專利名稱：顯影劑吸附元件、顯影設(shè)備、成像裝置和計(jì)算機(jī)系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種顯影劑吸附元件(developer bearing member)、一種顯影設(shè)備、一種成像裝置和一種計(jì)算機(jī)系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
作為一類成像裝置，存在一種公知的包括一個(gè)旋轉(zhuǎn)型顯影單元的裝置。該旋轉(zhuǎn)型顯影單元包括圍繞其旋轉(zhuǎn)軸心徑向排列的多個(gè)顯影設(shè)備。這些顯影設(shè)備能夠使用如調(diào)色劑之類的顯影劑將在光電導(dǎo)體(photoconductor)上形成的潛像顯影出來。當(dāng)從主機(jī)等外部設(shè)備傳來一個(gè)圖像信號時(shí)，成像裝置使得顯影單元圍繞其旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動，以將多個(gè)顯影設(shè)備之一定位到與該光電導(dǎo)體相對的顯影位置。通過顯影在光電導(dǎo)體上形成的潛像來形成調(diào)色劑圖像，該圖像被傳送到一個(gè)中間介質(zhì)上。依次改變那些顯影設(shè)備，重復(fù)上述顯影和傳送過程，通過疊加多個(gè)調(diào)色劑圖像就形成了彩色圖像。
(1)為實(shí)現(xiàn)上述顯影在光電導(dǎo)體上形成的潛像的功能，例如，一個(gè)顯影設(shè)備包括顯影滾筒，用作顯影劑吸附元件以吸附調(diào)色劑；調(diào)色劑容器；調(diào)色劑供應(yīng)滾筒；以及限制刀片。為提高吸附和/或輸送調(diào)色劑的性能，在顯影滾筒表面上形成多個(gè)凹陷。例如，這些凹陷可用玻璃珠等球狀顆粒的噴射形成。
如果由噴丸(blasting)或其他方法形成的凹陷的表面粗糙度很小(也就是說，如果每個(gè)凹陷的表面不夠粗糙)，就會發(fā)生凹陷吸附的調(diào)色劑的“翻滾屬性”(tumbling property)惡化(也就是說，增調(diào)色劑在凹陷中不會充分地翻滾)的情形。這種情形發(fā)生的原因在于，由于凹陷表面粗糙度不夠，導(dǎo)致調(diào)色劑與凹陷表面的接觸面積過大。
翻滾屬性的惡化會產(chǎn)生許多問題。例如，當(dāng)顯影滾筒帶有(吸附)的調(diào)色劑被顯影劑充電元件如限制刀片充電時(shí)，就會產(chǎn)生由于翻滾屬性惡化導(dǎo)致調(diào)色劑上的電荷不夠的問題。另一個(gè)例子可能是，顯影完潛像后顯影滾筒上的殘留調(diào)色劑要被諸如顯影劑供應(yīng)滾筒的顯影劑刮擦元件刮掉時(shí)，由于翻滾屬性的惡化，調(diào)色劑不能被充分刮掉。
因此，需要一種提高調(diào)色劑翻滾屬性的方法。
(2)另外，后文會解釋到，凹陷的表面可能會設(shè)置多個(gè)凸起，作為避免調(diào)色劑翻滾屬性惡化的方法。通過設(shè)置這些凸起，凹陷的表面就會變得粗糙，調(diào)色劑與凹陷表面的接觸面積也因此減小，從而可能提高調(diào)色劑的翻滾屬性。
在調(diào)色劑顆粒中，存在所謂的“粉末化調(diào)色劑”(pulverized toner)。粉末化調(diào)色劑要比那些顆粒大小足以顯影圖像承載元件上形成的潛像的調(diào)色劑小。尤其是在用研磨的方法制造調(diào)色劑時(shí)容易生成這種粉末化調(diào)色劑。在調(diào)色劑中混入潤滑劑時(shí)，粉末化調(diào)色劑更可能被產(chǎn)生出來，因?yàn)榇藭r(shí)調(diào)色劑變得易于破裂。
當(dāng)調(diào)色劑由顯影滾筒吸附時(shí)，調(diào)色劑(主要是粉末化調(diào)色劑)可能陷入到凸起之間。在這種情況下，調(diào)色劑可能會在顯影滾筒表面上的同一個(gè)位置聚積起來，就會發(fā)生調(diào)色劑的老化，產(chǎn)生如所謂的“膜化現(xiàn)象”(filming phenomenon)等問題。
為防止這種情形，就需要一種防止調(diào)色劑(主要是粉末化調(diào)色劑)陷入顯影滾筒的方法。
(3)同時(shí)，為實(shí)現(xiàn)如前述顯影在光電導(dǎo)體上形成的潛像等功能，另一類顯影設(shè)備包括，例如，顯影滾筒，作為調(diào)色劑吸附元件以吸附調(diào)色劑，調(diào)色劑供應(yīng)滾筒和限制刀片，作為緊靠(或者說接觸)顯影滾筒的緊靠元件。為提高吸附和/或輸送調(diào)色劑的性能，在顯影滾筒表面上形成多個(gè)凹陷。例如，這些凹陷可用玻璃珠等球狀顆粒的噴丸處理形成。
如果由噴丸或其他方法形成的凹陷的表面粗糙度很小(也就是說，如果每個(gè)凹陷的表面不夠粗糙)，就會發(fā)生顯影滾筒在緊靠元件和顯影滾筒互相緊靠的部位吸附的調(diào)色劑的翻滾屬性惡化(也就是說，調(diào)色劑在凹陷中不會充分地翻滾)的情形。這種情形發(fā)生的原因在于，由于凹陷表面粗糙度不夠，導(dǎo)致調(diào)色劑與凹陷表面的接觸面積過大。
翻滾屬性的惡化會產(chǎn)生許多問題。例如，當(dāng)顯影滾筒在顯影劑充電元件和顯影滾筒互相緊靠的部位吸附的調(diào)色劑被顯影劑充電元件(也用作前面提到的緊靠元件)充電時(shí)，就會產(chǎn)生由于翻滾屬性惡化導(dǎo)致調(diào)色劑上的電荷不夠的問題。另一個(gè)例子可能是，顯影完潛像后，顯影滾筒在顯影劑刮擦元件與顯影滾筒相互緊靠的部位上的殘留調(diào)色劑要被顯影劑刮擦元件(也用作前面提到的緊靠元件)清除時(shí)，由于翻滾屬性的惡化，調(diào)色劑不能被充分清除。
因此，需要一種提高調(diào)色劑翻滾屬性的方法。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型就是在考慮上述和其他一些問題的基礎(chǔ)上進(jìn)行設(shè)計(jì)構(gòu)思，因此一個(gè)目的就是提供一種顯影劑吸附元件，一種顯影設(shè)備，一種成像裝置和一種計(jì)算機(jī)系統(tǒng)，用以提高顯影劑的翻滾屬性和防止顯影劑陷入到顯影劑吸附元件中去。
根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)方面，用于吸附調(diào)色劑的顯影劑吸附元件中，該顯影劑元件在其表面上有多個(gè)凹陷，而每個(gè)凹陷在其表面上有多個(gè)凸起。
根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)方面，一個(gè)顯影設(shè)備包括調(diào)色劑，其顆粒尺寸分布中至少有兩個(gè)峰，其中顆粒數(shù)目的分布被用作分布參考，且其中，所述峰中構(gòu)成最大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸要大于所述峰中構(gòu)成次大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸；和可移動的用以吸附所述調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，所述顯影劑吸附元件在其表面上有多個(gè)凹陷，所述顯影設(shè)備能夠用由所述顯影劑吸附元件吸附的所述調(diào)色劑顯影一張潛像，所述潛像由一個(gè)圖像承載元件所承載，每一個(gè)所述凹陷在其表面上有多個(gè)凸起，且所述顯影劑吸附元件的所述凸起在其移動方向上的直徑要比構(gòu)成所述次大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸小。
根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)方面，一種顯影設(shè)備包括調(diào)色劑；用作吸附調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，該顯影劑吸附元件在其表面上有多個(gè)凹陷；緊靠元件，能夠緊靠到該顯影劑吸附元件上，該顯影設(shè)備能夠用吸附在顯影劑吸附元件上的調(diào)色劑將一張潛像顯影出來，該潛像承載在圖像承載元件上，且每個(gè)凹陷在其表面上都有多個(gè)凸起。
本實(shí)用新型的其他特征在后文參照附圖對本說明書所作描述中會有更清晰的體現(xiàn)。


為對本實(shí)用新型及其優(yōu)點(diǎn)有更全面的理解，現(xiàn)參考附圖做如下說明，其中圖1示出了根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例構(gòu)成一個(gè)成像裝置的一些主要結(jié)構(gòu)組件；圖2是示出圖1的成像裝置的控制單元的方框圖；圖3是示出顯影設(shè)備的一些主要結(jié)構(gòu)組件的剖面圖；圖4是解釋根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例的調(diào)色劑分析方法的圖；圖5是示出根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例的調(diào)色劑分析結(jié)果的圖；圖6是示出根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例的顯影滾筒510的表面結(jié)構(gòu)的示意圖；圖7A到圖7E是示出根據(jù)本實(shí)用新型地實(shí)施例，顯影滾筒510的表面結(jié)構(gòu)在該滾筒表面結(jié)構(gòu)的生產(chǎn)過程中是如何改變的示意圖；圖8A和圖8B是示出經(jīng)過無電鍍處理后用掃描電子顯微鏡(ScanningElectron Microscpe，SEM)觀察顯影滾筒510的表面所獲結(jié)果的視圖；圖9A和圖9B是示出粉末化調(diào)色劑是如何置放在顯影滾筒510上形成的凹陷的表面上的示意圖。
具體實(shí)施方式
通過本說明書和附圖的描述中的解釋，至少會使下面的問題變得更加明晰。
本實(shí)用新型的一個(gè)方面是一種用于吸附調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，其中所述顯影劑吸附元件在其表面上有多個(gè)凹陷，且每個(gè)凹陷在其表面上有多個(gè)凸起。
由于每個(gè)凹陷在其表面上有多個(gè)凸起，就有可能提高調(diào)色劑的翻滾屬性。
如果凹陷的直徑等于或小于80微米效果更好，更佳選擇是20到30微米。
這樣，就可能使凹陷充分發(fā)揮攜帶顯影劑(調(diào)色劑)的能力。
如果凸起的直徑等于或小于7微米效果更好，更佳的選擇是0.5到1.5微米。
這樣，就可能在顯影劑(調(diào)色劑)和凹陷表面之間提供理想的接觸區(qū)域。
所述凹陷可以通過對所述顯影劑吸附元件的表面進(jìn)行噴丸處理形成。
這樣，就可能在顯影劑吸附元件表面形成具有只有少許裂縫的光滑部分的粗糙表面。
所述凸起可以通過在所述噴丸處理中使用具有多個(gè)凹陷的顆粒形成。
這樣，就可能大大減少對顯影劑吸附元件的表面做噴丸處理后的后續(xù)處理的數(shù)量，從而減少顯影劑吸附元件的制造成本。
顆粒上的多個(gè)凹陷可由對顆粒表面進(jìn)行蝕刻處理形成。
這樣，就可能容易地在顆粒上形成多個(gè)凸起。
在對顯影劑吸附元件的表面進(jìn)行噴丸處理后，通過對顯影劑吸附元件的表面先進(jìn)行蝕刻處理再做無電鍍可形成凸起。
這樣，由于在鍍時(shí)可能填充在對顯影劑吸附元件進(jìn)行噴丸處理時(shí)形成的裂縫，就可能避免產(chǎn)生由于顯影劑(調(diào)色劑)陷入(或埋藏到)裂縫中而產(chǎn)生的膜化現(xiàn)象，且由于在凸起方向上鍍膜的生長，也可在噴丸處理形成的凹陷中形成微小的凸起。
在對顯影劑吸附元件的表面進(jìn)行噴丸處理后，通過用比噴丸處理中所用顆粒尺寸小的顆粒粘附于噴丸處理形成的凹陷的表面上也可以形成凸起。
這樣，就可能僅通過適當(dāng)選擇粘附到噴丸處理形成的凹陷的表面上的顆粒而輕易地調(diào)整凸起的大小。
顯影劑吸附元件的材料可以是鋁合金。
這樣，因?yàn)樵摬牧系牧畠r(jià)，就可能減少生產(chǎn)顯影劑吸附元件的制造成本，也使顯影設(shè)備在重量上很輕。
顯影劑吸附元件的材料可以是鐵合金。
這樣，由于這種材料的高強(qiáng)度特性，就可能減少顯影劑吸附元件表面上的凸起和凹陷在長期使用中的磨損。
本實(shí)用新型的另一個(gè)方面是一種用于吸附調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，其中該顯影劑吸附元件在其表面上的多個(gè)凹陷；在每個(gè)所述凹陷表面上的多個(gè)凸起；所述凹陷的直徑等于或小于80微米；所述凸起的直徑等于或小于7微米；所述凹陷通過對所述顯影劑吸附元件的表面進(jìn)行噴丸處理形成；在對所述顯影劑吸附元件表面進(jìn)行所述噴丸處理后，通過對所述顯影劑吸附元件的表面進(jìn)行蝕刻處理，且對所述顯影劑吸附元件的表面經(jīng)過無電鍍形成所述凸起；且所述顯影劑吸附元件的材料是鐵合金。
這樣，由于上述所有的效果幾乎都可獲得，本實(shí)用新型的目的可進(jìn)一步有效地獲得。
本實(shí)用新型的另一個(gè)方面是一種顯影設(shè)備，包括一個(gè)用于吸附調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，其中所述顯影劑吸附元件在其表面上的多個(gè)凹陷；和每個(gè)所述凹陷在其表面上有多個(gè)凸起。
根據(jù)該種顯影設(shè)備，由于每個(gè)凹陷在其表面上有多個(gè)凸起，就可提高顯影劑(調(diào)色劑)的翻滾屬性。
本實(shí)用新型的另一個(gè)方面是一種成像裝置，包括一個(gè)用于吸附調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，其中該顯影劑吸附元件在其表面上有多個(gè)凹陷，且每個(gè)凹陷在其表面上有多個(gè)凸起。
