?yàn)橹圃烊魏蝺A斜的實(shí)體是很耗費(fèi)時(shí)間的，掩模寫入裝置的產(chǎn)量以及所產(chǎn)生的圖案的圖案逼真度(fidelity)會(huì)受到負(fù)面的影響。
再者，對(duì)于需要進(jìn)行尺寸測(cè)量的半導(dǎo)體制造工具來(lái)說，令人感興趣的特征是被垂直地放置。舉例而言，這些工具包含度量衡(metrology)工具像CDSEM、光學(xué)測(cè)量顯微鏡、掩模檢查(inspection)工具、掩模修理(repair)工具以及掩模驗(yàn)證(verfication)工具。在各種截面(cross sections)內(nèi)的尺寸是通過將電子束(e-beam)或光學(xué)聚光燈(optical spot)掃描橫過這些截面而估計(jì)的。
甚至在一掩模被產(chǎn)生之后，當(dāng)驗(yàn)證此掩模的質(zhì)量時(shí)，一典型的掩模驗(yàn)證工具模仿了掩模圖案復(fù)制(replication)工具的成像參數(shù)(imaging parameters)。舉例來(lái)說，一個(gè)空間影像仿真(Aerial Image Simulation，AIMS)工具使用一個(gè)小的場(chǎng)鏡(field len)，此場(chǎng)鏡具有與實(shí)際的晶片成像(wafer-imaging)工具相同的數(shù)值孔隙(numerical aperture)以及相同的波長(zhǎng)和照明條件，而此晶片成像工具將把掩模圖案復(fù)制在晶片上。檢查從AIMS工具得來(lái)的空間影像是為了關(guān)鍵尺寸(Critical Dimension，CD)控制、連接(bridging)或折斷(breaking)。應(yīng)理解的是若令人感到興趣的特征是被傾斜地放置，而非垂直地或水平地放置，則考慮到這些工具的測(cè)量和掃描網(wǎng)格(scanning grids)全都是被垂直地和水平地安排方位的事實(shí)，測(cè)量結(jié)果會(huì)較不準(zhǔn)確且更耗費(fèi)時(shí)間。同樣地，為了確保較佳的準(zhǔn)確度，在掩模修理工具中的觀測(cè)和圖案修改功能也更喜歡水平和垂直的圖案。
因?yàn)楣ぞ叩南拗?，大多?shù)的布局(layout)圖案的方位安排是在水平或垂直的參考方向上。至少來(lái)說，所有的關(guān)鍵圖案(critical patterns)都是這樣安排方位的。只有不要求精確尺寸的圖案被允許傾斜地安排方位。在掩模上制造傾斜的關(guān)鍵圖案已經(jīng)是困難的任務(wù)。
所以需要一種改進(jìn)的方法和系統(tǒng)，用以產(chǎn)生傾斜的圖案，而仍然維持圖案尺寸的準(zhǔn)確度，使所產(chǎn)生的掩?？杀挥迷诎雽?dǎo)體制造操作中。

發(fā)明內(nèi)容
揭露一種方法與系統(tǒng)，用以處理在一掩?；虮犊s掩模基底上一個(gè)或多個(gè)傾斜的特征。在將所述掩?；虮犊s掩模基底與一預(yù)定的參考系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)之后，決定在所述掩模或倍縮掩?；咨弦惶幚淼囊惶卣鞯囊黄?offset)角，所述偏移角是關(guān)于所述預(yù)定的參考系統(tǒng)的水平或垂直參考方向而言。所述掩模或倍縮掩?；自谝活A(yù)定的方向上被旋轉(zhuǎn)所述偏移角度；而且使用所述預(yù)定的參考系統(tǒng)處理在所述掩?；虮犊s掩?；咨系乃鎏卣?，其中所述特征是在所述預(yù)定的參考系統(tǒng)的水平或垂直參考方向上被處理。
本發(fā)明提供一種改進(jìn)的方法，用以提供處理傾斜特征的一種有效的掩模處理方法。相對(duì)于傳統(tǒng)的方法，會(huì)獲得各種好處。舉例來(lái)說，在掩模制造過程的背景下，在掩模制造過程期間可維持關(guān)鍵的傾斜圖案的準(zhǔn)確度。再者，掩模制造系統(tǒng)的產(chǎn)量不一定會(huì)被制造、檢查或者處理傾斜的關(guān)鍵圖案的需要所阻礙。就其本身而論，具有傾斜的關(guān)鍵圖案的設(shè)計(jì)的掩模制造周期時(shí)間(cycle time)沒有受到負(fù)面的影響。
