專利名稱:自動聚焦成像裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及通過激光燒蝕在介質(zhì)圓柱形滾筒的表面上形成三維(3D)圖像的方法和裝置。
背景技術(shù):
柔性版印刷涉及在柔性介質(zhì)上給突起的圖像上墨,其然后和如紙張或者塑料的印刷襯底接觸。油墨從突起的圖像到印刷襯底上。柔性印版(plate)由稍微具有柔韌屬性的彈性材料形成,柔韌屬性程度取決于襯底的平滑度和脆弱性(fragility)。和如其中在油墨轉(zhuǎn)移期間使用高壓的膠印(offset Iithography)和照相凹版(gravure)的其他印刷過程相反,通常希望在印版上的突起的上墨的圖像和襯底之間具有最小的壓力。太小的壓力則沒有油墨轉(zhuǎn)移或者非常不均勻的油墨轉(zhuǎn)移將發(fā)生。太多壓力則柔性印版的柔韌表面將被壓擠到襯底中,使圖像邊緣變模糊,導(dǎo)致差的印刷質(zhì)量。
由于為了最佳質(zhì)量而在最小的壓力工作的需求,在印版表面和襯底之間的距離必需在整個(gè)表面上相同。雖然這取決于安裝印版的印刷滾筒的均勻性,其也取決于柔性印版的厚度均勻性。
以安裝在圓柱形滾筒上的印版,通過激光燒蝕的柔性版印版成像的方法是廣為人知的。主要應(yīng)用是在照相凹版和柔性版印刷產(chǎn)業(yè)中,其中激光被用于產(chǎn)生油墨承載凹坑,使得滾筒能夠直接或者間接地轉(zhuǎn)移圖像到紙或者聚合物薄膜上。所被使用的技術(shù)得到了很好的開發(fā)并且各種各樣的激光被用于直接在金屬滾筒中或者在涂以陶瓷、橡膠、或者聚合物層的滾筒中產(chǎn)生凹坑。美國專利號5,327,167 (Pollard)描述了用于在印刷滾筒的表面上燒蝕具有可變密度的凹坑的機(jī)器。
所用的激光常常被聚焦到具有10到100 μ m直徑的滾筒表面上的點(diǎn)??赏ㄟ^直接的激光燒蝕或者通過其后具有化學(xué)蝕刻的薄掩模的燒蝕來產(chǎn)生凹坑。
滾筒或者套筒偏心率以及介質(zhì)厚度變化影響激光聚焦并且可能導(dǎo)致不能接受的散焦。為了消除該問題需要自 動聚焦系統(tǒng)。在WO 2009/115785中描述的自動聚焦系統(tǒng)規(guī)定剛好在成像(燒蝕)之前測量至介質(zhì)的距離以及規(guī)定根據(jù)將結(jié)果的測量和需要的聚焦距離的比較對成像鏡頭位置的隨后校正。
圖I示出了可以被用于保證投影系統(tǒng)產(chǎn)生的圖像,即使?jié)L筒在直徑上變化,不是完美的圓形,或者在其軸上偏心地安裝,維持在滾筒表面上的焦點(diǎn)上的裝置的示例。圓柱形滾筒104被安裝在其圍繞著旋轉(zhuǎn)的軸上。圓柱形滾筒104被示為以順時(shí)針方向108旋轉(zhuǎn)。 激光束128,穿過透鏡132并且在圓柱形滾筒104的表面上產(chǎn)生圖像。透鏡132和附加的成像光學(xué)器件部件被附于伺服馬達(dá)驅(qū)動的平臺124上的支架,從而允許光學(xué)部件沿著平行于投影系統(tǒng)光軸并垂直于滾筒表面的Z方向120 —起移動。
支撐維持著兩個(gè)透鏡132掩模的支架的平臺本身被附于第二支架。第二支架由具有平行于滾筒軸的運(yùn)動方向的第二伺服馬達(dá)驅(qū)動的平臺驅(qū)動。該第二平臺,其在圖I中沒有被示出,具有沿著圓柱形滾筒104的長度移動投影系統(tǒng)以及相關(guān)的均化器(homogenizer)的功能。光學(xué)傳感器112被附于第二支架,使得其和投影光學(xué)器件一起沿著圓柱形滾筒104的長度向下移動。