根據(jù)該種成像裝置，由于每個(gè)凹陷在其表面上有多個(gè)凸起，就有可能提高顯影劑(調(diào)色劑)的翻滾屬性。
本實(shí)用新型的另一個(gè)方面是一種計(jì)算機(jī)系統(tǒng)，包括計(jì)算機(jī)；能連接到所述計(jì)算機(jī)的顯示設(shè)備；和成像裝置，能連接到所述計(jì)算機(jī)且包括一個(gè)用于吸附調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，其中所述顯影劑吸附元件在其表面上有多個(gè)凹陷，且每個(gè)凹陷在其表面上有多個(gè)凸起。
在一個(gè)如上所述實(shí)現(xiàn)的計(jì)算機(jī)系統(tǒng)中，該系統(tǒng)在整體上優(yōu)于一個(gè)普通的系統(tǒng)。
本實(shí)用新型的另一個(gè)方面是一種顯影設(shè)備，包括調(diào)色劑，其顆粒尺寸分布中至少有兩個(gè)峰，其中顆粒數(shù)目的分布被用作分布參考，且其中，所述峰中構(gòu)成最大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸要大于所述峰中構(gòu)成次大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸；和可移動的用以吸附所述調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，所述顯影劑吸附元件在其表面上有多個(gè)凹陷，所述顯影設(shè)備能夠用由所述顯影劑吸附元件吸附的所述調(diào)色劑顯影一張潛像，所述潛像由一個(gè)圖像承載元件所承載，每一個(gè)所述凹陷在其表面上有多個(gè)凸起，且所述顯影劑吸附元件的所述凸起在其移動方向上的直徑要比構(gòu)成所述次大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸小。
由于每個(gè)凹陷在其表面上都有多個(gè)凸起，且顯影劑吸附元件的凸起在其移動方向上的直徑要比顯影劑(調(diào)色劑)構(gòu)成其次大峰的顆粒的尺寸小，就可能減少顯影劑(調(diào)色劑)陷入到顯影劑吸附元件中的情形的發(fā)生。
如果凸起的直徑等于或小于7微米效果更好，更佳的選擇是0.5到1.5微米。
這樣，就可能在顯影劑(調(diào)色劑)和凹陷表面之間提供理想的接觸區(qū)域。
所述顯影劑吸附元件的所述凹陷在其移動方向上的直徑要比構(gòu)成所述最大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸大。
這樣，就可能提供一個(gè)足夠的間隔以讓顯影劑(調(diào)色劑)在凹陷中翻滾，其中該顯影劑(調(diào)色劑)具有合適的尺寸以顯影在圖像承載元件上形成的潛像。
如果凹陷的直徑等于或小于80微米效果更好，更佳選擇是20到30微米。
這樣，就可能使凹陷能夠充分發(fā)揮其攜帶顯影劑(調(diào)色劑)的能力。
調(diào)色劑可由研磨的方法生產(chǎn)。
這樣，由于存在一種趨勢，即容易生產(chǎn)所謂的粉末化顯影劑(調(diào)色劑)，上述減少顯影劑(調(diào)色劑)陷入到顯影劑吸附元件這種情形的發(fā)生的效果就更加明顯和有效了。
該調(diào)色劑可以包括潤滑劑。
這樣，由于該顯影劑(調(diào)色劑)易于分裂(碎裂)且當(dāng)該調(diào)色劑中包括一種潤滑劑時(shí)容易產(chǎn)生所謂的粉末化調(diào)色劑，上述減少顯影劑(調(diào)色劑)陷入到顯影劑吸附元件這種情形的發(fā)生的效果就更加明顯和有效了。
潤滑劑可以與調(diào)色劑不相溶。
這樣，由于存在一種趨勢，即由于該顯影劑(調(diào)色劑)的易分裂(碎裂)性的加強(qiáng)使得容易產(chǎn)生所謂粉末化顯影劑(調(diào)色劑)，上述減少顯影劑(調(diào)色劑)陷入到顯影劑吸附元件這種情形的發(fā)生的效果就更加明顯和有效了。
通過對所述顯影劑吸附元件的表面進(jìn)行噴丸處理可以形成所述凹陷。
這樣，就可能在顯影劑吸附元件表面形成具有只有少許裂縫的光滑部分的粗糙表面。
通過在所述噴丸處理中使用具有多個(gè)凹陷的顆?？梢孕纬伤鐾蛊稹?br> 這樣，就可能大大減少對顯影劑吸附元件的表面做噴丸處理后的后續(xù)處理的數(shù)量，從而減少顯影劑吸附元件的制造成本。
通過對所述顆粒的表面進(jìn)行蝕刻處理可以形成所述顆粒的所述多個(gè)凹陷。
這樣，就可能容易地在顆粒上形成多個(gè)凸起。
在對所述顯影劑吸附元件表面進(jìn)行所述噴丸處理后，通過對所述顯影劑吸附元件的表面進(jìn)行蝕刻處理，且對所述顯影劑吸附元件的表面進(jìn)行無電鍍可以形成所述凸起。
這樣，由于在鍍時(shí)可能填充在對顯影劑吸附元件進(jìn)行噴丸處理時(shí)形成的裂縫，就可能避免產(chǎn)生由于顯影劑(調(diào)色劑)陷入(或埋藏到)裂縫中而產(chǎn)生的膜化現(xiàn)象，且由于在凸起方向上鍍膜的生長，也可在噴丸處理形成的凹陷中形成微小的凸起。
在對所述顯影劑吸附元件表面進(jìn)行所述噴丸處理后，通過使比所述噴丸處理中所使用的所述顆粒尺寸小的顆粒粘附到由所述噴丸處理形成的所述凹陷的表面可以形成所述凸起。
這樣，就可能僅通過適當(dāng)選擇粘附到噴丸處理形成的凹陷的表面上的顆粒而輕易地調(diào)整凸起的大小。
顯影劑吸附元件的材料可以是鋁合金。
這樣，因?yàn)樵摬牧系牧畠r(jià)，就可能減少生產(chǎn)顯影劑吸附元件的制造成本，也使顯影設(shè)備在重量上很輕。
顯影劑吸附元件的材料可以是鐵合金。
這樣，由于這種材料的高強(qiáng)度特性，就可能減少顯影劑吸附元件表面上的凸起和凹陷在長期使用中的磨損。
本實(shí)用新型的另一個(gè)方面是一種顯影設(shè)備，其中該顯影設(shè)備包括調(diào)色劑，其顆粒尺寸分布中至少有兩個(gè)峰，其中顆粒數(shù)目的分布被用作分布參考，且其中，所述峰中構(gòu)成最大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸要大于所述峰中構(gòu)成次大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸，和一個(gè)可移動的用以吸附所述調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，所述顯影劑吸附元件在其表面上有多個(gè)凹陷；所述顯影設(shè)備能夠用由所述顯影劑吸附元件吸附的所述調(diào)色劑顯影一張潛像，所述潛像由一個(gè)圖像承載元件所承載；每一個(gè)所述凹陷在其表面上有多個(gè)凸起；所述顯影劑吸附元件的所述凸起在其移動方向上的直徑要比構(gòu)成所述次大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸??；所述凸起的直徑等于或小于7微米；所述顯影劑吸附元件的所述凹陷在其移動方向上的直徑要比構(gòu)成所述最大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸大；所述凹陷的直徑等于或小于80微米；所述調(diào)色劑通過研磨方法生產(chǎn)且包括潤滑劑；所述潤滑劑與所述調(diào)色劑不相溶；通過對所述顯影劑吸附元件的表面進(jìn)行噴丸處理形成所述凹陷；在對所述顯影劑吸附元件表面進(jìn)行所述噴丸處理后，通過對所述顯影劑吸附元件的表面進(jìn)行蝕刻處理，且對所述顯影劑吸附元件的表面進(jìn)行無電鍍來形成所述凸起；且所述顯影劑吸附元件的材料是鐵合金。
這樣，由于上述所有的效果幾乎都可獲得，本實(shí)用新型的目的可進(jìn)一步有效地獲得。
本方面的另一個(gè)方面是一種成像裝置，包括一個(gè)顯影設(shè)備，其中該顯影設(shè)備包括調(diào)色劑，其顆粒尺寸分布中至少有兩個(gè)峰，其中顆粒數(shù)目的分布被用作分布參考，且其中，所述峰中構(gòu)成最大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸要大于所述峰中構(gòu)成次大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸，和一個(gè)可移動的用以吸附所述調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，所述顯影劑吸附元件在其表面上有多個(gè)凹陷；所述顯影設(shè)備能夠用由所述顯影劑吸附元件吸附的所述調(diào)色劑顯影一張潛像；所述潛像由一個(gè)圖像承載元件所承載；每一個(gè)所述凹陷在其表面上有多個(gè)凸起，且所述顯影劑吸附元件的所述凸起在其移動方向上的直徑要比構(gòu)成所述次大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸小。
由于每個(gè)凹陷在其表面上都有多個(gè)凸起，且顯影劑吸附元件的凸起在其移動方向上的直徑要比顯影劑(調(diào)色劑)構(gòu)成其次大峰的顆粒的尺寸小，就可能減少顯影劑(調(diào)色劑)陷入到顯影劑吸附元件中的情形的發(fā)生。
本實(shí)用新型的另一個(gè)方面是一種計(jì)算機(jī)系統(tǒng)，包括計(jì)算機(jī)；能連接到所述計(jì)算機(jī)的顯示設(shè)備；和成像裝置，能連接到所述計(jì)算機(jī)且包括一個(gè)顯影設(shè)備，其中所述顯影設(shè)備包括調(diào)色劑，其顆粒尺寸分布中至少有兩個(gè)峰，其中顆粒數(shù)目的分布被用作分布參考，且其中，所述峰中構(gòu)成最大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸要大于所述峰中構(gòu)成次大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸；和一個(gè)可移動的用以吸附所述調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，所述顯影劑吸附元件在其表面上有多個(gè)凹陷，所述顯影設(shè)備能夠用由所述顯影劑吸附元件吸附的所述調(diào)色劑顯影一張潛像，所述潛像由一個(gè)圖像承載元件所承載，每一個(gè)所述凹陷在其表面上有多個(gè)凸起，且所述顯影劑吸附元件的所述凸起在其移動方向上的直徑要比構(gòu)成所述次大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸小。
在一個(gè)如上所述實(shí)現(xiàn)的計(jì)算機(jī)系統(tǒng)中，該系統(tǒng)在整體上優(yōu)于一個(gè)普通的系統(tǒng)。
本實(shí)用新型的另一個(gè)方面是一種顯影設(shè)備，包括調(diào)色劑；用于吸附所述調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，所述顯影劑吸附元件在其表面有多個(gè)凹陷；和一個(gè)能緊靠到所述顯影劑吸附元件上的緊靠元件，所述顯影設(shè)備能夠用由所述顯影劑吸附元件吸附的所述調(diào)色劑顯影一張潛像，所述潛像由一個(gè)圖像承載元件所承載，且每一個(gè)所述凹陷在其表面上都具有多個(gè)凸起。
由于每個(gè)凹陷在其表面有多個(gè)凸起，就可能提高該顯影劑(調(diào)色劑)的翻滾屬性。
該緊靠元件可以是用于為所述顯影劑吸附元件所吸附的所述調(diào)色劑充電的顯影劑充電元件。
這樣，就可能解決由于該顯影劑(調(diào)色劑)翻滾屬性的惡化而產(chǎn)生的該顯影劑(調(diào)色劑)帶電不足的問題。
該顯影劑吸附元件可以是可移動的，且所述顯影劑吸附元件在其移動方向上的十點(diǎn)平均粗糙度要比所述顯影劑充電元件用于充電的側(cè)面和朝向所述顯影劑充電元件的尖端方向上的十點(diǎn)平均粗糙度大。
這樣，就可能使該顯影劑吸附元件可充分發(fā)揮其吸附該顯影劑(調(diào)色劑)的能力。
該顯影劑充電元件可以能夠限制被所述顯影劑吸附元件吸附的所述調(diào)色劑的厚度。
這樣，就可能合適地限制已經(jīng)被充分充電的該顯影劑(調(diào)色劑)的厚度。
該緊靠元件可以是一個(gè)用來刮掉由所述顯影劑吸附元件吸附的所述調(diào)色劑的顯影劑刮擦元件。
這樣，就可能解決由于該顯影劑(調(diào)色劑)的翻滾屬性惡化產(chǎn)生的該顯影劑(調(diào)色劑)不能被充分刮掉的問題。
所述顯影劑刮擦元件可以在其表面有一個(gè)泡沫彈性體，所述顯影劑吸附元件可以是可移動的，且所述顯影劑吸附元件在其移動方向上的所述凹陷的直徑可以等于或小于所述泡沫彈性體的孔洞直徑的尺寸。
這樣，由于通過用該泡沫彈性體提供的孔洞來可靠地捕獲該顯影劑(調(diào)色劑)，可以刮掉該顯影劑吸附元件所吸附的顯影劑(調(diào)色劑)，也就可能更適宜地解決由于該顯影劑(調(diào)色劑)翻滾屬性的惡化而產(chǎn)生的該顯影劑(調(diào)色劑)不能被充分刮掉的問題。
該顯影劑刮擦元件可以能夠向所述顯影劑吸附元件供應(yīng)所述調(diào)色劑。
這樣，由于可能以一種理想的方式用該刮擦元件重復(fù)顯影劑(調(diào)色劑)提供和顯影劑(調(diào)色劑)刮擦的過程，該顯影劑吸附元件吸附的該顯影劑(調(diào)色劑)和容納在顯影劑容器中的該顯影劑(調(diào)色劑)就可以適當(dāng)?shù)匮h(huán)，從而可有效地預(yù)防所謂的“滯后現(xiàn)象”(hysteresis)等問題。
所述顯影劑刮擦元件和所述顯影劑吸附元件可以是可旋轉(zhuǎn)的，且所述顯影劑刮擦元件的旋轉(zhuǎn)方向可以與所述顯影劑吸附元件的旋轉(zhuǎn)方向相反。
這樣，上述效果(即能解決顯影劑(調(diào)色劑)刮擦不足的問題的效果)變得更加明顯而有效。
該調(diào)色劑可通過研磨方法生產(chǎn)。
這樣，由于球狀顯影劑(調(diào)色劑)顆粒難于制成，且如果該顯影劑(調(diào)色劑)由該研磨方法制成，而該顯影劑的翻滾性因此變得不足，上述效果(即能提高該顯影劑(調(diào)色劑)的翻滾屬性)就變得更加明顯且有效。
