專利名稱：霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，具體講是涉及一種霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
產(chǎn)品外觀構(gòu)裝為影響消費(fèi)行為的重要因素，具備獨(dú)特構(gòu)圖設(shè)計與時尚質(zhì)感的產(chǎn) 品往往能夠得到較多青睞。模內(nèi)裝飾(IMD，In-mold decoration)為一項新型塑料加工 技術(shù)，是將上方印有裝飾圖紋的轉(zhuǎn)印膜定位于射出機(jī)的模具內(nèi)，在塑料制品射出成形同 時，進(jìn)行圖紋轉(zhuǎn)印，完成殼體外觀裝飾。相對于傳統(tǒng)噴涂、印刷、電鍍等加工方式， 模內(nèi)裝飾技術(shù)可配合制品批量生產(chǎn)，連續(xù)完成圖紋轉(zhuǎn)印，可簡化生產(chǎn)步驟、縮短制程時 間，己廣泛應(yīng)用于電子裝置、家用電器等諸多領(lǐng)域。霧面化為常見的外觀設(shè)計方式，為達(dá)到霧面效果，必須對轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)采取特殊 處理。圖1為現(xiàn)有技術(shù)的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的剖面示意圖，圖2為圖1的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu) 的應(yīng)用狀態(tài)剖面示意圖。如圖所示，霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)10包括一基底薄膜層11、一凸塊 結(jié)構(gòu)層12、一離型層13、一硬化膜層14、一飾紋層15以及一黏著膜層16。基底薄膜層 11可為塑料、金屬或纖維系薄膜，用來提供表面平坦且不易變形的基材，以利于后續(xù)涂 布與印刷等加工工藝。凸塊結(jié)構(gòu)層12通過網(wǎng)版印刷或凹版印刷方式涂布在基底薄膜層11 表面上方，用來使基底薄膜層11表面形成凹凸結(jié)構(gòu)。離型層13設(shè)置于基底薄膜層11及 凸塊結(jié)構(gòu)層12的表面上方，用來輔助基底薄膜層11離型。硬化膜層14設(shè)置于離型層13 表面上，由樹脂溶液干燥形成，為具有高硬度的保護(hù)層，由于硬化膜層14是間隔著離型 層13鄰接于基底薄膜層11及凸塊結(jié)構(gòu)層12，因此其下表面同樣形成凹凸結(jié)構(gòu)。飾紋層 15設(shè)置于硬化膜層14表面上，是由印刷形成的油墨裝飾圖紋。黏著膜層16設(shè)置于飾紋 層15表面上方。在轉(zhuǎn)印的時候，提供一定的制程條件(例如預(yù)定溫度值)，使黏著膜層16緊 密黏著于物品80表面，從而將霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)10結(jié)合于物品80。最后，借著離型層13 將基底薄膜層11與凸塊結(jié)構(gòu)層12撕離，完成圖紋轉(zhuǎn)印。硬化膜層14的表面凹凸結(jié)構(gòu)將 可達(dá)到霧面化的視覺效果。上述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)10雖可達(dá)到霧面化效果，但是其必須 額外經(jīng)由繁瑣工序，制版印刷完成凸塊結(jié)構(gòu)層12的制作，不僅耗費(fèi)工時，更造成制程成 本提高。圖3為另一現(xiàn)有技術(shù)的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的剖面示意圖。圖中的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu) 20系由次序堆棧的一基底薄膜層21、一離型層22、一硬化膜層23、一飾紋層24以及一 黏著膜層25共同構(gòu)成。其中，硬化膜層23中摻雜有由微粒子230所構(gòu)成的抗眩光劑， 從而達(dá)到霧面化效果。然而，由于硬化膜層23的機(jī)能為提供高硬度防護(hù)膜，摻雜其中的 微粒子230將破壞結(jié)構(gòu)連續(xù)性，而降低其結(jié)構(gòu)強(qiáng)度，致使膜層劣化風(fēng)險提高，影響產(chǎn)品 的品質(zhì)。

發(fā)明內(nèi)容
為解決現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明目的在于提供一種霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，不僅使轉(zhuǎn) 印膜應(yīng)用時達(dá)到霧面化效果，而且可精簡霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的制程工序，從而達(dá)到縮短工 時、降低成本的功效。為達(dá)上述目的，本發(fā)明是通過以下的技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的。