專利名稱：圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，具體講是涉及一種圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
產(chǎn)品外觀包裝為影響消費(fèi)者選擇的重要因素，具備獨(dú)特構(gòu)圖設(shè)計(jì)與時(shí)尚質(zhì)感的 產(chǎn)品往往能夠得到較多青睞。模內(nèi)裝飾(IMD，In-mold decoration)為一項(xiàng)新型塑料加工 技術(shù)，其將上方印有裝飾圖紋的轉(zhuǎn)印膜定位于射出機(jī)的模具內(nèi)，在塑料制品射出成形的 同時(shí)，進(jìn)行圖紋轉(zhuǎn)印，完成殼體外觀裝飾。相較于傳統(tǒng)噴涂、印刷、電鍍等加工方式， 模內(nèi)裝飾技術(shù)可配合制品量產(chǎn)，連續(xù)完成圖紋轉(zhuǎn)印，可簡化生產(chǎn)步驟、縮短制程時(shí)間， 己廣泛應(yīng)用于電子裝置、家用電器等諸多領(lǐng)域。圖1為現(xiàn)有技術(shù)的轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的剖面示意圖；圖2為圖1的轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)應(yīng)用狀態(tài) 的剖面示意圖。如圖所示，轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)10包括一基底薄膜層11以及上方次序堆棧形成 的一離型層12、一硬化膜層13、一飾紋層14以及一黏著膜層15?；妆∧?1可為塑料、金屬或纖維系薄膜，用以提供表面平坦且不易變形的 基材，以利后續(xù)涂布與印刷等加工。離型層12設(shè)置于基底薄膜層11表面上方，用以輔 助基底薄膜層11離型。硬化膜層13設(shè)置于離型層12表面上，由樹脂溶液干燥形成，為 具高硬度的保護(hù)層。飾紋層14設(shè)置于硬化膜層13表面上，系由印刷形成的油墨裝飾圖 紋。黏著膜層15設(shè)置于飾紋層14表面上方。轉(zhuǎn)印時(shí)，提供一定的制程條件(例如預(yù) 定溫度值)，使黏著膜層15緊密黏著于物品20表面，從而將轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)10結(jié)合于物品 20。最后，借著離型層12將基底薄膜層11撕離，即完成圖紋轉(zhuǎn)印。上述轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)10可提供亮面裝飾圖紋，然而實(shí)際操作上，霧面化以及亮面與 霧面同時(shí)呈現(xiàn)的圖案化霧面設(shè)計(jì)亦為常見的外觀設(shè)計(jì)方式。

發(fā)明內(nèi)容
為解決現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明目的在于提供一種圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，在 轉(zhuǎn)印時(shí)達(dá)到圖案化霧面效果，以滿足多樣化的產(chǎn)品外觀設(shè)計(jì)需求。為達(dá)上述目的，本發(fā)明是通過以下的技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的。一種圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于包括一基底薄膜層，包括一由微粒 子構(gòu)成的抗眩光劑，使該基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面；一遮蔽層，覆蓋于該基 底薄膜層上表面的局部區(qū)域，該遮蔽層具有一光滑的上表面，以于該基底薄膜層的上表 面形成一光面圖案；一離型層，設(shè)置于該基底薄膜層以及該遮蔽層的上表面；一第一硬 化膜層，設(shè)置于該離型層的上表面；一飾紋層，設(shè)置于該第一硬化膜層的上表面；一第 二硬化膜層，設(shè)置于該飾紋層的上表面；以及一黏著膜層，設(shè)置于該第二硬化膜層的上 表面。前述的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于該抗眩光劑微粒子的粒徑為0.1微米 至20微米。