該調(diào)色劑可包括潤滑劑。
這樣，由于該顯影劑(調(diào)色劑)包括潤滑劑而使顯影劑(調(diào)色劑)翻滾屬性變得不足，上述效果(即能提高該顯影劑(調(diào)色劑)的翻滾屬性)就變得更加明顯且有效。
可以根據(jù)投影顯影系統(tǒng)，由所述圖像承載元件承載的潛像用所述調(diào)色劑顯影出來。
這樣，上述效果(即能提高該調(diào)色劑的翻滾屬性)變得更加明顯且有效。其原因在后文中會有解釋。
如果該凹陷的直徑等于或小于80微米效果還會更好，更佳選擇是在20到30微米之間。
這樣，就可能使得該凹陷充分發(fā)揮其攜帶該顯影劑(調(diào)色劑)的能力。
可以通過對所述顯影劑吸附元件的表面進(jìn)行噴丸處理形成所述凹陷。
這樣，就可能在顯影劑吸附元件表面形成具有只有少許裂縫的光滑部分的粗糙表面。
可以通過在所述噴丸處理中使用具有多個(gè)凹陷的顆粒形成所述凸起。
這樣，就可能大大減少對顯影劑吸附元件的表面做噴丸處理后的后續(xù)處理的數(shù)量，從而減少顯影劑吸附元件的制造成本。
可以通過對所述顆粒的表面進(jìn)行蝕刻處理形成所述顆粒的所述多個(gè)凹陷。
這樣，就可能容易地在顆粒上形成多個(gè)凸起。
在對所述顯影劑吸附元件表面進(jìn)行所述噴丸處理后，可以通過對所述顯影劑吸附元件的表面進(jìn)行蝕刻處理，且對所述顯影劑吸附元件的表面進(jìn)行無電鍍來形成所述凸起。
這樣，由于在鍍時(shí)可能填充在對顯影劑吸附元件進(jìn)行噴丸處理時(shí)形成的裂縫，就可能避免產(chǎn)生由于顯影劑(調(diào)色劑)陷入(或埋藏到)裂縫中而產(chǎn)生的膜化現(xiàn)象，且由于在凸起方向上鍍膜的生長，也可在噴丸處理形成的凹陷中形成微小的凸起。
在對所述顯影劑吸附元件表面進(jìn)行所述噴丸處理后，可以通過使比所述噴丸處理中所使用的所述顆粒尺寸小的顆粒粘附到由所述噴丸處理形成的所述凹陷的表面來形成所述凸起。
這樣，就可能僅通過適當(dāng)選擇粘附到噴丸處理形成的凹陷的表面上的顆粒而輕易地調(diào)整凸起的大小。
所述顯影劑吸附元件的材料可以是鋁合金。
這樣，因?yàn)樵摬牧系牧畠r(jià)，就可能減少生產(chǎn)顯影劑吸附元件的制造成本，也使顯影設(shè)備在重量上很輕。
所述顯影劑吸附元件的材料可以是鐵合金。
這樣，由于這種材料的高強(qiáng)度特性，就可能減少顯影劑吸附元件表面上的凸起和凹陷在長期使用中的磨損。
本實(shí)用新型的另一個(gè)方面是一種顯影設(shè)備，其中該顯影設(shè)備包括調(diào)色劑，用于吸附所述調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，所述顯影劑吸附元件在其表面上有多個(gè)凹陷，和能夠緊靠到所述顯影劑吸附元件的緊靠元件；所述顯影設(shè)備能夠用所述顯影劑吸附元件吸附的所述調(diào)色劑顯影潛像，所述潛像為一個(gè)圖像承載元件所承載；每一個(gè)所述凹陷在其表面上都具有多個(gè)凸起；所述緊靠元件是為所述顯影劑吸附元件吸附的所述調(diào)色劑充電的顯影劑充電元件；所述顯影劑吸附元件是可旋轉(zhuǎn)的；所述顯影劑吸附元件在其旋轉(zhuǎn)方向上的十點(diǎn)平均粗糙度要比所述顯影劑充電元件用于充電的側(cè)面和朝向所述顯影劑充電元件的尖端方向上的十點(diǎn)平均粗糙度大；所述顯影劑充電元件能夠限制被所述顯影劑吸附元件吸附的所述調(diào)色劑的厚度；所述緊靠元件是一個(gè)用來刮掉由所述顯影劑吸附元件吸附的所述調(diào)色劑的顯影劑刮擦元件；所述顯影劑刮擦元件在其表面有一個(gè)泡沫彈性體；所述顯影劑吸附元件在其旋轉(zhuǎn)方向上的所述凹陷的直徑要等于或小于所述泡沫彈性體的孔洞直徑的尺寸；所述顯影劑刮擦元件能夠向所述顯影劑吸附元件供應(yīng)所述調(diào)色劑；所述顯影劑刮擦元件是可旋轉(zhuǎn)的；所述顯影劑刮擦元件的旋轉(zhuǎn)方向與所述顯影劑吸附元件的旋轉(zhuǎn)方向相反；所述調(diào)色劑通過研磨方法生產(chǎn)且包括潤滑劑；所述凹陷的直徑等于或小于80微米；所述凸起的直徑等于或小于7微米；通過對所述顯影劑吸附元件的表面進(jìn)行噴丸處理形成所述凹陷；在對所述顯影劑吸附元件表面進(jìn)行所述噴丸處理后，通過對所述顯影劑吸附元件的表面進(jìn)行蝕刻處理，且對所述顯影劑吸附元件的表面進(jìn)行無電鍍來形成所述凸起；且所述顯影劑吸附元件的材料是鐵合金。
這樣，由于上述所有效果幾乎都可實(shí)現(xiàn)，本方面的目的也能夠有效實(shí)現(xiàn)。
本實(shí)用新型的另一個(gè)方面是一種成像裝置，包括一個(gè)顯影設(shè)備，其中該顯影設(shè)備包括調(diào)色劑，用于吸附所述調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，所述顯影劑吸附元件在其表面有多個(gè)凹陷，和能夠緊靠到所述顯影劑吸附元件的緊靠元件；所述顯影設(shè)備能夠用所述顯影劑吸附元件吸附的所述調(diào)色劑顯影潛像，所述潛像為一個(gè)圖像承載元件所承載；且每一個(gè)所述凹陷在其表面都具有多個(gè)凸起。
根據(jù)這樣一種成像裝置，由于每個(gè)凹陷表面上有多個(gè)凸起，就可能提高該顯影劑(調(diào)色劑)的翻滾屬性。
本實(shí)用新型的另一個(gè)方面是一種計(jì)算機(jī)系統(tǒng)，包括計(jì)算機(jī)；能夠連接到所述計(jì)算機(jī)的顯示設(shè)備；能夠連接到所述計(jì)算機(jī)且包括顯影設(shè)備的成像裝置，其中所述顯影設(shè)備包括調(diào)色劑；用于吸附所述調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，所述顯影劑吸附元件在其表面有多個(gè)凹陷；和能夠緊靠到所述顯影劑吸附元件的緊靠元件，所述顯影設(shè)備能夠用所述顯影劑吸附元件吸附的所述調(diào)色劑顯影潛像，所述潛像為一個(gè)圖像承載元件所承載，且每一個(gè)所述凹陷在其表面上都具有多個(gè)凸起。
在一個(gè)如上所述實(shí)現(xiàn)的計(jì)算機(jī)系統(tǒng)中，該系統(tǒng)在整體上優(yōu)于一個(gè)普通的系統(tǒng)。
＝＝＝成像裝置整體配置示例＝＝＝下面參考圖1，以激光束打印機(jī)10(以下稱為“打印機(jī)”)為例對成像裝置的輪廓進(jìn)行解釋。圖1示出了構(gòu)成打印機(jī)10的一些主要結(jié)構(gòu)組件。在圖1中，垂直方向由箭頭示出；例如，進(jìn)紙盤92被設(shè)置在打印機(jī)10的下部，而熔化單元90被設(shè)置在打印機(jī)10的上部。
如圖1所示，根據(jù)此實(shí)施例的打印機(jī)10，在作為一個(gè)承載潛像的圖像承載元件的例子的光電導(dǎo)體20的圓周(旋轉(zhuǎn))方向，包括如下組件充電單元30；曝光單元40；YMCK顯影單元50；第一傳送單元60；中間傳送部件70；和清潔頭75。打印機(jī)10還包括第二傳送單元80；熔化單元90；顯示單元95，包括一個(gè)液晶顯示屏，用作對用戶的通知裝置；和一個(gè)控制單元(圖2)，用來控制這些單元等等和管理打印機(jī)的操作。
光電導(dǎo)體20包括一個(gè)圓柱狀導(dǎo)電基體和一個(gè)在其外圍表面形成的光敏層，可繞其中軸轉(zhuǎn)動。在此實(shí)施例中，光電導(dǎo)體20以順時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)，如圖1中的箭頭所示。
充電單元30是一個(gè)用于為光電導(dǎo)體20充電的設(shè)備。曝光單元40是一個(gè)用于通過激光輻射在充電的光電導(dǎo)體20上形成一張潛像的設(shè)備。曝光單元40包括，例如，半導(dǎo)體激光器，多棱鏡，F(xiàn)-θ透鏡等等，并根據(jù)已從主機(jī)(未示出)如個(gè)人計(jì)算機(jī)、字處理器等等輸入的圖像信號發(fā)射調(diào)制激光到已充電的光電導(dǎo)體20上。
YMCK顯影單元50是一個(gè)用容納在各個(gè)顯影設(shè)備中的調(diào)色劑(作為顯影劑的一個(gè)例子)來顯影形成在光電導(dǎo)體20上的潛像的設(shè)備，這些調(diào)色劑是黃(Y)調(diào)色劑，品紅(M)調(diào)色劑，青(C)調(diào)色劑和黑(K)調(diào)色劑。黑(K)調(diào)色劑容納在黑色顯影設(shè)備51中，品紅(M)調(diào)色劑容納在品紅顯影設(shè)備52中，青(C)調(diào)色劑容納在青色顯影設(shè)備53中，而黃(Y)調(diào)色劑容納在黃色顯影設(shè)備54中。
在此實(shí)施例中，YMCK顯影單元50能夠通過旋轉(zhuǎn)移動四個(gè)顯影設(shè)備51、52、53和54的位置。更具體地說，YMCK顯影單元50用四個(gè)夾持器，或夾持部分55a、55b、55c和55d來夾持這四個(gè)顯影設(shè)備51、52、53和54。這四個(gè)顯影設(shè)備51、52、53和54能圍繞旋轉(zhuǎn)軸50a旋轉(zhuǎn)，50a為旋轉(zhuǎn)軸，并可保持他們的相對位置。光電導(dǎo)體20旋轉(zhuǎn)多次，且每一次光電導(dǎo)體20完成一頁的圖像形成時(shí)，顯影設(shè)備51、52、53和54就選擇性地與光電導(dǎo)體20相對。因此，在光電導(dǎo)體20上形成的潛像由分別容納在顯影設(shè)備51、52、53和54中的調(diào)色劑顯影出來。
第一傳送單元60是一個(gè)用于將形成于光電導(dǎo)體20上的單色調(diào)色劑圖像傳送到中間傳送部件70上的設(shè)備。當(dāng)所有四種顏色的調(diào)色劑以一種疊加的方式依次被傳送出來時(shí)，全色的調(diào)色劑圖像就形成在中間傳送部件70上。中間傳送部件70是一條無邊(環(huán)形)的帶子，并在實(shí)質(zhì)上與光電導(dǎo)體20相同的圓周速度下被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動。第二傳送單元80是一個(gè)用于將在中間傳送部件70上形成單色調(diào)色劑圖像或全色調(diào)色劑圖像傳送到記錄介質(zhì)如紙張、膠卷、布等等之上的設(shè)備。
熔化單元90是一個(gè)將已被傳送到記錄介質(zhì)上的單色調(diào)色劑圖或全色調(diào)色劑圖熔化到記錄介質(zhì)如紙張上，以形成永久圖像的設(shè)備。
清潔單元75是在第一傳送單元60和充電單元30之間的設(shè)備，它具有一個(gè)與光電導(dǎo)體20的表面接觸(或緊靠)的橡膠清潔刀片76，并能在調(diào)色劑圖像已經(jīng)由第一傳送單元60傳送到中間傳送部件70上之后用清潔刀片76通過刮擦將光電導(dǎo)體20上殘留的調(diào)色劑刮掉。
如圖2所示，控制單元100包括主控制器101和單元控制器102。圖像信號被輸入到主控制器101；根據(jù)基于圖像信號的指令，單元控制器102控制上述每個(gè)單元以形成一張圖像。
接下來，參照其他結(jié)構(gòu)組件，將對如上構(gòu)成的打印機(jī)10的操作進(jìn)行解釋。
首先，當(dāng)圖像信號通過接口(I/F)112從主機(jī)(未示出)輸入到打印機(jī)10的主控制器101時(shí)，根據(jù)來自主控制器101的指令，光電導(dǎo)體20、顯影設(shè)備上提供的作為“顯影劑吸附元件”示例的顯影滾筒以及中間傳送部件70在單元控制器102的控制下旋轉(zhuǎn)起來。旋轉(zhuǎn)時(shí)，光電導(dǎo)體20在一個(gè)充電位置被充電單元30依次充電。
隨著光電導(dǎo)體20的旋轉(zhuǎn)，光電導(dǎo)體20的被充電的區(qū)域到達(dá)一個(gè)曝光位置。根據(jù)圖像信息，第一種顏色如黃色Y的潛像被曝光單元40在充電區(qū)域形成。YMCK顯影單元50在一個(gè)與光電導(dǎo)體20相對的顯影位置定位容納有黃色(Y)調(diào)色劑的黃色顯影設(shè)備54。
隨著光電導(dǎo)體20的旋轉(zhuǎn)，光電導(dǎo)體20上形成的潛像到達(dá)顯影位置，并由黃色顯影設(shè)備54用黃色調(diào)色劑顯影。如此，一張黃色調(diào)色劑圖像就在光電導(dǎo)體20上形成了。
隨著光電導(dǎo)體20的旋轉(zhuǎn)，光電導(dǎo)體20上形成的黃色調(diào)色劑圖像到達(dá)第一傳送的位置，并由第一傳送單元60傳送到中間傳送部件70上。
這里，具有與調(diào)色劑的電荷極性相反極性的第一傳送電壓被加到第一傳送單元60上，在上述過程中，第二傳送單元80一直遠(yuǎn)離中間傳送部件70。
通過對第二、三、四種顏色重復(fù)上述過程，與各自圖像信號相對應(yīng)的四種顏色的調(diào)色劑圖像以一種疊加的方式被傳送到中間傳送部件70上。結(jié)果，在中間傳送部件70上形成了全色調(diào)色劑圖像。
隨著中間傳送部件70的旋轉(zhuǎn)，在中間傳送部件70上形成的全色調(diào)色劑圖像到達(dá)了第二傳送的位置，并由第二傳送單元80傳送到記錄介質(zhì)上。該記錄介質(zhì)經(jīng)由進(jìn)紙滾筒94和阻抗?jié)L筒96從進(jìn)紙盤92送到第二傳送單元80。在圖像被傳送的同時(shí)，隨著第二傳送單元80被按到中間傳送部件70上，第二傳送電壓被加到第二傳送單元80上。
傳送到記錄介質(zhì)上的全色調(diào)色劑圖像被熔化單元90加熱并加壓，并熔化到記錄媒體上。
另一方面，當(dāng)光電導(dǎo)體20通過第一傳送位置后，附著在光電導(dǎo)體20表面的調(diào)色劑被支撐到清潔單元75上的清潔片76刮擦，且光電導(dǎo)體20準(zhǔn)備充電以形成下一張潛像。刮擦下來的調(diào)色劑被收集到清潔單元75包括的殘留調(diào)色劑收集器中。