從以下的詳細(xì)說明以及附圖一起來(lái)看，這些和其它的方面與優(yōu)點(diǎn)將變得明顯。這些附圖是經(jīng)由本發(fā)明的例子和原理而繪示說明的。


為讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下面特舉出一個(gè)較佳實(shí)施例，并配合附圖，詳細(xì)說明如下圖1顯示一標(biāo)準(zhǔn)的掩模寫入裝置。
圖2A～2C顯示在一掩模中制作傾斜特征的傳統(tǒng)方法。
圖3A顯示一掩模圖案，此掩模圖案含有關(guān)鍵的傾斜連接線路以及較不關(guān)鍵的垂直和水平線路。
圖3B顯示依據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例旋轉(zhuǎn)掩模基底之后的圖3A的掩模圖案。
圖4A顯示在一水平和垂直對(duì)準(zhǔn)的掩模基底上將被制作的預(yù)期的傾斜特征。
圖4B顯示依據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的方法，用來(lái)通過旋轉(zhuǎn)掩?；滓灾谱鲀A斜的特征。
圖4C顯示依據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的改進(jìn)的掩模制造工具，用來(lái)通過旋轉(zhuǎn)掩模基底與方位監(jiān)視系統(tǒng)來(lái)制作傾斜的特征。
組件代表符號(hào)簡(jiǎn)單說明100掩模寫入系統(tǒng) 102掩模臺(tái)104掩模支架 106掩?；虮犊s掩模基底108、110鏡子 112X干涉儀114Y干涉儀116圖案200傾斜線路 202三角形204傾斜線路 206水平的線路208三角形 300掩模圖案302關(guān)鍵線路 304非關(guān)鍵線路400掩模制造工具 402掩模臺(tái)404掩模支架 406掩模基底408AX干涉儀 408BY干涉儀410激光產(chǎn)生器 412被固定的鏡子414A用于Y干涉儀的鏡子414B用于X干涉儀的鏡子415分光鏡 416檢測(cè)器418掩模圖案 420定位標(biāo)記422方位監(jiān)視光束產(chǎn)生器424方位監(jiān)視鏡 426方位檢測(cè)器
具體實(shí)施例方式
提供一種方法與系統(tǒng)，用以為了半導(dǎo)體制造的目的而處理具有傾斜特征的掩?；虮犊s掩模。雖然本發(fā)明主要在制造掩模的背景下提出，但本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的是，整體的觀念可被用來(lái)檢查、驗(yàn)證、修理或修改掩模。
通過選擇性地旋轉(zhuǎn)一掩?；祝瑫r(shí)維持掩模處理系統(tǒng)例如一掩模寫入系統(tǒng)的正規(guī)配置，傾斜的特征是在掩模基底上被處理。這個(gè)詞匯「傾斜的」(oblique)意指任何不與一掩?；椎囊贿吘壌怪被蚱叫械木€路。在本文中這個(gè)詞匯「處理」(process或processing)的意義包含制造、修改、檢查、驗(yàn)證、修理掩模上的圖案、或任何其它類似的且需要應(yīng)付此掩模上的圖案/特征的處理。貫穿本發(fā)明說明書的是，傳統(tǒng)的掩模處理系統(tǒng)所使用的在此敘述為一水平-垂直參考系統(tǒng)(horizontal-vertical reference system)，而且可被稱為X-Y參考系統(tǒng)。同樣地，水平的參考方向可被稱為X方向，且垂直的參考方向可被稱為Y方向。也被理解的是X方向和Y方向是互相垂直的，而且若觀看者的視角已改變90度的話，在某種意義上X方向和Y方向是可互換的。為了本發(fā)明的目的，假設(shè)掩模處理工具已經(jīng)清楚地定義出X方向和Y方向。舉例來(lái)說，當(dāng)一個(gè)人將一空白掩模加載一掩模寫入系統(tǒng)時(shí)，此空白掩模必須要有一邊與X方向?qū)?zhǔn)。再者，支持著掩?；椎囊谎谀Ｅ_(tái)的移動(dòng)方向也能定義出X-Y參考系統(tǒng)。此參考系統(tǒng)被各種處理工具普遍地使用，以致于可在此掩模基底上精確地與準(zhǔn)確地產(chǎn)生設(shè)計(jì)特征。
