專利名稱：導(dǎo)光板模具的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種導(dǎo)光板模具的制造方法。
由于目前導(dǎo)光板(前光板與背光板)模具的制作技術(shù)有兩種一為機(jī)械加工方法，參閱

圖1，使用金屬基材再以機(jī)械加工制成光點(diǎn)圖案成模具或以濕蝕刻方式蝕刻出具有凹槽的圖案結(jié)構(gòu)，最后配合射出成型機(jī)射出成導(dǎo)光板；另一為利用光阻涂于平面基板上，參閱圖2，經(jīng)顯影、去光阻、加熱使光阻凸點(diǎn)成半球形光點(diǎn)，再鍍金屬模使之導(dǎo)電后電鑄成型，利用電鑄模具配合射出成型機(jī)射出成導(dǎo)光板。
其中利用超精密機(jī)械加工方法，因?yàn)槭褂脵C(jī)械加工制作，所以形成的導(dǎo)光板其精密度和光點(diǎn)圖案大小受限制，無(wú)法提供制作出小體積且形狀一致的微小透鏡模具，通常只能加工V型槽(俗稱Vcut)。
另一利用光阻方法，由于是用加熱方式使基板上粒狀光阻材料表面因表面張力及縮收成半球面狀，此半球面狀在1-50μm間較容易制作，因光阻涂布容易，曝光也容易，但在50-200μm(背光板所用的微透鏡粒徑約20-80μm)間則是越厚越難做，因此須用厚膜光阻，以目前曝光設(shè)備要曝光那么深真的是一件非常難的工程且設(shè)備極昂貴(高能量短波長(zhǎng)如同步輻射光)。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供的制作方法，用100結(jié)晶方位(Orientation)的硅晶片基板在其上涂飾一層光阻，經(jīng)曝光顯影后利用濕蝕刻方式將硅片蝕刻出具有傾斜角54.74°凹形槽或夾角70.52°V形凹槽，再去除光阻，并于其表面鍍上金屬導(dǎo)電層，最后再利用電鑄方式制成模具并配合射出成型機(jī)射出成導(dǎo)光板成品。
其中平面硅基板上的凹形槽或V形槽可以使用條狀或點(diǎn)狀排列。
因V形凹槽在導(dǎo)光板的制作其光學(xué)效果較佳，V形槽特別利于導(dǎo)光板的使用，但一般方法使用在基板上涂布光阻，經(jīng)曝光顯影后，只能制作出垂直的凹槽壁(傾斜角90°)無(wú)法制成V形凹槽(因光阻無(wú)法曝光成傾斜面)，只有100結(jié)晶方位(Orientation)硅晶片方可蝕刻出具有傾斜角54.74°傾斜壁的凹形槽或V形槽(其夾角70.52°)供導(dǎo)光板的制作使用，而目前除了100結(jié)晶方位(Orientation)的硅晶片，尚沒(méi)有任何其它結(jié)晶方位硅晶片可制成此V形凹槽。
本發(fā)明導(dǎo)光板模具的制作方法優(yōu)點(diǎn)為可很快速且便宜制作出V形槽其夾角70.52°，但其缺點(diǎn)為僅能制作此70.52°夾角V形槽而無(wú)其它角度，不過(guò)此角度已可運(yùn)用于導(dǎo)光板的V形槽光點(diǎn)且效果良好。
圖6為本發(fā)明硅基板上的部份光阻曝光顯影的示意圖；圖7為本發(fā)明硅基板上做蝕刻凹槽成型結(jié)構(gòu)圖；圖8為本發(fā)明硅基板上除去光阻后的形成具有凹槽結(jié)構(gòu)的硅基板結(jié)構(gòu)圖；圖9為本發(fā)明做金屬層結(jié)構(gòu)圖；圖10為本發(fā)明V形凹溝導(dǎo)光板成品立體圖；圖11為本發(fā)明V形凹溝導(dǎo)光板成品立體圖；圖12為本發(fā)明V形凹槽導(dǎo)光板成品立體圖；圖13為本發(fā)明制成導(dǎo)光板的應(yīng)用示意圖。
2.于硅基板1正、反面各上一層光阻成上光阻層2和下光阻層3(參閱圖5)。
3.利用曝光顯影方式將曝光顯影區(qū)4的光阻去除(參閱圖6)。
4.利用非等向性濕蝕刻(Anisotropic wet etching)，蝕刻形成蝕刻凹槽5及傾斜壁6，若達(dá)到一定深度即形成夾角70.52°(參閱圖7、8)。
5.經(jīng)蒸鍍上金屬導(dǎo)電層7(參閱圖9)。
6.再以電鑄方式形成鎳(Ni)膜層10并將硅基板1去除即形成電鑄模(參閱圖10)。
7.以電鑄模配合射出成型機(jī)射出具V形凹溝12的V形凹溝導(dǎo)光板11(參閱圖11)。
請(qǐng)參閱圖12，導(dǎo)光板亦可設(shè)計(jì)成具有點(diǎn)狀的V形凹槽9的V形凹槽導(dǎo)光板8。
參閱第圖13，為本發(fā)明導(dǎo)光板的應(yīng)用示意圖。
綜上所述，本發(fā)明其優(yōu)點(diǎn)為節(jié)省成本及制程簡(jiǎn)單、精密，可很快速且便宜制作出V形槽其夾角為70.52°，主要是應(yīng)用于液晶顯示器背光膜組上導(dǎo)光板的設(shè)計(jì)，如用于前光板與背光板，但其缺點(diǎn)為僅能制作此70.52°夾角V形槽而無(wú)其它角度，不過(guò)此角度已可運(yùn)用于導(dǎo)光板的V形槽光點(diǎn)且效果良好。
權(quán)利要求
1.一種導(dǎo)光板模具的制作方法，用100結(jié)晶方位(Orientation)的硅晶片基板在其上涂飾一層光阻，經(jīng)曝光顯影后利用濕蝕刻方式將硅片蝕刻出具有傾斜角54.74°凹形槽或夾角70.52°V形凹槽，再去除光阻，并于其表面鍍上金屬導(dǎo)電層，最后再利用電鑄方式制成模具并配合射出成型機(jī)射出成導(dǎo)光板成品。
2.如權(quán)利要求1所述的一種導(dǎo)光板的制作方法，其特征在于，其中平面硅基板上的凹形槽或V形槽可以使用條狀或點(diǎn)狀排列。
全文摘要
一種導(dǎo)光板模具的制作方法，用100結(jié)晶方位(Orientation)的硅晶片基板上涂布一層光阻，經(jīng)曝光顯影后利用濕蝕刻方式蝕刻出具有傾斜角54.74°傾斜壁的凹形槽或70.52°V形凹槽，然后除去光阻，再于其表面鍍上金屬導(dǎo)電層，最后再利用電鑄方式制成導(dǎo)光板模具并配合射出成型機(jī)射出成導(dǎo)光板成品，以此方法較傳統(tǒng)方法(以光阻或精密機(jī)械加工方式)的優(yōu)點(diǎn)為制程簡(jiǎn)單、精密、制作模具成本低。
文檔編號(hào)G02F1/13GK1453610SQ0211817
公開(kāi)日2003年11月5日 申請(qǐng)日期2002年4月23日 優(yōu)先權(quán)日2002年4月23日
發(fā)明者陳興 申請(qǐng)人:詮興開(kāi)發(fā)科技股份有限公司