＝＝＝顯影設(shè)備的配置示例＝＝＝下面參照圖3，對一個(gè)顯影設(shè)備的配置示例進(jìn)行解釋。圖3是示出了該顯影設(shè)備主要結(jié)構(gòu)組件的剖視圖。如圖1一樣，在圖3中箭頭表示垂直方向；例如，顯影滾筒510(“顯影劑吸附元件”的一個(gè)示例)的中軸被定位在光電導(dǎo)體20的中軸之下。另外，圖3示出了黃色顯影設(shè)備54位于與光電導(dǎo)體20相對的顯影位置的狀態(tài)。
YMCK顯影單元50包括容納有黑(K)調(diào)色劑的黑色顯影設(shè)備；容納有品紅(M)調(diào)色劑的品紅顯影設(shè)備52；容納有青(C)調(diào)色劑的青色顯影設(shè)備53；以及容納有黃(Y)調(diào)色劑的黃色顯影設(shè)備54。由于每個(gè)顯影設(shè)備的配置都相同，下面只對黃色顯影設(shè)備54進(jìn)行解釋。
黃色顯影設(shè)備54包括顯影滾筒510，用作“顯影劑吸附元件”；密封元件520；調(diào)色劑容器530、外框540；調(diào)色劑供應(yīng)滾筒550，用作“顯影劑刮擦元件”；限制刀片560，用作“顯影劑充電元件”；以及刀片支持元件570，用來推進(jìn)限制刀片560。
顯影滾筒510攜帶了調(diào)色劑T，即“顯影劑”的一個(gè)示例，并將之傳遞到與光電導(dǎo)體20相對的一個(gè)顯影位置上。顯影滾筒510可由例如鋁合金5056和鋁合金6063等鋁合金材料和鐵合金如STKM制成，而滾筒510根據(jù)需要可由鎳、鉻等金屬進(jìn)行鍍金。另外，顯影滾筒510可圍繞一個(gè)中軸旋轉(zhuǎn)。如圖3所示，滾筒510按與光電導(dǎo)體20旋轉(zhuǎn)方向(圖3中為順時(shí)針方向)相反的方向(在圖3中為逆時(shí)針方向)旋轉(zhuǎn)。顯影滾筒510的中軸位于光電導(dǎo)體20的中軸下面。如圖3所示，在黃色顯影設(shè)備54正對光電導(dǎo)體20的狀態(tài)下，在顯影滾筒510和光電導(dǎo)體20之間存在間隙。即，黃色顯影設(shè)備54在非接觸的狀態(tài)下將光電導(dǎo)體20上形成的潛像顯影出來。
注意，在顯影形成于光電導(dǎo)體20上的潛像時(shí)，顯影滾筒510和光電導(dǎo)體20之間產(chǎn)生一個(gè)交流電磁場。即，在此實(shí)施例中，根據(jù)投影顯影(有時(shí)稱為“跳躍式(Jumping)顯影方法”)承載在光電導(dǎo)體20上的潛像用調(diào)色劑T顯影出來。
密封元件520用于防止黃色顯影設(shè)備54中的調(diào)色劑T從其中逃逸，并將顯影滾筒510上已經(jīng)過顯影位置的調(diào)色劑T收集到顯影設(shè)備中而無須刮擦。密封元件520是一個(gè)由如聚乙烯薄膜等材料制成的密封件。密封元件520為一個(gè)密封件支撐金屬盤522所支撐，并由密封件支撐金屬盤522連接到外框540。在顯影滾筒510所在側(cè)面的相對側(cè)面，密封元件520有一個(gè)由如摩爾托普林(Moltoprene)等材料制成的密封件推進(jìn)元件524。密封元件520被密封件推進(jìn)元件524的彈力按到顯影滾筒510上。注意，密封元件520緊靠顯影滾筒510的緊靠位置位于顯影滾筒510的中軸上方。
調(diào)色劑容器530是一個(gè)接收(容納)調(diào)色劑T的部分；外框540的一部分構(gòu)成了容器530?？赡軙峁┮粋€(gè)攪拌元件以攪拌容納于調(diào)色劑容器530中的調(diào)色劑T。但是，在本實(shí)施例中，每個(gè)顯影設(shè)備(黑色顯影設(shè)備51，品紅色顯影設(shè)備52，青色顯影設(shè)備53和黃色顯影設(shè)備54)都隨著YMCK顯影單元50的轉(zhuǎn)動而轉(zhuǎn)動，且容納于每個(gè)顯影設(shè)備中的調(diào)色劑T也隨之被攪拌；因此，調(diào)色劑容器530不包括一個(gè)攪拌元件。
調(diào)色劑供應(yīng)滾筒550的功能是向顯影滾筒510供應(yīng)容納于調(diào)色劑容器530(下文會描述)中的調(diào)色劑T，并將在顯影后殘留在顯影滾筒510上的調(diào)色劑刮擦出顯影滾筒510。調(diào)色劑供應(yīng)滾筒550可由如聚亞胺脂泡沫塑料等材料制成，且以一種彈性變形的狀態(tài)與顯影滾筒510接觸。調(diào)色劑供應(yīng)滾筒550安置在調(diào)色劑容器530的下部。容納在調(diào)色劑容器530中的調(diào)色劑T被處于調(diào)色劑容器530下部的調(diào)色劑供應(yīng)滾筒550提供給顯影滾筒510。調(diào)色劑供應(yīng)滾筒550可繞一個(gè)中軸旋轉(zhuǎn)。該中軸位于顯影滾筒510的旋轉(zhuǎn)中軸的下方。另外，調(diào)色劑供應(yīng)滾筒550按與顯影滾筒510的旋轉(zhuǎn)方向(圖3中為逆時(shí)針方向)相反的方向(圖3中為順時(shí)針方向)旋轉(zhuǎn)。
如前所述，調(diào)色劑供應(yīng)滾筒550由例如聚亞胺脂泡沫塑料等泡沫彈性體制成。該泡沫彈性體具有多個(gè)孔洞(“塑料孔”，foam pores)，在圖中未示出。這些孔洞用來提高與攜帶和/或傳遞調(diào)色劑T相關(guān)的性能。在此實(shí)施例中，調(diào)色劑供應(yīng)滾筒550的構(gòu)造使得顯影滾筒510的凹陷在其移動方向上的尺寸等于或小于該泡沫彈性體的“孔洞直徑”(cell diameter)。在此說明書中，術(shù)語“孔洞直徑”表示這些孔洞直徑的平均值，例如由如下方式獲得用例如一個(gè)電子掃描顯微鏡(SEM)為調(diào)色劑供應(yīng)滾筒的表面拍照；測量從照片上隨機(jī)選擇的十個(gè)孔洞的直徑；忽略具有最大直徑的孔洞和最小直徑的孔洞，計(jì)算剩下的8個(gè)孔洞直徑的平均值以獲得上述的平均值。
限制刀片560為由顯影滾筒510吸附的調(diào)色劑T充電，并限制由顯影滾筒510吸附的調(diào)色劑T的薄層的厚度。限制刀片560包括一個(gè)橡膠部分560a和一個(gè)橡膠支撐部分560b。橡膠部分560a由如硅樹脂橡膠、聚氨酯橡膠等材料制成。橡膠支撐部分560b是由磷青銅、不銹鋼等具有彈性的材料制成的薄板。橡膠部分560a由橡膠支撐部分560b所支撐。橡膠支撐部分560b通過一對刀片支撐金屬盤562連接到外框540上，方式為橡膠支撐部分560b的一端擠入兩個(gè)刀片支撐金屬盤562中間。在與顯影滾筒510所在側(cè)面相對的側(cè)面上，限制刀片560具有一個(gè)由摩爾托普林等材料制成的刀片支撐元件570。
橡膠支撐部分560b的彎曲產(chǎn)生的彈力將橡膠部分560a按壓在顯影滾筒510上。另外，刀片支撐元件570防止調(diào)色劑進(jìn)入橡膠支撐部分560b和外框540之間以穩(wěn)定橡膠支撐部分560b的彎曲產(chǎn)生的彈力，并且從后向顯影滾筒510的方向推進(jìn)橡膠部分560a以使橡膠部分560a靠住顯影滾筒510。如此，刀片支撐元件570能夠使得橡膠部分560a更平衡地緊靠到顯影滾筒510。
限制刀片560未被刀片支撐金屬盤562所支撐的另一端(即刀片的尖端)并不與顯影滾筒510接觸；相反地，在離其尖端有一段預(yù)定距離處的部件以一定寬度接觸到顯影滾筒510。也就是說，限制刀片560并未以其端部與顯影滾筒510緊靠，而是在其中部附近與滾筒510緊靠。另外，限制刀片560被設(shè)置成其尖端朝向顯影滾筒510的旋轉(zhuǎn)方向的上游方向，并因此形成對于滾筒510所謂的逆接觸。注意，限制刀片560與顯影滾筒510相緊靠的位置位于顯影滾筒510的中軸下方和調(diào)色劑供應(yīng)滾筒550的中軸下方。
另外，顯影滾筒510在其與限制刀片560互相接觸的部分的表面粗糙度要比用于充電的限制刀片560表面的粗糙度大。(也就是說，顯影滾筒510的表面要比執(zhí)行充電的限制刀片表面更粗糙)。更具體地說，顯影滾筒510(在其運(yùn)動方向上)的十點(diǎn)平均粗糙度(根據(jù)JIS B 0610)要比限制刀片用于充電一側(cè)表面(在從夾層端向尖端的方向)的十點(diǎn)平均粗糙度大。
外框540由多個(gè)整體澆鑄的框架(例如，一個(gè)上框，一個(gè)底框等等)結(jié)合而成。外框540在其下部有一個(gè)開口。顯影滾筒510安裝在該開口處且滾筒510的一部分暴露于外。
在如此構(gòu)成的黃色顯影設(shè)備54中，調(diào)色劑供應(yīng)滾筒550向顯影滾筒510供應(yīng)容納于調(diào)色劑容器530中的調(diào)色劑T。被供應(yīng)到顯影滾筒510后，隨著顯影滾筒510的旋轉(zhuǎn)，調(diào)色劑T到達(dá)與限制刀片560的緊靠位置；而且，當(dāng)調(diào)色劑T通過該緊靠位置時(shí)，調(diào)色劑被充電且其厚度被加以限制。由于其厚度被限制，隨著顯影滾筒的進(jìn)一步旋轉(zhuǎn)，顯影滾筒510上的調(diào)色劑T到達(dá)與光電導(dǎo)體20相對的顯影位置；在交流電磁場下，調(diào)色劑T在顯影位置上用于顯影形成在光電導(dǎo)體上的潛像。通過顯影位置后，隨著顯影滾筒510的進(jìn)一步旋轉(zhuǎn)，顯影滾筒510上的調(diào)色劑T通過密封元件520并被密封元件520收集到顯影設(shè)備中而無須刮擦。這樣，仍殘留在顯影滾筒510上的調(diào)色劑能被調(diào)色劑供應(yīng)滾筒550刮掉。
＝＝＝控制部件概述＝＝＝下面，參考圖2來解釋控制部件100的構(gòu)造。控制部件100的主控制器101通過接口(I/F)112連接到主機(jī)上，包括一個(gè)用于存儲從主機(jī)輸入的圖像信號的圖像容器113。單元控制器102電氣連接到打印機(jī)裝置的每一個(gè)單元上(即，充電單元30，曝光單元40，YMCK顯影單元50，第一傳送單元60，清潔單元75，第二傳送單元80，熔化單元90和顯示單元95)。通過接收來自各個(gè)單元提供的傳感器的信號，單元控制器102檢測到每個(gè)單元的狀態(tài)；單元控制器102也根據(jù)從主控制器101輸入的信號來控制每個(gè)部件。
＝＝＝調(diào)色劑結(jié)構(gòu)＝＝＝
下面，根據(jù)本實(shí)施例來解釋調(diào)色劑T的一個(gè)例子。調(diào)色劑T包含一個(gè)核心顆粒和外附著物(調(diào)色劑表面的精細(xì)顆粒)。核心顆粒和外附著物通過干混合使彼此粘合在一起，例如，使用機(jī)械化學(xué)方法的混合器或者如亨舍爾混合器和Papenmeier混合器的高速液體混合器。調(diào)色劑T可以是陰極性或陽極性的。
核心顆粒包含諸如著色試劑(色素)、充電控制試劑、潤滑劑(蠟)和樹脂的材料。核心顆?？梢允褂蒙厦娴牟牧?，根據(jù)如捏合-研磨法的研磨方法來制造。核心顆粒也可以用諸如干噴霧法和聚合法等替代方法來制造。注意，核心顆粒還可能包括例如分散劑、磁性材料以及其他助劑。
使用列在下面的材料之一或多個(gè)作為核心顆粒是可能的聚苯乙烯和它的共聚物，例如氫化苯乙烯樹脂、苯乙烯-異丁烯共聚物、ABS樹脂、ASA樹脂、AS樹脂、AAS樹脂、ACS樹脂、AES樹脂、苯乙烯-對氯苯乙烯共聚物、苯乙烯-丙烯共聚物、苯乙烯-丁二烯交聯(lián)聚合物、苯乙烯-丁二烯-氯化石蠟共聚物、苯乙烯-丙烯醇共聚物、苯乙烯-丁二烯乳膠、苯乙烯-馬來酸共聚物、苯乙烯-異丁烯共聚物和苯乙烯-馬來酸酐共聚物；丙烯酸酯樹脂、甲基丙烯酸樹脂及其共聚物；苯乙烯丙烯酸樹脂和它的共聚物，例如苯乙烯壓克力共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸二乙胺基乙酯共聚物、苯乙烯-丙烯酸丁二烯酯樹脂共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸正丁酯共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸正丁酯共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸正丁酯-N-乙氧基甲基丙烯酸酯共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸縮水甘油酯共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸-(二甲基丁二烯基)胺基乙酯共聚物、苯乙烯-丙烯酸酯-馬來酸酯共聚物、苯乙烯甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸2-乙基己酯聚合物、苯乙烯-丙烯酸正丁酯-甲基丙烯酸乙二醇酯共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸正丁酯-丙烯酸共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸正丁酯-馬來酸酐共聚物和苯乙烯丙烯酸丁酯-馬來酸半異丁酯-二乙烯基苯共聚物；聚酯和它的共聚物；聚乙烯和它的共聚物；環(huán)氧樹脂；有機(jī)硅樹脂；聚丙烯和它的共聚物；氟樹脂；聚酰胺樹脂；聚乙烯醇樹脂；聚氨酯樹脂；以及聚乙烯醇縮丁醛。
舉例說，使用列在下面的材料之一或多個(gè)作為調(diào)色劑是可能的碳黑；醇溶黑；苯胺黑；若丹明；三氨基三苯基甲烷；陽離子染料；二噁嗪；銅酞花青色素；二萘嵌苯；氮染料；含金屬含氮色素；氮鉻絡(luò)合物；胭脂紅；對二氨基聯(lián)苯；日光純黃8G；喹吖酮；多鎢磷酸；陰丹士林藍(lán)；和磺胺派生物。
舉例說，使用列在下面的材料之一或多個(gè)作為充電控制試劑是可能的電子受體有機(jī)絡(luò)合物；氯化多醚；硝基腐殖酸；季銨鹽；以及嘧啶鹽。
下面的材料最好能被用為潤滑劑(蠟)低分子量聚丙烯；低分子量聚乙烯；乙烯基雙酰胺；微晶蠟；巴西棕櫚蠟；以及如蜂蠟的多種石蠟。然而，用于潤滑劑的材料不局限為以上各種，其他材料只要它和核心顆粒的調(diào)色劑不相溶并且從此獨(dú)立地相處，就能夠被使用。注意，本實(shí)施例中“不相溶”指這樣一種狀態(tài)，即潤滑劑像小島一樣分散在核心顆粒中，而熔化和混合后不被納入樹脂鏈。
