保持所述涂布液2處于恒溫狀態(tài)，于所述供料口 54和所述輸送管道上經(jīng)熱水夾道加溫處理，且外包覆一層保溫層。所述控制閥為一背壓閥，利用該背壓閥控制所述供料口 54的開(kāi)啟和閉合，從而控制所述涂布液2的流出與否。
[0091 ] 請(qǐng)參照?qǐng)D5至圖7，進(jìn)一步地，所述放卷裝置6包括:放卷架62，垂直安裝于所述機(jī)架4上；第二氣漲軸64，安裝于所述放卷架62上，所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)3纏繞于所述第二氣漲軸64上并繞所述第二氣漲軸64轉(zhuǎn)動(dòng)；第二展平輥66，轉(zhuǎn)動(dòng)連接于所述放卷架62上并位于所述放卷架62與所述上擠壓輥70之間并撐展所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)3?？梢岳斫?，所述第二氣漲軸64由電機(jī)驅(qū)動(dòng)，且該電機(jī)由矢量變頻器和張力自動(dòng)控制器控制，當(dāng)所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)3繞設(shè)于所述第二氣漲軸64上時(shí)，通過(guò)電機(jī)驅(qū)動(dòng)所述第二氣漲軸64轉(zhuǎn)動(dòng)并帶動(dòng)所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)3轉(zhuǎn)動(dòng)而釋放所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)3。從所述第二氣漲軸64上釋放出去的所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)3經(jīng)所述第二展平輥66撐展后穿過(guò)所述上擠壓輥70和所述下擠壓輥71之間并從所述輸出端44輸出。
[0092]進(jìn)一步地，所述固化裝置8內(nèi)設(shè)有紫外UV光源。優(yōu)選地，所述UV光源采用水冷式石英管高壓汞燈，波長(zhǎng)為200?400nm，照射寬帶為300?3000mm，并設(shè)有排廢氣風(fēng)機(jī)和活動(dòng)遮光板。通過(guò)控制所述活動(dòng)遮光板以使所述UV光源發(fā)出的光照射至所述基材I上或者遮擋住所述UV光源發(fā)出的光。
[0093]在涂布過(guò)程中，所述涂布膜層始終由所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)3覆蓋住以完全與外界隔離，這樣，外界溫度、濕度和/或者潔凈度的變化對(duì)所述涂布膜層的品質(zhì)影響可以忽略。由于所述涂布膜層與空氣隔絕，消除了在固化過(guò)程中的“氧阻聚”現(xiàn)象的產(chǎn)生從而消除了薄膜基材I黃變老化的現(xiàn)象。
[0094]上述各實(shí)施例中的擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備采用人機(jī)界面PLC控制系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)統(tǒng)一控制，便于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化。該擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備可以單獨(dú)使用，也可以與其他工位上的設(shè)備組成加工生產(chǎn)線，而實(shí)現(xiàn)在線使用。
[0095]第二方面，提供了一種擠壓轉(zhuǎn)印涂布系統(tǒng)，包括上述擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備。該擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備為上述各實(shí)施例中的擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備，結(jié)構(gòu)相同且具有相同的功能，此處不贅述。
[0096]進(jìn)一步地，所述擠壓轉(zhuǎn)印涂布系統(tǒng)還包括:擠出設(shè)備(圖未示)，用于生成塑料板材或者薄膜卷材；其中，所述擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備與所述擠出設(shè)備安裝于同一生產(chǎn)線中?？梢岳斫猓鲜龌腎為塑料板材或者薄膜卷材。所述擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備設(shè)置于所述擠出設(shè)備的下一工位上，所述擠出設(shè)備加工出的基材I直接輸送至所述擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備上以進(jìn)行涂布膜層的涂布工作，避免產(chǎn)品因轉(zhuǎn)運(yùn)而出現(xiàn)的二次污染或者損傷，節(jié)省了加工工序并減少了人力，大大提高了生產(chǎn)效率。
