專利名稱：電光學(xué)面板及其制造方法以及電光學(xué)裝置和電子機(jī)器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有標(biāo)記例如對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記工程管理標(biāo)記的電光學(xué)面板及其制造方法。另外，本發(fā)明涉及包括該電光學(xué)面板的電光學(xué)裝置。此外，本發(fā)明涉及包括該電光學(xué)裝置的電子機(jī)器。
顯示裝置作為便攜式機(jī)器、家庭、辦公室、工廠、汽車等的信息顯示終端已廣泛地使用。特別是，液晶顯示裝置具有薄型、輕量、低電壓、低電力消耗等的特征。近年來，根據(jù)進(jìn)一步降低電力消耗的要求，推薦采用反射型液晶裝置。反射型液晶裝置是設(shè)置反射層、將外部的入射光作為光源來利用的液晶裝置。該反射型液晶裝置具有液晶顯示面板。
下面，說明反射型液晶裝置用的液晶顯示面板。圖16是模式地表示液晶顯示面板的平面圖。
液晶顯示面板600具有第1基板610和第2基板620。
第1基板610與第2基板620相互相對(duì)。在液晶顯示面板600的指定的側(cè)緣部(在圖16中為下側(cè))，第1基板610配置為第1基板610的緣部比第2基板620的緣部向側(cè)方突出。即，第1基板610具有與第2基板620不重疊的部分(以下，稱為「第1基板突出部」)612。
另外，在與液晶顯示面板600的上述側(cè)緣部相鄰的側(cè)緣部(在圖16中為左側(cè))，第2基板620配置為第2基板620的緣部比第1基板610的緣部向側(cè)方突出。即，第2基板620具有與第1基板610不重疊的部分(以下，稱為「第2基板的突出部」)622。
在第1基板610的突出部612和第2基板620的突出部622的指定的位置，形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記670。
圖17是模式地表示沿圖16的B-B線的部分的剖面圖。
在第1基板610與第2基板620之間的周緣部分形成密封部件632。通過形成密封部件632，在第1基板610與第2基板620之間，保持指定的間隔(以下，稱為「單元間隙」)630。并且，在單元間隙630內(nèi)，封入液晶，形成液晶層634。
第2基板620側(cè)的第1基板610表面，構(gòu)成凹凸面614。之所以形成這樣的凹凸面614，是為了分散顯示光，擴(kuò)大視野角。并且，在凹凸面614之上，形成反射層640。反射層640的上面的形狀反映凹凸面的形狀，呈凹凸?fàn)?。在反射?40之上，形成由透明電極、取向膜等構(gòu)成的集層結(jié)構(gòu)(圖中未示出)。
在與第1基板610相反側(cè)的第2基板620的表面，形成相位差板684和偏振板686。在第1基板610側(cè)的第2基板620的表面，形成由透明電極、取向膜等構(gòu)成的集層結(jié)構(gòu)(圖中未示出)。
在第1基板610的突出部612的凹凸面614之上形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記670。圖18是將圖17的B的部分放大的模式圖。
如圖18所示，在凹凸面614之上形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記670時(shí)，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記670的上面674的形狀反映凹凸面614的形狀，呈凹凸?fàn)睢Ｔ趯?duì)準(zhǔn)標(biāo)記670的上面674的形狀為凹凸?fàn)畹臓顟B(tài)將例如第1基板610與撓性的配線基板(圖中未示出)組合定位時(shí)，將發(fā)生以下的問題。
該組合定位，是通過利用例如CCD攝像機(jī)(圖中未示出)檢測(cè)從光源(圖中未示出)發(fā)射出的光而進(jìn)行的。該光源和CCD攝像機(jī)設(shè)置在與對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記670相對(duì)的位置。對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記670的上面674的形狀為凹凸?fàn)畹臓顟B(tài)進(jìn)行組合定位時(shí)，如圖18所示，在對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記670的上面674上，光將發(fā)生散射，由CCD攝像機(jī)檢測(cè)的像將模糊不清。于是，就難于用CCD攝像機(jī)視認(rèn)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記670。因此，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記670用以上的結(jié)構(gòu)難于進(jìn)行組合定位。
本發(fā)明的目的旨在提供可以良好地進(jìn)行標(biāo)記的視認(rèn)的電光學(xué)面板及其制造方法。
本發(fā)明的其他目的旨在提供包括該電光學(xué)面板的電光學(xué)裝置和電子機(jī)器。
(電光學(xué)面板)本發(fā)明的電光學(xué)面板包括相對(duì)的第1基板和第2基板，上述第1基板具有通過該第1基板的緣部比上述第2基板的緣部向側(cè)方突出而形成的突出部，上述第2基板側(cè)的上述第1基板的表面構(gòu)成凹凸面，在上述突出部的上述凹凸面之上設(shè)置平坦化層，在上述平坦化層之上設(shè)置標(biāo)記。
這里，所謂上述標(biāo)記，就是指對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或管理標(biāo)記。
按照本發(fā)明的電光學(xué)面板，可以良好地進(jìn)行標(biāo)記的視認(rèn)。
下面，說明其理由。本發(fā)明的電光學(xué)面板，標(biāo)記在平坦化層之上形成。因此，在標(biāo)記的上面，可以抑制光的散射。結(jié)果，便可良好地進(jìn)行視認(rèn)。因此，按照本發(fā)明的電光學(xué)面板，與標(biāo)記在凹凸面的表面上形成的電光學(xué)面板相比，可以高精度地進(jìn)行例如該電光學(xué)面板與撓性的配線基板的對(duì)準(zhǔn)。
另外，本發(fā)明的電光學(xué)面板，在突出部之上形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。因此，本發(fā)明的電光學(xué)面板在連接用配線基板(例如撓性的配線基板)或驅(qū)動(dòng)器IC與該電光學(xué)面板的對(duì)準(zhǔn)時(shí)是特別有用的。
上述電光學(xué)面板極適合于作為液晶面板使用。另外，上述電光學(xué)面板特別適合于作為反射型液晶面板、半透過型液晶面板使用。
上述平坦化層的材質(zhì)，不特別限定，但是，最好使用光學(xué)特性與上述第1基板相近的材質(zhì)。這里，所謂光學(xué)特性，是指折射率。并且，所謂光學(xué)特性相近，是指折射率比較接近。作為該平坦化層的材質(zhì)，可以是丙烯?；⒕埘嗕@、聚酰胺、聚丙烯酰胺或聚對(duì)苯二甲酸乙二酯。
作為上述標(biāo)記的材質(zhì)，只要是可以進(jìn)行標(biāo)記的視認(rèn)的就行，不特別限定，例如，可以是以氧化銦錫、鋁、銀、鉻、鉭或鎳為主體的材質(zhì)。
電光學(xué)面板可以采用以下2個(gè)樣式中的任意1個(gè)樣式。
(1)第1，上述電光學(xué)面板進(jìn)而包含在上述第1基板之上形成的電極層，上述電極層和上述標(biāo)記可以用同一材質(zhì)構(gòu)成。通過電極層和標(biāo)記采用同一材質(zhì)，可以在同一工序中形成電極層和標(biāo)記。作為該材質(zhì)，可以是例如以氧化銦錫、鉭、鋁、銀、鉻或鎳為主體的材質(zhì)。
(2)上述電光學(xué)面板進(jìn)而包含在上述第1基板之上形成的反射層，上述反射層和上述標(biāo)記可以由同一材質(zhì)構(gòu)成。通過反射層和標(biāo)記采用同一材質(zhì)，可以在同一工序中形成反射層和標(biāo)記。作為該材質(zhì)，可以是以鋁、銀、鉻或鎳為主體的材質(zhì)。
此外，電光學(xué)面板還可以采用以下的樣式。
上述電光學(xué)面板進(jìn)而包含著色層和用于保護(hù)該著色層的保護(hù)層，上述平坦化層和上述保護(hù)層可以由同一材質(zhì)構(gòu)成。
該平坦化層和保護(hù)層通過采用同一材質(zhì)，可以在同一工序中形成平坦化層和反射層。