在半導(dǎo)體工業(yè)中，尤其是掩模制造過程，各種掩模制造工具較喜歡垂直地和/或水平地安排方位的圖案。設(shè)定在許多這樣的掩模制造工具中的是X-Y參考系統(tǒng)，此系統(tǒng)只允許產(chǎn)生或檢查相互垂直的線路。由于工業(yè)上這個(gè)廣泛的偏好，大多數(shù)的電路設(shè)計(jì)的最關(guān)鍵特征的方位安排在X-Y方向上，只留下較不關(guān)鍵的特征在方位安排上有一點(diǎn)靈活性。
隨著科技的進(jìn)步，在一些電路設(shè)計(jì)中，尤其是具有連線層(wiring layer)的情形下，更愿意的是傾斜地引導(dǎo)安排關(guān)鍵的連接線路的方位，最常見的是相對(duì)于水平的或垂直的參考方向而言成45度或135度。在此情況下，垂直和水平特征的尺寸的關(guān)鍵性可能比不上傾斜地被定位的線路的關(guān)鍵性。
圖3A顯示一掩模圖案300，此掩模圖案300含有被傾斜地定位且具有關(guān)鍵尺寸的線路302，而垂直的或水平的線路304實(shí)際上被允許具有關(guān)鍵性低很多的尺寸。經(jīng)過掩模圖案設(shè)計(jì)文件，要決定在傾斜的線路和水平的或垂直的參考方向之間有多大的偏移角(offset angle)存在是可能的。此偏移角最常見的是約45度或135度。
如在圖2A～2C中所述的傳統(tǒng)的掩模寫入方法是不令人滿意的，這是由于關(guān)鍵特征的不準(zhǔn)確性以及掩模制造過程的缺點(diǎn)。本發(fā)明提出一種掩模圖案上傾斜的線路的改進(jìn)的寫入和/或測(cè)量方法，通過使用現(xiàn)存的掩模制造工具以及它們的X-Y參考系統(tǒng)。進(jìn)行修改以允許旋轉(zhuǎn)一空白掩模基底，使傾斜的特征變成水平的或垂直的特征。
圖3B顯示此掩模圖案300，其中此掩模圖案300已被旋轉(zhuǎn)90度使在圖3A中的傾斜線路現(xiàn)在被水平地或垂直地定位。在此例子中，當(dāng)電路圖案具有如在圖2中所示的以45度和135度方向排成一排的關(guān)鍵特征時(shí)，此掩模基底是在被旋轉(zhuǎn)45度的情形下被處理的。為了安排掩模制造工具以達(dá)到想要的結(jié)果，更多的細(xì)節(jié)會(huì)在下面描述。
圖4A顯示一掩模制造工具400的頂視圖。此掩模制造工具400的各種組成組件在圖中被排除以簡(jiǎn)化在此的圖標(biāo)。此掩模制造工具400具有一掩模臺(tái)402以及一個(gè)可旋轉(zhuǎn)的掩模支架404，其中此掩模臺(tái)402的位置被固定在此掩模制造工具400上，而掩模支架404支持一個(gè)掩?；谆蚩瞻籽谀?06。此掩模臺(tái)本身定義了一個(gè)預(yù)定的參考系統(tǒng)，因?yàn)樗ǔＴ诖怪钡?“Y”)或水平的(“X”)方向上移動(dòng)。就其本身而論，此掩模臺(tái)的移動(dòng)路線定義了此參考系統(tǒng)的X和Y參考方向。此掩模臺(tái)所移動(dòng)的X和Y方向被高精確度的欄桿、軌道、軸承(bearings)等等機(jī)械性地保持。另一方面，此可旋轉(zhuǎn)的掩模支架404能旋轉(zhuǎn)所支持的掩模，此掩模被旋轉(zhuǎn)到從該參考系統(tǒng)的X或Y方向算起的一偏移角。此掩模制造工具400也具有一個(gè)光學(xué)的對(duì)準(zhǔn)子系統(tǒng)(opticalalignment subsystem)，用以感測(cè)和將此掩模臺(tái)402的位置與X和Y干涉儀408A與408B對(duì)準(zhǔn)。一個(gè)光源例如一激光產(chǎn)生器410產(chǎn)生光，通過使用一分光鏡(beam splitter)415以使光在一被固定的鏡子412上以及附著到掩模臺(tái)402的另一鏡子414A上反射。被反射的光束之間的干涉(interference)然后被一檢測(cè)器(detector)416所感測(cè)，以便掩模臺(tái)的垂直位置被評(píng)估。要注意到的是有另一個(gè)用于X干涉儀的鏡子414B附著到掩模臺(tái)402，這是為了在水平的參考方向上的位置測(cè)量。當(dāng)在X上的位置改變沒有改變?cè)赮上的位置時(shí)而且反之亦然的情況下，會(huì)產(chǎn)生垂直正交(orthogonal)的移動(dòng)。
