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一種立柜的制作方法

文檔序號(hào):2660145閱讀:272來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:一種立柜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種立柜,尤其是一種柜體上端設(shè)置有用于安置雕刻機(jī)的凹槽的一種立柜。
背景技術(shù)
隨著不可再生資源的日漸匱乏,立柜生產(chǎn)材料的價(jià)格越來(lái)越高,導(dǎo)致生產(chǎn)成本越來(lái)越高,如何在保持原有強(qiáng)度的同時(shí)能夠降低生產(chǎn)成本一直是一個(gè)難題,而且現(xiàn)有的雕刻機(jī)部件都赤裸裸地設(shè)置在立柜的表面上,在雕刻過(guò)程中震動(dòng)非常劇烈,很容易導(dǎo)致雕刻機(jī)上時(shí)間時(shí)候之后位置移動(dòng),不僅會(huì)導(dǎo)致雕刻精度,而且嚴(yán)重的甚至?xí)鋵?dǎo)致?lián)p壞,非常麻煩。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是:為解決上述存在的問(wèn)題,提供一種立柜,解決普通立柜生產(chǎn)成本高,無(wú)法固定雕刻機(jī)的問(wèn)題。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:一種立柜,包括中空結(jié)構(gòu)柜體,柜體前壁和后壁均開(kāi)設(shè)有開(kāi)口,開(kāi)口端設(shè)置有支撐架,柜體上表面設(shè)置有用于安置雕刻機(jī)的凹槽。為了生銹,柜體外表面涂覆有抗氧化層。為了保護(hù)立柜底面,柜體底端設(shè)置有至少一個(gè)支撐腳。本實(shí)用新型的有益效果是,本實(shí)用新型的一種立柜上設(shè)置有凹槽,從而使立柜可以固定雕刻機(jī)。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。


圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中1.柜體,2.支撐架,3.凹槽,4.支撐腳。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)在結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。這些附圖均為簡(jiǎn)化的示意圖,僅以示意方式說(shuō)明本實(shí)用新型的基本結(jié)構(gòu),因此其僅顯示與本實(shí)用新型有關(guān)的構(gòu)成。如
圖1所示的一種立柜,包括中空結(jié)構(gòu)柜體1,柜體I前壁和后壁均開(kāi)設(shè)有開(kāi)口,開(kāi)口端設(shè)置有支撐架2,柜體I上表面設(shè)置有用于安置雕刻機(jī)的凹槽3。為了生銹,柜體I外表面涂覆有抗氧化層。為了保護(hù)立柜底面,柜體I底端設(shè)置有至少一個(gè)支撐腳4。以上述依據(jù)本實(shí)用新型的理想實(shí)施例為啟示,通過(guò)上述的說(shuō)明內(nèi)容,相關(guān)工作人員完全可以在不偏離本項(xiàng)實(shí)用新型技術(shù)思想的范圍內(nèi),進(jìn)行多樣的變更以及修改。本項(xiàng)實(shí)用新型的技術(shù)性范圍并不局限于說(shuō)明書(shū)上的內(nèi)容,必須要根據(jù)權(quán)利要求范圍來(lái)確定其技術(shù)性范圍。
權(quán)利要求1.一種立柜,包括中空結(jié)構(gòu)柜體(I ),其特征是:所述的柜體(I)前壁和后壁均開(kāi)設(shè)有開(kāi)口,所述的開(kāi)口端設(shè)置有支撐架(2),所述的柜體(I)上表面設(shè)置有用于安置雕刻機(jī)的凹槽(3)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種立柜,其特征是:所述的柜體(I)外表面涂覆有抗氧化層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種立柜,其特征是:所述的柜體(I)底端設(shè)置有至少一個(gè)支撐腳(4)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種立柜,尤其是一種柜體上端設(shè)置有用于安置雕刻機(jī)的凹槽的一種立柜,包括中空結(jié)構(gòu)柜體,柜體前壁和后壁均開(kāi)設(shè)有開(kāi)口,開(kāi)口端設(shè)置有支撐架,柜體上表面設(shè)置有用于安置雕刻機(jī)的凹槽,柜體外表面涂覆有抗氧化層,柜體底端設(shè)置有至少一個(gè)支撐腳。本實(shí)用新型的一種立柜上設(shè)置有凹槽,從而使立柜可以固定雕刻機(jī)。
文檔編號(hào)B44B1/06GK202935062SQ20122053792
公開(kāi)日2013年5月15日 申請(qǐng)日期2012年10月19日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月19日
發(fā)明者惲建軍 申請(qǐng)人:惲建軍
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