用于移印的系統(tǒng)和方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種用于移印的設備，其包含印刷墊（12）。紋理化轉(zhuǎn)印構件（13）被構造成被所述印刷墊（12）交替地抵著油墨載體（17）和基材（24）按壓以便將油墨圖案轉(zhuǎn)印到所述基材。
【專利說明】
用于移印的系統(tǒng)和方法
技術領域
[0001] 本發(fā)明設及移印。
【背景技術】
[0002] 移印廣泛用于在不同類型的基材表面上印刷內(nèi)容，諸如文本、圖像、標識或圖案。 例如，所述基材表面可為平坦或彎曲的。彎曲表面可為凸的或凹的，并且可具有圓柱形或球 形幾何形狀?？蓱靡朴〉奈矬w包含瓶子或其它容器、球、把手、管或其它物體。
[0003] 在移印系統(tǒng)中，提供印刷板或鉛版，在所述印刷板或鉛版上雕刻或蝕刻將要印刷 的內(nèi)容。因此，鉛版包含呈將要印刷的內(nèi)容的形式的一組凹槽或溝槽。鉛版可由不誘鋼、陶 瓷、光致聚合物或另一合適材料制成。例如，鉛版的溝槽可使用光刻技術通過化學蝕刻形 成。此化學蝕刻可在被蝕刻溝槽內(nèi)形成粗糖表面。舉另一實例，鉛版的溝槽可通過激光雕刻 形成或可通過激光雕刻進行進一步處理。
[0004] 在移印期間，鉛版的溝槽填充有油墨。通常，油墨通過液體油墨供應總成沉積在鉛 版的表面上。例如，油墨可經(jīng)由覆墨刀從封閉的油墨杯提供或從敞開的油墨池提供。刮墨刀 片或其它結構跨鉛版表面行進W擴散油墨W便覆蓋溝槽結構。在油墨擴散之后，跨所述表 面(例如，沿相反方向）移動刮墨刀片W移除保留在鉛版表面的溝槽外部的任何過量油墨。
[0005] 抵著帶有油墨填充的溝槽的鉛版板(clich帥late)按壓可變形墊。溝槽中的油墨 粘附到墊表面且被轉(zhuǎn)印到墊表面，從而形成復制由溝槽形成的圖案的油墨圖案。例如，墊表 面可由娃酬橡膠制成。
[0006] 抵著物體或基材的印刷表面按壓帶有粘附的油墨圖案的可變形墊表面。當被按壓 時，油墨被從墊表面轉(zhuǎn)印到印刷表面。墊可針對特定具體類型的物體印刷表面進行設計。
[0007] 印刷圖像的分辨率可受鉛版的溝槽質(zhì)量、當將圖像從鉛版轉(zhuǎn)印到物體表面時墊的 變形、或油墨與鉛版溝槽的粘附性的限制。例如，當通過標準技術形成鉛版時，溝槽分辨率 可限于約20皿。溝槽深度的精確度可限于約10%。溝槽內(nèi)的壁粗糖度可為約0.7皿且圖案邊 緣粗糖度可為約10%。
[000引近年來，已開發(fā)出圖案化技術來克服光刻的分辨率限制。例如，微接觸印刷通常利 用軟聚二甲基硅氧烷(PDMS)模具或印模來印刷油墨圖案。納米壓印光刻通過在高溫下在高 壓下使熱塑性聚合物膜變形來形成厚度襯度。在逆式壓印中，在合適溫度和壓力下將聚合 物膜旋涂到圖案化模具或印模上且接著將其轉(zhuǎn)印到基材。
[0009] 彎曲表面上的印刷區(qū)域的大小可受墊的柔初性的限制。因此，可利用多個墊來印 刷單個圖像或圖案，或可制造專用墊W與特定成形的表面匹配。由鉛版上的寬溝槽(例如， 寬于約50μπ〇界定的圖案在被轉(zhuǎn)印到物體印刷表面時常常導致失真的圖像。
[0010] 在移印期間，墊(其通常由娃酬橡膠或類似聚合物材料制成)經(jīng)受可限制其壽命的 磨損。例如，在印刷期間，墊可能被抵著鉛版的粗糖表面、溝槽的鋒利邊緣W及物體印刷表 面按壓和摩擦。例如在印刷用于電磁干擾屏蔽或用于光伏電池的導電網(wǎng)格時使用導電油墨 或涂料(例如，DuPont 9169銀導體)可限制墊的壽命。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0011]因此，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，提供一種用于移印的設備，所述設備包含：印刷 墊；W及紋理化轉(zhuǎn)印構件，其被構造成被印刷墊交替地抵著油墨載體和基材按壓W便將油 墨圖案轉(zhuǎn)印到基材。
[001^ 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述轉(zhuǎn)印構件包含轉(zhuǎn)印膜。
[OOU]此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述膜包含PDMS。
[0014] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述設備包含保持器，所述保持器一方面用于將 轉(zhuǎn)印構件保持在印刷墊與油墨載體之間或另一方面用于將轉(zhuǎn)印構件保持在印刷墊與基材 之間。
[0015] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，油墨載體包含由娃形成的鉛版，其中所述鉛版的 表面包含呈圖案形式的溝槽。
[0016] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述溝槽的溝槽包含多個溝槽組件。
[0017] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述鉛版的表面被涂布成抵抗刮擦。
[0018] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，溝槽內(nèi)的表面被涂布成排斥油墨。
[0019] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述溝槽包含W光刻方式產(chǎn)生的細微溝槽圖案。
[0020] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述轉(zhuǎn)印構件包含帶有呈所述圖案形式的細微 突出部的印模，所述圖案的所述突出部基本上復制在其上旋涂所述印模的娃模具的W光刻 方式產(chǎn)生的細微溝槽圖案。