(電光學(xué)面板的制造方法)本發(fā)明的電光學(xué)面板可以利用例如以下的制造方法進(jìn)行制造。
該制造方法是包括相對(duì)的第1基板和第2基板并且上述第1基板具有通過該第1基板的緣部比上述第2基板的緣部向側(cè)方突出而形成的突出部而上述第2基板側(cè)的上述第1基板的表面構(gòu)成凹凸面的電光學(xué)面板的制造方法，包括以下的工序(a)～(b)。
(a)在上述突出部的上述凹凸面之上形成平坦化層的工序，和(b)在上述平坦化層之上形成標(biāo)記的工序。
這里，所謂上述標(biāo)記，是指對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或管理標(biāo)記。
按照該電光學(xué)面板的制造方法，由于在平坦化層之上形成標(biāo)記，所以，用簡(jiǎn)易的方法便可形成視認(rèn)良好的標(biāo)記。
利用該電光學(xué)面板的制造方法而得到的電光學(xué)面板的極好的使用例，和在電光學(xué)面板的項(xiàng)目中說明的相同。
另外，上述平坦化層和上述標(biāo)記的材質(zhì)也和在電光學(xué)面板的項(xiàng)目中說明的相同。
該電光學(xué)面板的制造方法可以采用以下2個(gè)樣式中的任意1個(gè)樣式。
(1)第1，是進(jìn)而在上述第1基板之上包含電極層的電光學(xué)面板的制造方法，是上述標(biāo)記和上述電極層在同一工序中形成的電光學(xué)面板的制造方法。這時(shí)，作為上述標(biāo)記和上述電極層的材質(zhì)，可以是以氧化銦錫、鉭、鋁、銀、鉻或鎳為主體的材質(zhì)。
(2)第2，是進(jìn)而在上述第1基板之上包含反射層的電光學(xué)面板的制造方法，是上述標(biāo)記和上述反射層在同一工序中形成的電光學(xué)面板的制造方法。這時(shí)，上述標(biāo)記和上述反射層的材質(zhì)可以是以鋁、銀、鉻或鎳為主體的材質(zhì)。
另外，該電光學(xué)面板的制造方法進(jìn)而可以采用以下的樣式。
即，是進(jìn)而包含在上述第1基板之上形成的著色層和用于保護(hù)該著色層的保護(hù)層的電光學(xué)面板的制造方法，是上述平坦化層和上述保護(hù)層在同一工序中形成的電光學(xué)面板的制造方法。
(電光學(xué)裝置)本發(fā)明的電光學(xué)裝置包含方案1～13的任一項(xiàng)所述的電光學(xué)面板。這些電光學(xué)裝置利用電光學(xué)面板的優(yōu)點(diǎn)，可以例如以很高的合格率進(jìn)行制造。
(電子機(jī)器)本發(fā)明的電子機(jī)器包含方案27所述的電光學(xué)裝置。該電子機(jī)器利用電光學(xué)裝置的優(yōu)點(diǎn)，可以例如以很高的合格率進(jìn)行制造。
圖1是模式地表示實(shí)施例1的液晶顯示面板的平面圖。
圖2是模式地表示沿圖1的A-A線的剖面的剖面圖。
圖3是將圖2的A的部分放大的模式圖。
圖4是模式地表示實(shí)施例1的第1面板的制造工序的剖面圖。
圖5是模式地表示實(shí)施例1的第1面板的制造工序的剖面圖。
圖6是模式地表示實(shí)施例1的第2面板的制造工序的剖面圖。
圖7是表示實(shí)施例2的液晶顯示面板的剖面的剖面模式圖。
圖8是模式地表示實(shí)施例2的第1面板的制造工序的剖面圖。
圖9是模式地表示實(shí)施例2的第2面板的制造工序的剖面圖。
圖10是表示實(shí)施例3的液晶顯示面板的剖面的剖面模式圖。
圖11是模式地表示實(shí)施例3的第1面板的制造工序的剖面圖。
圖12是模式地表示應(yīng)用本發(fā)明的電光學(xué)裝置的無源矩陣驅(qū)動(dòng)方式的液晶顯示裝置的平面圖。
圖13是表示應(yīng)用本發(fā)明的液晶顯示裝置的電子機(jī)器(數(shù)碼相機(jī))的外觀圖。
圖14是表示使用本發(fā)明的液晶顯示裝置的電子機(jī)器的外觀圖，(A)是手機(jī)，(B)是手表，(C)是便攜式信息機(jī)器。
圖15是模式地表示液晶顯示面板的變形例的一部分的部分切斷透視圖。
圖16是模式地表示先有例的液晶顯示面板的平面圖。
圖17是模式地表示沿圖16的B-B線的部分的剖面圖。
圖18是將圖17的B的部分放大的模式圖。
下面，參照


本發(fā)明的極佳的實(shí)施例。
(實(shí)施例1)下面，說明實(shí)施例1的液晶顯示面板(電光學(xué)面板)和液晶顯示面板的制造方法。先說明實(shí)施例1的液晶顯示面板。實(shí)施例1的液晶顯示面板是反射型液晶顯示面板。具體而言，就是實(shí)施例1的液晶顯示面板是無源矩陣驅(qū)動(dòng)方式的反射型液晶顯示裝置使用的反射型液晶顯示面板。
<平面結(jié)構(gòu)>
首先，說明液晶顯示面板的平面結(jié)構(gòu)。圖1是模式地表示實(shí)施例1的液晶顯示面板的平面圖。
液晶顯示面板100具有第1基板10和第2基板20。第1基板10與第2基板20相互相對(duì)配置。
在液晶顯示面板100的指定的側(cè)緣部(在圖1中為下側(cè))，第1基板10配置為第1基板10的緣部比第2基板20的緣部向側(cè)方突出。即，第1基板10具有與第2基板20不重疊的部分(以下，稱為「第1基板的突出部」)12。第1基板10的突出部12構(gòu)成為第1配線接合區(qū)域12a。
在第1基板10的突出部12，在指定的位置形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70。第1基板10的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70，形成于在第1基板10之上形成的平坦化層60之上。對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的平面形狀只要是可以視認(rèn)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的形狀就可以，不特別限定，例如可以是十字形(參見圖1)、L形、圓形、方形等。
另外，第2基板20配置為第2基板20的緣部比第1基板10的緣部向側(cè)方突出。即，第2基板20具有與第1基板10不重疊的部分(以下，稱為「第1基板的突出部」)22。第2基板20的突出部22構(gòu)成為第2配線接合區(qū)域22a。在第2基板20的突出部22，在指定的位置形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記74。
<剖面結(jié)構(gòu)>
其次，說明液晶顯示面板100的剖面結(jié)構(gòu)。圖2是模式地表示沿圖1的A-A線的剖面的剖面圖。
在第1基板10與第2基板20之間的周緣部分形成密封部件32。通過形成密封部件32，在第1基板10與第2基板20之間保持指定的間隔(以下，稱為「單元間隙」)30。并且，在單元間隙30內(nèi)，封入液晶，形成液晶層34。
在第1基板10的表面上，形成集層體。以下，將第1基板10和在第1基板10的表面上形成的集層體總稱為「第1面板16 」。另外，在第2基板20的表面上，也形成集層體。以下，將第2基板20和在第2基板20的表面上形成的集層體總稱為「第2面板26」。
下面，詳細(xì)說明第1面板16和第2面板26。
(第1面板)首先，詳細(xì)說明第1面板16。
第2基板20側(cè)的第1基板10的表面構(gòu)成為凹凸面14。該凹凸面14具有與后面所述的反射層相輔地使從第2基板20側(cè)入射的外光發(fā)生散射、擴(kuò)大視野角的功能。第1基板10是透明的，由例如玻璃基板等構(gòu)成。
在密封部件32的內(nèi)側(cè)(單元間隙30內(nèi))的凹凸面14之上，形成反射層40。反射層40的表面的形狀反映凹凸面14的形狀，呈凹凸?fàn)?。反射?0具有反射從第2基板20側(cè)入射的外光的功能。反射層40的材質(zhì)只要是能反射從第2基板20側(cè)入射的外光就可以，不特別限定，例如可以是以鋁、銀、鉻或鎳為主要成分的材質(zhì)。
在反射層40之上，形成具有指定的圖形的遮光層42。
遮光層42具有吸收顯示光的光的功能。作為遮光層42的材質(zhì)，可以是例如樹脂碳黑、多層鉻。
在反射層40和遮光層42之上，形成著色層44。著色層44由例如阿指定的圖形配置的3色的樹脂層即R(紅)、G(綠)、B(藍(lán))的樹脂層44R、44G、44B構(gòu)成。
在著色層44之上，形成保護(hù)層46。保護(hù)層46的表面是平坦化的表面。保護(hù)層46具有保護(hù)著色層44的功能。作為保護(hù)層46的材質(zhì)，不特別限定，但是，最好是光學(xué)特性與第1基板10的材質(zhì)相近的材質(zhì)。這里，所謂光學(xué)特性，是指折射率。作為光學(xué)特性與第1基板10相近的材質(zhì)，可以是例如丙烯酰基、聚酰亞銨、聚酰胺、聚丙烯酰胺或聚對(duì)苯二甲酸乙二酯。