一種霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于包括一基底薄膜層，包括由微粒子構(gòu)成的 抗眩光劑，使該基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面；一離型層，設(shè)置于該基底薄膜層 的上表面；一硬化膜層，設(shè)置于該離型層的上表面；一飾紋層，設(shè)置于該硬化膜層的上 表面；一黏著膜層，設(shè)置于該飾紋層的上表面。前述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的抗眩光劑的微粒子的粒徑為0.1微 米至20微米。前述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的抗眩光劑的微粒子為氧化硅、氧化 鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石以及氧化鋇中的一種陶瓷材料。前述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的基底薄膜層為高分子聚合物基材， 該高分子聚合物基材的材料為聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚酯系樹 脂、聚丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂中的一種高分子聚合物原料。前述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的基底薄膜層為一纖維系薄膜，該纖 維系薄膜為由玻璃紙或涂布紙或賽珞凡組成的一種薄膜。前述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的離型層的材料為聚硅氧烷系樹脂、 三聚氰胺樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、纖維素系樹脂、橡膠 系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、氯乙烯一乙酸乙烯酯共聚物、乙 烯一乙酸乙烯酯共聚物系樹脂中的一種，其厚度為0.5微米至40微米。前述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的硬化膜層的材料為聚胺酯系樹脂、 環(huán)氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚醋酸纖維素系樹脂、聚苯 乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚亞胺系樹脂、聚二醚酮系樹脂、聚醚砜系樹 脂、聚砜系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、丙烯氰酯系樹脂、異氰酸酯中的一種， 其厚度為3微米至60微米。前述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的飾紋層包括油墨層，油墨層的材料 為聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙烯縮醛系 樹脂、聚酯胺基甲酸酯系樹脂、纖維素酯系樹脂、醇酸樹脂中的一種加入顏料混合制得。前述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的黏著膜層的材料為聚胺酯系樹脂、 環(huán)氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚乙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂中的一種，其的厚度為3微 米至50微米。本發(fā)明的有益效果為本發(fā)明的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)是在基底薄膜層添加由微粒子 構(gòu)成的抗眩光劑，使基底薄膜層具有凹凸粗糙表面，使得間隔著離型層鄰接于基底薄膜 層的硬化膜層同樣形成凹凸粗糙表面，在轉(zhuǎn)印膜應(yīng)用時達(dá)到霧面化效果。本發(fā)明將可精 簡霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的制程工序，從而達(dá)到縮短工時、降低成本等功效。同時，本發(fā)明還 可維持硬化膜層的完整性，保持膜層結(jié)構(gòu)強(qiáng)度，提高產(chǎn)品的品質(zhì)。


圖1為現(xiàn)有技術(shù)的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的剖面示意圖。圖2為圖1的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的應(yīng)用狀態(tài)的剖面示意圖。圖3為另一現(xiàn)有技術(shù)的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的剖面示意圖。圖4為本發(fā)明的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的實(shí)施例的剖面示意圖。圖中主要標(biāo)記含義說明10、20、30霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，11、21、31基底薄膜 層，12凸塊結(jié)構(gòu)層，13、22、32離型層，14、23、33硬化膜層，15、24、34 飾紋 層，16、25、35 黏著膜層，230、310微粒子，340 油墨層，80物品。