前述的圖案化 霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于該抗眩光劑微粒子為氧化硅、氧化 鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石以及氧化鋇中的一種陶瓷材料。前述的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于該遮蔽層的厚度為2微米至10微米。前述的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于該遮蔽層的材料為自由聚氨酯系樹 月旨、環(huán)氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚醋酸纖維素系樹脂、 聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚亞胺系樹脂、聚二醚酮系樹脂、聚醚砜 系樹脂、聚砜系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、丙烯氰酯系樹脂、異氰酸酯中的一 種。前述的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的飾紋層包括油墨層。前述的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的飾紋層包括一油墨層以及一 金屬薄膜層，油墨層設(shè)置于第一硬化膜層的上表面，金屬薄膜層則設(shè)置于油墨層的上表 面；第二硬化膜層設(shè)置于金屬薄膜層與黏著膜層之間。本發(fā)明的有益效果是與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明由具有凹凸粗糙上表面的基 底薄膜層上方設(shè)置遮蔽層，以便于基底薄膜層上方形成一光面圖案，從而使得間隔離型 層鄰接于基底薄膜層及遮蔽層的硬化膜層同樣形成凹凸粗糙表面，上方并分布有光面圖 案，而于轉(zhuǎn)印膜應(yīng)用時(shí)達(dá)到圖案化霧面效果，以滿足多樣化的產(chǎn)品外觀設(shè)計(jì)需求。


圖1為現(xiàn)有技術(shù)的轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的剖面示意圖。圖2為圖1的轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)應(yīng)用狀態(tài)的剖面示意圖。圖3為本發(fā)明圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的第一具體實(shí)施例的剖面示意圖。圖4為本發(fā)明圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的第二具體實(shí)施例的剖面示意圖。圖中主要標(biāo)記含義說明10、轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，11、41、51基底薄膜層，12、43、 53離型層，13、硬化膜層，14、45、55飾紋層，15、47、57黏著膜層，20、物品，40、 50圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，410、510微粒子，42、52遮蔽層，450、550油墨層，44、54 第一硬化膜層，46、56第二硬化膜層，551、金屬薄膜層。
具體實(shí)施例方式下面將結(jié)合附圖和具體實(shí)施例，對本發(fā)明作具體的介紹。圖3為本發(fā)明圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的第一具體實(shí)施例的剖面示意圖；圖4為 本發(fā)明圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的第二具體實(shí)施例的剖面示意圖。如圖所示，本發(fā)明的圖 案化轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)40包括一基底薄膜層41、一遮蔽層42、一離型層43、一第一硬化膜層 44、一飾紋層45、一第二硬化膜層46，以及一黏著膜層47?；妆∧?1摻雜有由微 粒子410構(gòu)成的抗眩光劑，使基底薄膜層41具有一凹凸粗糙的上表面。遮蔽層42覆蓋 于基底薄膜層41的上表面的局部區(qū)域，遮蔽層42具有一光滑的上表面，以便于在基底薄 膜層41的上表面形成一光面圖案。離型層43設(shè)置于基底薄膜層41以及遮蔽層42的上 表面。第一硬化膜層44設(shè)置于離型層43的上表面。飾紋層45包括一油墨層450，設(shè)置 于第一硬化膜層44的上表面。第二硬化膜層46設(shè)置于飾紋層45的上表面。黏著膜層47設(shè)置于第二硬化膜層46的上表面。圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)40中，由于第一硬化膜層44是間隔著離型層43與基底 薄膜層41及遮蔽層42鄰接，因此第一硬化膜層44將同樣形成凹凸粗糙表面，并且上方 分布有光面圖案，在轉(zhuǎn)印時(shí)可達(dá)到圖案化霧面效果。