在保護(hù)層46之上，形成密合性提高層48。密合性提高層48延伸到第1基板10的突出部12的中途。密合性提高層48具有提高保護(hù)層46和第1基板10與后面所述的第1電極層50的密合性的功能。
在密合性提高層48之上，形成第1電極層50。第1電極層50由多條構(gòu)成，沿指定的方向相互以指定間隔平行地配置(參見圖1)。第1電極層50起信號(hào)電極或掃描電極的功能。第1電極層50的材料只要是對(duì)入射光和反射光(顯示光)具有透明性的導(dǎo)電材料就可以，不特別限定，例如可以由ITO(Indium Tin Oxide)構(gòu)成。
在密封部件32的內(nèi)側(cè)(單元間隙30內(nèi))的第1電極層50之上，形成第1取向膜52。第1取向膜52是使液晶分子相對(duì)于第1基板10成為一定的取向狀態(tài)的膜。
下面，說明對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的結(jié)構(gòu)。對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的結(jié)構(gòu)是本實(shí)施例中的特征點(diǎn)之一。圖3是將圖2的A的部分放大的模式圖。
在第1基板10的突出部12(密封部件32的外側(cè))的第1基板10的凹凸面14的指定的位置，形成平坦化層60。平坦化層60的上面62是平坦的。作為平坦化層60的材質(zhì)，不特別限定，但是，最好是和保護(hù)層46相同的材質(zhì)。平坦化層60的材質(zhì)通過采用和保護(hù)層46相同的材質(zhì)，可以在同一工序中形成平坦化層60和保護(hù)層46。另外，平坦化層60的材質(zhì)最好是光學(xué)特性與第1基板10相近的材質(zhì)。平坦化層60的材質(zhì)通過采用光學(xué)特性和第1基板10相近的材質(zhì)，在光學(xué)上可以視為同一體，從而可以防止在平坦化層60與第1基板10的界面的光的反射和折射。
在該平坦化層60之上，形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70。對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的上面72是平坦面。這里，所謂平坦面，是指平坦化到可以可靠地進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的視認(rèn)的程度的面。作為對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的材質(zhì)，不特別限定，但是，最好是和第1電極層50相同的材質(zhì)。如果對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的材質(zhì)是和第1電極層50相同的材質(zhì)，就可以和第1電極層50在同一工序中形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70。
(第2面板)下面，詳細(xì)說明第2面板26。
在第1基板10側(cè)的第2基板20的表面，形成第2電極層80。第2基板20是透明的，由例如玻璃基板等構(gòu)成。第2電極層80由多條構(gòu)成，沿指定的方向相互以指定間隔平行地配置(參見圖1)。第2電極層80起信號(hào)電極或掃描電極的功能。第2電極層80的材料只要是對(duì)入射光和反射光(顯示光)具有透明性的導(dǎo)電材料就可以，不特別限定，例如可以由ITO(Indium Tin Oxide)構(gòu)成。在第1基板10上形成的第1電極層50與在第2基板20上形成的第2電極層80通過液晶層34相互正交。即，由第1電極層50和第2電極層80構(gòu)成所謂的X-Y矩陣。另外，形成用以覆蓋第2電極層80的第2取向膜82。第2取向膜82是使液晶分子相對(duì)于第2基板20成為一定的取向狀態(tài)的膜。
從與第1基板10相反側(cè)的第2基板20的表面開始順序配置相位差板84和偏振板86。
(特征點(diǎn)和作用效果)下面，說明本實(shí)施例的液晶顯示面板100的特征點(diǎn)和作用效果。在本實(shí)施例中，特征點(diǎn)如下(1)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的上面72是平坦面。因此，在對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的上面72上，可以抑制光的散射。結(jié)果，在例如進(jìn)行液晶顯示面板100與撓性配線基板的連接的對(duì)準(zhǔn)時(shí)，在光學(xué)上可以良好地進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的視認(rèn)。這里，所謂撓性配線基板，是為了向液晶顯示面板100輸入驅(qū)動(dòng)信號(hào)而與液晶顯示面板100連接的基板。因此，按照本實(shí)施例的液晶顯示面板100，與對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的上面是凹凸面的情況相比，可以高精度地進(jìn)行液晶顯示面板100與撓性配線基板的對(duì)準(zhǔn)。
另外，不限于液晶顯示面板100與撓性配線基板的對(duì)準(zhǔn)，在將驅(qū)動(dòng)用的半導(dǎo)體芯片直接裝配到液晶顯示面板100上時(shí)也一樣。
對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記也可以設(shè)置在第1基板10的突出部12上的裝配撓性配線基板或半導(dǎo)體芯片的區(qū)域以外。
(2)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70是在平坦化層60之上形成。這樣，利用后面所述的簡(jiǎn)便的方法，就可以在凹凸面之上使對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的上面72成為平坦面。
(3)在平坦化層60之上形成的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70設(shè)置在第1攪拌10的突出部12之上即密封部件32的外側(cè)。這樣，與在密封部件32的內(nèi)側(cè)(單元間隙30內(nèi))形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的情況相比，就可以避免例如對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70之上的媒體引起的光的吸收、折射、反射等。另外，由于形成于密封部件32的外側(cè)，所以，在進(jìn)行撓性配線基板或驅(qū)動(dòng)器IC與液晶顯示面板100的對(duì)準(zhǔn)時(shí)，特別有用。
另外，本實(shí)施例的液晶顯示面板100最好平坦化層60的材質(zhì)在光學(xué)特性方面是與第1攪拌10的材質(zhì)相近的材質(zhì)。這時(shí)，在光學(xué)上可以視為同一體，從而可以防止在平坦化層60與第1攪拌10的界面上光的反射、折射。
上述液晶顯示面板100可以采用例如以下方式進(jìn)行制造。下面，說明實(shí)施例1的液晶顯示面板100的制造方法。
液晶顯示面板100可以個(gè)別地制造第1面板16和第2面板26、將第1面板16與第2面板26相互貼合并將液晶封入其間而形成。下面，詳細(xì)說明本實(shí)施例的液晶顯示面板100的制造方法。
(第1面板的制造方法)下面，說明第1面板16的制造方法。圖4和圖5是模式地表示第1面板16的制造工序的剖面圖。
(1)凹凸面的形成首先，使用圖4(a)進(jìn)行說明。準(zhǔn)備由玻璃基板構(gòu)成的第1基板10。對(duì)該第1基板10的表面進(jìn)行凹凸處理，如圖4(b)所示的那樣，形成凹凸面14。凹凸處理是使用凹凸處理液按指定的時(shí)間和溫度處理第1基板10的表面而進(jìn)行的。凹凸處理液，是對(duì)第1基板10的表面的各微小的部分蝕刻速度不同的處理液。作為該凹凸處理液，可以是例如含有氫氟酸(例如30重量％)和氫氟化銨(例如45重量％)的水溶液。使用該凹凸處理液時(shí)，在25℃的溫度下，通過15秒鐘的處理，就可以使第1基板10的表面成為凹凸面14。
