專利名稱：具有色彩的殼體及其加工方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種具有色彩的殼體及其表面處理方法，尤涉及一種可具有特定色彩 與金屬質感的具有色彩的殼體及其加工方法。
背景技術：
隨著科技的迅速演進，行動電話、個人數(shù)字助理(PDA，Personal Digital Assistant)、個人計算機與筆記型計算機等各式電子裝置發(fā)展迅速，其功能亦愈來愈豐富。 為了使電子裝置的外殼具有豐富色彩，傳統(tǒng)上可利用彩色塑料形成彩色塑料外殼，或藉由 噴漆方式在電子裝置的殼體表面形成色料層。惟，塑料外殼與噴漆外殼不能呈現(xiàn)良好的金 屬質感。另一方面，由于金屬鍍膜本身技術較為復雜而不易精密操控，因此習知技術始終只 能于殼體表面形成少數(shù)幾種傳統(tǒng)金屬色彩，未能于豐富色彩質感方面有所突破。

發(fā)明內容
有鑒于此，有必要提供一種具有特定色彩的具有色彩的殼體及其表面處理方法， 以解決習知問題。一種具有色彩的殼體包含基材與色彩層?；牡谋砻姘辽僖黄交瑓^(qū)域，而色 彩層覆蓋基材的平滑區(qū)域，其中色彩層于平滑區(qū)域中呈現(xiàn)的色度區(qū)域于國際照明委員會 (Commission Internationale de 1，6clairag，CIE) LAB 表色系統(tǒng)的 L* 坐標介于 81. 43 至 83. 43，a*坐標介于0. 30至1. 30，而b*坐標介于2. 11至3. 11。一種具有色彩的殼體的表面處理方法包括以下步驟提供一基材；以及形成一色 彩層，覆蓋基材的表面，其中色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標介于 81. 43至83. 43，a*坐標介于0. 30至1.30，而13*坐標介于2. 11至3. 11。與習知技術相比，所述具有色彩的殼體藉由其色彩層提供特定色彩的金屬質感。


第1圖為本發(fā)明較佳實施例的具有色彩的殼體的結構示意圖。第2圖為第一圖的具有色彩的殼體部分結構剖面示意圖。第3圖為本發(fā)明較佳實施例的色彩層于CIE LAB表色系統(tǒng)L*坐標的范圍的示意 圖。第4圖為本發(fā)明較佳實施例的色彩層于CIE LAB表色系統(tǒng)a*坐標與b*坐標的范 圍的示意圖。第5圖為本發(fā)明較佳實施例對具有色彩的殼體進行表面處理的流程示意圖。
具體實施例方式下面將結合附圖，以較佳實施例并配合圖式詳細描述如下。請參閱第一圖及第二圖，本發(fā)明具有色彩的殼體的較佳實施例例如可為一行動電話的外殼，其包括一基材1、一色彩層3及選擇性的覆蓋層4。其中色彩層3設于基材1的 表面，而覆蓋層4可設置于色彩層3的表面?；?可包含不銹鋼等金屬材料或是玻璃等陶瓷材料，基材1可具有至少一待鍍 膜處理的表面，而待鍍膜處理的表面可以包含具有不同表面結構的區(qū)域，例如包含至少一 平滑區(qū)域、至少一霧化區(qū)域、或具有多數(shù)個拉絲狀微結構的區(qū)域，或前述區(qū)域的組合。色彩 層3的材料可包含氮化鉻(CrN)或其它可提供附著效果的材料。另外，色彩層3可包含一層 或多數(shù)層金屬材料，例如鉻合金。覆蓋層4可包含任何適當?shù)慕^緣材料，以提供保護效果。 據(jù)此，所形成的具有色彩的殼體的維氏硬度(Vickers hardness)可大于等于500HV。請參閱第三圖及第四圖，當基材1的待鍍膜表面包含平滑區(qū)域時，本發(fā)明所提供 的色彩層3于平滑區(qū)域中呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標可介于81. 