如在圖4A中所示，像圖3A中掩模圖案的一掩模圖案418預(yù)計(jì)會(huì)被在掩?；咨现圃臁Ｒ灿幸粋€(gè)或多個(gè)定位標(biāo)記(position mark)420在掩模支架上，以檢驗(yàn)記錄掩模臺(tái)和掩模上預(yù)先寫入的圖案之間的相對(duì)位置，用于在多次曝光情況下的多次曝光之間寫入的圖案的記錄。
圖4B顯示和圖4A中相同的掩模制造工具400，除了掩?；?06和掩模支架404被向左旋轉(zhuǎn)45度以外。如所顯示的，掩模臺(tái)402沒被旋轉(zhuǎn)而且相對(duì)于X和Y干涉儀來(lái)看掩模臺(tái)402維持它的位置和對(duì)準(zhǔn)度。掩?；?06是通過旋轉(zhuǎn)掩模支架404而被旋轉(zhuǎn)，其中掩?；?06的位置相對(duì)于掩模支架來(lái)看一點(diǎn)也沒改變?？稍谘谀Ｅ_(tái)上建一個(gè)或多個(gè)被固定的機(jī)械擋塊(mechanical stopper)421，以便掩模支架可被協(xié)調(diào)一致地(consistently)旋轉(zhuǎn)到預(yù)定的角度。因?yàn)楝F(xiàn)在可旋轉(zhuǎn)圖4A中掩模圖案418的設(shè)計(jì)源以將關(guān)鍵的特征與X或Y方向?qū)?zhǔn)，最后的結(jié)果是通過使用標(biāo)準(zhǔn)的水平和垂直線路制造過程，在空白掩模406上產(chǎn)生想要的掩模圖案418。將不需要任何圖2A～2C中所示的方法。
雖然掩模基底被旋轉(zhuǎn)為在一傾斜的方位，掩模臺(tái)402仍然在掩模制造工具400中垂直的和水平的參考方向上移動(dòng)。因此，位置監(jiān)視裝置例如用于激光干涉儀的鏡子412和414A-B維持在監(jiān)視垂直和水平位置的位置。
圖4C顯示依據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的具有方位監(jiān)視子系統(tǒng)的掩模制造工具400。當(dāng)掩?；?06的方位在掩模制造過程中可以改變的時(shí)候，會(huì)是最有靈活性的。這可以通過使用掩模支架404以及一掩模基底方位監(jiān)視子系統(tǒng)來(lái)完成，其中方位監(jiān)視子系統(tǒng)例如是方位監(jiān)視光束產(chǎn)生器422、附著到掩模支架404的方位監(jiān)視鏡424以及方位檢測(cè)器426。經(jīng)由方位監(jiān)視光束在方位監(jiān)視鏡424上的反射，檢測(cè)器426可檢測(cè)掩模支架404是否已被對(duì)準(zhǔn)到一個(gè)想要的角度。此外，一個(gè)或多個(gè)定位標(biāo)記428可被放在支架和/或掩?；咨弦栽试S掩模寫入工具400追蹤記錄在每一次改變位置之后掩模基底安定下來(lái)的位置。
在有適當(dāng)設(shè)計(jì)的方位監(jiān)視子系統(tǒng)的情形下，只要決定了偏移角則掩模支架可被轉(zhuǎn)到任何想要的位置，而此偏移角是被傾斜的線路和掩模制造工具的參考系統(tǒng)的水平或垂直參考方向所定義的。就其本身而論，只要通過在掩模臺(tái)上旋轉(zhuǎn)掩模基底而使用標(biāo)準(zhǔn)的過程，在一想要的掩模上的任何傾斜特征可以被掩模制造工具所產(chǎn)生。