進(jìn)一步注意，為了防止調(diào)色劑T在熔化過程中與粘附在熔化滾筒上，某些情形下會把油涂覆在溶化滾筒上。然而，本實(shí)施例中核心顆粒包容了大量潤滑劑以省去油涂覆劑。潤滑劑的含量在重量上是樹脂數(shù)量的3-10％。
舉例說，可能使用脂肪酸金屬鹽和聚乙二醇作為分散劑。如同其他助劑一樣，舉例說，可能使用硬脂酸鋅鹽、氧化鋅和氧化鈰。
舉例說，使用列在下面的材料之一或多個(gè)作為磁性材料是可能的如Fe、Co、Ni、Cr、Mn和Zn的金屬粉末；如Fe3O4、Fe2O3、Cr2O3和鐵酸鹽；以及顯示有鐵磁性的合金，例如包含Mn和酸并且被熱處理的合金。磁性材料可以用例如聯(lián)接劑進(jìn)行預(yù)處理。
外附著物可能使用表面被處理成疏水性的不同材料。本實(shí)施例中，二氧化硅被用作調(diào)色劑T的外附著物。然而，除了二氧化硅外，可能使用無機(jī)顆粒和有機(jī)顆粒。無機(jī)顆粒可以是，例如，如氧化鋁、氧化鈦、氧化鍶、氧化鈰、氧化鎂和氧化鉻的金屬氧化物顆粒；例如氮化硅的氮化物顆粒；例如碳化硅的碳化物；例如硫酸鈣、硫酸鋇和碳酸鈣的金屬鹽顆粒；以及由上述材料結(jié)合而獲得的材料。有機(jī)顆?？梢允抢绫┧針渲念w粒。此外，可能使用硅烷聯(lián)接劑、鈦酸酯聯(lián)接劑、含氟硅烷聯(lián)接劑和硅樹脂油作為用于處理外附著物表面的表面處理劑。最好，當(dāng)根據(jù)傳統(tǒng)的甲醇法測量用上述處理劑處理過的外附著物疏水性的比例時(shí)，該比例為60％或者更高。如果該比例低于上述值，在濕熱環(huán)境下因?yàn)槲諠駳夂苋菀滓鸪潆娞匦院土鲃有缘膼夯?。從提高攜帶和充電特性的角度，外附著物的顆粒大小最好是0.001微米到1微米。而且，外附著物種類的數(shù)量不局限為一種，而是兩種或更多種的外附著物可以聯(lián)合使用。
＝＝＝分析調(diào)色劑的方法＝＝＝下面，參考圖4和圖5來解釋分析調(diào)色劑的方法。
圖4是根據(jù)本實(shí)施例解釋調(diào)色劑分析法的圖。圖5是根據(jù)本實(shí)施例顯示調(diào)色劑分析結(jié)果的圖。
與廣為人知的“微孔通道”法不同，根據(jù)本實(shí)施例的調(diào)色劑分析法能夠?qū)︻w粒尺寸等于或小于1微米的調(diào)色劑顆粒進(jìn)行分析。進(jìn)一步說，與掃描電子顯微鏡(SEM)不同，根據(jù)本實(shí)施例的方法能夠?qū)缑恳粋€(gè)調(diào)色劑顆粒的物理性質(zhì)進(jìn)行量化分析?？梢哉f，根據(jù)本實(shí)施例的調(diào)色劑分析法大大優(yōu)于傳統(tǒng)的方法。
根據(jù)本實(shí)施例的調(diào)色劑分析法使用一種空氣尺寸儀(aerosizer)作為分析儀，這是一種干顆粒尺寸的分布分析儀。注意，TSI公司的“3225型號Aerosizer DSP”可以用作空氣尺寸儀。
根據(jù)這種調(diào)色劑分析法，顆粒飛過超音速流的速度被測量，并且在該測量結(jié)果的基礎(chǔ)上分析顆粒尺寸的分布。
如圖4所示，當(dāng)兩個(gè)壓力不同的部分用一個(gè)噴嘴連接時(shí)，空氣從高壓的部分流向低壓的部分。如果高壓部分和低壓部分之間有高的壓力比，由于在噴嘴出口處空氣膨脹，振動波內(nèi)會產(chǎn)生超音速區(qū)域，被稱為“桶振動”。這種超音速區(qū)域以已知為“馬赫盤”的平面振動波結(jié)束。
由外殼空氣(sheath-air)流攜帶，已經(jīng)進(jìn)入噴嘴的調(diào)色劑顆粒一個(gè)接一個(gè)地從噴嘴彈射到超速區(qū)域內(nèi)。小直徑的調(diào)色劑顆粒由于它與空氣間的吸引力被加速到接近空氣流的速度；另一方面，大調(diào)色劑顆粒因?yàn)轶w積大而加速度降低(“空氣動力分離”)。
在噴嘴尖端的超速區(qū)域，兩個(gè)激光束(第一激光束，第二激光束)間距1mm排列。彈射到超速區(qū)域內(nèi)的調(diào)色劑顆粒先穿過第一激光束，接著穿過第二激光束。
根據(jù)本實(shí)施例的分析方法，測量“飛行時(shí)間”，就是說調(diào)色劑顆粒首先穿過第一激光束和接著穿過第二激光束所花去的時(shí)間，或者換句話說，根據(jù)互相關(guān)方法調(diào)色劑顆粒飛過兩個(gè)激光束之間用去的時(shí)間，接下來根據(jù)調(diào)色劑顆粒的密度，并依據(jù)指示顆粒尺寸與“飛行時(shí)間”關(guān)系的校準(zhǔn)曲線分析調(diào)色劑的顆粒尺寸。
圖5顯示了根據(jù)本實(shí)例的上面解釋的方法分析的調(diào)色劑的分析結(jié)果。圖5顯示了調(diào)色劑的顆粒尺寸的一種分布，其中顆粒數(shù)目的分布被當(dāng)作該分布的參考值。水平的數(shù)軸(橫坐標(biāo))指示“顆粒尺寸”，垂直的數(shù)軸(縱坐標(biāo))指示了每種尺寸顆粒的數(shù)量的發(fā)生頻次。注意，后面將詳細(xì)地解釋調(diào)色劑的顆粒尺寸分布的細(xì)節(jié)，其中顆粒數(shù)目的分布被當(dāng)作如圖5所示的分布參考。
＝＝＝第一實(shí)施例的顯影滾筒的表面結(jié)構(gòu)和生產(chǎn)該結(jié)構(gòu)的方法＝＝＝接下來，參考圖6，圖7A到圖7E和圖8A與8B，對一個(gè)實(shí)施例中顯影滾筒的表面結(jié)構(gòu)和生產(chǎn)該結(jié)構(gòu)的方法將做出解釋。圖6是顯示根據(jù)實(shí)施例的顯影滾筒510的表面結(jié)構(gòu)的框圖。圖7A到圖7E是顯示根據(jù)本實(shí)施例，在滾筒表面結(jié)構(gòu)的生產(chǎn)過程中顯影滾筒510的表面結(jié)構(gòu)如果變化的示意圖。對圖8A和圖8B的解釋將在后面進(jìn)行。
首先，參考圖6。從圖中可以清楚地看到，根據(jù)本實(shí)施例的顯影滾筒510在表面上有大量凹陷。(注意，為理解方便，在圖6中只顯示了5個(gè)凹陷。)而且，每個(gè)凹陷在它的表面有大量凸起。
為了讓所述凹陷充分施展攜帶調(diào)色劑的能力，凹陷的直徑最好為80微米或更小，從20微米到30微米更佳。
而且，為了使調(diào)色劑和凹陷表面之間達(dá)到理想的接觸面積，凸起的直徑最好為7微米或更小，從0.5微米到1.5微米更佳。最好提供上述尺寸的凸起直徑，因?yàn)槿绻蛊鹬睆教螅幱谙噜復(fù)蛊痖g的調(diào)色劑的“翻滾屬性”(如前面解釋)會惡化。
顯影滾筒510的這種表面結(jié)構(gòu)能夠按照下面解釋的過程來生產(chǎn)。
首先，顯影滾筒510的表面要經(jīng)過使用球形顆粒的噴丸處理。更具體地說，玻璃珠被用作球形顆粒，它們是要噴射的材料，這些玻璃珠在設(shè)定的時(shí)間內(nèi)以設(shè)定的壓力從噴射噴嘴里噴到顯影滾筒510的表面上。按照這種處理，就會如圖7A和圖7B所示的那樣在顯影滾筒510的表面上形成大量凹陷。(如圖6，凹陷中只有5個(gè)顯示在圖7B中。)注意在本實(shí)施例中，使用80微米到120微米顆粒尺寸的玻璃珠作為噴射材料會形成具有20微米到30微米直徑的凹陷。(具有20微米到30微米直徑的凹陷如圖7B所示。)注意，球形顆粒不局限于本實(shí)施例中使用的玻璃珠。
下面，顯影滾筒510的表面被清潔和烘干。接著，滾筒510的表面受到蝕刻。本實(shí)施例中，硫酸被用作蝕刻的試劑。但是，也可以使用如硝酸、磷酸和氫氟酸的其他試劑。而且，本實(shí)施例中，滾筒510的表面被浸入試劑內(nèi)20秒。注意，雖然蝕刻的時(shí)間不局限于一定數(shù)量的時(shí)間，但是處理表面最好在10秒到50秒之間。
如圖7C和圖7D所示，作為蝕刻的結(jié)果，顯影滾筒510的表面受到侵蝕并在滾筒510的表面上形成大量小孔。(注意，為便于理解，在圖7B所示的5個(gè)凹陷中，只有左側(cè)的凹陷顯示在圖7C中。)接著，對滾筒510的表面進(jìn)行預(yù)處理以在上面形成鋅合金鍍膜。接下來，表面要進(jìn)行無電鍍。雖然本實(shí)施例中使用了無電Ni-P鍍，但也可以使用其他的無電鍍方法，如無電Ni-B鍍、無電Pd-P鍍和無電Cr鍍。而且，本實(shí)施例中鍍的厚度大概是4微米。注意，雖然鍍的厚度不局限為某一特定值，但該厚度最好為3微米到5微米。
如圖7D和圖7E所示，作為無電鍍的結(jié)果，鍍層成長，采用由蝕刻形成小孔為核心，從而在凹陷表面形成大量凸起。換言之，由于蝕刻處理在凹陷處形成的小孔的尺寸不同，凹陷表面上鍍層成長的速度依據(jù)小孔的尺寸會有差異，從而在凹陷上形成了大量凸起。
注意，凸起的尺寸例如依賴于在凹陷上形成的小孔的尺寸。小孔的尺寸例如依賴于蝕刻處理的時(shí)間量。如上解釋，本實(shí)施例中顯影滾筒510的表面浸入試劑20秒。這種情況下，將會形成具有0.5微米到1.5微米直徑的凸起。(在圖7E中，顯示了具有0.8微米到1微米直徑的凸起。)接下來，參考圖8。圖8A和圖8B是用掃描電子顯微鏡(SEM)觀察經(jīng)過無電鍍的顯影滾筒510表面的結(jié)果視圖。圖8A和圖8B顯示了不同放大尺寸的視圖；更具體地說，圖8B是顯示在圖8A中的表面的一個(gè)部分(主要為凹陷)的放大視圖。如在圖8A中看到的，在顯影滾筒510的表面，有經(jīng)上述噴丸處理所形成的大量凹陷。注意，圖8A中所示的2個(gè)凹陷旁邊是它們的直徑(20微米和25微米)。
而且注意，凹陷的“直徑”這個(gè)術(shù)語在這里有兩個(gè)含義(1)如果指定了涉及的凹陷，那么術(shù)語“直徑”就代表該指定凹陷的直徑，如圖8A所示的兩個(gè)凹陷的直徑；和(2)在其他情形中，該術(shù)語“直徑”用來指稱凹陷的直徑的平均值，例如由下述方法獲得用一個(gè)電子掃描顯微鏡(SEM)為具有大量凹陷的顯影滾筒510的表面拍照；測量從照片上隨機(jī)選擇的十個(gè)凹陷的直徑；然后，忽略具有最大直徑的凹陷和最小直徑的凹陷，計(jì)算剩下的8個(gè)凹陷的直徑的平均值以獲得上述的平均值。
另外，如圖8a和圖8b所示，在每一個(gè)凹陷表面都有多個(gè)凸起。在圖8b中，其中一個(gè)凸起旁邊是它的直徑。
注意，這里所使用的該凸起的“直徑”這個(gè)術(shù)語有兩個(gè)含義(1)如果指定了涉及的凸起，如圖8B所示的凸起，那么術(shù)語“直徑”就代表該指定凸起的直徑；和(2)在其他情形中，該術(shù)語“直徑”用來指稱凸起的直徑的一個(gè)平均值，例如由下述方法獲得用一個(gè)電子掃描顯微鏡(SEM)為具有多個(gè)凸起的顯影滾筒510的表面拍照；測量從照片上隨機(jī)選擇的十個(gè)凸起的直徑；然后，忽略具有最大直徑的凸起和最小直徑的凸起，計(jì)算剩下的8個(gè)凸起直徑的平均值以獲得上述的平均值。
<生產(chǎn)該表面結(jié)構(gòu)的另一個(gè)實(shí)施例>
接下來將對用于生產(chǎn)該顯影滾筒510的表面結(jié)構(gòu)的另一種方法進(jìn)行解釋。
在前述實(shí)施例中，該顯影滾筒510的表面經(jīng)過了一種使用球狀顆粒的噴丸處理。在此實(shí)施例中，用于該噴丸處理的球狀顆粒將被預(yù)處理。即，用于噴丸處理的每個(gè)球狀顆粒的表面都經(jīng)過一種蝕刻處理。蝕刻處理的結(jié)果就是每個(gè)球狀顆粒的表面經(jīng)受了腐蝕，且多個(gè)小孔作為凹陷形成在這些顆粒的表面上。
然后，如前文所述，這些具有小孔的球狀顆粒從噴射噴嘴中噴到顯影滾筒510的表面。此處理過程的結(jié)果就是在顯影滾筒510的表面形成多個(gè)凹陷，而且，在每個(gè)凹陷上將形成多個(gè)凸起。更具體地說，該球狀顆粒表面上形成的小孔就是用來形成每個(gè)凹陷上的凸起的，而這些凹陷形成在顯影滾筒510的表面上。
注意，在此實(shí)施例中，也可能通過使用顆粒尺寸在80到120微米之間的球狀顆粒作為噴射材料來獲得直徑在20到30微米之間的凹陷。另外，通過調(diào)節(jié)該蝕刻處理的時(shí)間量，就可能調(diào)節(jié)在該球狀顆粒表面上形成的小孔尺寸和獲得直徑在0.5到1.5微米之間的凸起。
<另一個(gè)用于生產(chǎn)該表面結(jié)構(gòu)的實(shí)施例>
另外，還有其他生產(chǎn)該顯影滾筒510的表面結(jié)構(gòu)的方法。例如，可以先對滾筒510的表面進(jìn)行噴丸處理，然后再用比噴丸處理所用顆粒小的顆粒粘附到第一次噴丸處理形成的凹陷的表面上。
例如，在對顯影滾筒510的表面進(jìn)行噴丸處理后，通過將一種包括微小顆粒的涂覆劑噴到顯影滾筒510的表面上進(jìn)行涂覆處理。通過這些處理，在顯影滾筒510的表面會形成多個(gè)凹陷，而且在每個(gè)凹陷上會形成多個(gè)凸起。更具體地說，涂覆劑中所含微小顆粒形成了顯影滾筒510表面的凹陷上的凸起。
注意，在此實(shí)施例中，也可能通過使用顆粒尺寸在80到120微米之間的球狀顆粒作為噴射材料來獲得直徑在20到30微米之間的凹陷。另外，通過合理選擇該種包含合理尺寸的微小顆粒的涂覆劑的類型，就可能獲得直徑在0.5到1.5微米之間的凸起。
如前所述，通過在顯影滾筒510的表面上的每個(gè)凹陷上提供多個(gè)凸起，就可能改進(jìn)調(diào)色劑的翻滾屬性。
更具體地說，如在“背景技術(shù)”部分中描述的那樣，如果在噴丸等處理形成的凹陷的表面粗糙度不夠，就可能會發(fā)生這些凹陷所攜帶的調(diào)色劑的翻滾屬性惡化的情形。這種情形的發(fā)生是因?yàn)?，由于該凹陷的表面粗糙度不夠，調(diào)色劑與凹陷的表面接觸面積過大。翻滾屬性的惡化可能帶來許多問題例如，當(dāng)顯影滾筒吸附的調(diào)色劑被顯影劑充電元件如限制刀片充電時(shí)，由于翻滾屬性的惡化而使調(diào)色劑電荷不充足，或者，當(dāng)潛像被顯影出來后殘留在顯影滾筒上的調(diào)色劑要被諸如調(diào)色劑供應(yīng)滾筒的顯影劑刮擦元件刮掉時(shí)，由于翻滾屬性的惡化，調(diào)色劑不能被充分刮掉。
考慮到上述因素，通過在顯影滾筒510的每個(gè)凹陷的表面上提供多個(gè)凸起，就可能提高該凹陷的表面粗糙度，并降低調(diào)色劑與凹陷表面之間的接觸面積。結(jié)果，就可能提高調(diào)色劑的翻滾屬性并解決上述和其他問題。
