專利名稱：滾花裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種機械領(lǐng)域，尤其涉及一種滾花裝置。
背景技術(shù)：
物理氣相沉積(PVD,Physical Vapor Deposition)是電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片，氬離子在電場的作用下加速轟擊濺射基臺上的靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶材原子(或分子)沉積在基片上成膜，而最終達到對基片表面鍍膜的目的。圖1為物理氣相沉積中離子金屬等離子體設(shè)備示意圖。參照圖1所示，設(shè)備110是離子金屬等離子體αΜΡ)設(shè)備，其包括具有側(cè)壁114的腔室112，腔室112通常是高真空室。靶材10被設(shè)置在腔室的上部區(qū)域中，且基板118被設(shè)置在腔室的下部區(qū)域中?；?18被保持在保持器120上，所述保持器通常包括靜電卡盤。靶材10將通過適當?shù)闹С袠?gòu)件(未示出)被保持，所述支承構(gòu)件可包括動力源。可設(shè)置上部罩(未示出)以罩住靶材10的邊緣。靶材10的材料可包括例如招、鎘、鈷、銅、金、銦、鑰、鎳、銀、鈕、鉬、錸、釕、銀、錫、鉭、鈦、鶴、釩和鋅中的一種或多種。這些元素可以以元素、化合物或合金的形式存在?；?18可包括例如半導(dǎo)體晶片，例如單晶硅晶片。濺射材料從靶材10的表面中濺射出來且被導(dǎo)向基板118。濺射材料122由箭頭表示。通常情況下，聚焦線圈100被設(shè)置在腔室112內(nèi)，聚焦線圈可改進濺射材料122的取向，且引導(dǎo)濺射材料與基板118的上表面相對正交，以提高濺射過程中所形成薄膜的均勻性。聚焦線圈100通過銷128被保持在腔室112內(nèi)，所述銷128延伸通過聚焦線圈100的側(cè)壁且還通過腔室112的側(cè)壁114。銷128通過固定螺絲(未標號)被保持處于所示構(gòu)型。圖1示出了沿聚焦線圈100內(nèi)表面的銷128的頭部132和沿室側(cè)壁114的外表面的另一頭部 130。隔件140 (通常被稱作隔套)環(huán)繞銷128延伸且被用以使聚焦線圈100與側(cè)壁114隔開。在公開號為CN101545093A (
公開日:2009年9月30日)的中國專利文獻中還能發(fā)現(xiàn)更多的聚焦線圈的信息。在濺射過程中，會有一些濺射材料原子聚集在聚焦線圈100上面，如果聚焦線圈100表面光滑，成片的濺射材料原子會掉落至基板118上從而嚴重影響薄膜質(zhì)量，因此，需要將聚焦線圈表面粗糙化，從而使得聚集在聚焦線圈100上面的濺射材料原子都附著在聚焦線圈表面，防止其掉落至基板118上。但是，現(xiàn)有技術(shù)中將聚焦線圈表面粗糙化后，在使用聚焦線圈的過程中，仍會出現(xiàn)下列情況:(1)附著在聚焦線圈表面的部分濺射材料原子掉落至基板上，從而影響成膜質(zhì)量；另外還會出現(xiàn)(2)聚焦線圈的使用壽命較短
實用新型內(nèi)容
[0011]本實用新型解決的問題是將聚焦線圈表面粗糙化后，在使用聚焦線圈的過程中，仍會出現(xiàn)附著在聚焦線圈表面的部分濺射材料原子掉落至基板上，從而影響成膜質(zhì)量的問題。而且，聚焦線圈的使用壽命較短。為解決上述問題，本實用新型提供了一種液壓滾花附加裝置，包括:液壓裝置和滾花刀架；所述液壓裝置包括:液缸，位于所述液缸外的第一活塞、位于所述液缸內(nèi)的第二活塞、連接第一活塞和第二活塞的活塞桿；在滾花裝置工作時所述第一活塞推抵所述滾花刀架?？