(2)反射層的形成其次，如圖4(c)所示，在凹凸面14之上，形成具有指定的圖形的反射層40。反射層40按例如以下的方式形成。在凹凸面14之上，形成具有反射性的層(圖中未示出)。作為具有反射性的層的材質(zhì)，只要是可以反射從第2基板20側(cè)入射的外光的材質(zhì)就可以，不特別限定，可以是例如以鋁、銀、鉻或鎳為主要成分的材質(zhì)。作為具有反射性的層的形成方法，可以是濺射法、真空蒸發(fā)法(例如CVD法)等。作為具有反射性的層的厚度，只要是能發(fā)揮反射層40的功能的程度就可以了，不特別限定，例如可以是0．1～0．2μm。利用光刻和蝕刻使具有反射性的層形成指定的圖形，從而形成反射層40。
(3)遮光層的形成其次，如圖4(d)所示，在反射層40之上，形成具有指定的圖形的遮光層42。遮光層42按例如以下的方式形成。在反射層40之上，形成具有遮光性的層(圖中未示出)。作為具有遮光性的層的材質(zhì)，只要是吸收入射光和反射光(顯示光)的材質(zhì)就可以，不特別限定，例如可以是樹脂碳黑、多層鉻。具有遮光性的層由樹脂碳黑構(gòu)成時(shí)，通過涂布將黑色染料、黑色顏料或碳黑分散到聚酰亞銨系樹脂或丙烯?；禈渲卸玫降臉渲?，便可形成具有遮先性的層。具有遮光性的層由多層鉻構(gòu)成時(shí)，通過利用濺射法而集層鉻和氧化鉻，便可形成具有遮光性的層。
作為具有遮光性的層的膜厚，只要是能發(fā)揮遮光層42的功能的程度就可以了，不特別限定，例如可以是0．1～0．2μm。利用光刻和蝕刻使具有遮光性的層形成知道的圖形，便形成遮光層42。
(4)著色層的形成其次，如圖5(a)所示，在反射層40和遮光層2之上，形成具有指定的圖形的著色層44。著色層44可以利用眾所周知的方法形成。著色層44由R、G、B的3色樹脂層44R、44G、44B構(gòu)成時(shí)，可以按例如以下的方式形成。涂布著色為紅色的著色感光性樹脂層(圖中未示出)。然后，利用光刻和蝕刻使該著色感光性樹脂層形成指定的圖形，形成紅色的樹脂層44R。并且，利用和紅色的樹脂層44R相同的方法，形成綠色的樹脂層44G和藍(lán)色的樹脂層44B。這樣，就形成了著色層44。紅、綠、藍(lán)的樹脂層44R、44G、44B的形成順序。不特別限定。
(5)保護(hù)層和平坦化層的形成其次，如圖5(b)所示，在著色層44之上形成保護(hù)層46，在第1基板10的突出部12之上形成平坦化層60。保護(hù)層46和平坦化層60形成為使它們的上面46a和62成為平坦面。保護(hù)層46和平坦化層60可以在同一工序中形成。例如，可以按以下的方式在同一工序中形成保護(hù)層46和平坦化層60。
在第1基板10之上，形成覆蓋層(圖中未示出)。覆蓋層的形成，使在著色層44的上方和第1基板10的突出部12的上方的覆蓋層的上面成為平坦面。作為覆蓋層的形成方法，不特別限定，可以是各種涂布方法，例如旋轉(zhuǎn)涂布法、滾動(dòng)涂布法和浸漬涂布法等。作為覆蓋層的材質(zhì)，不特別限定，但是，最好是光學(xué)特性與第1基板10相近的材質(zhì)。作為光學(xué)特性與第1基板10相近的材質(zhì)，可以是例如丙烯?；⒕埘嗕@、聚酰胺、聚丙烯酰胺或聚對(duì)苯二甲酸乙二酯。作為覆蓋層的厚度，只要是能發(fā)揮保護(hù)層46和平坦化層60的功能的程度就可以了，不特別限定，例如可以是1～3μm。利用光刻和蝕刻使該覆蓋層成為指定的圖形。這樣，就在著色層44之上形成了保護(hù)層46，并在第1基板10的突出部12之上形成了平坦化層60。
(6)密合性提高層的形成其次，如圖5(c)所示，在保護(hù)層46之上形成具有指定的圖形的密合性提高層48。密合性提高層48利用光刻和蝕刻形成指定的圖形。作為密合性提高層48的形成方法，可以是類旋轉(zhuǎn)涂布法。作為密合性提高層48的材質(zhì)，可以是例如丙烯?；Ｗ鳛槊芎闲蕴岣邔?8的膜厚，例如是0．01～0．03μm。
(7)第1電極層和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的形成其次，如圖5(c)所示，在密合性提高層48之上形成第1電極層50，在平坦化層60之上形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70。對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70形成為其上面72成為平坦面。第1電極層50和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70可以在同一工序中形成。例如，可以按以下方式在同一工序中形成第1電極層50和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70。
在第1基板10之上形成第1導(dǎo)電層(圖中未示出)。第1導(dǎo)電層的形成，是使平坦化層60的上方的第1導(dǎo)電層的上面成為平坦面。由于平坦化層60的上面62是平坦面，所以，可以很容易使第1導(dǎo)電層的上面成為平坦面。作為第1導(dǎo)電層的形成方法，可以是例如濺射法、真空蒸發(fā)法(例如CVD法)。作為第1導(dǎo)電層的材質(zhì)，只要是對(duì)入射光和反射光(顯示光)具有透明性的導(dǎo)電材料就可以，不特別限定，例如可以是ITO(Indium Tin Oxide)。作為第1導(dǎo)電層的膜厚，只要是能發(fā)揮第1電極層50和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的館的程度就可以，不特別限定，例如是0．1～0．2μm。然后，利用光刻和蝕刻使第1導(dǎo)電層形成指定的圖形。這樣，就在密合性提高層48之上形成了第1電極層50，并在平坦化層60之上形成了對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70。
(8)第1取向膜的形成其次，如圖5(d)所示，在第1電極層50之上形成第1取向膜52。第1取向膜52例如按以下方式形成。即，在第1基板10上，涂布聚酰亞銨樹脂，通過進(jìn)行200～300℃處理，形成第1取向膜52。然后，對(duì)該第1取向膜52的表面進(jìn)行摩擦處理。所謂摩擦處理，就是指為了形成用于使液晶分子沿一個(gè)方向排列的摩擦溝的處理。這樣，就完成了第1面板16。
(第2面板的制造方法)下面，說明第2面板26的制造方法。圖6是模式地表示第2面板26的制造工序的剖面圖。
首先，在第2基板20之上形成具有指定的圖形的第2電極層80。第2電極層80的形成，可以例如按以下方式形成。
在第2基板20之上形成第2導(dǎo)電層(圖中未示出)。第2導(dǎo)電層的形成方法、材質(zhì)、膜厚與上述第1導(dǎo)電層(第1電極層的形成)相同。然后，利用光刻和蝕刻使第2導(dǎo)電層形成指定的圖形。這樣，就形成了第2電極層80。另外，在進(jìn)行該工序時(shí)，根據(jù)需要形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(圖中未示出)。
其次，在第2基板20之上，形成第2取向膜82。第2取向膜82，按照和例如第1取向膜52相同的方法來形成。然后，對(duì)該第2取向膜82的表面進(jìn)行摩擦處理。
其次，在形成第2電極層80側(cè)的相反側(cè)的第2基板20的表面，順序配置相位差板84和偏振板86。
(面板的相互貼合和液晶封入)下面，參照?qǐng)D2說明第1面板16與第2面板26的相互貼合工序～液晶封入工序。
將第1面板16和第2面板26配置為第1面板16與第2面板26相對(duì)。該配置是為了使第1取向膜52和第2取向膜82相互一致。
其次，在第1基板10和第2基板20中的任一方通過印刷而形成密封部件32。然后，將第1基板10和第2基板20的位置相互對(duì)準(zhǔn)并加壓。并且，將液晶封入到單元間隙30內(nèi)。這樣，就形成了液晶顯示面板100。
(特征點(diǎn)和作用效果)下面，說明本實(shí)施例的液晶顯示面板100的制造方法的特征點(diǎn)和作用效果。在本實(shí)施例的液晶顯示面板100的制造方法中，特征點(diǎn)如下(1)第1，是在第1基板10的突出部12之上按以下方式形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70。即，形成平坦化層60，然后在該平坦化層60之上形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70。
通過在平坦化層60之上形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70，利用簡(jiǎn)易的方法便可使對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的上面72成為平坦面。
