一種無(wú)縫uv鐳射膜的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種無(wú)縫UV鐳射膜，其特征在于：包括由聚對(duì)苯二乙酸甲二醇酯制成的基膜層，基膜層上模壓一層帶有間隔紋路的壓印層，壓印層上再模壓一層帶有間隔紋路的二次壓印層，二次壓印層上設(shè)有鍍鋁層，鍍鋁層上設(shè)有熱封層。本實(shí)用新型在壓印層上再進(jìn)行二次壓印，且兩次壓印的紋路部分疊加，從而使鐳射膜實(shí)現(xiàn)無(wú)縫復(fù)合，提高產(chǎn)品的檔次，無(wú)任何鐳射陰影。
【專利說(shuō)明】—種無(wú)縫UV鐳射膜
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及鐳射膜【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種無(wú)縫UV鐳射膜。
【背景技術(shù)】
[0002]全息防偽(鐳射)膜、紙目前市場(chǎng)上主要用于高檔煙包、化妝品、酒盒等外包裝上，由于成本及效率等因素，無(wú)縫鐳射膜、紙因在凹印及部分膠印的優(yōu)異表現(xiàn)，越來(lái)越多被重視及得到應(yīng)用。目前無(wú)縫鐳射膜制法主要為熱固性鐳射制法:第一步為熱固法鐳射樹(shù)脂涂布；第二步，無(wú)縫鐳射膜壓。其優(yōu)點(diǎn)是第一步工藝技術(shù)成熟，成本較低。缺點(diǎn)是第二步無(wú)縫膜壓因鐳射區(qū)有固定陰影，鐳射圖案色澤差，不能真正稱之為無(wú)縫鐳射。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種新的無(wú)縫UV鐳射膜。
[0004]本實(shí)用新型是通過(guò)以下的技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:一種無(wú)縫UV鐳射膜，包括由聚對(duì)苯二乙酸甲二醇酯制成的基膜層，基膜層上模壓一層帶有間隔紋路的壓印層，壓印層上再模壓一層帶有間隔紋路的二次壓印層，二次壓印層上設(shè)有鍍鋁層，鍍鋁層上設(shè)有熱封層。
[0005]優(yōu)選的，壓印層與二次壓印層上的紋路部分疊加。
[0006]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn) 在于:在壓印層上再進(jìn)行二次壓印，且兩次壓印的紋路部分疊加，從而使鐳射膜實(shí)現(xiàn)無(wú)縫復(fù)合，提高產(chǎn)品的檔次，無(wú)任何鐳射陰影。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0007]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0008]圖2為本實(shí)用新型中壓印層的紋路示意圖；
[0009]圖3為本實(shí)用新型中二次壓印層的紋路示意圖。
[0010]圖中:1、基I旲層；2、壓印層；3、二次壓印層；4、鍛招層；5、熱封層。
【具體實(shí)施方式】
[0011]下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。
[0012]如圖1至圖3所示，一種無(wú)縫UV鐳射膜，包括由聚對(duì)苯二乙酸甲二醇酯制成的基膜層，基膜層上模壓一層帶有間隔紋路的壓印層，壓印層上再模壓一層帶有間隔紋路的二次壓印層，二次壓印層上設(shè)有鍍鋁層，鍍鋁層上設(shè)有熱封層。
[0013]其中，壓印層與二次壓印層上的紋路部分疊加。
[0014]以上所述僅為體現(xiàn)本實(shí)用新型原理的較佳實(shí)施例，并不因此而限定本實(shí)用新型的保護(hù)范圍，凡是依本實(shí)用新型所作的均等變化與修飾皆在本實(shí)用新型涵蓋的專利范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種無(wú)縫UV鐳射膜，其特征在于:包括由聚對(duì)苯二乙酸甲二醇酯制成的基膜層，基膜層上模壓一層帶有間隔紋路的壓印層，壓印層上再模壓一層帶有間隔紋路的二次壓印層，二次壓印層上設(shè)有鍍鋁層，鍍鋁層上設(shè)有熱封層。
【文檔編號(hào)】B41M5/00GK203511010SQ201320562953
【公開(kāi)日】2014年4月2日 申請(qǐng)日期:2013年9月11日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月11日
【發(fā)明者】王信飛 申請(qǐng)人:無(wú)錫光群雷射科技有限公司