以上所敘述的本發(fā)明因此提供一種改進(jìn)的方法，用以提供應(yīng)付傾斜特征的一種有效的掩模處理方法。相對(duì)于傳統(tǒng)的方法，會(huì)獲得各種好處。舉例來(lái)說，在掩模制造過程的背景下，在掩模制造過程期間可維持關(guān)鍵的傾斜圖案的準(zhǔn)確度。再者，掩模制造過程的產(chǎn)量不一定會(huì)被制造傾斜的關(guān)鍵圖案的需要所阻礙。就其本身而論，具有傾斜的關(guān)鍵圖案的設(shè)計(jì)的掩模制造周期時(shí)間沒有受到負(fù)面的影響。這些好處同等適用于其它必須應(yīng)付傾斜特征的掩模處理系統(tǒng)。
以上的揭露提供許多不同的實(shí)施例或例子，用來(lái)實(shí)施本發(fā)明的不同特征。組件的詳細(xì)特定例子以及過程的敘述是要使本發(fā)明清楚易懂。當(dāng)然這些僅僅是例子，并不是要限制在權(quán)利要求中所敘述的本發(fā)明。
雖然本發(fā)明已以其較佳實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，可作各種的更動(dòng)與修飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)以所附的權(quán)利要求所界定的為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種處理在一掩?；虮犊s掩模基底上一個(gè)或多個(gè)傾斜特征的方法，所述方法至少包含將所述掩模或倍縮掩?；着c一預(yù)定的參考系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)；決定在所述掩模或倍縮掩?；咨弦惶幚淼囊粋€(gè)特征的一偏移角，所述偏移角是關(guān)于所述預(yù)定的參考系統(tǒng)的第一參考方向或垂直于所述第一參考方向的第二參考方向而言；在一預(yù)定的方向上將所述掩?；虮犊s掩模基底旋轉(zhuǎn)所述偏移角度；以及依據(jù)所述預(yù)定的參考系統(tǒng)處理在所述掩?；虮犊s掩?；咨系乃鎏卣?，其中所述特征在所述預(yù)定的參考系統(tǒng)的水平或垂直參考方向上被處理。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，所述對(duì)準(zhǔn)步驟包含將所述掩?；虮犊s掩?；锥ㄎ挥谝谎谀ＶЪ苌?，所述掩模支架位于一掩模處理工具的一個(gè)掩模臺(tái)上。
3.如權(quán)利要求2所述的方法，其中所述預(yù)定的參考系統(tǒng)通過所述掩模臺(tái)的移動(dòng)方向而被定義出。
4.如權(quán)利要求2所述的方法，其中所述旋轉(zhuǎn)步驟包含將被對(duì)準(zhǔn)的所述掩模支架旋轉(zhuǎn)所述偏移角度。
5.如權(quán)利要求2所述的方法，其中所述旋轉(zhuǎn)步驟還包含使用在所述掩模臺(tái)上的一個(gè)或多個(gè)擋塊，以擋住所述掩模支架。
6.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述偏移角離所述第一或第二參考方向約45度。
7.一種掩模處理系統(tǒng)，至少包含一第一裝置，用以依據(jù)一預(yù)定的參考系統(tǒng)接收一掩模或倍縮掩?；祝灰坏诙b置，用以決定在所述掩模或倍縮掩?；咨弦惶幚淼囊粋€(gè)特征的一個(gè)偏移角，所述偏移角是關(guān)于所述預(yù)定的參考系統(tǒng)的水平或垂直參考方向而言；一第三裝置，用以在一預(yù)定的方向上將所述掩?；虮犊s掩?；仔D(zhuǎn)所述偏移角度；以及一第四裝置，用以依據(jù)所述預(yù)定的參考系統(tǒng)處理在所述掩?；虮犊s掩模基底上的所述特征，其中所述特征在所述預(yù)定的參考系統(tǒng)的水平或垂直參考方向上被處理。
8.如權(quán)利要求7所述的處理系統(tǒng)為一掩模寫入或修理工具、一度量衡工具、一驗(yàn)證工具或一檢查工具。
9.如權(quán)利要求7所述的處理系統(tǒng)，其中用以旋轉(zhuǎn)的所述第三裝置還包含一可旋轉(zhuǎn)的掩模支架。
10.如權(quán)利要求7所述的處理系統(tǒng)，其中用以接收的所述第一裝置還包含一掩模臺(tái)，所述掩模臺(tái)的移動(dòng)方向定義出所述預(yù)定的參考系統(tǒng)。