(2)第2，是在同一工序中形成保護(hù)層46和平坦化層60。這樣，與在不同的工序中形成保護(hù)層46和平坦化層60的情況相比，可以減少工序數(shù)。
(3)第3，是在同一工序中形成第1電極層50和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70。這樣，與在不同的工序中形成第1電極層50和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的情況相比，可以減少工序數(shù)。
(實(shí)施例2)下面，說明實(shí)施例2的液晶顯示面板和液晶顯示面板的制造方法。先說明實(shí)施例2的液晶顯示面板。
實(shí)施例2的液晶顯示面板(電光學(xué)面板)是反射型液晶顯示面板。具體而言，就是實(shí)施例2的液晶顯示面板是無源矩陣驅(qū)動(dòng)方式的反射型液晶顯示裝置使用的反射型液晶顯示面板。該液晶顯示面板的平面結(jié)構(gòu)和實(shí)施例1的液晶顯示面板100相同。因此，省略對(duì)實(shí)施例2的液晶顯示面板的平面結(jié)構(gòu)的說明。
圖7是表示本實(shí)施例的液晶顯示面板的剖面的剖面模式圖。
圖7的剖面模式圖是與沿圖1的A-A線的部分相當(dāng)?shù)谋緦?shí)施例的液晶顯示面板的部分的剖面模式圖。
實(shí)施例2的液晶顯示面板200在剖面結(jié)構(gòu)方面與實(shí)施例1不同。即，實(shí)施例2的液晶顯示面板200在第1面板116和第2面板126的層結(jié)構(gòu)方面與實(shí)施例1不同。更具體而言，就是實(shí)施例2的液晶顯示面板200在第2面板126內(nèi)形成遮光層142和著色層144方面與實(shí)施例1不同。除此以外，都和實(shí)施例1相同。因此，對(duì)于具有相同功能的部分標(biāo)以相同的符號(hào)，并省略詳細(xì)的說明。
下面，對(duì)實(shí)施例2的液晶顯示面板200的剖面結(jié)構(gòu)分為第1面板116和第2面板126進(jìn)行說明。
(第1面板)下面，詳細(xì)說明第1面板116。
第2基板20側(cè)的第1基板10的表面構(gòu)成凹凸面14。在密封部件32的內(nèi)側(cè)(單元間隙30內(nèi))的凹凸面14之上形成反射層40。在實(shí)施例2中，反射層40具有反射入射光的功能，同時(shí)也具有作為電極層的功能。反射層40的材質(zhì)只要是反射入射光并能起電極的功能的材質(zhì)就可以，不特別限定，可以是例如以鋁、銀、鉻或鎳為主要成分的材質(zhì)。在反射層40之上形成第1取向膜52。
其次，說明在實(shí)施例2中作為特征點(diǎn)之一的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的結(jié)構(gòu)。對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的結(jié)構(gòu)在對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的理想的材質(zhì)方面與實(shí)施例1不同。
即，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的材質(zhì)最好是與反射層40相同的材質(zhì)。如果對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70是和反射層40相同的材質(zhì)，就可以將對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70和反射層40在同一工序中形成。除此以外，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的結(jié)構(gòu)方面和實(shí)施例1實(shí)際上是相同的，所以，省略詳細(xì)的說明。
(第2面板)下面，詳細(xì)說明第2面板126。
在第1基板10側(cè)的第2基板20的表面，形成具有指定的圖形的遮光層142。在覆蓋遮光層142和第2基板20的表面的位置形成著色層144。著色層144由例如按指定的圖形配置的3色的樹脂層即R(紅)、G(綠)、B(藍(lán))的樹脂層144R、144G、144B構(gòu)成。在被覆著色層144的位置，形成保護(hù)層146。在保護(hù)層146和第2基板20的表面形成密合性提高層148。在密合性提高層148的表面形成具有指定的圖形的第2電極層80。并且，形成第2取向膜82用以覆蓋第2電極層80。
以上所說明的遮光層142～第2取向膜82的功能和材質(zhì)都和實(shí)施例1相同。
(特征點(diǎn)和作用效果)下面，說明實(shí)施例2的液晶顯示面板200的特征點(diǎn)和作用效果。
實(shí)施例2的液晶顯示面板200的特征點(diǎn)和作用效果與實(shí)施例1的特征點(diǎn)(1)～(3)相同。所以，省略其說明。
上述液晶顯示面板200可以例如按以下方式進(jìn)行制造。下面，說明實(shí)施例2的液晶顯示面板200的制造方法。
實(shí)施例2的液晶顯示面板200的制造方法在第1面板116和第2面板126的制造方法方面與實(shí)施例1不同。
下面，說明第1面板116和第2面板126的制造方法。
(第1面板的制造方法)首先，說明第1面板116的制造方法。圖8是模式地表示第1面板的制造工序的剖面圖。
(1)凹凸面的形成如圖8(a)所示，對(duì)第1基板10的表面進(jìn)行凹凸處理，形成凹凸面14。凹凸處理的方法可以和實(shí)施例1一樣進(jìn)行。
(2)平坦化層的形成其次，在第1基板10的突出部12的指定的位置形成平坦化層60。平坦化層60可以用和實(shí)施例1相同的方法形成。即，平坦化層60可以通過形成覆蓋層(圖中未示出)并使該覆蓋層形成指定的圖形而形成。
(3)反射層和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的形成其次，如圖8(b)所示，在凹凸面14上的指定位置形成反射層40，在平坦化層60之上形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70。對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70形成為其上面成為平坦面。反射層40和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70可以在同一工序中形成。例如，按以下方式將反射層40和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70在同一工序中形成。
在凹凸面14和平坦化層60之上形成具有反射性的層(圖中未示出)。作為具有反射性的層的材質(zhì)，只要是反射入射光的材質(zhì)就可以，不特別限定，例如，可以是以鋁、銀、鉻或鎳為主要成分的材質(zhì)。作為具有反射性的層的形成方法，可以是濺射法、真空蒸發(fā)法(例如CVD法)。作為具有反射性的層的厚度，只要是反射層40和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70能發(fā)揮其功能的程度就可以，不特別限定，例如是0．1～0．2μm。利用光刻和蝕刻使具有反射性的層形成指定圖形，從而形成反射層40和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70。
(4)第1取向膜的形成其次，如圖8(c)所示，在反射層40之上形成第1取向膜52。第1取向膜52可以采用和實(shí)施例1一樣的方法形成。這樣，就完成了第1面板116。
(第2面板的制造方法)下面，說明第2面板126的制造方法。圖9是模式地表示第2面板的制造工序的剖面圖。
如圖9(a)所示，在第2基板20之上形成具有指定的圖形的遮光層142。然后，如圖9(b)所示，在遮光層142之上形成具有指定的圖形的著色層144。其次，如圖9(c)所示，形成保護(hù)層146用以覆蓋著色層144。然后，如圖9(d)所示，在保護(hù)層146之上形成密合層148和第2電極層80。其次，如圖9(e)所示，在保護(hù)層146和第2電極層80之上形成第2取向膜82。然后，如圖9(f)所示，在形成第2取向膜82側(cè)的相反側(cè)的面上配置相位差板84和偏振板86。
以上的遮光層142～第2取向膜82都可以采用和實(shí)施例1一樣的方法形成。這樣，就完成了第2面板126。