[0097]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備，用于將涂布液涂覆于基材上，其特征在于，包括: 機(jī)架，支撐所述基材，所述機(jī)架包括供所述基材輸入的輸入端以及供所述基材輸出的輸出端； 供料裝置，提供所述涂布液； 放卷裝置，設(shè)置于所述機(jī)架上并靠近所述基材輸入端以用于釋放轉(zhuǎn)印介質(zhì)； 輸送裝置，將所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)連同涂覆有所述涂布液的所述基材從所述機(jī)架的所述輸入端輸送至所述輸出端，其中，所述輸送裝置包括:上擠壓輥和下擠壓輥，所述上擠壓輥和所述下擠壓輥同步滾動(dòng)； 固化裝置，設(shè)置于機(jī)架上以使形成于所述基材上涂布液交聯(lián)固化； 其中，所述涂布液沿所述上擠壓輥和所述下擠壓輥的相切處涂放于所述基材上，所述基材和所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)之間夾著所述涂布液，所述涂布液在所述上擠壓輥和所述下擠壓輥之間的擠壓力作用下于所述基材表面形成涂布膜層。
2.如權(quán)利要求1所述的擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備，其特征在于，所述輸送裝置還包括:下傳動(dòng)輥和過(guò)渡壓輥，所述下傳動(dòng)輥和所述過(guò)渡壓輥設(shè)置于所述輸出端并相互配合，形成有所述涂布膜層的所述基材連同所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)穿過(guò)所述下傳動(dòng)輥與所述過(guò)渡壓輥之間并與所述下傳動(dòng)輥和所述過(guò)渡壓輥同步運(yùn)行。
3.如權(quán)利要求2所述的擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備，其特征在于，所述輸送裝置還包括:第一驅(qū)動(dòng)氣缸，所述第一驅(qū)動(dòng)氣缸設(shè)置于所述機(jī)架上并驅(qū)動(dòng)所述過(guò)渡壓輥相對(duì)于所述下傳動(dòng)輥上下移動(dòng)。
4.如權(quán)利要求1至3任意一項(xiàng)所述的擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備，其特征在于，所述下擠壓輥與所述上擠壓輥沿所述基材的傳送方向并排設(shè)置，所述基材順時(shí)針繞過(guò)所述下擠壓輥并與所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)夾持有所述涂布液后共同逆時(shí)針繞過(guò)所述上擠壓輥。
5.如權(quán)利要求2或者3所述的擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備，其特征在于，所述機(jī)架包括: 上機(jī)架和下機(jī)架，所述上機(jī)架和所述下機(jī)架上下設(shè)置； 氣動(dòng)升降裝置，所述氣動(dòng)升降裝置驅(qū)動(dòng)所述上機(jī)架相對(duì)于所述下機(jī)架升降。
6.如權(quán)利要求5所述的擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備，其特征在于，所述氣動(dòng)升降裝置包括: 第二驅(qū)動(dòng)氣缸，設(shè)置于所述上機(jī)架上端并控制所述上機(jī)架的升降； 滑軌軸承，與所述驅(qū)動(dòng)氣缸相連并用于定位所述上機(jī)架的升降位置。
7.如權(quán)利要求5所述的擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備，其特征在于，所述上擠壓輥和所述下擠壓輥上下排布于所述基材的上下兩側(cè)，所述上擠壓輥與所述過(guò)渡壓輥位于所述基材的同一偵牝所述下擠壓輥與所述下傳動(dòng)輥位于所述基材的另一相同側(cè)。
8.如權(quán)利要求5所述的擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備，其特征在于，所述輸送裝置還包括: 下托輥，沿所述基材傳送方向并排設(shè)置于所述下機(jī)架上以用于傳送所述基材； 上托輥，設(shè)置于所述上機(jī)架上并與所述下托輥相對(duì)設(shè)置； 其中，形成有所述涂布膜層的所述基材連同所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)穿過(guò)所述下托輥與所述上托輥之間的間隙。
9.如權(quán)利要求5所述的擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備，其特征在于，所述輸送裝置還包括: 下平面帶，繞設(shè)于所述下擠壓輥和所述下傳動(dòng)輥之間； 上傳動(dòng)輥，帶動(dòng)所述上擠壓輥轉(zhuǎn)動(dòng)； 上平面帶，繞射于所述上擠壓輥和所述上傳動(dòng)輥之間； 其中，形成有所述涂布膜層的所述基材連同所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)穿過(guò)所述上平面帶和所述下平面帶之間的間隙。