也就是說，如在“背景技術(shù)”部分中所述，如果由噴丸或其他處理方法形成的凹陷的表面粗糙度太小(也就是說，如果每個(gè)凹陷的表面不夠粗糙)，就會發(fā)生在緊靠元件(abutting member)與顯影滾筒彼此緊靠處顯影滾筒所吸附的調(diào)色劑的翻滾屬性惡化的情形(也就是說，調(diào)色劑在凹陷中未能充分翻滾)。這種情形的發(fā)生是因?yàn)?，由于該凹陷的表面粗糙度不夠，調(diào)色劑與凹陷的表面接觸面積過大。
如果上述緊靠元件，如限制刀片560，用作顯影劑充電元件時(shí)，或者說，如果上述顯影劑充電元件在顯影劑充電元件與該顯影滾筒510相互緊靠的部位對顯影滾筒所吸附的調(diào)色劑充電時(shí)，翻滾屬性的惡化可能會產(chǎn)生調(diào)色劑充電不夠的問題。換句話說，如果調(diào)色劑的翻滾屬性不夠，調(diào)色劑與顯影劑充電元件和/或顯影滾筒510接觸的位置就會被固定，且由這種接觸產(chǎn)生的調(diào)色劑充電也會被阻止。
調(diào)色劑充電不足可能會產(chǎn)生如調(diào)色劑擴(kuò)散、模糊和脫落等問題。
另外，如果上述緊靠元件用作如調(diào)色劑供應(yīng)滾筒550這樣的顯影劑刮擦元件，或者說，如果在顯影后，上述顯影劑刮擦元件要刮掉在顯影劑刮擦元件與顯影滾筒510彼此緊靠的部位殘留在顯影劑滾筒上的調(diào)色劑，翻滾屬性惡化會產(chǎn)生調(diào)色劑不能被充分刮掉的問題。
這種調(diào)色劑刮擦不充分可能會產(chǎn)生調(diào)色劑在顯影滾筒表面同一個(gè)位置處聚集起來的情形，而且調(diào)色劑惡化繼續(xù)下去，會導(dǎo)致所謂的“膜化現(xiàn)象”等問題。另外，由于調(diào)色劑在顯影滾筒表面同一個(gè)部位聚集起來，顯影滾筒上的調(diào)色劑和調(diào)色劑容器中所容納的調(diào)色劑就不能合理地循環(huán)，而這可能會導(dǎo)致所謂的“滯后現(xiàn)象(hysteresis)”等問題。
考慮到上述因素，通過在顯影滾筒510的每個(gè)凹陷的表面上提供多個(gè)凸起，就可能提高該凹陷的表面粗糙度，并降低調(diào)色劑與凹陷表面之間的接觸面積。結(jié)果，就可能提高調(diào)色劑的翻滾屬性并解決上述和其他問題。
＝＝＝顯影滾筒表面結(jié)構(gòu)及其生產(chǎn)方法的第二實(shí)施例＝＝＝下面，參考圖5、圖6、圖7A到圖7E、圖8A和圖8B以及圖9A和圖9B，將對顯影滾筒表面結(jié)構(gòu)及其生產(chǎn)方法的另一個(gè)實(shí)施例進(jìn)行說明。
<有關(guān)根據(jù)本實(shí)施例的調(diào)色劑的詳細(xì)資料>
參考圖5，將對有關(guān)根據(jù)本實(shí)施例的調(diào)色劑的詳細(xì)資料進(jìn)行說明。
根據(jù)本實(shí)施例的調(diào)色劑根據(jù)一種研磨方法生產(chǎn)，并且包含潤滑劑。如果調(diào)色劑用該研磨方法生產(chǎn)，則存在生產(chǎn)出比具有適合顯影光電導(dǎo)體20上形成的潛像的尺寸的調(diào)色劑更小的所謂的粉末化調(diào)色劑的趨勢。此外，當(dāng)包含潤滑劑時(shí)，調(diào)色劑容易分裂(破碎)。這將進(jìn)一步導(dǎo)致粉末化的調(diào)色劑數(shù)量的增加。
考慮到上述情況，根據(jù)本實(shí)施例的調(diào)色劑被制成使得其在顆粒尺寸分布上具有至少兩個(gè)峰(圖中的P1、P2)，在顆粒尺寸分布上，采用粒子數(shù)分布作為分布參考，并且構(gòu)成最大峰(圖中的P1)的調(diào)色劑的顆粒尺寸大于構(gòu)成次大峰(圖中的P2)的調(diào)色劑的顆粒尺寸。也就是說，具有適合顯影光電導(dǎo)體20上形成的潛像的尺寸的調(diào)色劑將構(gòu)成最大峰(圖中的P1)，并且粉末化的調(diào)色劑將構(gòu)成次大峰(圖中的P2)。
如圖5中所見，對于根據(jù)本實(shí)施例的調(diào)色劑，構(gòu)成最大峰(圖中的P1)的調(diào)色劑顆粒尺寸大約是8.5um，構(gòu)成次大峰(圖中的P2)的調(diào)色劑顆粒尺寸大約是1.6um。
<顯影滾筒的表面結(jié)構(gòu)及其生產(chǎn)方法的實(shí)例>
接下來，參考圖6，圖7A到圖7E和圖8A與8B，對一個(gè)實(shí)施例中顯影滾筒的表面結(jié)構(gòu)和生產(chǎn)該結(jié)構(gòu)的方法將做出解釋。圖6是顯示根據(jù)實(shí)施例的顯影滾筒510的表面結(jié)構(gòu)的框圖。圖7A到圖7E是顯示根據(jù)本實(shí)施例，在滾筒表面結(jié)構(gòu)的生產(chǎn)過程中顯影滾筒510的表面結(jié)構(gòu)如果變化的示意圖。對圖8A和圖8B的解釋將在后面進(jìn)行。
首先，參考圖6。從圖中可以清楚地看到，根據(jù)本實(shí)施例的顯影滾筒510在表面上有大量凹陷。(注意，為理解方便，在圖6中只顯示了5個(gè)凹陷。)而且，每個(gè)凹陷在它的表面有大量凸起。
為了讓所述凹陷充分施展攜帶調(diào)色劑的能力，凹陷的直徑最好為80微米或更小，從20微米到30微米更佳。
此外，調(diào)色劑被制成使得顯影滾筒510在其轉(zhuǎn)動方向上的凹陷直徑大于構(gòu)成最大峰的調(diào)色劑的顆粒尺寸。
而且，為了使調(diào)色劑和凹陷表面之間達(dá)到理想的接觸面積，凸起的直徑最好為7微米或更小，從0.5微米到1.5微米更佳。最好提供上述尺寸的凸起直徑，因?yàn)槿绻蛊鹬睆教?，處于相鄰?fù)蛊痖g的調(diào)色劑的“翻滾屬性”(如前面解釋)會惡化。
此外，調(diào)色劑被制成使得顯影滾筒510在其轉(zhuǎn)動方向上的凸起的直徑小于構(gòu)成次大峰的調(diào)色劑的顆粒尺寸。
注意，下面將說明用于形成具有上述直徑的凹陷和凸起的方法。
接著，將對用于產(chǎn)生顯影滾筒510這樣的表面結(jié)構(gòu)的方法進(jìn)行說明。
首先，顯影滾筒510的表面要經(jīng)過使用球形顆粒的噴丸處理。更具體地說，玻璃珠被用作球形顆粒，它們是要噴射的材料，這些玻璃珠在設(shè)定的時(shí)間內(nèi)以設(shè)定的壓力從噴射噴嘴里噴到顯影滾筒510的表面上。按照這種處理，就會如圖7A和圖7B所示的那樣在顯影滾筒510的表面上形成大量凹陷。(如圖6，凹陷中只有5個(gè)顯示在圖7B中。)注意，通過適當(dāng)?shù)剡x擇具有和凹陷所需直徑相配的顆粒尺寸的玻璃珠，有可能獲得具有所需直徑的凹陷。在本實(shí)施例中，使用具有80um到120um顆粒尺寸的玻璃珠作為要噴射的材料形成具有20um到30um直徑的凹陷。(圖7B中示出了具有20um到30um直徑的凹陷)。如上面所說明的，對于根據(jù)本實(shí)施例的調(diào)色劑，由于構(gòu)成最大峰(圖中的P1)的調(diào)色劑顆粒尺寸大約是8.5um，所以凹陷的直徑大于構(gòu)成最大峰的調(diào)色劑的顆粒尺寸。
注意，球狀顆粒不局限于本實(shí)施例中所用的玻璃珠。
下面，顯影滾筒510的表面被清潔和烘干。接著，滾筒510的表面受到蝕刻。本實(shí)施例中，硫酸被用作蝕刻的試劑。但是，也可以使用如硝酸、磷酸和氫氟酸的其他試劑。而且，本實(shí)施例中，滾筒510的表面被浸入試劑內(nèi)20秒。注意，雖然蝕刻的時(shí)間不局限于一定數(shù)量的時(shí)間，但是處理表面最好在10秒到50秒之間。
如圖7C和圖7D所示，作為蝕刻的結(jié)果，顯影滾筒510的表面受到侵蝕并在滾筒510的表面上形成大量小孔。(注意，為便于理解，在圖7B所示的5個(gè)凹陷中，只有左側(cè)的凹陷顯示在圖7C中。)接著，對滾筒510的表面進(jìn)行預(yù)處理以在上面形成鋅合金鍍膜。接下來，表面要進(jìn)行無電鍍。雖然本實(shí)施例中使用了無電Ni-P鍍，但也可以使用其他的無電鍍方法，如無電Ni-B鍍、無電Pd-P鍍和無電Cr鍍。而且，本實(shí)施例中鍍的厚度大概是4微米。注意，雖然鍍的厚度不局限為某一特定值，但該厚度最好為3微米到5微米。
如圖7D和圖7E所示，作為無電鍍的結(jié)果，鍍層成長，采用由蝕刻形成小孔為核心，從而在凹陷表面形成大量凸起。換言之，由于蝕刻處理在凹陷處形成的小孔的尺寸不同，凹陷表面上鍍層成長的速度依據(jù)小孔的尺寸會有差異，從而在凹陷上形成了大量凸起。
注意，凸起的尺寸例如依賴于在凹陷上形成的小孔的尺寸。小孔的尺寸例如依賴于蝕刻處理的時(shí)間量。如上解釋，本實(shí)施例中顯影滾筒510的表面浸入試劑20秒。這種情況下，將會形成具有0.5微米到1.5微米直徑的凸起。(在圖7E中，顯示了具有0.8微米到1微米直徑的凸起。)如上面所說明的，對于根據(jù)本實(shí)施例的調(diào)色劑，由于構(gòu)成次大峰(圖中的P2)的調(diào)色劑顆粒尺寸大約是1.6um，所以凸起的直徑小于構(gòu)成次大峰的調(diào)色劑的顆粒尺寸。
接下來，參考圖8。圖8A和圖8B是用掃描電子顯微鏡(SEM)觀察經(jīng)過無電鍍的顯影滾筒510表面的結(jié)果視圖。圖8A和圖8B顯示了不同放大尺寸的視圖；更具體地說，圖8B是顯示在圖8A中的表面的一個(gè)部分(主要為凹陷)的放大視圖。如在圖8A中看到的，在顯影滾筒510的表面，有經(jīng)上述噴丸處理所形成的大量凹陷。注意，圖8A中所示的2個(gè)凹陷旁邊是它們的直徑(20微米和25微米)。
而且注意，凹陷的“直徑”這個(gè)術(shù)語在這里有兩個(gè)含義(1)如果指定了涉及的凹陷，那么術(shù)語“直徑”就代表該指定凹陷的直徑，如圖8A所示的兩個(gè)凹陷的直徑；和(2)在其他情形中，該術(shù)語“直徑”用來指稱凹陷的直徑的平均值，例如由下述方法獲得用一個(gè)電子掃描顯微鏡(SEM)為具有大量凹陷的顯影滾筒510的表面拍照；測量從照片上隨機(jī)選擇的十個(gè)凹陷的直徑；然后，忽略具有最大直徑的凹陷和最小直徑的凹陷，計(jì)算剩下的8個(gè)凹陷的直徑的平均值以獲得上述的平均值。
另外，如圖8a和圖8b所示，在每一個(gè)凹陷表面都有多個(gè)凸起。在圖8b中，其中一個(gè)凸起旁邊是它的直徑。
注意，這里所使用的該凸起的“直徑”這個(gè)術(shù)語有兩個(gè)含義(1)如果指定了涉及的凸起，如圖8B所示的凸起，那么術(shù)語“直徑”就代表該指定凸起的直徑；和(2)在其他情形中，該術(shù)語“直徑”用來指稱凸起的直徑的一個(gè)平均值，例如由下述方法獲得用一個(gè)電子掃描顯微鏡(SEM)為具有多個(gè)凸起的顯影滾筒510的表面拍照；測量從照片上隨機(jī)選擇的十個(gè)凸起的直徑；然后，忽略具有最大直徑的凸起和最小直徑的凸起，計(jì)算剩下的8個(gè)凸起直徑的平均值以獲得上述的平均值。
<生產(chǎn)該表面結(jié)構(gòu)的另一個(gè)實(shí)施例>
接下來將對用于生產(chǎn)該顯影滾筒510的表面結(jié)構(gòu)的另一種方法進(jìn)行解釋。
在前述實(shí)施例中，該顯影滾筒510的表面經(jīng)過了一種使用球狀顆粒的噴丸處理。在此實(shí)施例中，用于該噴丸處理的球狀顆粒將被預(yù)處理。即，用于噴丸處理的每個(gè)球狀顆粒的表面都經(jīng)過一種蝕刻處理。蝕刻處理的結(jié)果就是每個(gè)球狀顆粒的表面經(jīng)受了腐蝕，且多個(gè)小孔作為凹陷形成在這些顆粒的表面上。
然后，如前文所述，這些具有小孔的球狀顆粒從噴射噴嘴中噴到顯影滾筒510的表面。此處理過程的結(jié)果就是在顯影滾筒510的表面形成多個(gè)凹陷，而且，在每個(gè)凹陷上將形成多個(gè)凸起。更具體地說，該球狀顆粒表面上形成的小孔就是用來形成每個(gè)凹陷上的凸起的，而這些凹陷形成在顯影滾筒510的表面上。
注意，在此實(shí)施例中，也可能通過使用顆粒尺寸在80到120微米之間的球狀顆粒作為噴射材料來獲得直徑在20到30微米之間的凹陷。另外，通過調(diào)節(jié)該蝕刻處理的時(shí)間量，就可能調(diào)節(jié)在該球狀顆粒表面上形成的小孔尺寸和獲得直徑在0.5到1.5微米之間的凸起。
<另一個(gè)用于生產(chǎn)該表面結(jié)構(gòu)的實(shí)施例>
另外，還有其他生產(chǎn)該顯影滾筒510的表面結(jié)構(gòu)的方法。例如，可以先對滾筒510的表面進(jìn)行噴丸處理，然后再用比噴丸處理所用顆粒小的顆粒粘附到第一次噴丸處理形成的凹陷的表面上。
例如，在對顯影滾筒510的表面進(jìn)行噴丸處理后，通過將一種包括微小顆粒的涂覆劑噴到顯影滾筒510的表面上進(jìn)行涂覆處理。通過這些處理，在顯影滾筒510的表面會形成多個(gè)凹陷，而且在每個(gè)凹陷上會形成多個(gè)凸起。更具體地說，涂覆劑中所含微小顆粒形成了顯影滾筒510表面的凹陷上的凸起。
注意，在此實(shí)施例中，也可能通過使用顆粒尺寸在80到120微米之間的球狀顆粒作為噴射材料來獲得直徑在20到30微米之間的凹陷。另外，通過合理選擇該種包含合理尺寸的微小顆粒的涂覆劑的類型，就可能獲得直徑在0.5到1.5微米之間的凸起。
通過在凹陷的表面上形成大量的凸起，并使得顯影滾筒510在其轉(zhuǎn)動方向上的凸起的直徑小于構(gòu)成次大峰的調(diào)色劑的顆粒尺寸，有可能減少調(diào)色劑被顯影滾筒510陷入的情況的發(fā)生。
這將通過參考圖9A和圖9B被進(jìn)一步詳細(xì)說明。圖9A和圖9B是示出粉末化的調(diào)色劑將怎樣被分布在顯影滾筒510上形成的凹陷的表面上的示意圖。
如圖9A所示，如果凸起的直徑大于構(gòu)成次大峰的調(diào)色劑的顆粒尺寸，則存在構(gòu)成次大峰的粉末化調(diào)色劑落入(或陷入)相鄰?fù)蛊鹬g的空間的可能性。在這樣的情況下，調(diào)色劑將持續(xù)在顯影滾筒表面上相同的位置積聚，并且調(diào)色劑惡化將繼續(xù)，這樣可能引起例如所謂的“膜化現(xiàn)象”的問題。