(特征點(diǎn)和作用效果)下面，說明本實(shí)施例的液晶顯示面板200的制造方法的特征點(diǎn)和作用效果。在本實(shí)施例的液晶顯示面板200的制造方法中，特征點(diǎn)如下(1)第1，具有和實(shí)施例1的特征點(diǎn)(1)相同的特征點(diǎn)。因此，省略該特征點(diǎn)和作用效果的說明。
(2)第2，是將反射層40和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70在同一工序中形成。這樣，與將反射層40和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記用不同的工序形成的情況相比，可以減少工序數(shù)。
(實(shí)施例3)下面，說明實(shí)施例3的液晶顯示面板和液晶顯示面板的制造方法。先說明實(shí)施例3的液晶顯示面板。實(shí)施例3的液晶顯示面板(電光學(xué)面板)是半透過型液晶顯示面板。具體而言，就是實(shí)施例3的液晶顯示面板是無源矩陣驅(qū)動(dòng)方式的半透過型液晶顯示裝置使用的半透過形液晶顯示面板。該液晶顯示面板的平面結(jié)構(gòu)和實(shí)施例1的液晶顯示面板100一樣。因此，省略對(duì)實(shí)施例3的液晶顯示面板的平面結(jié)構(gòu)的說明。
圖10是表示本實(shí)施例的液晶顯示面板的剖面的剖面模式圖。圖10的剖面模式圖是與沿圖1的A-A線的成分相當(dāng)?shù)谋緦?shí)施例的液晶顯示面板的部分的剖面模式圖。
實(shí)施例3的液晶顯示面板300在剖面結(jié)構(gòu)方面與實(shí)施例1不同。具體而言，就是實(shí)施例3的液晶顯示面板300在第1面板216的層結(jié)構(gòu)方面與實(shí)施例1不同。除此以外的剖面結(jié)構(gòu)都和實(shí)施例1一樣。因此，對(duì)于具有相同功能的部分標(biāo)以相同的符號(hào)，并省略詳細(xì)的說明。
下面，說明第1面板216的結(jié)構(gòu)。
第1基板10的表面構(gòu)成為凹凸面14。在凹凸面14之上，形成具有指定的圖形的反射層240。即，反射層240在指定的位置開口。利用該反射層240，可以反射從第2基板20的上方(圖10的上側(cè))入射到單元間隙內(nèi)的光。另外，通過反射層240開口，可以使從第1基板10的下方(圖10的下側(cè))入射到第1基板10內(nèi)的光進(jìn)入到單元間隙30內(nèi)。在第1基板10和反射層240之上，形成著色層244。
著色層244由3色的樹脂層即R(紅)、G(綠)、B(藍(lán))的樹脂層244R、244G、244B構(gòu)成。該3色的樹脂層244R、244G、244B按指定的圖形進(jìn)行配置。并且，3色的樹脂層244R、244G、244B集層的部分(反射層240的之上的部分)，其遮光層242的功能。
用于著色層244之上的結(jié)構(gòu)和實(shí)施例1相同，所以，省略其說明。
在第1基板10的下面，順序配置相位差板284和偏振板286。
(特征點(diǎn)和作用效果)實(shí)施例3的液晶顯示面板300的特征點(diǎn)和作用效果與實(shí)施例1相同。因此，省略其說明。
上述液晶顯示面板300可以按例如以下方式進(jìn)行制造。
下面，說明實(shí)施例3的液晶顯示面板300的制造方法。
本實(shí)施例的液晶顯示面板300的制造方法在第1面板216的制造方法中與實(shí)施例1不同。第2面板26的制造工序和相互貼合及液晶封入工序與實(shí)施例1相同。因此，省略第2面板26的制造工序和相互貼合及液晶封入工序的說明。
(第1面板的制造方法)下面，說明第1面板216的制造方法。圖11是模式地表示第1面板216的制造工序的剖面圖。
(1)凹凸面的形成首先，使用圖11(a)進(jìn)行說明。對(duì)第1基板10的表面和實(shí)施例1一樣進(jìn)行凹凸處理，形成凹凸面14。
(2)反射層的形成其次，在凹凸面14之上形成具有指定的圖形的反射層240。
即，反射層240形成為在指定的位置開口。反射層240可以按例如以下的方式形成。在凹凸面之上形成具有反射性的層(圖中未示出)。利用光刻和蝕刻使具有反射性的層形成指定的圖形，從而形成具有指定的圖形的反射層240。具有反射性的層的材質(zhì)、形成方法和厚度都和實(shí)施例1一樣。
(3)著色層和遮光層的形成其次，如圖11(b)所示，在反射層240和凹凸面14之上同時(shí)形成著色層244和遮光層242。著色層244和遮光層242可以按以下方式同時(shí)形成。
先涂布著色為紅色的著色感光性樹脂層(圖中未示出)。然后，利用光刻和蝕刻使該著色感光性樹脂層形成指定的圖形，從而形成紅色的樹脂層244R。在使紅色的著色感光性樹脂層形成指定的圖形時(shí)，為了形成遮光層242，在反射層240上保留下了紅色的樹脂層244R。
其次，使用和紅色的樹脂層244R同樣的方法形成綠色的樹脂層244G。在綠色的樹脂層244G的形成中，還在反射層240之上具體而言就是紅色的樹脂層244R之上保留綠色的樹脂層244G。
其次，使用和紅色的樹脂層同樣的方法，形成藍(lán)色的樹脂層244B。在藍(lán)色的樹脂層244B的形成中，還在反射層240之上具體而言就是在綠色的樹脂層244G之上保留藍(lán)色的樹脂層244B。這樣，就形成了著色層244。另外，同時(shí)在反射層240之上集層紅色、綠色和藍(lán)色的樹脂層244R、244G、244B，形成遮光層242。
紅、綠和藍(lán)的樹脂層244R、244G、244B的形成順序，不特別限定。
其次，如圖11(d)所示，順序形成保護(hù)層46和第1取向膜50。保護(hù)層46～第1取向膜的形成，可以采用和實(shí)施例1同樣的方法形成。
(特征點(diǎn)和作用效果)下面，說明本實(shí)施例的液晶顯示面板300的制造方法的特征點(diǎn)和作用效果。本實(shí)施例的液晶顯示面板300的制造方法的特征點(diǎn)和作用效果與實(shí)施例1相同。因此，省略其說明。
(實(shí)施例4)下面，說明應(yīng)用本發(fā)明的液晶顯示面板的電光學(xué)裝置。在本實(shí)施例中，說明應(yīng)用本發(fā)明的電光學(xué)裝置的無源驅(qū)動(dòng)方式的液晶顯示裝置。
(液晶顯示裝置)圖12是模式地表示應(yīng)用板的電光學(xué)裝置的無源驅(qū)動(dòng)方式的液晶顯示裝置的平面圖。
本實(shí)施例的液晶顯示裝置400包括本發(fā)明的液晶顯示面板410、印刷電路板420和撓性配線基板430。液晶顯示面板410和印刷電路板420通過撓性配線基板430而電氣連接。
液晶顯示面板410具有第1基板10和第2基板20。第1基板10和第2基板20具有突出部12、22。驅(qū)動(dòng)器IC412、414裝配在第1基板10的突出部12和第2基板20的突出部22上。另外，液晶顯示面板410具有在第1基板10上形成的第1電極層50和在第2基板20上形成的第2電極層80。第1電極層50前信號(hào)電極的功能，第2電極層80前掃描電極的功能。
印刷電路板420具有驟了電源用IC等各種電子部件422的配線電路。
撓性配線基板430具有第1撓性配線基板432和第2撓性配線基板434。第1撓性配線基板432與第1基板10連接。具體而言，第1毛性配線基板432與第1基板10的突出部12(第1配線接合區(qū)域12a)連接。第2撓性配線基板434與第2基板20連接。具體而言，第2撓性配線基板434與第2基板20的突出部22(第2配線接合區(qū)域22a)連接。并且，第1和第2撓性配線基板432、434分別與印刷電路板420的指定的位置連接。
(液晶顯示面板與撓性配線基板的定位方法)下面，說明液晶顯示面板410與撓性配線基板430的定位方法。首先，說明液晶顯示面板410與第1撓性配線基板432的定位方法。
(1)將各向異性的導(dǎo)電薄膜(圖中未示出)粘貼到第1基板10的突出部12的指定的部分。
(2)將攝像機(jī)(圖中未示出)與對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70相對(duì)地配置到第1基板10的突出部12的上方或下方。作為攝像機(jī)，可以是例如CCD(Charge Coupled Device)攝像機(jī)。
(3)將撓性配線基板432相對(duì)于液晶顯示面板410移動(dòng)以使第1撓性配線基板432的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記432a與在第1基板10的突出部12上形成的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70重疊。該移動(dòng)通過借助于攝像機(jī)觀察著對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70、432a而進(jìn)行。另外，也可以通過目視觀察對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70和432a。