11.如權(quán)利要求7所述的處理系統(tǒng)，還包含一掩?；虮犊s掩模基底確定方位監(jiān)視子系統(tǒng)，用以監(jiān)視所述掩?；虮犊s掩?；椎奈恢?。
12.一種處理在一掩模或倍縮掩?；咨弦粋€(gè)或多個(gè)傾斜特征的方法，所述方法至少包含將所述掩?；虮犊s掩模基底定位于一可旋轉(zhuǎn)的掩模支架上，所述掩模支架是位于一掩模臺(tái)上；將所述掩模或倍縮掩?；着c一預(yù)定的參考系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)，使所述掩?；虮犊s掩模基底的至少一邊是在所述參考系統(tǒng)的水平參考方向上，所述預(yù)定的參考系統(tǒng)通過所述掩模臺(tái)的移動(dòng)方向而被定義出；決定在所述掩?；虮犊s掩?；咨弦惶幚淼牡谝惶卣鞯牡谝黄平牵龅谝黄平鞘顷P(guān)于所述預(yù)定的參考系統(tǒng)的水平或垂直參考方向而言；在一預(yù)定的方向上將所述掩模支架旋轉(zhuǎn)所述第一偏移角度；以及依據(jù)所述預(yù)定的參考系統(tǒng)處理在所述掩模或倍縮掩?；咨系乃龅谝惶卣?，其中所述第一特征在所述預(yù)定的參考系統(tǒng)的水平或垂直參考方向上被處理。
13.如權(quán)利要求12所述的方法，還包含決定在所述掩?；虮犊s掩?；咨弦惶幚淼牡诙卣鞯牡诙平?，所述第二偏移角是關(guān)于所述預(yù)定的參考系統(tǒng)的水平或垂直參考方向而言；旋轉(zhuǎn)所述掩模支架到達(dá)基于所述第一和第二偏移角的一想要的方位；以及依據(jù)所述預(yù)定的參考系統(tǒng)處理在所述掩模或倍縮掩?；咨系乃龅诙卣鳎渲兴龅诙卣髟谒鲱A(yù)定的參考系統(tǒng)的水平或垂直參考方向上被處理。
14.如權(quán)利要求12項(xiàng)所述的方法，還包含依據(jù)所述預(yù)定的參考系統(tǒng)監(jiān)視所述掩?；虮犊s掩模基底的位置。
15.一種掩模處理系統(tǒng)，至少包含一掩模臺(tái)，用以對(duì)準(zhǔn)一掩?；虮犊s掩?；?，其中所述掩模或倍縮掩?；椎囊贿吰叫杏谝活A(yù)定的參考系統(tǒng)的水平參考方向；一處理模塊，用以決定在所述掩?；虮犊s掩?；咨弦惶幚淼囊惶卣鞯囊黄平?，所述偏移角是關(guān)于水平或垂直參考方向而言；一掩模支架，用以在一預(yù)定的方向上將所述掩?；虮犊s掩?；仔D(zhuǎn)所述偏移角度；一掩?；虮犊s掩?；状_定方位監(jiān)視子系統(tǒng)，用以監(jiān)視所述掩模或倍縮掩?；椎奈恢茫灰约耙谎谀Ｌ幚砟K，利用所述預(yù)定的參考系統(tǒng)以處理在所述掩?；虮犊s掩?；咨系乃鎏卣?，其中所述特征在水平或垂直參考方向上被處理。
全文摘要
揭露一種方法與系統(tǒng)，用以處理在一掩模或倍縮掩?；咨弦粋€(gè)或多個(gè)傾斜的特征。在將所述掩?；虮犊s掩?；着c一預(yù)定的參考系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)之后，決定在所述掩?；虮犊s掩?；咨弦惶幚淼囊粋€(gè)特征的一個(gè)偏移角，所述偏移角是對(duì)于所述預(yù)定的參考系統(tǒng)的水平或垂直參考方向而言。所述掩?；虮犊s掩?；自谝活A(yù)定的方向上被旋轉(zhuǎn)所述偏移角度；而且使用所述預(yù)定的參考系統(tǒng)處理在所述掩?；虮犊s掩?；咨系乃鎏卣?，其中所述特征是在所述預(yù)定的參考系統(tǒng)的水平或垂直參考方向上被處理。
文檔編號(hào)G03F9/00GK1648775SQ20041005719
公開日2005年8月3日 申請(qǐng)日期2004年8月27日 優(yōu)先權(quán)日2004年1月27日
發(fā)明者林本堅(jiān), 楊平, 謝弘璋, 辜耀進(jìn), 林進(jìn)祥, 游秋山 申請(qǐng)人:臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司