[0021] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述突出部的突出部的表面W基本上復制所述 溝槽的溝槽的紋理的方式進行紋理化。
[0022] 根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，進一步提供一種用于移印的設備，所述設備包含:娃鉛 版，其包含W光刻方式產(chǎn)生的細微溝槽圖案；W及印刷墊，其被構造成在溝槽填充有油墨時 被交替地抵著鉛版和基材按壓W便將圖案轉(zhuǎn)印到所述基材。
[0023] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述溝槽圖案包含細微圖案。
[0024] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述鉛版的表面被涂布成抵抗刮擦。
[0025] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述設備進一步包含轉(zhuǎn)印構件，所述轉(zhuǎn)印構件用 W在印刷墊被抵著鉛版按壓時插入在所述墊與所述鉛版之間且在印刷墊被抵著基材按壓 時插入在所述墊與所述基材之間。
[0026] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述轉(zhuǎn)印構件包含轉(zhuǎn)印膜。
[0027] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述膜包含PDMS。
[0028] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述膜的表面被紋理化。
[0029] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述轉(zhuǎn)印構件包含帶有呈所述圖案形式的突出 部的印模使得當所述墊被抵著鉛版按壓時，所述突出部被插入到鉛版的溝槽中。
[0030] 根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，進一步提供一種移印方法，所述方法包含:抵著插入在 墊與油墨載體之間的轉(zhuǎn)印構件按壓所述墊W便抵著油墨載體按壓轉(zhuǎn)印構件W在轉(zhuǎn)印構件 上產(chǎn)生油墨涂染的圖案；W及在轉(zhuǎn)印構件插入在所述墊與基材之間時抵著轉(zhuǎn)印膜按壓所述 墊W將圖案印刷在所述基材上。
[0031] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，油墨載體包含帶有呈所述圖案形式的油墨填充 的溝槽的鉛版。
[0032] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述鉛版由娃形成。
[0033] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述方法包含應用光刻和蝕刻W制造呈細微溝 槽圖案的形式的溝槽。
[0034] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述方法包含將涂層涂覆到鉛版的表面。
[0035] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述涂層包含抗刮擦涂層或抗粘著涂層。
[0036] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述轉(zhuǎn)印構件包含轉(zhuǎn)印膜。
[0037] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述方法包含通過在旋轉(zhuǎn)表面上旋涂材料來形 成膜。
[003引此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述材料包含PDMS。
[0039] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述轉(zhuǎn)印構件包含帶有呈所述圖案形式的突出 部的印模。
[0040] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述方法包含通過在包含呈所述圖案形式的溝 槽的娃模具上旋涂材料來形成印模。
[0041 ]此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，對所述溝槽的溝槽的表面進行紋理化使得形成 在所述溝槽中的所述突出部的突出部的面基本上復制了所述紋理化溝槽表面的紋理。
[0042] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述材料包含PDMS。
[0043] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述方法包含應用光刻和蝕刻W制造溝槽。
[0044] 根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，進一步提供一種納米壓印光刻設備，所述設備包含：印 模，其帶有呈圖案形式的細微突出部；W及印刷墊，其用于將所述印模按壓到基材表面的表 面上的壓印抗蝕劑涂層上W便將突出部的復制品壓印在壓印抗蝕劑中。
[0045] 根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，進一步提供一種用于納米壓印光刻的方法，所述方法 包含:將壓印抗蝕劑涂覆到基材的表面;抵著帶有突出部的圖案的印模按壓墊W便將印模 的突出部按壓到壓印抗蝕劑中；對壓印抗蝕劑進行硬化；W及從硬化的壓印抗蝕劑移除所 述墊和所述印模。