(4)將第1撓性配線基板432向第1基板10擠壓。
(5)將各向異性的導(dǎo)電薄膜硬化，從而將第1撓性配線基板432與第1基板10接合。
另外，采用和上述定位方法相同的方法，將液晶顯示面板410與第2撓性配線基板434相互定位。這樣，就完成了液晶顯示面板410與撓性配線基板430的相互定位。
(特征點(diǎn)和作用效果)
本實(shí)施例的液晶顯示裝置400應(yīng)用了本發(fā)明的液晶顯示面板410。因此，利用液晶顯示面板410的特征點(diǎn)(對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70的結(jié)構(gòu))的作用效果，可以很容易地進(jìn)行例如液晶顯示面板410與撓性配線基板432的定位。結(jié)果，與不應(yīng)用本發(fā)明的液晶顯示面板410的液晶顯示裝置相比，本實(shí)施例的液晶顯示裝置400可以簡(jiǎn)便地君制造。
(變形例)在本實(shí)施例中，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70應(yīng)用于液晶顯示面板410與第1撓性配線基板432的定位。但是，不限定于第1撓性配線基板432，例如，也可以應(yīng)用于液晶顯示面板410與驅(qū)動(dòng)器IC412的定位、液晶顯示面板100與偏振板的定位以及液晶顯示面板100與相位差板的定位等。
(實(shí)施例5)(電子機(jī)器)下面，說明作為本發(fā)明的電光學(xué)裝置而應(yīng)用液晶顯示裝置的電子機(jī)器。
(1)數(shù)碼相機(jī)下面，說明將本發(fā)明的液晶顯示裝置應(yīng)用于取景器的數(shù)碼相機(jī)。圖13是表示該數(shù)碼相機(jī)的結(jié)構(gòu)的透視圖，此外，也簡(jiǎn)易地表示出了與外部機(jī)器的連接。
通常的照相機(jī)是由被攝體的光像使膠片感光的，與此相反，數(shù)碼相機(jī)1200則是利用CCD等攝像元件將被攝體的光像進(jìn)行光電變換而生成攝像信號(hào)的。這里，在數(shù)碼相機(jī)1200的機(jī)身1202的背面(在圖13中為前面?zhèn)?設(shè)置液晶顯示裝置1000的液晶顯示面板，根據(jù)CCD的攝像信號(hào)進(jìn)行顯示。因此，液晶顯示裝置1000起顯示被攝體的取景器的功能。另外，在機(jī)身1202的前面?zhèn)?在圖13中為背面?zhèn)?設(shè)置包含賅透鏡及CCD等的受光單元1204。
這里，在攝影者確認(rèn)液晶顯示裝置1000所顯示的被攝體像后按下快門按鈕1206時(shí)，則該時(shí)刻的CCD的攝像信號(hào)就傳輸并存儲(chǔ)到電路基板1208的存儲(chǔ)器中。另外，該數(shù)碼相機(jī)1200還在機(jī)身1202的側(cè)面設(shè)置有視頻信號(hào)輸出端子1212和數(shù)據(jù)通信用的輸入輸出端子1214。并且，如圖13所示，根據(jù)需要電視監(jiān)視器1300還與前者的視頻信號(hào)輸出端子1212連接，另外，電腦1400與后者的數(shù)據(jù)通信用的輸入輸出端子1214連接。此外，通過指定的操作，電路基板1208的存儲(chǔ)器存儲(chǔ)的攝像信號(hào)向電視監(jiān)視器1300或電腦1400輸出。
(2)便攜電話及其他電子機(jī)器圖14(A)、(B)和(C)是表示作為本發(fā)明的電光學(xué)裝置而使用液晶顯示裝置的其他電子機(jī)器的例子的外觀圖。圖14(A)是便攜電話3000，在其前面的上方具有液晶顯示裝置1000。圖14(B)是手表4000，在本體的前面中央設(shè)置了使用液晶顯示裝置1000的顯示部。圖14(C)是便攜式信息機(jī)器5000，具有由液晶顯示裝置1000構(gòu)成的顯示部和輸入部5100。
這些電子機(jī)器除了液晶顯示裝置1000外，圖中雖然未示出，但是，還包括顯示信息輸出源、顯示信息處理電路、時(shí)鐘發(fā)生電路等各種電路和由向這些電路供給電力的電源電路等構(gòu)成的顯示信號(hào)生成部。
在顯示部上，例如在便攜式信息機(jī)器500的情況時(shí)通過供給根據(jù)從輸入部5100輸入的信息等而由顯示信號(hào)生成部生成的顯示信號(hào)形成顯示圖像。
作為組裝了本發(fā)明的液晶顯示裝置的電子機(jī)器，不限于數(shù)碼相機(jī)、便攜電話、手表和便攜式信息機(jī)器等，還可以考慮電子記事簿、呼機(jī)、POS終端、IC卡、迷你CD機(jī)、液晶投影儀、多媒體對(duì)應(yīng)的微電腦(PC)和工程技術(shù)工作站(EWS)、筆記本電腦、文字處理器、電視機(jī)、取景式或監(jiān)視直視型的電視攝象機(jī)、電子計(jì)算器、汽車駕駛員導(dǎo)向裝置、具有觸摸面板的裝置和鐘表等各種各樣的電子機(jī)器。
就驅(qū)動(dòng)方式而言，液晶顯示面板有板本身不使用開關(guān)元件的單純矩陣液晶顯示面板及靜態(tài)驅(qū)動(dòng)液晶顯示面板以及使用由TFT(薄膜晶體管)代表的三端子開關(guān)元件或由TFD(薄膜二極管)代表的二端子開關(guān)元件的有源矩陣液晶顯示面板，就電光學(xué)特性而言，可以使用TN型、STN型、賓主型、相轉(zhuǎn)移型、強(qiáng)介電性型等各種類型的液晶顯示面板。
(變形例)本發(fā)明的液晶顯示面板、電光學(xué)裝置和電子機(jī)器不限于上述結(jié)構(gòu)，在本發(fā)明的主旨的范圍內(nèi)可以進(jìn)行各種變更。
(液晶顯示面板的變形例)本發(fā)明的液晶顯示面板不限于上述實(shí)施例1～4所示的液晶顯示面板，可以是例如以下的變形。
實(shí)施例1～4的液晶顯示面板100、200、300是用于無源驅(qū)動(dòng)方式的液晶顯示裝置的液晶顯示面板。但是，本發(fā)明的液晶顯示面板也可以應(yīng)用于作為開關(guān)元件而使用TFD(Thin Film Diode)元件的有源矩陣驅(qū)動(dòng)方式的液晶顯示裝置。
下面，說明應(yīng)用于有源矩陣驅(qū)動(dòng)方式的液晶顯示裝置的液晶顯示面板。
圖15表示液晶顯示面板的變形例。在圖15中，對(duì)于實(shí)際上具有和圖1相同功能的部分標(biāo)以相同的符號(hào)，并省略其詳細(xì)的說明。
該液晶顯示面板1100的平面結(jié)構(gòu)與圖1的液晶顯示面板相同，所以，圖示了密封部件內(nèi)部的結(jié)構(gòu)。
液晶顯示面板500具有相互相對(duì)配置的第1基板10和第2基板20。在這些第1和第2基板10、20之間，圍繞顯示區(qū)域配置了密封部件(圖中未示出)。并且，在由這些第1和第2基板10、20和密封部件形成的區(qū)域，封入圖中未示出的液晶層。
另外，圖中雖然未示出，但是，第1基板10的第2基板20(液晶層)側(cè)的面構(gòu)成為凹凸面。另外，和實(shí)施例1一樣，在第1基板10上，圖中雖然未示出，從第1基板10側(cè)開始順序設(shè)置了反射層／著色層／保護(hù)層。并且，在其上配置了配置為矩陣狀的多個(gè)像素電極1034和在X方向延伸的信號(hào)電極50，同時(shí)，1列的像素電極1034分別通過TFD元件1020共同與1條信號(hào)電極50連接。像素電極1034由對(duì)入射光和反射光(顯示光)具有透明性的導(dǎo)電材料例如ITO(Indium Tim Oxide)形成。TFD元件1020從第1基板10側(cè)看時(shí)由第1金屬膜1022、將該第1金屬膜1022進(jìn)行陽極氧化處理的氧化膜1024和第2金屬膜1026構(gòu)成，采用金屬／絕緣體／金屬的夾層結(jié)構(gòu)。因此，TFD元件1020具有正負(fù)雙向的二極管開關(guān)特性。
另一方面，是第2基板20的面，在與第1基板10相對(duì)的一側(cè)的面配置多個(gè)掃描電極80。這些掃描電極80沿與信號(hào)電極50正交的指定的方向(在圖15中為Y方向)相互間隔指定的間隔平行地配置，并且成為像素電極1034的對(duì)向電極。著色層在圖15中雖然省略了圖示，但是，與掃描電極80和像素電極1034相互交叉的區(qū)域?qū)?yīng)地設(shè)置。
另外，雖然未圖示，但是，可以是以下的樣式。即，在具有凹凸面的基板上，從該基板側(cè)開始順序形成反射層／著色層／保護(hù)層／片狀電極(例如ITO)。并且，在對(duì)向的基板上(外部的光入射的一側(cè)的基板)，也可以形成像素電極和TFD元件。