蛇x的，所述液壓裝置還包括:底座，用于將所述液壓裝置與所述滾花裝置連接；所述液缸設(shè)置在所述底座上，所述第二活塞將所述液缸分為第一腔室和第二腔室，所述液缸設(shè)置有位于第一腔室側(cè)的第一輸液口、位于第二腔室側(cè)的第二輸液口 ；輸液泵，包括泵體和儲液箱；所述泵體用于提供所述液壓裝置的輸液動力，所述儲液箱用于存儲所述液壓裝置用液，所述儲液箱設(shè)置有進液口和出液口；所述進液口和所述第一輸液口通過輸液管連通，所述出液口和所述第二輸液口通過輸液管連通。可選的，還包括控制開關(guān)，用于控制所述泵體的工作?？蛇x的，所述液壓裝置還包括電磁閥和控制開關(guān)，所述控制開關(guān)用來控制所述泵體、電磁閥的工作；所述電磁閥用于控制液壓裝置中液體的流向?？蛇x的，所述電磁閥設(shè)有電磁閥腔體，所述電磁閥腔體內(nèi)部設(shè)有控制閥體；所述電磁閥腔體具有第一排液孔、第二排液孔、第三排液孔和第四排液孔；所述第一排液孔和所述第一輸液口通過輸液管連通，所述第二排液孔和所述第二輸液口通過輸液管連通，所述第三排液孔和所述進液口通過輸液管連通，所述第四排液孔和所述出液口通過輸液管連通；在控制開關(guān)的控制下所述控制閥體用于開啟或關(guān)閉所述第一排液孔、第二排液孔、第三排液孔、第四排液孔?？蛇x的，所述第一活塞與所述滾花刀架接觸的表面平整?？蛇x的，所述底座為正方體、長方體或者圓柱體?？蛇x的，所述底座與所述滾花裝置為螺連、插連、綁連或焊接?？蛇x的，所述滾花裝置還包括:絲桿，工作時所述絲桿和所述第一活塞共同推抵所述滾花刀架。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點:采用本實用新型的滾花裝置，當一個滾花工序開始啟動時，滾花裝置上的液壓裝置中的第二活塞移動至第一活塞推抵滾花刀架時停止，并且第一活塞對滾花刀架施加一定的壓力，該壓力等于液缸中的液體對第二活塞產(chǎn)生方向朝向第一活塞的壓力，從而彌補現(xiàn)有的滾花裝置對滾花刀架提供的滾花壓力逐漸減小的缺陷，以使聚焦線圈表面的滾花圖案均勻，從而，在濺射過程中，使得附著在聚焦線圈表面的部分濺射材料原子不會掉落至基板上，可以提高成膜質(zhì)量。另外，還可以增加聚焦線圈的使用壽命。更進一步的，本實用新型的滾花裝置上的液壓裝置還設(shè)置電磁閥和控制開關(guān)，所述控制開關(guān)用來控制所述泵體、電磁閥的工作，所述電磁閥用于控制液壓裝置中液體的流向。使得滾花裝置更加自動化，并且使得滾花裝置操作起來更加方便。

圖1為物理氣相沉積中離子金屬等離子體設(shè)備示意圖；圖2是本實用新型的第一實施例的滾花裝置的俯視圖；圖3是本實用新型的第一實施例的液壓裝置的示意圖；圖4是本實用新型的第二實施例的液壓裝置的示意圖。
具體實施方式
發(fā)明人經(jīng)過認真的研究和分析發(fā)現(xiàn)，出現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中的(I) (2)兩個問題的原因為:現(xiàn)有技術(shù)中，通常采用滾花工藝對聚焦線圈表面進行粗糙化，請參考圖2，具體是將聚焦線圈100安裝在滾花機床400的主軸401上，由滾花機床400上的絲桿結(jié)構(gòu)402帶動滾花刀架405上的滾花刀403，滾花刀403的刀頭404抵住聚焦線圈100的表面來進行滾花操作的。滾花機床400上的絲桿結(jié)構(gòu)402包括帶有螺紋的絲桿406和套在所述絲桿上的螺母(圖未示)，螺母內(nèi)表面也設(shè)有與絲桿螺紋相匹配的螺紋，隨著螺母與所述絲桿之間的配合來對滾花刀架提供滾花壓力，同時對所述滾花刀架405上的滾花刀403提供壓力。隨著使用時間的增加，絲桿406與螺母之間螺紋會出現(xiàn)磨損，從而使得絲桿406與螺母之間產(chǎn)生松動現(xiàn)象，并且所述松動程度越來越大，使得絲桿406與螺母之間的配合緊密度越來越低，從而使得絲桿結(jié)構(gòu)402對滾花刀架405提供的滾花壓力逐漸減小，聚焦線圈100表面的滾花花紋的深度越來越淺，滾花圖案不均勻，一些位置的滾花圖案深度深，一些位置的滾花圖案深度淺。