【附圖說明】
[0046] 為更好地理解本發(fā)明并且了解其實際應用，下文提供附圖并參考附圖。應當指出 的是，附圖僅作為實例給出且決不限制本發(fā)明的范圍。相似組件由相似參考符號表示。
[0047] 圖1示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的移印系統(tǒng)。
[004引圖2示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的鉛版板。
[0049] 圖3示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的用于移印的轉(zhuǎn)印膜。
[0050] 圖4A示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的用于移印的方法的鉛版油墨涂染步驟。
[0051] 圖4B示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的用于移印的方法的使用被油墨涂染的 鉛版的步驟。
[0052] 圖4C示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的用于移印的方法的轉(zhuǎn)印膜油墨涂染步 驟。
[0053] 圖4D示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的用于移印的方法的使用被油墨涂染的 轉(zhuǎn)印膜的步驟。
[0054] 圖4E示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的用于移印的方法的圖像印刷步驟。
[0055] 圖4F示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的用于移印的方法的使用印刷基材的步 驟。
[0056] 圖5示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的用于印刷的印模和用于制造所述印模的 模具。
[0057] 圖6示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的被構造成用于納米壓印光刻的移印設 備。
[0化引圖她示意性地示出壓印之后的圖6A的移印設備。
【具體實施方式】
[0059] 在W下詳細描述中，陳述許多特定細節(jié)W提供對本發(fā)明的徹底了解。然而，本領域 的一般技術人員將理解，本發(fā)明可在沒有運些具體細節(jié)的情況下實踐。在其它實例中，尚未 詳細描述熟知的方法、程序、組件、模塊、單元和/或電路W免使本發(fā)明變得模糊。
[0060] 本發(fā)明的實施例可包含編碼、包含或存儲指令(例如，計算機可執(zhí)行指令)的物品， 諸如計算機或處理器可讀介質(zhì)、或計算機或處理器存儲介質(zhì)（諸如，例如存儲器、磁盤驅(qū)動 器或USB快閃存儲器），所述指令在由處理器或控制器執(zhí)行時實行本文中公開的方法。
[0061] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，移印包含使用轉(zhuǎn)印構件(在本文中用于包含轉(zhuǎn)印膜或印模） 將油墨W圖案形式從油墨載體(例如，被油墨涂染的鉛版、墊、槽或其它油墨保持結構)轉(zhuǎn)印 到基材表面。將要印刷的內(nèi)容(例如，圖像、文本、圖案或其它內(nèi)容，其中任一者在本文中被 稱為圖像)可包含細微特征。例如，呈轉(zhuǎn)印膜形式的轉(zhuǎn)印構件插入在移印系統(tǒng)的墊與呈鉛版 形式的油墨載體之間，所述鉛版的呈圖案或圖像形式的溝槽或凹槽已填充有油墨。呈印模 形式的轉(zhuǎn)印構件可插入在印刷墊與包含油墨的槽或墊之間。如本文中使用，油墨可理解為 包含黑色或有色油墨、涂料或其它液體印刷介質(zhì)，并且可理解為包含導電油墨(例如，含有 懸浮的導電粒子）。
[0062] 例如，可將呈轉(zhuǎn)印膜形式的轉(zhuǎn)印構件降低到呈鉛版形式的油墨載體的頂部表面。 (出于本描述目的，假設鉛版保持在水平取向中，其中鉛版的溝槽向上敞開。相應地描述移 印表面的其它組件和操作。其它取向（諸如，傾斜的或垂直布置的鉛版)是可能的。）可降低 墊W抵著鉛版按壓轉(zhuǎn)印膜。油墨由呈基本上復制鉛版上的形狀的油墨圖案的形式的轉(zhuǎn)印膜 的底部表面吸收。例如，油墨圖案的每一元素(例如，油墨線、油墨曲線或油墨區(qū)域)復制鉛 版的溝槽。
[0063] 升高所述墊并從鉛版移除在其底部表面上具有油墨圖案的轉(zhuǎn)印膜。抵著基材放置 轉(zhuǎn)印膜的被油墨涂染的底部表面。降低所述墊W抵著基材表面按壓被油墨涂染的轉(zhuǎn)印膜。 當升高所述墊并移除轉(zhuǎn)印膜時，油墨保留在基材表面上，從而形成如由鉛版的溝槽確定的 圖像。
[0064] 例如，轉(zhuǎn)印膜可由聚二甲基硅氧烷(PDMS)或油墨不可透過的另一材料制成?？赏?過將呈液相的PDMS旋涂到平坦制造表面或基材上來制造轉(zhuǎn)印膜，所述平坦制造表面或基材 是W適當速率旋轉(zhuǎn)W獲得具有期望厚度(例如，50WI1或另一厚度）的轉(zhuǎn)印膜。用于轉(zhuǎn)印膜制 造的基材可為娃晶片，可制備(例如，涂布或處理)所述娃晶片W便控制轉(zhuǎn)印膜的印刷表面 性質(zhì)。例如，制造表面可涂布有抗粘著涂層W使得能夠從制造表面容易地移除轉(zhuǎn)印膜。