(其他變形例)在上述實(shí)施例中，作為在平坦化層上形成的標(biāo)記，給出了對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的例子。但是，在平坦化層上形成的標(biāo)記不限于對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，也可以是工程管理標(biāo)記。作為工程管理標(biāo)記，可以是例如數(shù)值化的、條碼化的2維條碼圖形化(刪除代碼)。
在上述實(shí)施例中，在撓性配線基板或驅(qū)動(dòng)器IC與液晶顯示面板的定位中使用對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。但是，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記也可以應(yīng)用于面板組裝、面板裁斷等。
在上述實(shí)施例中，是在平坦化層上直接形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。但是，也可以在對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與平坦化層之間插入密合性提高層。
權(quán)利要求
1．一種電光學(xué)面板，其特征在于包含相對(duì)的第1基板和第2基板，上述第1基板具有通過該第1基板的緣部比上述第2基板的緣部向側(cè)方突出而形成的突出部，上述第2基板側(cè)的上述第1基板的表面構(gòu)成為凹凸面，在上述突出部的上述凹凸面之上設(shè)置平坦化層，在上述平坦化層之上設(shè)置標(biāo)記。
2．按權(quán)利要求1所述的電光學(xué)面板，其特征在于上述標(biāo)記是對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或工程管理標(biāo)記。
3．按權(quán)利要求1或2所述的電光學(xué)面板，其特征在于上述電光學(xué)面板是液晶面板。
4．按權(quán)利要求3所述的電光學(xué)面板，其特征在于上述液晶面板是反射型液晶面板。
5．按權(quán)利要求3所述的電光學(xué)面板，其特征在于上述液晶面板是半透過型液晶面板。
6．按權(quán)利要求1～5的任一權(quán)項(xiàng)所述的電光學(xué)面板，其特征在于上述平坦化層的材質(zhì)由光學(xué)特性與上述第1基板相近的材質(zhì)構(gòu)成。
7．按權(quán)利要求6所述的電光學(xué)面板，其特征在于上述平坦化層的材質(zhì)是丙烯?；?、聚酰亞銨、聚酰胺、聚丙烯酰胺或聚對(duì)苯二甲酸乙二酯。
8．按權(quán)利要求1～7的任一權(quán)項(xiàng)所述的電光學(xué)面板，其特征在于上述標(biāo)記的材質(zhì)是以氧化銦錫、鋁、銀、鉻、鉭或鎳為主體的材質(zhì)。
9．按權(quán)利要求1～7的任一權(quán)項(xiàng)所述的電光學(xué)面板，其特征在于上述電光學(xué)面板進(jìn)而包含在上述第1基板之上形成的電極層，上述電極層和上述標(biāo)記由同一種材質(zhì)構(gòu)成。
10．按權(quán)利要求9所述的電光學(xué)面板，其特征在于上述電極層和上述標(biāo)記的材質(zhì)是以氧化銦錫、鉭、鋁、銀、鉻或鎳為主體的材質(zhì)。
11．按權(quán)利要求1～7的任一權(quán)項(xiàng)所述的電光學(xué)面板，其特征在于上述電光學(xué)面板進(jìn)而包含在上述第1基板上形成的反射層，上述反射層和上述標(biāo)記由同一種材質(zhì)構(gòu)成。
12．按權(quán)利要求11所述的電光學(xué)面板，其特征在于上述反射層和上述標(biāo)記的材質(zhì)是以鋁、銀、鉻或鎳為主體的材質(zhì)。
13．按權(quán)利要求1～12的任一權(quán)項(xiàng)所述的電光學(xué)面板，其特征在于上述電光學(xué)面板進(jìn)而包含著色層和用于保護(hù)該著色層的保護(hù)層，上述平坦化層和上述保護(hù)層由同一種材質(zhì)構(gòu)成。
14．一種包含相對(duì)的第1基板和第2基板、而上述第1基板具有通過該第1基板的緣部比上述第2基板的緣部向側(cè)方突出而形成的突出部并且上述第2基板側(cè)的上述第1基板的表面構(gòu)成為凹凸面的電光學(xué)面板的制造方法，其特征在于包括以下的工序(a)在上述突出部的上述凹凸面之上形成平坦化層的工序，(b)在上述平坦化層之上形成標(biāo)記的工序。
15．按權(quán)利要求14所述的電光學(xué)面板的制造方法，其特征在于上述標(biāo)記是對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或工程管理標(biāo)記。
16．按權(quán)利要求14或15所述的電光學(xué)面板的制造方法，其特征在于上述電光學(xué)面板是液晶面板。
17．按權(quán)利要求16所述的電光學(xué)面板的制造方法，其特征在于上述液晶面板是反射型液晶面板。
18．按權(quán)利要求16所述的電光學(xué)面板的制造方法，其特征在于上述液晶面板是半透過型液晶面板。
19．按權(quán)利要求14～18的任一權(quán)項(xiàng)所述的電光學(xué)面板的制造方法，其特征在于上述平坦化層的材質(zhì)由光學(xué)特性與上述第1基板相近的材質(zhì)構(gòu)成。
20．按權(quán)利要求19所述的電光學(xué)面板的制造方法，其特征在于上述平坦化層的材質(zhì)是丙烯?；?、聚酰亞銨、聚酰胺、聚丙烯酰胺或聚對(duì)苯二甲酸乙二酯。
21．按權(quán)利要求14～20的任一權(quán)項(xiàng)所述的電光學(xué)面板的制造方法，其特征在于上述標(biāo)記的材質(zhì)是以氧化銦錫、鋁、銀、鉻、鉭或鎳為主體的材質(zhì)。
22．按權(quán)利要求14～20的任一權(quán)項(xiàng)所述的電光學(xué)面板的制造方法，其特征在于是進(jìn)而包含在上述第1基板之上形成的電極層的電光學(xué)面板的制造方法，上述標(biāo)記和上述電極層在同一工序中形成。
23．按權(quán)利要求22所述的電光學(xué)面板的制造方法，其特征在于上述標(biāo)記和上述電極層的材質(zhì)是以氧化銦錫、鋁、銀、鉻、鉭或鎳為主體的材質(zhì)。
24．按權(quán)利要求14～20的任一權(quán)項(xiàng)所述的電光學(xué)面板的制造方法，其特征在于是進(jìn)而在上述第1基板之上包含反射層的電光學(xué)面板的制造方法，上述標(biāo)記和上述反射層在同一工序中形成。
25．按權(quán)利要求24所述的電光學(xué)面板的制造方法，其特征在于上述標(biāo)記和上述反射層的材質(zhì)是以氧化銦錫、鋁、銀、鉻、鉭或鎳為主體的材質(zhì)。
26．按權(quán)利要求14～25的任一權(quán)項(xiàng)所述的電光學(xué)面板的制造方法，其特征在于是進(jìn)而包含在上述第1基板之上形成的著色層和用于保護(hù)該著色層的保護(hù)層的電光學(xué)面板的制造方法，上述平坦化層和上述保護(hù)層在同一工序中形成。
27．一種包含權(quán)利要求1～13的任一權(quán)項(xiàng)所述的電光學(xué)面板的電光學(xué)裝置。
28．一種包含權(quán)利要求27所述的電光學(xué)裝置的電子機(jī)器。
全文摘要
提供可以良好地進(jìn)行標(biāo)記的視認(rèn)的電光學(xué)面板及其制造方法和電光學(xué)裝置和電子機(jī)器。電光學(xué)面板100包括相對(duì)的第1基板10和第2基板20。第1基板具有通過10的緣部比第2基板的緣部向側(cè)方突出而形成的突出部12。第2基板側(cè)的第1基板的表面構(gòu)成為凹凸面14。在第1基板的突出部12的凹凸面14之上形成平坦化層60,在平坦化層之上形成標(biāo)記(對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記70)。電光學(xué)裝置包含電光學(xué)面板。電子機(jī)器包含電光學(xué)裝置。
文檔編號(hào)G02F1/1335GK1295314SQ0013370
公開日2001年5月16日 申請(qǐng)日期2000年10月30日 優(yōu)先權(quán)日1999年10月29日
發(fā)明者有賀泰人 申請(qǐng)人:精工愛普生株式會(huì)社