具體實(shí)施例方式以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例，對本發(fā)明作詳細(xì)的介紹。首先，請參閱圖4，圖4為本發(fā)明的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的實(shí)施例的剖面示意圖。如 圖所示，霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)30包括一基底薄膜層31、一離型層32、一硬化膜層33、一飾紋 層34，以及一黏著膜層35?；妆∧?1摻雜有由微粒子310構(gòu)成的抗眩光劑，使基 底薄膜層31具有一凹凸粗糙的上表面。離型層32設(shè)置于基底薄膜層31的上表面；硬化 膜層33設(shè)置于離型層32的上表面飾紋層34設(shè)置于硬化膜層33的上表面；黏著膜層 35設(shè)置于飾紋層34的上表面。由于硬化膜層33是間隔著離型層32鄰接于基底薄膜層31，因此硬化膜層33的 表面將同樣形成凹凸粗糙表面，在應(yīng)用時可以達(dá)到霧面化效果?；妆∧?1是提供后續(xù)涂布與印刷等加工工藝的基材，具備高平坦度且不易 變形，可選用聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚酯系樹脂、聚丙烯酸系 樹脂、聚氯乙烯系樹脂等高分子聚合物基材，或選用玻璃紙、涂布紙、賽珞凡等纖維系 薄膜，或上述薄膜組成的復(fù)合薄膜基材。在制程中，摻入由微粒子310構(gòu)成的抗眩光劑 混合制備原料，經(jīng)由熱吹膜成形為片狀結(jié)構(gòu)，或制作成可連續(xù)進(jìn)行涂布及印刷工序的大 面積卷裝結(jié)構(gòu)?；妆∧?1的厚度約為5微米(丨I m)至300微米(〖I m)。所述的抗眩光劑可選用氧化硅、氧化鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石、氧化鋇等陶瓷 材料，微粒子310的粒徑約為0.1微米(丨I m)至20微米(丨1 m)，分散于基底薄膜層31 內(nèi)部及表面，將可使其表面凹凸粗糙。離型層32用來輔助基底薄膜層31離型，是通過涂布設(shè)備將原料溶液涂布在基底 薄膜層31表面上方，經(jīng)過加熱干燥或紫外線照射固化而形成，可選用聚硅氧烷系樹脂、 三聚氰胺樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、纖維素系樹脂、橡膠 系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、氯乙烯一乙酸乙烯酯共聚物、乙 烯一乙酸乙烯酯共聚物系樹脂等材料，并根據(jù)材料種類，采取適當(dāng)?shù)墓袒绞?。離型層 32的厚度約為0.5微米(JLl m)至40微米(衿m)。硬化膜層33為具有高硬度的保護(hù)層，是通過涂布設(shè)備將原料溶液涂布于離型層 32表面上方，經(jīng)過固化形成，可選用聚胺酯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚 系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚醋酸纖維素系樹脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系 樹脂、聚亞胺系樹脂、聚二醚酮系樹脂、聚醚砜系樹脂、聚砜系樹脂、胺基甲酸酯丙烯 酸酯系樹脂、丙烯氰酯系樹脂、異氰酸酯等材料。第一硬化膜層33的厚度約為3微米(J-I.m)至60微米(JLl m)。硬化膜層33鄰接離型層32的表面將同樣形成凹凸粗糙表面，可 以在霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)30應(yīng)用的時候，達(dá)到霧面化效果。飾紋層34包括一油墨層340，是采用網(wǎng)版印刷、凹版印刷、凸版印刷或平板印 刷方式制作形成，提供油墨裝飾圖紋，其印刷原料一般可選用聚乙烯系樹脂、聚丙烯系 樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚酯胺基甲酸酯系 樹脂、纖維素酯系樹脂、醇酸樹脂等樹脂為結(jié)合劑加上顏料混合制得。黏著膜層35可選用聚胺酯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚乙烯系樹 脂、聚酰胺系樹脂等材料，以涂布設(shè)備將原料溶液涂布于飾紋層34表面上方，經(jīng)過干燥 形成。黏著膜層35的厚度為3微米(丨I m)至50微米(丨I m)。本發(fā)明的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)30是在基底薄膜層31摻雜抗眩光劑，即可使硬化膜 層33形成凸凹粗糙的表面，而不需要再額外印刷凸塊結(jié)構(gòu)，相對于現(xiàn)有的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié) 構(gòu)，本發(fā)明維持了硬化膜層33的結(jié)構(gòu)完整性，可以保持膜層結(jié)構(gòu)強(qiáng)度。綜上所述，本發(fā)明的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)系于基底薄膜層添加由微粒子構(gòu)成的抗眩 光劑，使基底薄膜層具有凹凸粗糙表面，使得間隔離型層鄰接于基底薄膜層的硬化膜層 同樣形成凹凸粗糙表面，而于轉(zhuǎn)印膜應(yīng)用時達(dá)到霧面化效果。