[0065] 可（例如，通過涂布、砂磨、或蝕刻)使制造表面的全部或部分粗糖化，W在轉(zhuǎn)印膜 上產(chǎn)生粗糖化印刷表面(例如，W促進印刷表面保留油墨）。例如，可W受控方式應用等離子 體蝕刻工藝W在制造表面上提供期望紋理。使用具有每分鐘20標準立方厘米(SCCM)的流率 的氣氧等離子體SFsA)2同時在lOOmTorr的壓力下施加155W的射頻功率可實現(xiàn)有效的受控娃 干式蝕刻。典型的蝕刻速率范圍是每分鐘約3770 A(其施加持續(xù)范圍在10秒到2分鐘的時 間段），其可用于產(chǎn)生具有在約0.1WI1和0.5WI1的范圍內(nèi)的典型特征大小的粗糖度或紋理。例 如，此紋理在印刷其寬度在約40WI1到約50WI1的范圍內(nèi)的線時可為有效的。可通過改變W上 參數(shù)和施加時間來控制所得紋理的特征大小?？蓱闷渌y理化方法(例如，機械粗糖化、 化學蝕刻、光學加熱或其它方法）。
[0066] 因為可使用簡單旋涂工藝生產(chǎn)轉(zhuǎn)印膜，所W與更換墊的成本相比，更換轉(zhuǎn)印膜的 成本可為可忽略的。因此，由于轉(zhuǎn)印膜保護印刷墊使其免于與鉛版、油墨W及基材表面直接 接觸，所W可極大地延長(更昂貴的）墊的有用壽命(如與常規(guī)移印系統(tǒng)中的印刷墊的壽命 相比）。此外，轉(zhuǎn)印膜的印刷表面的性質(zhì)是高度可控的并且轉(zhuǎn)印膜的清潔(相對于清潔印刷 墊)是相對簡單和快速的。
[0067] 框架的尺寸可制造得比將要印刷的圖像的大小更大。運樣，可最小化印刷期間轉(zhuǎn) 印膜的被油墨涂染的部分的崎變。最小化轉(zhuǎn)印膜的崎變可提高印刷的精確度，從而實現(xiàn)對 細微圖像特征的精確印刷。如本文中使用，細微特征是指其臨界尺寸（例如，線寬）不大于 100μπι、不大于70WI1或不大于50WI1的特征。細微特征的臨界尺寸的變化(例如，其精度)可足 夠小W實現(xiàn)對具有約扣m的細微分辨率(鄰近線之間的間距)的線的印刷。更特定地，細微特 征可指代其臨界尺寸不大于10WI1或其臨界尺寸的變化不大于±1.5wii的特征。如本文中使 用，細微圖案是指含有其臨界尺寸、臨界尺寸的精度、特征之間的間距或W上任一者的組合 對應于細微特征的臨界尺寸、臨界尺寸精度、特征之間的間距或W上任一個的組合的特征 的圖案(例如，鉛版溝槽的圖案、印模突出部的圖案或所印刷圖案的圖案）。
[0068] 根據(jù)本發(fā)明的實施例的移印系統(tǒng)可包含用于將轉(zhuǎn)印膜保持到墊上的膜保持器。所 述保持器包含被構造成保持轉(zhuǎn)印膜的邊緣的框架。例如，可提供圓形框架W保持圓形轉(zhuǎn)印 膜。可對轉(zhuǎn)印膜的邊緣區(qū)域進行加厚W促進由框架進行保持。替代地或此外，可將膜直接保 持到印刷墊。
[0069] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，鉛版可包含其中使用娃光刻和蝕刻技術形成溝槽的（結晶） 娃。溝槽的尺寸因此可W小到小于±〇.5wii的精度形成。因此，可實現(xiàn)對細微圖案或細微特 征的印刷。溝槽的側壁和底部可為充分平滑W免影響印刷。
[0070] 娃中的溝槽形成的精度可實現(xiàn)彼此極為貼近(例如，通過薄壁分隔）的小溝槽組件 的圖案的形成。例如，此溝槽組件圖案可充當單個較大溝槽。使用小溝槽組件可為有利的。 例如，使用小溝槽組件可導致在轉(zhuǎn)印膜上形成包含基本上復制出的小圖案元素的油墨圖 案。針對小圖案元素的油墨量可更好地粘附到轉(zhuǎn)印膜表面，并且在更多種條件下比針對大 圖案元素的較大油墨量更好地粘附到轉(zhuǎn)印膜表面。將小圖案元素按壓到基材表面W形成印 刷圖像。在按壓期間，當被轉(zhuǎn)印到基材表面W形成印刷圖像的元素時小圖案元素中的每一 個略微擴散。擴散可為充分的使得小印刷元素的圖案被作為單個大印刷元素進行印刷，例 如，由具有與溝槽組件的圖案相同的總體尺寸的單個溝槽形成。例如，將要印刷的線可在鉛 版上表示為一行點狀溝槽，而非由單個長形溝槽表示。
[0071] 由娃形成鉛版可比由金屬或另一材料形成鉛版更有利。例如，當?shù)种捭U版按壓 印刷墊時，必須施加到墊W將油墨有效轉(zhuǎn)印到墊的力可小于在使用金屬鉛版的情況下需要 的力。因此，可通過使用娃鉛版來減少墊表面的磨損。此外，因為當施加較低的力時油墨不 會深入滲透到墊表面中，所W可降低清潔或更換所述墊的頻率。
[0072] 可對由娃形成的鉛版的表面進行涂布或處理W控制表面性質(zhì)。例如，鉛版的上表 面(與轉(zhuǎn)印膜接觸的側)上的涂層可具備硬化涂層(例如，氧化侶）。所述硬化涂層可允許上 表面承受刮墨刀片的重復通過。例如，移印系統(tǒng)可包含一個或多個不誘鋼刀片，所述不誘鋼 刀片跨鉛版表面刮擦W將油墨擴散到到溝槽中或擦去在擴散期間未納入溝槽中的過量油 fT[7| 0
[0073] 可對溝槽側壁的表面進行涂布W促進轉(zhuǎn)印膜拾取油墨。例如，溝槽側壁或底部的 表面可涂布有排斥油墨的材料(例如，聚四氣乙締，諸如Teflon?或排斥油墨的另一材料）。
[0074] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，轉(zhuǎn)印構件可包含印模，并且油墨載體可接著包含用于對印 模表面上的突出部進行油墨涂染的結構（例如，墊或槽）。用于制造印刷印模的磨具可由娃 形成。如上文(關于鉛版形成)所描述，光刻和蝕刻技術可用于精確形成所述模具。所述模具 可包含呈細微特征形式的溝槽?？蓪λ瞿＞哌M行涂布或處理W控制表面性質(zhì)。
[0075] 印?？赏ㄟ^在模具表面上旋涂印模材料(例如，PDMS或娃酬橡膠）來形成。旋涂材 料在從模具剝離時呈印模形式。填充模具上的溝槽的印模材料在印模的印刷表面上形成細 微凸起突出部。還可對所述印模進行局部涂布或處理W控制表面性質(zhì)。
[0076] 模具形成的精度可實現(xiàn)對印模的印刷面的粗糖度的控制。例如，溝槽的底部可有 意地形成有受控粗糖度。當印模形成在所述模具上時，形成在粗糖化溝槽中的凸起突出部 可具有粗糖化面。粗糖面可比相同材料的平滑表面更有效地拾取油墨。因此，與在使用平滑 表面的情況下可實現(xiàn)的印刷質(zhì)量相比，粗糖突出表面可取得更好的印刷質(zhì)量。例如，可通過 氧等離子體處理來增大PDMS的親水性。