43至 83. 43，a*坐標可介于0. 30至1. 30，而b*坐標可介于2. 11至3. 11。請參閱第五圖，且一并參閱第一圖與第二圖，本發(fā)明具有色彩的殼體的表面處理 方法包括以下步驟首先，形成一行動電話外殼的基材1，基材1系由不銹鋼等金屬材料或 是玻璃等陶瓷材料制成。形成基材1后可進一步對基材1進行表面處理，以滿足外殼的外 觀色質需要，或可進一步調整基材1的平整度使后續(xù)形成于其表面上的色彩層3具有高附 著性。其次，于基材1表面上的預定位置形成色彩層3，例如色彩層3的材料較佳包含氮 化鉻。實際生產中可以采用物理氣相沉積制程濺鍍的方法于基材1的表面上形成色彩層3， 以基材1為基材，利用一鉻靶材濺鍍，采用射頻(RF)能量源激發(fā)氬氣電漿以27至33標準 立方公分每分鐘(standard cubic centimeter per minute, sccm)的流量沖擊革巴材，使革巴 材表面的材質噴濺出來，沉積至基材1表面。于本發(fā)明的較佳實施例中，形成色彩層3的物理氣相沉積制程轟擊鉻靶材的功率 介于18至22千瓦，物理氣相沉積制程的偏壓介于180至220伏特，物理氣相沉積制程的制 程溫度介于攝氏180至220度，物理氣相沉積制程的制程時間介于M至66分鐘，物理氣相 沉積制程的制程壓力介于3. 663至4. 477毫托耳，基材于物理氣相沉積制程中的公轉轉速 介于2. 7至3. 3轉速每分鐘(revolution per minute, rpm)，基材于物理氣相沉積制程中 的自轉轉速介于-3. 3至-2. 7rpm，其中自轉的負值代表與公轉的轉向相反。針對制程氣體 流量部份，物理氣相沉積制程包括提供氬氣與氮氣，其中氬氣的流量介于M至66sCCm，氮 氣的流量介于450至550sccm。根據(jù)上述流程步驟，本發(fā)明可于基材1上形成所需的特定色彩與金屬質感。如前所 述，前述流程步驟所形成的色彩層3的色度坐標(L*，a*，b*)為(81.43、3. 43,-0. 3(Tl. 30， 2. 1Γ3. 11)，此為習知具有色彩的殼體所無法提供的色彩范圍。其后，可選擇性于色彩層3的表面形成一覆蓋層4。覆蓋層4可包含任何適當?shù)慕^ 緣材料，以提供保護效果?？梢岳斫?，本發(fā)明具有色彩的殼體的較佳實施例同樣適用于筆記型計算機、個人 數(shù)字助理等其它種類的電子裝置，或是任何需具有特定色彩與金屬質感的裝置。使用裝配 有本發(fā)明具有色彩的殼體的較佳實施例的行動電話時，覆蓋于結合層表面的色彩層可提供 特定色彩的金屬質感，以滿足外殼的外觀色質需要，從而形成具有豐富色彩與良好金屬質 感的裝置。
綜上所述，本發(fā)明符合發(fā)明專利的要件，爰依法提出專利申請。惟，以上所述者僅 為本發(fā)明的較佳實施例，自不能以此限制本案的權利要求范圍。舉凡熟悉本案技藝的人士， 于援依本案發(fā)明精神所作的等效修飾或變化，皆應包括于權利要求范圍內。
權利要求
1.一種具有色彩的殼體，其特征在于一基材，所述基材的表面包含至少一平滑區(qū)域；以及一色彩層，覆蓋所述基材的所述平滑區(qū)域，其中于所述平滑區(qū)域所呈現(xiàn)的色度區(qū)域于 CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標介于81. 43至83. 43，a*坐標介于0. 30至1. 30，而b*坐標介 于 2. 11 至 3. 11。
2.如權利要求1所述的具有色彩的殼體，其特征在于所述基材為金屬材料或陶瓷材料。
3.如權利要求1所述的具有色彩的殼體，其特征在于所述色彩層包含氮化鉻。
4.如權利要求3所述的具有色彩的殼體，其特征在于所述色彩層于一物理氣相沉積制 程中利用一鉻靶材所形成。