相反，如果像在本實(shí)施例中，凸起的直徑小于構(gòu)成次大峰的調(diào)色劑的顆粒尺寸，則構(gòu)成次大峰的粉末化調(diào)色劑將不會落入(或陷入)相鄰?fù)蛊鹬g的空間，并將處于被攜帶在凸起上的狀態(tài)，如圖9B所示。
通過這個(gè)方法，有可能減少陷入凸起之間的調(diào)色劑的數(shù)量。換言之，有可能減少調(diào)色劑被顯影滾筒510陷入的情況的發(fā)生。
＝＝＝其他實(shí)施例＝＝＝上面，根據(jù)基于各種實(shí)施例的本實(shí)用新型，對顯影裝置、顯影劑吸附元件等等進(jìn)行了說明。但是，本實(shí)用新型的上述實(shí)施例僅僅是用于幫助理解本實(shí)用新型的例子，而不是要限制本實(shí)用新型的范圍。不言自明，能對本實(shí)用新型進(jìn)行改變和/或修改而不偏離其范圍，并且，本實(shí)用新型包括其等同物。
在上面說明的實(shí)施例中，以中間傳送類型的全色激光束打印機(jī)作為成像裝置的一個(gè)例子進(jìn)行了說明。但是，本實(shí)用新型可用于各種成像裝置，諸如中間轉(zhuǎn)移類型之外的全色激光束打印機(jī)、單色激光束打印機(jī)、復(fù)印機(jī)、傳真機(jī)等。
此外，光電導(dǎo)體不局限于通過在圓柱形的導(dǎo)電基體的外圓周表面上提供光敏層構(gòu)成的所謂的光敏滾筒；它可能是通過在帶狀可導(dǎo)基體的表面上提供光敏層構(gòu)成的所謂的光敏帶。
此外，在一些上述實(shí)施例中，顯影滾筒在其轉(zhuǎn)動方向上的凹陷直徑大于構(gòu)成最大峰的調(diào)色劑的顆粒尺寸。但是，該結(jié)構(gòu)不局限于此但是，根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，由于有可能給具有適于顯影光電導(dǎo)體上形成的潛像的尺寸的調(diào)色劑提供充分的時(shí)間間隔在凹陷內(nèi)翻滾，能夠減少例如像在“背景技術(shù)”中說明的調(diào)色劑充電不足的問題的發(fā)生。另外，由于調(diào)色劑陷入凹陷的可能性低，能夠減少諸如所謂“膜化現(xiàn)象”的問題的發(fā)生。因此上述結(jié)構(gòu)更佳。
此外，在一些上述實(shí)施例中，顯影劑根據(jù)研磨方法生產(chǎn)。但是，該結(jié)構(gòu)不局限于此。例如，調(diào)色劑能夠根據(jù)噴霧干燥方法或聚合方法制造。
但是，注意，根據(jù)上述實(shí)施例的結(jié)構(gòu)是更佳的，因?yàn)橛捎谠谡{(diào)色劑根據(jù)研磨方法生成時(shí)，存在比具有適于顯影光電導(dǎo)體上形成的潛像的尺寸的調(diào)色劑更小的所謂的粉末化調(diào)色劑很容易產(chǎn)生的趨勢，上述減少調(diào)色劑被顯影滾筒陷入的情況發(fā)生的作用變得更顯著和有效。
此外，在一些上述實(shí)施例中，調(diào)色劑包含潤滑劑。但是，該結(jié)構(gòu)不局限于此但是，由于調(diào)色劑容易分裂(破碎)，并且在調(diào)色劑包含潤滑劑時(shí)存在比具有適于顯影光電導(dǎo)體上形成的潛像的尺寸的調(diào)色劑更小的所謂的粉末化調(diào)色劑很容易產(chǎn)生的趨勢，上述減少調(diào)色劑被顯影滾筒陷入的情況發(fā)生的作用變得更顯著和有效。
此外，在一些上述實(shí)施例中，潤滑劑對調(diào)色劑具有不可混和性。但是，該結(jié)構(gòu)不局限于此但是，如果潤滑劑對調(diào)色劑具有不可混和性，由于因調(diào)色劑易于分裂(破碎)的屬性的加強(qiáng)而存在比具有適于顯影光電導(dǎo)體上形成的潛像的尺寸的調(diào)色劑更小的所謂的粉末化調(diào)色劑很容易產(chǎn)生的趨勢，上述減少調(diào)色劑被顯影滾筒陷入的情況發(fā)生的作用變得更顯著和有效。
此外，在一些上述實(shí)施例中，緊靠元件是用于對顯影滾筒吸附的調(diào)色劑充電的顯影劑充電元件。但是，該結(jié)構(gòu)不局限于此。
但是，注意，使用顯影劑充電元件作為緊靠元件更佳，因?yàn)樗锌赡芙鉀Q因調(diào)色劑翻滾屬性的惡化所致的調(diào)色劑充電不足的問題。
此外，在一些上述實(shí)施例中，顯影滾筒是可動的，并且顯影滾筒(在其運(yùn)動方向上)的十點(diǎn)平均粗糙度(根據(jù)JIS B 0610)大于顯影劑充電元件用于充電一側(cè)的表面的十點(diǎn)平均粗糙度(在朝著顯影劑充電元件尖端的方向上)。但是，該結(jié)構(gòu)不局限于此。
但是，注意，根據(jù)上述實(shí)施例的結(jié)構(gòu)更佳，因?yàn)橛捎谕ㄟ^使得顯影滾筒的表面粗糙度大于顯影劑充電元件的表面粗糙度，調(diào)色劑能被顯影滾筒比顯影劑充電元件更好地吸附，所以顯影滾筒有可能充分地發(fā)揮其攜帶調(diào)色劑的能力。
此外，在一些上述實(shí)施例中，顯影劑充電元件能夠限制顯影滾筒吸附的調(diào)色劑的厚度。但是，該結(jié)構(gòu)不局限于此。例如，顯影劑充電元件能夠是上述調(diào)色劑供應(yīng)滾筒。
但是，注意，根據(jù)上述實(shí)施例的結(jié)構(gòu)更佳，因?yàn)橛锌赡苓m當(dāng)?shù)叵拗埔呀?jīng)被充分充電的調(diào)色劑的厚度。
此外，在一些上述實(shí)施例中，緊靠元件是用于把顯影滾筒所吸附的調(diào)色劑刮掉的顯影劑刮擦元件。但是，該結(jié)構(gòu)不局限于此。
但是，注意，根據(jù)上述實(shí)施例的結(jié)構(gòu)更佳，因?yàn)橛锌赡芙鉀Q因調(diào)色劑的翻滾屬性惡化所致的調(diào)色劑不能被充分刮掉的問題。
此外，在一些上述實(shí)施例中，顯影劑刮擦元件在其表面上具有泡沫狀彈性體，顯影滾筒是可動的，并且顯影滾筒在其運(yùn)動方向上的凹陷的直徑尺寸等于或小于泡沫狀彈性體的小孔直徑。但是，該結(jié)構(gòu)不局限于此。
但是，注意，根據(jù)上述實(shí)施例的結(jié)構(gòu)更佳，因?yàn)椋捎谕ㄟ^用泡沫狀彈性體上提供的小孔可靠地捕獲調(diào)色劑，有可能刮掉顯影滾筒吸附的調(diào)色劑，有可能進(jìn)一步適當(dāng)?shù)亟鉀Q因調(diào)色劑的翻滾屬性惡化所致的調(diào)色劑不能被充分刮掉的問題。
此外，在一些上述實(shí)施例中，顯影劑刮擦元件能夠給顯影滾筒供應(yīng)調(diào)色劑。但是，該結(jié)構(gòu)不局限于此。例如，顯影劑刮擦元件可以是上面所說明的限制刀片。
但是，注意，根據(jù)上述實(shí)施例的結(jié)構(gòu)更佳，因?yàn)椋捎谟锌赡芤岳硐氲姆绞接霉尾猎貜?fù)調(diào)色劑供應(yīng)和調(diào)色劑刮擦，顯影滾筒吸附的調(diào)色劑和包含在調(diào)色劑容器內(nèi)的調(diào)色劑將被適當(dāng)?shù)匮h(huán)，籍此能夠有效地防止例如所謂的“滯后現(xiàn)象”的問題。
此外，在一些上述實(shí)施例中，顯影劑刮擦元件和顯影滾筒是可旋轉(zhuǎn)的，并且顯影劑刮擦元件的轉(zhuǎn)動方向和顯影滾筒的轉(zhuǎn)動方向相反。但是，該結(jié)構(gòu)不局限于此。例如，顯影劑刮擦元件的轉(zhuǎn)動方向能夠和顯影滾筒的轉(zhuǎn)動方向相同。
但是，注意，根據(jù)上述實(shí)施例的結(jié)構(gòu)更佳，因?yàn)?，由于和轉(zhuǎn)動方向相同時(shí)的情況相比，當(dāng)顯影劑刮擦元件的轉(zhuǎn)動方向和顯影滾筒的轉(zhuǎn)動方向相反時(shí)，調(diào)色劑變得難以刮掉，所以上述作用(即能夠解決調(diào)色劑刮擦不足的問題的作用)變得更加顯著和有效。
此外，一些上述實(shí)施例中，調(diào)色劑根據(jù)研磨方法生產(chǎn)。但是，該結(jié)構(gòu)不局限于此。例如，調(diào)色劑能夠根據(jù)噴霧干燥方法或聚合方法制造。
但是，注意，根據(jù)上述實(shí)施例的結(jié)構(gòu)更佳，因?yàn)椋偃缯{(diào)色劑根據(jù)研磨方法生產(chǎn)，由于球狀的調(diào)色劑顆粒難以制造，并且調(diào)色劑的翻滾性能因此變得不足，所以上述作用(即能夠提高調(diào)色劑的翻滾屬性的作用)變得更加顯著和有效。
此外，在一些上述實(shí)施例中，調(diào)色劑包含潤滑劑。但是，該結(jié)構(gòu)不局限于此。
但是，注意，根據(jù)上述實(shí)施例的結(jié)構(gòu)更佳，因?yàn)椋捎谌绻{(diào)色劑包含潤滑劑，調(diào)色劑的翻滾屬性將變得不足，所以上述作用(即能夠提高調(diào)色劑的翻滾屬性的作用)變得更加顯著和有效。
此外，在一些上述實(shí)施例中，由光電導(dǎo)體所帶的潛像根據(jù)投影顯影系統(tǒng)(有時(shí)被稱作“跳躍顯影方法”)被用調(diào)色劑顯影。但是，該結(jié)構(gòu)不局限于此。
但是，注意，根據(jù)上述實(shí)施例的方法更佳，因?yàn)樯鲜鲎饔?即能夠提高調(diào)色劑的翻滾屬性的作用)變得更加顯著和有效。其原因在下面說明。
如果調(diào)色劑的翻滾屬性不足，則把調(diào)色劑緊密地填塞到顯影滾筒上以及在顯影滾筒上分?jǐn)?shù)層提供調(diào)色劑就變得困難。在這樣的情況下，從顯影滾筒傳送到光電導(dǎo)體上的調(diào)色劑的絕對數(shù)量將不夠充分。為解決這個(gè)問題，通過提高顯影滾筒的轉(zhuǎn)動速度增加供應(yīng)給光電導(dǎo)體的調(diào)色劑數(shù)量將是可能的。但是，如果顯影滾筒的轉(zhuǎn)動速度被提高，則在采用投影顯影系統(tǒng)的情況下，調(diào)色劑在顯影夾處(nip)往復(fù)跳動的次數(shù)將不足。
通過改善調(diào)色劑的翻滾屬性，通過提高顯影滾筒的轉(zhuǎn)動速度增加供應(yīng)給光電導(dǎo)體的調(diào)色劑數(shù)量將變得不必要。因此，調(diào)色劑在顯影夾處往復(fù)跳動的次數(shù)不足的問題將不會發(fā)生，即使采用的是投影顯影系統(tǒng)。
此外，在一些上述實(shí)施例中，凹陷通過用噴丸處理處理顯影滾筒的表面形成；但是，形成凹陷的方法不局限于此。
但是，注意，根據(jù)上述實(shí)施例的方法更佳，因?yàn)?，由于有可能在顯影滾筒表面形成具有僅有幾個(gè)裂紋的平滑剖面形狀的粗糙表面，所以有可能解決由被陷入(埋藏)在裂縫內(nèi)的調(diào)色劑所引起的例如“膜化現(xiàn)象”的問題。
此外，在一些上述實(shí)施例中，凸起通過使用具有大量凹陷(或小孔)的顆粒用于噴丸處理來形成；但是，形成凸起的方法不局限于此。
但是，注意，根據(jù)上述實(shí)施例的方法更佳，因?yàn)?，由于有可能大大地減少顯影滾筒表面的噴丸處理之后進(jìn)行的后處理的次數(shù)，所以降低顯影滾筒的制造成本變得可能。
此外，在一些上述實(shí)施例中，顆粒上的大量凹陷(小孔)通過用蝕刻處理處理顆粒的表面形成；但是，形成凹陷的方法不局限于此。
但是，注意，根據(jù)上述實(shí)施例的方法更佳，因?yàn)檫@樣的方法將使得在顆粒上形成大量凹陷(小孔)很容易。
此外，在一些上述實(shí)施例中，凹陷通過在用噴丸處理處理過顯影劑吸附元件的表面之后用蝕刻處理處理顯影劑吸附元件的表面，并對顯影劑吸附元件表面施加無電鍍形成。但是，該方法不局限于此。
但是，注意，根據(jù)上述實(shí)施例的方法更佳，因?yàn)椋捎谟锌赡苡缅兡ぬ畛滹@影劑吸附元件表面的噴丸處理所形成的裂紋，所以有可能避免例如由被陷入(埋藏)在裂縫內(nèi)的調(diào)色劑所引起的“膜化現(xiàn)象”的問題，并且因鍍膜在凸起方向上的生長，還在噴射所形成的凹陷內(nèi)形成細(xì)小凸起。
此外，在一些上述實(shí)施例中，通過在用噴丸處理處理過顯影劑吸附元件表面之后，允許小于用于噴丸處理的顆粒的顆粒附著到噴丸處理所形成的凹陷的表面，形成凸起。但是，該方法不局限于此。
但是，注意，根據(jù)上述實(shí)施例的方法更佳，因?yàn)椋捎谟锌赡軣o需執(zhí)行蝕刻處理就形成凸起，所以僅僅通過適當(dāng)?shù)剡x擇被使得附著到噴丸處理所形成的凹陷表面的顆粒，輕松地調(diào)整凸起的尺寸變得可能。
此外，在一些上述實(shí)施例中，用于顯影滾筒的材料是鋁合金或鐵合金。但是，該材料不局限于此。
但是，注意，根據(jù)上述實(shí)施例的材料更佳，因?yàn)橥ㄟ^使用鋁合金作為用于顯影滾筒的材料，因?yàn)椴牧系牧畠r(jià)，降低顯影滾筒的制造成本變得可能，還使得顯影設(shè)備的重量輕；并且通過使用鐵合金用于顯影滾筒的材料，因?yàn)椴牧系母哂捕忍匦?，降低顯影滾筒表面上的凸起和凹陷在長期使用中的磨損變得可能。
此外，在一些上述實(shí)施例中，用于噴丸處理的顆粒是球狀的。但是，顆粒的形狀不局限于此，例如，能夠使用橢圓形的顆粒。
此外，有可能實(shí)現(xiàn)一個(gè)計(jì)算機(jī)系統(tǒng)，例如包含計(jì)算機(jī)；例如CRT的能被連接到計(jì)算機(jī)的顯示設(shè)備；根據(jù)上面說明的實(shí)施例中的任一個(gè)，能夠被連接到計(jì)算機(jī)上的成像裝置；和作為必需品提供的諸如鼠標(biāo)或鍵盤的輸入設(shè)備；軟盤驅(qū)動器；以及CD-ROM驅(qū)動器。在一個(gè)像上面那樣實(shí)現(xiàn)的計(jì)算機(jī)系統(tǒng)中，該系統(tǒng)從整體上將優(yōu)于常規(guī)系統(tǒng)。
根據(jù)本實(shí)用新型，可以實(shí)現(xiàn)顯影劑吸附元件、顯影設(shè)備、成像裝置和計(jì)算機(jī)系統(tǒng)，其改善了顯影劑的翻滾屬性，還防止顯影劑被陷入在顯影劑吸附元件。
權(quán)利要求1.一種用于吸附調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，其特征在于包括在其表面上的多個(gè)凹陷；和在每個(gè)所述凹陷表面上的多個(gè)凸起。
2.如權(quán)利要求1所述的顯影劑吸附元件，其中所述凹陷的直徑等于或小于80微米。