[0077] 可對印模進行油墨涂染W(wǎng)將由凸起的突出部形成的圖像轉(zhuǎn)印到基材表面。例如， 可通過浸沒在油墨槽中或通過抵著油墨飽和的墊進行按壓來對突出部進行油墨涂染。舉另 一實例，可通過插入到鉛版的油墨填充的溝槽中來對突出部進行油墨涂染。鉛版的溝槽可 類似于用于形成印模的模具的溝槽，或可略寬W促進將突出部浸入到溝槽中。
[0078] 圖1示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的移印系統(tǒng)。
[0079] 移印系統(tǒng)10被構造成使用轉(zhuǎn)印構件13W圖案的形式將油墨從油墨載體17轉(zhuǎn)印到 基材24。
[0080] 例如，油墨載體17可表示具有由一個或多個溝槽18形成的圖案的鉛版板。（為簡單 和清楚起見，僅示出單個溝槽18并且溝槽18相對于鉛版板的大小被示為比通常的情況更 大）。在此實例中，轉(zhuǎn)印構件13可表示轉(zhuǎn)印膜。除了一些可能的無定形紋理或其它受控表面 性質(zhì)或制備之外，轉(zhuǎn)印膜是基本上無特征的。
[0081] 舉另一實例，轉(zhuǎn)印構件13可表示具有呈將要轉(zhuǎn)印的圖案的形式的突出部的圖案的 印模(例如，所述印模具有突出部從其突出的薄膜狀基部的形式）。在此情形中，油墨載體17 可表示淺油墨槽、油墨飽和的墊、圖案化淺油墨槽(類似于鉛版）（其中油墨槽的油墨填充的 溝槽被圖案化W與印模的突出部匹配)或可用于對呈印模形式的油墨轉(zhuǎn)印構件13進行油墨 涂染的另一載體。
[0082] 在所示實例中，基材24的上表面是凹的（例如，圓頂狀物、碗狀物、透鏡、覆蓋物或 其它類似物體）。在其它實例中，基材24的上表面可為凸的、平坦的、有角的、有小面的或W 其它方式成形的。
[0083] 移印系統(tǒng)10被構造成交替地使轉(zhuǎn)印構件13與油墨載體17和基材24接觸。例如，控 制器30可被配置成操作橫向運動機構22W依次將油墨載體帶至油墨杯20W及轉(zhuǎn)印構件13 下方。例如，控制器30可包含協(xié)調(diào)油墨載體17、油墨杯20、轉(zhuǎn)印構件13、基材24和印刷墊12的 相對運動的電子電路或機械機構。（例如，在一些系統(tǒng)中，橫向運動機構22可被構造成在油 墨載體17保持在固定位置中時移動印刷墊12。在其它系統(tǒng)中，橫向移動機構22可被構造成 在印刷墊12保持靜止時移動油墨載體17。橫向運動的其它組合是可能的。為簡單起見，在圖 1中和在本文中參考的其它附圖中，橫向運動機構22被示為移動油墨載體17,而移印系統(tǒng)10 的其它組件關于橫向運動保持靜止。）
[0084] 控制器30可包含處理器，所述處理器被配置成根據(jù)存儲在適當存儲器或數(shù)據(jù)存儲 裝置中的編程指令進行操作。
[0085] 轉(zhuǎn)印構件13可由膜保持器15保持。例如，膜保持器15可呈保持轉(zhuǎn)印構件13的周邊 的全部或部分的框架的形式。轉(zhuǎn)印構件13可由橫向運動機構22交替地帶至鄰近于油墨載體 17和鄰近于基材24處。橫向運動機構22或不同運動機構（例如，與基材保持器28相關聯(lián)的運 動機構)可按順序?qū)⒉煌?4或單個基材的不同部分帶至鄰近于轉(zhuǎn)印構件13處。例如，基 材保持器28可被構造成平移或旋轉(zhuǎn)基材24。作為對由膜保持器15保持的替代，轉(zhuǎn)印構件13 (具有膜狀形式)可直接放置在印刷墊12上(例如，安裝在印刷墊12上或夾緊到印刷墊12)。
[0086] 例如，油墨載體17可呈鉛版板的形式。當鉛版板定位在油墨杯20下方時，油墨由油 墨杯20分配到鉛版板的面向表面(包含溝槽18的表面)上。在油墨的分配期間，可（例如，通 過橫向運動機構22)相對于油墨杯20移動鉛版板W便在鉛版板的表面上擴散所分配油墨。 擴散油墨可確保油墨填充每一個溝槽18?？裳劂U版板的表面移動覆墨刀或刀片21(例如，刮 墨刀片）的一(背)側W便促進油墨的均勻擴散。另外的相對運動（例如，沿相反方向的相對 運動）可使得能夠從鉛版板的表面移除過量油墨（處在溝槽18外部的鉛版板表面上的油 墨）。例如，相同或不同刀片21可沿鉛版板的表面刮擦W移除過量油墨(例如，移除到鄰近于 鉛版板的容器）。刀片21可被成形(例如，被成形為鉤狀或J形輪廓或W其它方式成形便 在相對于鉛版板沿一個方向移動時促進油墨擴散，并且在沿相反方向移動時促進過量油墨 移除。當油墨載體17為呈印模形式的轉(zhuǎn)印構件提供油墨時可執(zhí)行類似油墨涂染活動。
[0087] 控制器30可操作墊運動機構32W升高或降低印刷墊12。可操作墊運動機構32或相 關(和協(xié)調(diào))機構W升高或降低膜保持器15。
[0088] 例如，溝槽18可填充有油墨且被定位成鄰近于呈膜或印模形式的轉(zhuǎn)印構件13。接 著，可操作墊運動機構32W將印刷墊12和轉(zhuǎn)印構件13降低到油墨載體17。印刷墊12抵著油 墨載體17按壓轉(zhuǎn)印構件13W便致使溝槽18內(nèi)的油墨粘附到轉(zhuǎn)印構件13。一旦轉(zhuǎn)印構件13被 油墨涂染，就可操作墊運動機構32W升高印刷墊12(和轉(zhuǎn)印膜14)使其遠離油墨載體17。（當 轉(zhuǎn)印構件13呈印模形式時，油墨載體17可在所有情形中都不包含溝槽。當油墨載體17不包 含溝槽時，油墨載體17可包含油墨槽、油墨飽和的墊或用于保持油墨的其它結構。）