滾花圖案淺的位置處對于濺射材料原子的吸附力減小，容易出現(xiàn)掉落現(xiàn)象。因此，在濺射過程中，使用上述滾花圖案不均勻的聚焦線圈100來改進濺射材料的取向時，會產(chǎn)生附著在聚焦線圈100表面的部分濺射材料原子掉落至基板上的現(xiàn)象，從而影響成膜質(zhì)量。在濺射過程中，一旦出現(xiàn)濺射材料原子掉落至基板上的現(xiàn)象，就會將聚焦線圈100直接報廢，因此聚焦線圈的使用壽命較短。為此，發(fā)明人經(jīng)過創(chuàng)造性勞動，獲得了一種滾花裝置，包括液壓裝置和滾花刀架，所述液壓裝置包括設(shè)置液缸、設(shè)置在所述液缸里面的第二活塞、設(shè)置在所述液缸外面的第一活塞、連接所述第一活塞與第二活塞的活塞桿。在滾花裝置工作時所述第一活塞推抵所述滾花刀架。從而彌補滾花壓力逐漸減小的缺陷，以使聚焦線圈表面的滾花圖案均勻。
以下結(jié)合附圖對本實用新型的具體實施方式
做詳細的說明。由于本實用新型重在解釋原理，因此，未按比例制圖。并且，圖中各個部件僅起示意作用，并不對本實用新型中各個部件的結(jié)構(gòu)起到限定作用。實施例一圖2是本實用新型的第一實施例的滾花裝置的俯視圖。圖3是本實用新型的第一實施例的液壓裝置的示意圖。請結(jié)合參考圖2和圖3，滾花裝置200包括液壓裝置300和滾花機床400上的滾花刀架405，所述液壓裝置300包括:底座310、液缸320和輸液泵340。其中，底座310，設(shè)置在滾花機床400上，用于將所述液壓裝置300與所述滾花裝置200連接，具體的說底座連接在滾花機床400上。本實施例中，底座310為長方體。底座310上設(shè)有若干螺孔，用若干相對應(yīng)的螺釘擰入所述螺孔以實現(xiàn)底座310與滾花機床400螺連的連接方式，使得底座310上的液壓裝置300在工作時不會出現(xiàn)晃動。在其它實施例中，底座310與滾花機床400的連接方式還可以為插連、綁連或焊接。所述插連為:在底座310上設(shè)置類似插頭裝置，所述類似插頭裝置與滾花機床400的相應(yīng)位置上的插孔相連，所述插孔形狀與類似插頭形狀相對應(yīng)。所述綁連為將底座310與滾花機床400進行捆綁而實現(xiàn)的底座與滾花機床的連接。在其它實施例中，底座310還可以為正方體、圓柱體或其它規(guī)則或不規(guī)則的形狀體，只要能夠起到將所述液壓裝置300與所述滾花機床400連接的作用即可。液缸320，設(shè)置在所述底座310上，與所述底座310可以采用螺連、插連、綁連或焊接等連接方式，以使底座上的液缸320在工作時也不會產(chǎn)生晃動。本實施例中，液缸320為空心圓筒形狀，液缸320水平放置，S卩，所述液缸320的中心對稱軸與水平面平行。液缸320包括位于液缸外的第一活塞331、位于所述液缸內(nèi)的第二活塞332、連接第一活塞和第二活塞的活塞桿333。所述第二活塞將所述液缸分為第一腔室325和第二腔室326，所述液缸設(shè)置有位于第一腔室325側(cè)的第一輸液口 323、位于第二腔室326側(cè)的第二輸液口 324。在其它實施例中，所述液缸還可以為空心的長方體形狀、空心的正方體形狀、空心的三角形形狀或其它規(guī)則或不規(guī)則的空心形狀等。在后續(xù)液壓裝置300工作時，第一活塞331用來推抵滾花刀架405，并對滾花刀架405施加一定的壓力。具體實施例中，第一活塞331與滾花刀架405的接觸面表面平整，使得第一活塞331能夠?qū)L花刀架405提供更加平均的壓力。第一活塞331和第二活塞332為柱體，它們與活塞桿333垂直的橫截面的形狀可以為正方形、長方形、圓形、多邊形或其它規(guī)則圖形或不規(guī)則圖形。第一活塞331和第二活塞332的形狀可以相同也可以不同。