5.如權利要求1所述的具有色彩的殼體，其特征在于所述色彩層包含氮化鉻。
6.如權利要求1所述的具有色彩的殼體，其特征在于所述具有色彩的殼體的維氏硬度 (Vickers hardness)大于等于 500HV。
7.如權利要求1所述的具有色彩的殼體，其特征在于所述基材的表面更包含一霧狀區(qū) 域，所述色彩層覆蓋所述霧狀區(qū)域。
8.如權利要求1所述的具有色彩的殼體，其特征在于所述基材的表面更包含多數(shù)個拉 絲狀微結構，所述色彩層覆蓋所述拉絲狀微結構。
9.一種具有色彩的殼體的表面處理方法，其特征在于提供一基材；以及形成一色彩層，覆蓋所述基材的表面，其中所述色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表 色系統(tǒng)的L*坐標介于81. 43至83. 43，a*坐標介于0. 30至1. 30，而b*坐標介于2. 11至 3. 11。
10.如權利要求9所述的表面處理方法，其特征在于所述基材為金屬材料與陶瓷材料。
11.如權利要求9所述的表面處理方法，其特征在于形成所述色彩層的步驟包含一物 理氣相沉積制程。
12.如權利要求11所述的表面處理方法，其特征在于所述物理氣相沉積制程包含利用 一鉻靶材進行濺鍍，而所述色彩層包含氮化鉻。
13.如權利要求12所述的表面處理方法，其特征在于所述物理氣相沉積制程轟擊所述 鉻靶材的功率介于18至22千瓦。
14.如權利要求12所述的表面處理方法，其特征在于所述物理氣相沉積制程轟擊所述 鋁靶材的功率介于27至33千瓦。
15.如權利要求11所述的表面處理方法，其特征在于所述物理氣相沉積制程的偏壓介 于180至220伏特。
16.如權利要求11所述的表面處理方法，其特征在于所述物理氣相沉積制程的制程溫 度介于攝氏180至220度。
17.如權利要求11所述的表面處理方法，其特征在于所述物理氣相沉積制程的制程時 間介于54至66分鐘。
18.如權利要求11所述的表面處理方法，其特征在于所述物理氣相沉積制程的制程壓 力介于3. 663至4. 477毫托耳。
19.如權利要求11所述的表面處理方法，其特征在于所述物理氣相沉積制程包括提供 氬氣，且氬氣的流量介于M至66標準立方公分每分鐘(standard cubiccentimeter per minute, sccm)。
20.如權利要求11所述的表面處理方法，其特征在于所述物理氣相沉積制程包括提供 氮氣，且氮氣的流量介于450至550sccm。
21.如權利要求11所述的表面處理方法，其特征在于所述基材于所述物理氣相沉積制 程中的公轉轉速介于2. 7至3. 3轉速每分鐘(revolution per minute, rpm)
22.如權利要求11所述的表面處理方法，其特征在于所述基材于所述物理氣相沉積制 程中的自轉轉速介于-3. 3至-2. 7rpm。
全文摘要
一種具有色彩的殼體及其表面處理方法，包含基材與色彩層。基材的表面包含至少一平滑區(qū)域，而色彩層覆蓋基材的平滑區(qū)域，其中色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標介于81.43至83.43，a*坐標介于0.30至1.30，而b*坐標介于2.11至3.11。
文檔編號B44C1/04GK102137568SQ20101030080
公開日2011年7月27日 申請日期2010年1月27日 優(yōu)先權日2010年1月27日
發(fā)明者凌維成, 吳佳穎, 廖名揚, 張慶州, 洪新欽, 王仲培, 簡士哲, 蔡泰生, 陳杰良, 魏朝滄, 黃建豪 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司