[0089] 在轉(zhuǎn)印構件13被油墨涂染之后，可（例如，通過橫向運動機構22、基材保持器28或 兩者的操作)將基材24帶至鄰近于轉(zhuǎn)印構件13處。接著，墊運動機構32可操作W降低墊12和 轉(zhuǎn)印構件13使其抵著基材24。印刷墊12抵著基材24按壓被油墨涂染的轉(zhuǎn)印構件13。接著，轉(zhuǎn) 印構件13上的油墨粘附到基材24的表面。一旦將油墨圖案轉(zhuǎn)印到基材24,就可升高印刷墊 12和轉(zhuǎn)印構件13。
[0090] 印刷墊12可被成形為適應特定成形的基材24。替代地或此外，兩個或更多個印刷 墊可同時協(xié)作W便抵著具有較大表面或具有復雜形狀的基材按壓轉(zhuǎn)印構件13。轉(zhuǎn)印構件13 防止印刷墊12與油墨載體17和基材24兩者之間的直接接觸。因此，沒有油墨與印刷墊12接 觸。此外，在印刷墊1巧油墨載體17或基材24之間不存在直接摩擦或刮擦。避免印刷墊12與 油墨之間的接觸可防止印刷墊12的劣化。
[0091] 根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，油墨載體17呈具有溝槽的鉛版板的形式。所述鉛版板 和溝槽可被構造成使得能夠印刷包含細微特征或另一圖案或特征的細微圖案。
[0092] 圖2示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的用于移印的鉛版板。
[0093] 鉛版板16的部分或全部可由經(jīng)特別涂布或處理W控制表面性質(zhì)的娃形成。例如， 可將娃晶片放置在背襯上。所述背襯可防止娃晶片在使用期間斷裂或壓裂。
[0094] 例如，包含溝槽18的鉛版板16的至少一部分可由娃制成。運樣，溝槽18可通過使用 如（例如)在生產(chǎn)集成電路中利用的標準娃晶片光刻和蝕刻技術來形成。因此，生產(chǎn)溝槽18 時的公差和精度可與集成電路的公差和精度類似。另一方面，對于非娃鉛版板，激光加工由 于激光的相對較長的波長而在可達到的精度方面受到限制。
[00M]當實現(xiàn)溝槽18的細微成形時，單個溝槽18可包含多個溝槽組件34。例如，溝槽組件 34可呈矩形或正方形壓痕、圓形壓痕、多邊形壓痕或W其它方式成形的壓痕的形式。因此， 填充每一溝槽組件34的油墨的體積或質(zhì)量可為溝槽18的總體積或質(zhì)量的一部分。將溝槽18 分成多個較小的溝槽組件34可抑制或防止油墨與轉(zhuǎn)印膜的分離，或可抑制或防止轉(zhuǎn)印到基 材的圖像的失真。
[0096] 當鉛版板16由娃或可被特別涂布的類似材料形成時，可將一個或多個涂層涂布到 鉛版板16的各個表面上。可使用已知娃涂布技術來涂覆所述涂層。此類涂層可包含(例如） 抗刮擦涂層36和油墨排斥涂層38。
[0097] 例如，油墨排斥涂層38可包含通過純化工藝從C4F8等離子體沉積的氣碳膜。
[0098] 抗刮擦涂層36可包含硬化的材料?？构尾镣繉?6可涂布在鉛版板16的表面上，所 述表面在印刷期間被刀片或其它組件刮擦(例如，W擴散油墨或移除過量油墨）。抗刮擦涂 層36因此可防止刀片對鉛版板16的刮擦。因此，可延長鉛版板16的壽命。
[0099] 油墨排斥涂層38可放置在溝槽18或溝槽組件34的一個或多個內(nèi)側壁上。例如，油 墨排斥涂層38可涂布到溝槽18或溝槽組件34的底部或側壁上。油墨排斥涂層38可抑制或防 止油墨粘附到溝槽18或溝槽組件34的表面。因此，可將油墨有效地從溝槽18或溝槽組件34 轉(zhuǎn)印到被特別制備W控制表面性質(zhì)的轉(zhuǎn)印膜印刷表面。此有效油墨轉(zhuǎn)印可實現(xiàn)更精確的印 巧IJ，并且可抑制或防止油墨在溝槽18或溝槽組件34內(nèi)積聚（其可有效地阻塞溝槽或溝槽組 件）。例如，有效油墨轉(zhuǎn)印可防止或抑制導電油墨的導電粒子的積聚，所述導電粒子可在對 于金屬鉛版板而言為典型的鉛字或粗糖表面中沉淀。
[0100] 根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，轉(zhuǎn)印構件可呈轉(zhuǎn)印膜的形式。
[0101] 圖3示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的用于移印的轉(zhuǎn)印膜。
[0102] 轉(zhuǎn)印膜14可由PDMS制成或可包含PDMS，或可包含類似材料的聚對二甲苯、聚酷亞 胺。例如，轉(zhuǎn)印膜14可通過旋涂技術或通過真空沉積技術生產(chǎn)。在其上旋涂材料或真空沉積 材料的表面可為娃晶片。可制備其上旋涂轉(zhuǎn)印膜的表面W便控制所述膜的印刷表面的性質(zhì) (例如，紋理）。
[0103] 在印刷期間，可由印刷墊抵著鉛版或基材表面按壓中屯、部分42。外部部分44可由 膜保持器(例如，夾持外部部分44的全部或部分的框架)保持。例如，可對外部部分44進行加 厚或強化W促進膜保持器進行保持。
[0104] 在移印期間，印刷墊可按壓轉(zhuǎn)印膜14的中屯、部分42,而外部部分44由膜保持器保 持。因此，來自鉛版的油墨圖案被轉(zhuǎn)印到中屯、部分42。在此情形中，對轉(zhuǎn)印膜14的大多數(shù)伸 展可在轉(zhuǎn)印膜14的中間部分40中發(fā)生。因此，可最小化或減少中屯、部分42中的伸展。對中屯、 部分42的伸展的減少因此可提高從鉛版到基材的圖像轉(zhuǎn)印的精確度并實現(xiàn)對細微(例如， 微米大小的)特征的印刷。
[0105] 轉(zhuǎn)印膜14可由不會被導電（例如，銀）油墨損害的材料制成。此類材料的實例包含 PDMS、聚對二甲苯或聚酷亞胺。
[0106] 參考圖1，移印系統(tǒng)10可根據(jù)用于(例如)移印細微特征的方法來操作。移印系統(tǒng)10 的操作可由控制器30進行控制。替代地或此外，移印系統(tǒng)10可由人類操作者手動操作或可 由與控制器30協(xié)調(diào)工作的操作者操作。