其中，第二活塞332的四周需緊貼所述液缸320的內(nèi)壁，為了防止第一腔室325和第二腔室326內(nèi)的液體互相流通，從而在液缸320中的液體無法產(chǎn)生對第二活塞332的液體壓力，即無法使得第二活塞332在液缸內(nèi)做往復(fù)運動。本實施例中，由于液缸320的形狀為圓筒形，因此，第二活塞332的形狀為圓柱形。本實施例中，第一活塞331的形狀與第二活塞332的形狀相同。所述第一活塞331與活塞桿333垂直的截面積等于或大于第二活塞332與活塞桿333垂直的截面積，一方面可以使得第一活塞331能夠?qū)L花刀架提供更加平均的壓力；另一方面，在不影響第一活塞331對滾花刀架施加壓力大小的前提下，盡量減小液缸320的體積，從而可以盡量減小與活塞桿333垂直的第二活塞332的截面積，達到節(jié)約成本的目的。所述液壓裝置300還包括輸液泵340，所述輸液泵340包括泵體341和儲液箱342。本實施例中，泵體341的下面設(shè)置有儲液箱342。在其他實施例中，儲液箱342可以設(shè)置在其他位置，例如，可以將儲液箱342設(shè)置在所述泵體341的一側(cè)，只要保證它們的電路連接和管路連接不變即可。所述泵體341用于提供所述液壓裝置300的輸液動力，所述儲液箱342用于存儲所述液壓裝置300用液，所述儲液箱342設(shè)置有進液口 344和出液口 345，所述進液口 344和所述第一輸液口 323通過輸液管連通，所述出液口 345和所述第二輸液口 324通過輸液
管連通。[0051]所述液壓裝置還包括控制開關(guān)350，用于控制液壓裝置是否工作，具體來說是控制泵體341的工作。請結(jié)合參考圖2和圖3，下面以聚焦線圈表面進行一個滾花工序的過程來介紹液壓裝置300的工作過程:當一個滾花工序開始時，將所述控制開關(guān)350開啟，泵體341開始工作，所述儲液箱342中的液體從出液口 345被泵體341抽出流經(jīng)輸液管346至第二腔室326中，推動所述第二活塞332朝第一活塞331方向移動，第一腔室325中的液體被擠出通過輸液管346流至進液口 344中。此時第一活塞331逐漸向滾花刀架方向移動至抵住滾花刀架405，并對滾花刀架405施加一定的壓力，間接的對所述滾花刀403施加相同壓力，該壓力由泵體341對液體提供的傳輸動力轉(zhuǎn)換而來，等于第二腔室326的液體對第二活塞332產(chǎn)生方向朝向第一活塞331的壓力，從而擬補滾花機床400上的絲桿結(jié)構(gòu)402提供的滾花壓力逐漸減小的缺陷，本實施例中，滾花機床400上的絲桿結(jié)構(gòu)402與第一活塞331共同推抵所述滾花刀架405，對滾花刀架405施加壓力，間接對所述滾花刀403施加相同壓力，以使聚焦線圈表面的滾花圖案均勻。所述第一活塞331施加的壓力范圍與泵體提供的動力有關(guān)，還與聚焦線圈的材料、即將在聚焦線圈上形成的滾花圖案的深度有關(guān)。所述第一活塞331施加的壓力如果太大，容易對滾花刀架405造成損傷；所述第一活塞331施加的壓力如果太小，聚焦線圈的表面不容易得到均勻的和深度符合要求的滾花圖案。例如，當聚焦線圈的材料為質(zhì)量百分比為99.995%的鈦金屬時，所述第一活塞331施加的壓力范圍為IOMPa 20MPa。第一活塞331逐漸向滾花刀架405方向移動至抵住滾花刀架405的時間也和泵體341提供的動力有關(guān)。本實施例中，盡量控制第一活塞331移動至滾花刀架405的時間與滾花機床400上的絲桿結(jié)構(gòu)402開始對滾花刀架405施加的壓力時間的時間達到同步。當一個滾花工序結(jié)束時，將所述控制開關(guān)350關(guān)閉，所述泵體341停止工作，如果泵體341和儲液箱342的位置比液缸320的設(shè)置位置低時，輸液管346中的液體受到重力作用，回流效果更加明顯，此時第二活塞332會向液缸第二腔室326側(cè)移動，帶動第一活塞331向液缸320方向移動，而不會繼續(xù)抵住滾花刀架405并對其施加壓力。