同時(shí)，飾紋層45與黏著膜層47之 間增設(shè)的第二硬化膜層46將可阻擋黏著膜層47的膠水向下滲漏，防止飾紋層45的油墨 圖紋受到破壞，且可進(jìn)一步加強(qiáng)膜層結(jié)構(gòu)強(qiáng)度?；妆∧?1作為后續(xù)涂布與印刷等加工工序的基材，應(yīng)具備高平坦度且不易 變形，可選用聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚酯系樹脂、聚丙烯酸系 樹脂聚氯乙烯系樹脂等高分子聚合物基材，或選用玻璃紙、涂布紙、賽珞凡等纖維系薄 膜，或上述薄膜組成的復(fù)合薄膜基材。在制程時(shí)，摻入由微粒子410構(gòu)成的抗眩光劑混 合制備原料，經(jīng)由熱吹膜成形為片狀結(jié)構(gòu)，或制作為可連續(xù)進(jìn)行涂布及印刷工序的大面 積卷裝結(jié)構(gòu)?；妆∧?1的厚度約為5微米(至300微米(μ m)。所述的抗眩光劑可選用氧化硅、氧化鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石、氧化鋇等陶瓷 材料，微粒子410的粒徑約為0.1微米(μ m)至20微米(μ m)，分散于基底薄膜層41 內(nèi)部及表面，可使其表面結(jié)構(gòu)凹凸粗糙。遮蔽層42是以凹版印刷或網(wǎng)版印刷方式涂布于基底薄膜層41表面上方，經(jīng)過干 燥固化形成，可選用聚氨酯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚系樹脂、聚酰胺 系樹脂、聚醋酸纖維素系樹脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚亞胺系 樹脂、聚二醚酮系樹脂、聚醚砜系樹脂、聚砜系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、丙 烯氰酯系樹脂、異氰酸酯等材料。遮蔽層42的厚度約為2微米(μ m)至10微米(μ m) O離型層43用以輔助基底薄膜層41及遮蔽層42離型，是用涂布設(shè)備將原料溶 液涂布于基底薄膜層41及遮蔽層42的表面上方，經(jīng)過加熱干燥或紫外線照射固化而形 成，可選用聚硅氧烷系樹脂、三聚氰胺樹脂、聚內(nèi)烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚氯乙烯 系樹脂、纖維素系樹脂、橡膠系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、氯 乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯一乙酸乙烯酯共聚物系樹脂等材料，并根據(jù)材料種類， 采取適當(dāng)?shù)墓袒绞?。離型層43的厚度約為0.5微米(μ m)至40微米(μ m)。第一硬化膜層44為具有高硬度的保護(hù)層，是用涂布設(shè)備將原料溶液涂布于離型 層43表面上方，經(jīng)過固化形成，可選用聚胺酯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚 醚系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚醋酸纖維素系樹脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯 系樹脂、聚亞胺系樹脂、聚二醚酮系樹脂、聚醚砜系樹脂、聚砜系樹脂、胺基甲酸酯丙 烯酸酯系樹脂、丙烯氰酯系樹脂、異氰酸酯等材料。第一硬化膜層44的厚度約為3微米 (μ m)至60微米(μ m)。第一硬化膜層44鄰接離型層43的表面將同樣形成凹凸粗糙 表面，上方分布有光面圖案，可使轉(zhuǎn)印物品產(chǎn)生圖案化霧面效果。第二硬化膜層46的加 工與第一硬化膜層相同。飾紋層45包括一油墨層450，系采用網(wǎng)版印刷、凹版印刷、凸版印刷或平板印 刷方式制作形成，提供油墨裝飾圖紋，其印刷原料一般可選用聚乙烯系樹脂、聚丙烯系 樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚酯胺基甲酸酯系 樹脂、纖維素酯系樹脂、醇酸系樹脂等樹脂為結(jié)合劑加上顏料混合制得。