[0107] 圖4A示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的用于移印的方法的鉛版油墨涂染步驟。
[0108] 油墨杯20將油墨分配到鉛版板16上W形成油墨填充的溝槽18'。
[0109] 圖4B示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的用于移印的方法的使用被油墨涂染的 鉛版的步驟。
[0110] 操作橫向運動機構22W將油墨填充的溝槽18'（油墨已被刮墨刀片或類似機構的 動作約束到油墨填充的溝槽18'）移動到轉(zhuǎn)印膜14。
[0111] 圖4C示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的用于移印的方法的轉(zhuǎn)印膜油墨涂染步 驟。
[0112] 降低轉(zhuǎn)印膜14W接觸鉛版板16。操作墊運動機構32使得印刷墊12抵著鉛版板16按 壓轉(zhuǎn)印膜。
[0113] 圖4D示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的用于移印的方法的使用被油墨涂染的 轉(zhuǎn)印膜的步驟。
[0114] 操作墊運動機構32W升高印刷墊12并釋放被油墨涂染的轉(zhuǎn)印膜14'（其也被升高） 上的壓力。操作橫向運動機構22W移動鉛版板16使其遠離被油墨涂染的轉(zhuǎn)印膜14'。
[0115] 圖4E示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的用于移印的方法的圖像印刷步驟。
[0116] 將轉(zhuǎn)印膜14降低到基材24。墊運動機構32降低印刷墊12W抵著基材24按壓轉(zhuǎn)印膜 14。壓力致使轉(zhuǎn)印膜14的形狀適形于基材24的形狀。
[0117] 圖4F示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的用于移印的方法的使用印刷基材的步 驟。
[0118] 操作墊運動機構32W提升印刷墊12。轉(zhuǎn)印膜14也被升高。印刷基材24'印刷有復制 鉛版板16上的圖案的油墨圖案。同時，油墨通過油墨杯20分配到鉛版板16上（如圖4A中示 出）。
[0119] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，轉(zhuǎn)印構件可包含印模。模具可使用上文描述的技術(用于由 娃制造鉛版的技術）由娃制成。所述模具可用于生產(chǎn)用于印刷包含細微特征或另一類型的 圖案或特征的細微圖案的印模。
[0120] 圖5示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的用于印刷的印模和用于制造所述印模的 模具。
[0121] 印模50包含呈將要印刷的圖像的形式的突出部52。印模50可由PDMS或另一合適材 料制成。當使用印模50進行印刷時，突出部52的面58b可被油墨涂染。接著，可抵著將在其上 印刷油墨圖像的基材表面按壓被油墨涂染的面58b。油墨圖像因此被轉(zhuǎn)印到基材表面。
[0122] 由娃(例如，呈晶片形式）制成的模具54可用于制造印模50。模具54包含用于形成 突出部52的溝槽56。模具54的溝槽56可使用光刻和蝕刻技術W娃精確制造。例如，模具54可 呈圓盤(其橫截面在圖5中示出）的形式。呈液體形式的PDMS可在旋轉(zhuǎn)模具54時沉積在模具 54上。因此旋涂在模具54上的PDMS填充溝槽56。因此，硬化的PDMS在被從模具54移除時包含 突出部52。
[0123] 可對突出部52的面58b進行粗糖化或紋理化W促進保持油墨。例如，當制造溝槽56 時，可W對應于面58b的期望紋理或基本上復制面58b的期望紋理的方式有意地對所述溝槽 56的底部58a進行紋理化。因此，當通過旋涂形成時，突出部52的面58b基本上復制了溝槽56 的底部58a的紋理。
[0124] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，移印系統(tǒng)和印模可被構造成用于納米壓印光刻中。在納米 壓印光刻中，可通過印刷墊將印模按壓到覆蓋有壓印抗蝕劑的基材表面中。壓印抗蝕劑可 包含熱塑性聚合物或紫外線可固化聚合物。將印模的突出部按壓到液體壓印抗蝕劑中可將 突出部的圖案的復制品壓印到抗蝕劑上。壓印工藝從突出部與基材表面的接觸區(qū)域移除抗 蝕劑。壓印可從第一接觸點開始并沿印模橫向擴散。此外，毛細作用力可輔助將印模的突出 部拉動到液體壓印抗蝕劑中。使用印刷墊來按壓印?？蓪崿F(xiàn)與不平(例如，波形)基材的適 形且可防止印模陷閉空氣。在壓印之后，壓印抗蝕劑可經(jīng)受致使所述壓印抗蝕劑聚合且硬 化W形成凝固材料的條件(例如，熱量、紫外線福射或其它條件）。在聚合之后，可通過提升 所述墊從基材移除印模，從而暴露壓印圖案。通過提升所述墊來移除印?？蓪崿F(xiàn)通過施加 比印模安裝在固體基部上的情況下所需的力更小的力來進行移除。減小的力可減少或避免 對印?；?qū)河D案的損害。（例如，在制造時、在按壓到壓印抗蝕劑中之前或兩者)可對印 模和印模突出部進行特別處理W在不損害或不干擾壓印圖案的情況下實現(xiàn)印模移除。
[0125] 圖6A示意性地示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的被構造成用于納米壓印光刻的移印設 備。在納米壓印光刻設備60中，印刷墊12可將印模50的突出部52按壓到光刻基材62上的壓 印抗蝕劑64中。
[0126] 圖6B示意性地示出壓印之后的圖6A的移印設備。在壓印抗蝕劑64的聚合之后，且 在從光刻基材62移除印模50之后，壓印抗蝕劑64被壓印有對應于印模50上的突出部52的溝 槽圖案66。
【主權項】