其他實施例中，當一個滾花工序結(jié)束時，泵體341停止工作時，輸液管346中的液體如果不會回流至儲液箱342中的情況下，需要人為推動第一活塞331使其離開滾花刀架405的表面。還可以移動底座310的位置，或者移動液缸320的位置，使得第一活塞331離開滾花刀架405的表面。實施例二實施例二中液壓裝置比實施例一中的液壓裝置多了一個電磁閥，而且本實施例的控制開關(guān)與第一實施例的控制開關(guān)不同，本實施例的控制開關(guān)用來控制所述泵體、電磁閥的工作。所述電磁閥用于控制液壓裝置中液體的流向。本實施例的滾花裝置更加自動化，并且操作更加方便。實施例二中，滾花裝置中的液壓裝置其余的部件不發(fā)生變化，因此實施例二的附圖沿用實施例一的標號。請參考圖4，液壓裝置300’還包括電磁閥360。所述電磁閥360設(shè)有電磁閥腔體365和位于所述電磁閥腔體365內(nèi)部的控制閥體(圖未不)。所述電磁閥腔體365具有第一排液孔361、第二排液孔362、第三排液孔363和第四排液孔364。所述第一排液孔361和所述第一輸液口 323通過輸液管346連通，所述第二排液孔362和所述第二輸液口 324通過輸液管346連通，所述第三排液孔363和所述進液口 344通過輸液管346連通，所述第四排液孔364和所述出液口 345通過輸液管346連通。在控制開關(guān)的控制下所述控制閥體用于開啟或關(guān)閉所述第一排液孔、第二排液孔、第三排液孔、第四排液孔。具體為，本實施例中的控制開關(guān)350’包括第一開啟、第二開啟、和關(guān)閉三種檔位，請參考圖4，下面以聚焦線圈表面進行一個滾花工序的過程來介紹液壓裝置300’的工作過程:當一個滾花工序開始時，所述控制開關(guān)350’設(shè)置在第一開啟檔位，泵體開始工作，，使得儲液箱342中的液體從出液口 345被泵體抽出依次流經(jīng)輸液管346至電磁閥360時，電磁閥內(nèi)的控制閥體(圖未不)開啟第二排液孔362和第四排液孔364的同時關(guān)閉第一排液孔361和第三排液孔363，液體通過電磁閥的第四排液孔364和第二排液孔362經(jīng)輸液管346流至第二腔室326中，推動液缸內(nèi)的第二活塞332向第一活塞331方向移動至第一活塞331推抵滾花刀架405。當一個滾花工序結(jié)束后，關(guān)閉控制開關(guān)350’，使得泵體341停止工作，如果液缸的位置高于輸液泵340與儲液箱342的位置，第二腔室326中的液體可以經(jīng)過輸液管346至電磁閥360的第二排液孔362和第四排液孔364回流至出液口 345。接著，將控制開關(guān)350’設(shè)置在第二開啟檔位，泵體341開始工作，使得儲液箱342中的液體從進液口 344被泵體抽出依次流經(jīng)輸液管346至電磁閥360時，電磁閥360內(nèi)的控制閥體(圖未不)開啟第三排液孔363和第一排液孔361的同時關(guān)閉第二排液孔362和第四排液孔364。使得儲液箱中的液體流至第一腔室325中，然后推動第二活塞332至第二腔室326側(cè)移動，使得第一活塞331離開滾花刀架405的表面。實施例二中的所述電磁閥360的安裝，使得操作人員只操作控制開關(guān)350’就可以實現(xiàn)液體在所述液壓裝置中的流動方向的控制，使得滾花裝置更加自動化，并且使得滾花裝置操作起來更加方便。本實用新型中的所述液體可以為油或水，也可以為不腐蝕液壓滾花附加裝置的其他液體。本實施例中較佳為油，油的密度和黏度能夠提供合適的液體壓力和控制活塞移動速度。以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例而已，并非對本實用新型作任何形式上的限制。