10.如權(quán)利要求9所述的擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備，其特征在于，所述上平面帶代替所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)，并且所述上平面帶上設(shè)有紋理圖案。
11.如權(quán)利要求9所述的擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備，其特征在于，所述上平面帶與所述下平面帶運(yùn)行時(shí)的線速度相同，并與所述基材、所述涂布膜層和所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)同步運(yùn)行。
12.如權(quán)利要求5所述的擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備，其特征在于，還包括設(shè)置于所述機(jī)架輸出端的放/收卷裝置，其中，所述放/收卷裝置包括: 收/放卷架，垂直安裝于所述機(jī)架上； 第一氣漲軸，安裝于所述收/放卷架上以收集或者釋放所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)且所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)纏繞于所述第一氣漲軸上； 第一展平輥，轉(zhuǎn)動(dòng)連接于所述收/放卷架上并位于所述收/放卷架與所述輸出端之間并撐展所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)。
13.如權(quán)利要求1所述的擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備，其特征在于，所述供料裝置包括:貯液罐、供料口和輸送管道，其中， 所述貯液罐用于存放所述涂布液且為恒溫貯液罐； 所述供料口設(shè)置于所述基材上方以向所述基材上涂布所述涂布液； 所述輸送管道連通于所述貯液罐與所述供料口之間，并于所述輸送管道上設(shè)置有: 計(jì)量泵，與所述貯液罐連通并向所述供料口提供可控流量的所述涂布液； 控制閥，設(shè)置于所述供料口與所述計(jì)量泵之間以控制所述供料口的開(kāi)閉。
14.如權(quán)利要求1所述的擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備，其特征在于，所述放卷裝置包括: 放卷架，垂直安裝于所述機(jī)架上； 第二氣漲軸，安裝于所述放卷架上，所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)纏繞于所述第二氣漲軸上并繞所述第二氣漲軸轉(zhuǎn)動(dòng)； 第二展平輥，轉(zhuǎn)動(dòng)連接于所述放卷架上并位于所述放卷架與所述上擠壓輥之間并撐展所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)。
15.如權(quán)利要求1所述的擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備，其特征在于，所述固化裝置內(nèi)設(shè)有紫外UV光源。
16.一種擠壓轉(zhuǎn)印涂布系統(tǒng)，其特征在于，包括:如權(quán)利要求1至15任意一項(xiàng)所述的擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備。
17.如權(quán)利要求16所述的擠壓轉(zhuǎn)印涂布系統(tǒng)，其特征在于，還包括: 擠出設(shè)備，用于生成塑料板材或者薄膜卷材； 其中，所述擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備與所述擠出設(shè)備安裝于同一生產(chǎn)線中。
【專利摘要】擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備及系統(tǒng)，本實(shí)用新型適用于高分子功能膜的涂布技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備，通過(guò)將轉(zhuǎn)印介質(zhì)和基材夾設(shè)涂布液并經(jīng)輸送裝置擠壓作用形成涂布膜層，旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中涂布技術(shù)中需采用稀釋劑而存在安全隱患以及僅能進(jìn)行單功能涂布加工的問(wèn)題。該擠壓轉(zhuǎn)印涂布設(shè)備用于將涂布液涂覆于基材上，并包括：機(jī)架；供料裝置；放卷裝置；輸送裝置，包括同步滾動(dòng)的上擠壓輥和下擠壓輥；固化裝置；基材和轉(zhuǎn)印介質(zhì)之間夾著涂布液，涂布液在上擠壓輥和下擠壓輥之間的擠壓力作用下于基材表面形成涂布膜層。利用所述上擠壓輥和所述下擠壓輥的擠壓力夾住所述轉(zhuǎn)印介質(zhì)和涂覆有所述涂布液的所述基材，以在所述基材上形成一層厚度均勻的涂布膜層，大大降低了成本。
【IPC分類】B41F16-00
【公開(kāi)號(hào)】CN204367554
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420827280
【發(fā)明人】周友元
【申請(qǐng)人】周友元
【公開(kāi)日】2015年6月3日
【申請(qǐng)日】2014年12月22日