1. 一種用于移印的設備，所述設備包括： 印刷墊；以及 紋理化轉(zhuǎn)印構件，其被構造成被所述印刷墊交替地抵著油墨載體和基材按壓以便將油 墨圖案轉(zhuǎn)印到所述基材。2. 根據(jù)權利要求1所述的設備，其中所述轉(zhuǎn)印構件包括轉(zhuǎn)印膜。3. 根據(jù)權利要求2所述的設備，其中所述膜包括PDMS。4. 根據(jù)權利要求2或3所述的設備，其包括保持器，所述保持器一方面用于將所述轉(zhuǎn)印 構件保持在所述印刷墊與所述油墨載體之間或另一方面用于將所述轉(zhuǎn)印構件保持在所述 印刷墊與所述基材之間。5. 根據(jù)權利要求1至4中任一權利要求所述的設備，其中所述油墨載體包括由硅形成的 鉛版，其中所述鉛版的表面包含呈所述圖案的形式的溝槽。6. 根據(jù)權利要求5所述的設備，其中所述溝槽的溝槽包括多個溝槽組件。7. 根據(jù)權利要求5或6所述的設備，其中所述鉛版的表面被涂布成抵抗刮擦。8. 根據(jù)權利要求5至7中任一權利要求所述的設備，其中溝槽內(nèi)的表面被涂布成排斥油 墨。9. 根據(jù)權利要求5至8中任一權利要求所述的設備，其中所述溝槽包括以光刻方式產(chǎn)生 的細微溝槽圖案。10. 根據(jù)權利要求1至9中任一權利要求所述的設備，其中所述轉(zhuǎn)印構件包括帶有呈所 述圖案形式的細微突出部的印模，所述圖案的所述突出部基本上復制在其上制備所述印模 的硅模具的以光刻方式產(chǎn)生的細微溝槽圖案。11. 根據(jù)權利要求10所述的設備，其中所述突出部的突出部的表面是以基本上復制所 述溝槽的溝槽的紋理的方式進行紋理化。12. -種用于移印的設備，所述設備包括： 硅鉛版，其包含以光刻方式產(chǎn)生的細微溝槽圖案；以及 印刷墊，其被構造成在所述溝槽填充有油墨時被交替地抵著所述鉛版和基材按壓以便 將所述圖案轉(zhuǎn)印到所述基材。13. 根據(jù)權利要求12所述的設備，其中所述溝槽圖案包括細微圖案。14. 根據(jù)權利要求12或13所述的設備，其中所述鉛版的表面被涂布成抵抗刮擦。15. 根據(jù)權利要求12至14中任一權利要求所述的設備，其中所述溝槽圖案的溝槽內(nèi)的 表面被涂布成排斥油墨。16. 根據(jù)權利要求12至15中任一權利要求所述的設備，其進一步包括轉(zhuǎn)印構件，所述轉(zhuǎn) 印構件用以在所述印刷墊被抵著所述鉛版按壓時插入在所述墊與所述鉛版之間且在所述 印刷墊被抵著所述基材按壓時插入在所述墊與所述基材之間。17. 根據(jù)權利要求12至16中任一權利要求所述的設備，其中所述轉(zhuǎn)印構件包括轉(zhuǎn)印膜。18. 根據(jù)權利要求12至17中任一權利要求所述的設備，其中所述轉(zhuǎn)印構件包括PDMS。19. 根據(jù)權利要求12至18中任一權利要求所述的設備，其中所述轉(zhuǎn)印構件的表面被紋 理化。20. 根據(jù)權利要求12至19中任一權利要求所述的設備，其中所述轉(zhuǎn)印構件包括帶有呈 所述圖案形式的突出部的印模使得當所述墊被抵著所述鉛版按壓時，所述突出部被插入到 所述鉛版的所述溝槽中。21. -種用于移印的方法，所述方法包括： 抵著插入在墊與油墨載體之間的紋理化轉(zhuǎn)印構件按壓所述墊以便抵著油墨載體按壓 所述轉(zhuǎn)印構件以在所述轉(zhuǎn)印構件上產(chǎn)生被油墨涂染的圖案；以及 在所述轉(zhuǎn)印構件插入在所述墊與基材之間時抵著所述油墨涂染的轉(zhuǎn)印構件按壓所述 墊以將所述圖案印刷在所述基材上。22. 根據(jù)權利要求21所述的方法，其中所述油墨載體包括帶有呈所述圖案形式的油墨 填充的溝槽的鉛版。23. 根據(jù)權利要求22所述的方法，其中所述鉛版由硅形成。24. 根據(jù)權利要求23所述的方法，其進一步包括應用光刻和蝕刻來制造呈細微溝槽圖 案的形式的所述溝槽。25. 根據(jù)權利要求22至24中任一權利要求所述的方法，其進一步包括將涂層涂覆到所 述鉛版的表面。26. 根據(jù)權利要求25所述的方法，其中所述涂層包括抗刮擦涂層或抗粘著涂層。27. 根據(jù)權利要求22至26中任一權利要求所述的設備，其中所述轉(zhuǎn)印構件包括轉(zhuǎn)印膜。28. 根據(jù)權利要求27所述的方法，其進一步包括通過在旋轉(zhuǎn)表面上旋涂材料來形成所 述膜。29. 根據(jù)權利要求27或28所述的方法，其中所述材料包括PDMS。30. 根據(jù)權利要求21所述的方法，其中所述轉(zhuǎn)印構件包括帶有呈所述圖案形式的突出 部的印模。31. 根據(jù)權利要求30所述的方法，其進一步包括通過在包含呈所述圖案形式的溝槽的 硅模具上旋涂材料來形成所述印模。32. 根據(jù)權利要求31所述的方法，其中對所述溝槽的溝槽的表面進行紋理化使得形成 在所述溝槽中的所述突出部的突出部的面基本上復制了所述紋理化溝槽表面的紋理。33. 根據(jù)權利要求31或32所述的方法，其中所述材料包括PDMS。34. 根據(jù)權利要求31至33中任一權利要求所述的方法，其進一步包括應用光刻和蝕刻 以制造所述溝槽。35. -種納米壓印光刻設備，其包括： 印模，其帶有呈圖案形式的細微突出部；以及 印刷墊，其用于將所述印模按壓在基材表面的表面上的壓印抗蝕劑涂層上以便將所述 突出部的復制品壓印在所述壓印抗蝕劑中。36. -種用于納米壓印光刻的方法，所述方法包括： 將壓印抗蝕劑涂覆到基材的表面； 抵著帶有突出部的圖案的印模按壓墊以便將所述印模的所述突出部按壓到所述壓印 抗蝕劑中； 對所述壓印抗蝕劑進行硬化；以及 從所述硬化的壓印抗蝕劑移除所述墊和所述印模。
【文檔編號】B41F17/00GK105848899SQ201480057768
【公開日】2016年8月10日
【申請日】2014年8月24日
【發(fā)明人】雅科夫·施耐德, 奧娜·泰爾亞克, 斯維特拉娜·約菲斯
【申請人】特克尼雍研究和發(fā)展公司