任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本實用新型技術(shù)方案范圍情況下，都可利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對本實用新型技術(shù)方案作出許多可能的變動和修飾，或修改為等同變化的等效實施例。因此，凡是未脫離本實用新型的技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本實用新型的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所做的任何簡單修改、等同變化及修飾，均仍屬于本實用新型技術(shù)方案保護的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種滾花裝置，其特征在于，包括: 液壓裝置和滾花刀架； 所述液壓裝置包括:液缸，位于所述液缸外的第一活塞、位于所述液缸內(nèi)的第二活塞、連接第一活塞和第二活塞的活塞桿； 在滾花裝置工作時所述第一活塞推抵所述滾花刀架。
2.如權(quán)利要求1所述滾花裝置，其特征在于，所述液壓裝置還包括: 底座，用于將所述液壓裝置與所述滾花裝置連接； 所述液缸設(shè)置在所述底座上，所述第二活塞將所述液缸分為第一腔室和第二腔室，所述液缸設(shè)置有位于第一腔室側(cè)的第一輸液口、位于第二腔室側(cè)的第二輸液口 ； 輸液泵，包括泵體和儲液箱；所述泵體用于提供所述液壓裝置的輸液動力，所述儲液箱用于存儲所述液壓裝置用液，所述儲液箱設(shè)置有進液口和出液口 ；所述進液口和所述第一輸液口通過輸液管連通，所述出液口和所述第二輸液口通過輸液管連通。
3.如權(quán)利要求2所述的滾花裝置，其特征在于，還包括控制開關(guān)，用于控制所述泵體的工作。
4.如權(quán)利要求2所述的滾花裝置，其特征在于，所述液壓裝置還包括電磁閥和控制開關(guān)，所述控制開關(guān)用來控制所述泵體、電磁閥的工作； 所述電磁閥用于控制液壓裝置中液體的流向。
5.如權(quán)利要求4所述的滾花裝置，其特征在于，所述電磁閥設(shè)有電磁閥腔體，所述電磁閥腔體內(nèi)部設(shè)有控制閥體； 所述電磁閥腔體具有第一排液孔、第二排液孔、第三排液孔和第四排液孔； 所述第一排液孔和所述第一輸液口通過輸液管連通，所述第二排液孔和所述第二輸液口通過輸液管連通，所述第三排液孔和所述進液口通過輸液管連通，所述第四排液孔和所述出液口通過輸液管連通； 在控制開關(guān)的控制下所述控制閥體用于開啟或關(guān)閉所述第一排液孔、第二排液孔、第三排液孔、第四排液孔。
6.如權(quán)利要求1所述的滾花裝置，其特征在于，所述第一活塞與所述滾花刀架接觸的表面平整。
7.如權(quán)利要求2所述的滾花裝置，其特征在于，所述底座為正方體、長方體或者圓柱體。
8.如權(quán)利要求2所述的滾花裝置，其特征在于，所述底座與所述滾花裝置為螺連、插連、綁連或焊接。
9.如權(quán)利要求1所述的滾花裝置，其特征在于，還包括:絲桿，工作時所述絲桿和所述第一活塞共同推抵所述滾花刀架。
專利摘要一種滾花裝置，包括液壓裝置和滾花刀架；所述液壓裝置包括液缸，位于所述液缸外的第一活塞、位于所述液缸內(nèi)的第二活塞、連接第一活塞和第二活塞的活塞桿；在滾花裝置工作時所述第一活塞推抵所述滾花刀架。應(yīng)用本實用新型的滾花裝置，可以使聚焦線圈表面的滾花圖案均勻，從而減少附著在聚焦線圈表面的部分濺射材料原子掉落至基板上，從而影響成膜質(zhì)量。另外，提高聚焦線圈的使用壽命。
文檔編號B44B5/02GK203004917SQ20122046968
公開日2013年6月19日 申請日期2012年9月14日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月14日
發(fā)明者姚力軍, 相原俊夫, 大巖一彥, 潘杰, 王學澤, 汪濤 申請人:寧波江豐電子材料有限公司