本發(fā)明將可精簡霧面轉(zhuǎn)印 膜結(jié)構(gòu)的制程工序，從而達(dá)到縮短工時及降低成本等功效。同時，本發(fā)明維持了硬化膜 層的完整性，可保持膜層結(jié)構(gòu)強(qiáng)度。上述實(shí)施例不以任何形式限制本發(fā)明，凡采用等同替換或等效變換的方式所獲 得的技術(shù)方案均落在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于包括一基底薄膜層，包括由微粒子構(gòu)成的抗眩光 劑，使該基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面；一離型層，設(shè)置于該基底薄膜層的上表 面；一硬化膜層，設(shè)置于該離型層的上表面；一飾紋層，設(shè)置于該硬化膜層的上表面； 一黏著膜層，設(shè)置于該飾紋層的上表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的抗眩光劑的微粒子的粒 徑為0.1微米至20微米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的抗眩光劑的微粒子為氧 化硅、氧化鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石以及氧化鋇中的一種陶瓷材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的基底薄膜層為高分子 聚合物基材，該高分子聚合物基材的材料為聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚酰胺系樹 脂、聚酯系樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂中的一種高分子聚合物原料。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的基底薄膜層為一纖維系 薄膜，該纖維系薄膜為由玻璃紙或涂布紙或賽珞凡組成的一種薄膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的離型層的材料為聚硅氧 烷系樹脂、三聚氰胺樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、纖維素系 樹脂、橡膠系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、氯乙烯一乙酸乙烯酯 共聚物、乙烯一乙酸乙烯酯共聚物系樹脂中的一種，其厚度為0.5微米至40微米。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的硬化膜層的材料為聚胺 酯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚醋酸纖維素系 樹脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚亞胺系樹脂、聚二醚酮系樹脂、 聚醚砜系樹脂、聚砜系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、丙烯氰酯系樹脂、異氰酸酯 中的一種，其厚度為3微米至60微米。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的飾紋層包括油墨層，油 墨層的材料為聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、 聚乙烯縮醛系樹脂、聚酯胺基甲酸酯系樹脂、纖維素酯系樹脂、醇酸樹脂中的一種加入 顏料混合制得。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的黏著膜層的材料為聚胺 酯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚乙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂中的一種，其厚 度為3微米至50微米。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，包括一基底薄膜層、一離型層、一硬化膜層、一飾紋層以及一黏著膜層?；妆∧影ㄓ晌⒘Ｗ訕?gòu)成的抗眩光劑，使基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面，離型層設(shè)置于基底薄膜層的上表面，硬化膜層設(shè)置于離型層的上表面，硬化膜層同樣形成凹凸粗糙表面，飾紋層設(shè)置于硬化膜層的上表面，黏著膜層設(shè)置于飾紋層的上表面。本發(fā)明可精簡霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的制程工序，從而達(dá)到縮短工時、降低成本等功效。同時，本發(fā)明還可維持硬化膜層的完整性，保持膜層結(jié)構(gòu)強(qiáng)度，提高產(chǎn)品的品質(zhì)。
文檔編號B44C1/165GK102009540SQ20101053842
公開日2011年4月13日 申請日期2010年11月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月10日
發(fā)明者韓久康 申請人:琨詰電子(昆山)有限公司