3.如權(quán)利要求1所述的顯影劑吸附元件，其中所述凸起的直徑等于或小于7微米。
4.如權(quán)利要求1所述的顯影劑吸附元件，其中所述顯影劑吸附元件的材料是鋁合金。
5.如權(quán)利要求1所述的顯影劑吸附元件，其中所述顯影劑吸附元件的材料是鐵合金。
6.一種用于吸附調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，其特征在于包括在其表面上的多個(gè)凹陷，和在每個(gè)所述凹陷表面上的多個(gè)凸起，其中所述凹陷的直徑等于或小于80微米；所述凸起的直徑等于或小于7微米；和所述顯影劑吸附元件的材料是鐵合金。
7.一種顯影設(shè)備，包括一個(gè)用于吸附調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，其特征在于所述顯影劑吸附元件包括在其表面上的多個(gè)凹陷；和在每個(gè)所述凹陷表面上的多個(gè)凸起。
8.一種成像裝置，包括一個(gè)用于吸附調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，其特征在于所述顯影劑吸附元件包括在其表面上的多個(gè)凹陷；和在每個(gè)所述凹陷表面上的多個(gè)凸起。
9.一種計(jì)算機(jī)系統(tǒng)，其特征在于包括計(jì)算機(jī)能連接到所述計(jì)算機(jī)的顯示設(shè)備；和成像裝置，能連接到所述計(jì)算機(jī)且包括一個(gè)用于吸附調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，所述顯影劑吸附元件包括在其表面上的多個(gè)凹陷；和在每個(gè)所述凹陷表面上的多個(gè)凸起。
10.一種顯影設(shè)備，其特征在于包括調(diào)色劑，其顆粒尺寸分布中至少有兩個(gè)峰，其中顆粒數(shù)目的分布被用作分布參考，且其中，所述峰中構(gòu)成最大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸要大于所述峰中構(gòu)成次大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸；和可移動的用以吸附所述調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，所述顯影設(shè)備能夠用該顯影劑吸附元件所吸附的所述調(diào)色劑顯影一張潛像，所述潛像由一個(gè)圖像承載元件所承載，所述顯影劑吸附元件在其表面上有多個(gè)凹陷，每一個(gè)所述凹陷在其表面上有多個(gè)凸起，且所述顯影劑吸附元件的所述凸起在其移動方向上的直徑要比構(gòu)成所述次大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸小。
11.如權(quán)利要求10所述的顯影設(shè)備，其中所述凸起的直徑等于或小于7微米。
12.如權(quán)利要求10所述的顯影設(shè)備，其中所述顯影劑吸附元件的所述凹陷在其移動方向上的直徑要比構(gòu)成所述最大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸大。
13.如權(quán)利要求10所述的顯影設(shè)備，其中所述凹陷的直徑等于或小于80微米。
14.如權(quán)利要求10所述的顯影設(shè)備，其中所述調(diào)色劑包括潤滑劑。
15.如權(quán)利要求14所述的顯影設(shè)備，其中所述潤滑劑與所述調(diào)色劑不相溶。
16.如權(quán)利要求10所述的顯影設(shè)備，其中所述顯影劑吸附元件的材料是鋁合金。
17.如權(quán)利要求10所述的顯影設(shè)備，其中所述顯影劑吸附元件的材料是鐵合金。
18.一種顯影設(shè)備，其特征在于包括調(diào)色劑，其顆粒尺寸分布中至少有兩個(gè)峰，其中顆粒數(shù)目的分布被用作分布參考，且其中，所述峰中構(gòu)成最大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸要大于所述峰中構(gòu)成次大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸；和一個(gè)可移動的用以吸附所述調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，所述顯影設(shè)備能夠用該顯影劑吸附元件所吸附的所述調(diào)色劑顯影一張潛像，所述潛像由一個(gè)圖像承載元件所承載，所述顯影劑吸附元件在其表面上有多個(gè)凹陷，其中每一個(gè)所述凹陷在其表面上有多個(gè)凸起；所述顯影劑吸附元件的所述凸起在其移動方向上的直徑要比構(gòu)成所述次大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸??；所述凸起的直徑等于或小于7微米；所述顯影劑吸附元件的所述凹陷在其移動方向上的直徑要比構(gòu)成所述最大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸大；所述凹陷的直徑等于或小于80微米；所述調(diào)色劑通過研磨方法生產(chǎn)且包括潤滑劑；所述潤滑劑與所述調(diào)色劑不相溶；且所述顯影劑吸附元件的材料是鐵合金。
19.一種成像裝置，包括一個(gè)顯影設(shè)備，其特征在于該顯影設(shè)備包括調(diào)色劑，其顆粒尺寸分布中至少有兩個(gè)峰，其中顆粒數(shù)目的分布被用作分布參考，且其中，所述峰中構(gòu)成最大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸要大于所述峰中構(gòu)成次大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸；和一個(gè)可移動的用以吸附所述調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，所述顯影設(shè)備能夠用該顯影劑吸附元件所吸附的所述調(diào)色劑顯影一張潛像，所述潛像由一個(gè)圖像承載元件所承載，所述顯影劑吸附元件在其表面上有多個(gè)凹陷，其中每一個(gè)所述凹陷在其表面上有多個(gè)凸起；且所述顯影劑吸附元件的所述凸起在其移動方向上的直徑要比構(gòu)成所述次大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸小。
20.一種計(jì)算機(jī)系統(tǒng)，其特征在于包括計(jì)算機(jī)；能連接到所述計(jì)算機(jī)的顯示設(shè)備；和成像裝置，能連接到所述計(jì)算機(jī)且包括一個(gè)顯影設(shè)備，其中所述顯影設(shè)備包括調(diào)色劑，其顆粒尺寸分布中至少有兩個(gè)峰，其中顆粒數(shù)目的分布被用作分布參考，且其中，所述峰中構(gòu)成最大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸要大于所述峰中構(gòu)成次大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸；和一個(gè)可移動的用以吸附所述調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，所述顯影設(shè)備能夠用該顯影劑吸附元件所吸附的所述調(diào)色劑顯影一張潛像，所述潛像由一個(gè)圖像承載元件所承載，所述顯影劑吸附元件在其表面上有多個(gè)凹陷，每一個(gè)所述凹陷在其表面上有多個(gè)凸起，且所述顯影劑吸附元件的所述凸起在其移動方向上的直徑要比構(gòu)成所述次大峰的所述調(diào)色劑的顆粒尺寸小。
21.一種顯影設(shè)備，其特征在于包括調(diào)色劑；用于吸附所述調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，所述顯影設(shè)備能夠用該顯影劑吸附元件所吸附的所述調(diào)色劑顯影一張潛像，所述潛像由一個(gè)圖像承載元件所承載，所述顯影劑吸附元件在其表面有多個(gè)凹陷；和一個(gè)能緊靠到所述顯影劑吸附元件上的緊靠元件，每一個(gè)所述凹陷在其表面上都具有多個(gè)凸起。
22.如權(quán)利要求21所述的顯影設(shè)備，其中所述緊靠元件是用于為所述顯影劑吸附元件所吸附的所述調(diào)色劑充電的顯影劑充電元件。
23.如權(quán)利要求22所述的顯影設(shè)備，其中所述顯影劑吸附元件是可移動的，且所述顯影劑吸附元件在其移動方向上的十點(diǎn)平均粗糙度要比所述顯影劑充電元件用于充電的側(cè)面和朝向所述顯影劑充電元件的尖端方向上的十點(diǎn)平均粗糙度大。
24.如權(quán)利要求22所述的顯影設(shè)備，其中所述顯影劑充電元件能夠限制被所述顯影劑吸附元件吸附的所述調(diào)色劑的厚度。
25.如權(quán)利要求21所述的顯影設(shè)備，其中所述緊靠元件是一個(gè)用來刮掉由所述顯影劑吸附元件吸附的所述調(diào)色劑的顯影劑刮擦元件。
26.如權(quán)利要求25所述的顯影設(shè)備，其中所述顯影劑刮擦元件在其表面有一個(gè)泡沫彈性體，所述顯影劑吸附元件是可移動的，且所述顯影劑吸附元件在其移動方向上的所述凹陷的直徑等于或小于所述泡沫彈性體的孔洞直徑的尺寸。
27.如權(quán)利要求25所述的顯影設(shè)備，其中所述顯影劑刮擦元件能夠向所述顯影劑吸附元件供應(yīng)所述調(diào)色劑。
28.如權(quán)利要求25所述的顯影設(shè)備，其中所述顯影劑刮擦元件和所述顯影劑吸附元件是可旋轉(zhuǎn)的，且所述顯影劑刮擦元件的旋轉(zhuǎn)方向與所述顯影劑吸附元件的旋轉(zhuǎn)方向相反。
29.如權(quán)利要求21所述的顯影設(shè)備，其中所述調(diào)色劑包括潤滑劑。
30.如權(quán)利要求21所述的顯影設(shè)備，其中根據(jù)投影顯影系統(tǒng)，由所述圖像承載元件承載的潛像用所述調(diào)色劑顯影出來。
31.如權(quán)利要求21所述的顯影設(shè)備，其中所述凹陷的直徑等于或小于80微米。
32.如權(quán)利要求21所述的顯影設(shè)備，其中所述凸起的直徑等于或小于7微米。
33.如權(quán)利要求21所述的一種顯影設(shè)備，其中所述顯影劑吸附元件的材料是鋁合金。
34.如權(quán)利要求21所述的一種顯影設(shè)備，其中所述顯影劑吸附元件的材料是鐵合金。
35.一種顯影設(shè)備，其特征在于包括調(diào)色劑，用于吸附所述調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，所述顯影設(shè)備能夠用該顯影劑吸附元件所吸附的所述調(diào)色劑顯影一張潛像，所述潛像由一個(gè)圖像承載元件所承載，所述顯影劑吸附元件在其表面上有多個(gè)凹陷，和能夠緊靠到所述顯影劑吸附元件的緊靠元件，其中每一個(gè)所述凹陷在其表面上都具有多個(gè)凸起；所述緊靠元件是為所述顯影劑吸附元件吸附的所述調(diào)色劑充電的顯影劑充電元件；所述顯影劑吸附元件是可旋轉(zhuǎn)的；所述顯影劑吸附元件在其旋轉(zhuǎn)方向上的十點(diǎn)平均粗糙度要比所述顯影劑充電元件用于充電的側(cè)面和朝向所述顯影劑充電元件的尖端方向上的十點(diǎn)平均粗糙度大；所述顯影劑充電元件能夠限制被所述顯影劑吸附元件吸附的所述調(diào)色劑的厚度；所述緊靠元件是一個(gè)用來刮掉由所述顯影劑吸附元件吸附的所述調(diào)色劑的顯影劑刮擦元件；所述顯影劑刮擦元件在其表面有一個(gè)泡沫彈性體；所述顯影劑吸附元件在其旋轉(zhuǎn)方向上的所述凹陷的直徑要等于或小于所述泡沫彈性體的孔洞直徑的尺寸；所述顯影劑刮擦元件能夠向所述顯影劑吸附元件供應(yīng)所述調(diào)色劑；所述顯影劑刮擦元件是可旋轉(zhuǎn)的；所述顯影劑刮擦元件的旋轉(zhuǎn)方向與所述顯影劑吸附元件的旋轉(zhuǎn)方向相反；所述調(diào)色劑包括潤滑劑；所述凹陷的直徑等于或小于80微米；所述凸起的直徑等于或小于7微米；且所述顯影劑吸附元件的材料是鐵合金。
36.一種成像裝置，包括一個(gè)顯影設(shè)備，其特征在于所述顯影設(shè)備包括調(diào)色劑，用于吸附所述調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，所述顯影設(shè)備能夠用該顯影劑吸附元件所吸附的所述調(diào)色劑顯影一張潛像，所述潛像由一個(gè)圖像承載元件所承載，所述顯影劑吸附元件在其表面有多個(gè)凹陷，和能夠緊靠到所述顯影劑吸附元件的緊靠元件，其中每一個(gè)所述凹陷在其表面都具有多個(gè)凸起。
37.一種計(jì)算機(jī)系統(tǒng)，其特征在于包括計(jì)算機(jī)；能夠連接到所述計(jì)算機(jī)的顯示設(shè)備；能夠連接到所述計(jì)算機(jī)且包括顯影設(shè)備的成像裝置，其中所述顯影設(shè)備包括調(diào)色劑；用于吸附所述調(diào)色劑的顯影劑吸附元件，所述顯影設(shè)備能夠用該顯影劑吸附元件所吸附的所述調(diào)色劑顯影一張潛像，所述潛像由一個(gè)圖像承載元件所承載，所述顯影劑吸附元件在其表面有多個(gè)凹陷；和能夠緊靠到所述顯影劑吸附元件的緊靠元件，每一個(gè)所述凹陷在其表面上都具有多個(gè)凸起。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種用于吸附調(diào)色劑的顯影劑吸附元件。該顯影劑吸附元件在其表面有多個(gè)凹陷，且每個(gè)凹陷的表面有多個(gè)凸起。在調(diào)色劑和凹陷表面之間提供理想的接觸區(qū)域，提高了調(diào)色劑的翻滾屬性。
文檔編號G03G9/08GK2699339SQ0323944
公開日2005年5月11日 申請日期2003年3月7日 優(yōu)先權(quán)日2002年3月7日
發(fā)明者山田陽一, 岡村岳彥 申請人:精工愛普生株式會社