黏著膜 層47可選用聚胺酯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、亞克力系樹脂、聚乙烯系樹 月旨、聚酰胺系樹脂等材料，用涂布設(shè)備將原料溶液涂布于飾紋層45表面上方，經(jīng)過干燥 形成。黏著膜層47的厚度約為3微米(μ m)至50微米ψ m)。上述第一、第二實(shí)施例的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)中，飾紋層45僅由單一油墨層 構(gòu)成，然而實(shí)際上，飾紋層45也可以為復(fù)合結(jié)構(gòu)。圖4本發(fā)明的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu) 的第三具體實(shí)施例的剖面示意圖。此實(shí)施例中，圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)50包括次序堆棧 的一基底薄膜層51、一遮蔽層52、一離型層53、一第一硬化膜層54、一飾紋層55、一第 二硬化膜層56以及一黏著膜層57，基底薄膜層51摻雜有由微粒子510所構(gòu)成的抗眩光 齊U。其中飾紋層55包括一油墨層550以及一金屬薄膜層551，油墨層550設(shè)置于第一硬 化膜層54的上表面，金屬薄膜層551則設(shè)置于油墨層550的上表面。第二硬化膜層56 設(shè)置于金屬薄膜層551與黏著膜層57之間。綜上所述，本發(fā)明的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)是在具有凹凸粗糙的上表面的基底 薄膜層上方設(shè)置遮蔽層，以便于在基底薄膜層上方形成光面圖案，使得間隔離型層鄰接 于基底薄膜層及遮蔽層的硬化膜層同樣形成凹凸粗糙表面，并分布有光面圖案，可以在 轉(zhuǎn)印膜應(yīng)用時(shí)達(dá)到圖案化霧面效果，以滿足多樣化的產(chǎn)品外觀設(shè)計(jì)需求。上述實(shí)施例不以任何形式限制本發(fā)明，凡采用等同替換或等效變換的方式所獲 得的技術(shù)方案，均落在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于包括一基底薄膜層，包括一由微粒子構(gòu)成 的抗眩光劑，使基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面；一遮蔽層，覆蓋于基底薄膜層上 表面的局部區(qū)域，該遮蔽層具有一光滑的上表面，以便于該基底薄膜層的上表面形成一 光面圖案；一離型層，設(shè)置于基底薄膜層以及遮蔽層的上表面；一第一硬化膜層，設(shè)置 于離型層的上表面；一飾紋層，設(shè)置于第一硬化膜層的上表面；一第二硬化膜層，設(shè)置 于飾紋層的上表面；以及一黏著膜層，設(shè)置于第二硬化膜層的上表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于該抗眩光劑微粒子的粒 徑為0.1微米至20微米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于該抗眩光劑微粒子為氧 化硅、氧化鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石以及氧化鋇中的一種陶瓷材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于該遮蔽層的厚度為2微 米至10微米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的飾紋層包括油墨層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的飾紋層包括一油墨層以及一金屬薄膜層，油墨層設(shè)置于第一硬化膜層的上表面，金屬薄膜層則設(shè)置于油 墨層的上表面；第二硬化膜層設(shè)置于金屬薄膜層與黏著膜層之間。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，包括一基底薄膜層，包括由微粒子構(gòu)成的抗眩光劑；一遮蔽層，覆蓋于基底薄膜層上表面的局部區(qū)域；一離型層，設(shè)置于基底薄膜層以及遮蔽層的上表面；一第一硬化膜層，設(shè)置于離型層的上表面；一飾紋層，設(shè)置于第一硬化膜層的上表面；一第二硬化膜層，設(shè)置于飾紋層的上表面；以及一黏著膜層，設(shè)置于第二硬化膜層的上表面。本發(fā)明在具有凹凸粗糙上表面的基底薄膜層上方設(shè)置遮蔽層，以于基底薄膜層上方形成一光面圖案，從而使得間隔離型層鄰接于基底薄膜層及遮蔽層的硬化膜層同樣形成凹凸粗糙表面，上方并分布有光面圖案，而于轉(zhuǎn)印膜應(yīng)用時(shí)達(dá)到圖案化霧面效果，以滿足多樣化的產(chǎn)品外觀設(shè)計(jì)需求。
文檔編號B44C1/165GK102009542SQ20101054985
公開日2011年4月13日 申請日期2010年11月19日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月19日
發(fā)明者韓久康 申請人:琨詰電子(昆山)有限公司