安裝傳感器112使得其測量從傳感器112到在將被暴露給激光脈沖的表面上的位置的滾筒表面的相對距離。傳感器112產(chǎn)生的距離數(shù)據(jù)由控制器116處理并且被用于驅(qū)動在投影系統(tǒng)平臺上的伺服馬達(dá),從而維持從透鏡136到在作用點(diǎn)的滾筒表面的距離不變, 使得成像總是在焦點(diǎn)上。對于該應(yīng)用,希望以某種精度制作圓柱形滾筒104,使得隨著其旋轉(zhuǎn)以及光學(xué)投影系統(tǒng)經(jīng)過圓柱形滾筒104的整個(gè)長度,希望在表面位置中的變化和因此的投影光學(xué)器件在Z軸方向的移動小。
如上面描述的系統(tǒng)被限定在只有一層燒蝕。這是因?yàn)檫@樣的事實(shí),即從到介質(zhì)的距離檢測的觀點(diǎn)以及從透鏡移動的動力學(xué),在完成第一燒蝕層之后,其限制用于燒蝕后續(xù)層的自動聚焦系統(tǒng)的性能。
本發(fā)明第一是提供自動聚焦系統(tǒng),其能夠維持在一個(gè)或者多于一個(gè)的燒蝕周期中滾筒或者套筒介質(zhì)表面以及成像透鏡之間的恒定聚焦距離。
因?yàn)樘幚?D圖像燒蝕數(shù)據(jù)的需要,支持由多個(gè)激光通道的燒蝕的計(jì)算機(jī)可能負(fù)載沉重。在這種情形中,通過降低計(jì)算速度,額外的自動聚焦任務(wù)可能影響功能性。因此本發(fā)明的第二個(gè)目的是在實(shí)施3D圖像燒蝕工序時(shí)降低機(jī)器計(jì)算機(jī)的負(fù)載。發(fā)明內(nèi)容
簡單地講,根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,公開了在柔性介質(zhì)的表面上的三維精確成像的方法和裝置。介質(zhì)被安 裝在圓柱形滾筒上并且通過激光燒蝕成像。成像平臺適于在支架上在相對于滾筒垂直和平行的方向上移動。成像平臺包括被配置成測量柔性介質(zhì)的表面結(jié)構(gòu)的位移傳感器以及被配置成在柔性介質(zhì)上成像的成像光學(xué)器件。成像光學(xué)器件適于在相對于滾筒的垂直方向上移動。
控制器接收來自位移傳感器的表面結(jié)構(gòu)的測量。測量代表介質(zhì)表面布局圖(map)。 計(jì)算機(jī)將處理測量并對 每個(gè)滾筒旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生命令陣列結(jié)構(gòu)。計(jì)算機(jī)然后將在成像之前向控制器傳輸相關(guān)的命令陣列結(jié)構(gòu)。根據(jù)相關(guān)的命令陣列結(jié)構(gòu)以及來自介質(zhì)位置編碼器的讀數(shù), 成像光學(xué)器件將通過控制從成像光學(xué)器件到在柔性介質(zhì)上的每個(gè)成像點(diǎn)的距離在介質(zhì)上成像。
一旦閱讀了下面的具體的描述,當(dāng)結(jié)合其中示出和描述了本發(fā)明的說明性實(shí)施例的附圖時(shí),本發(fā)明的這些以及其他對象、特征以及優(yōu)點(diǎn)將對本領(lǐng)域的技術(shù)人員變得顯而易見。
圖I是自動聚焦現(xiàn)有技術(shù)系統(tǒng)的示意說明;圖2是本發(fā)明的自動聚焦系統(tǒng)的示意說明;圖3是代表印版表面測量的陣列的說明;圖4說明了集合(set)聚焦命令的圖形解釋;圖5是代表集合聚焦命令的陣列的說明;圖6說明了代表每個(gè)滾筒旋轉(zhuǎn)的命令陣列結(jié)構(gòu)的圖形表示;以及圖7說明了多個(gè)成像層產(chǎn)生的印版上的燒蝕區(qū)域的橫截面。
具體實(shí)施例方式在下面的詳細(xì)描述中,為了提供對本公開的徹底的理解,給出了許多具體的細(xì)節(jié)。但是,本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解,本公開的教導(dǎo)可不以這些具體的細(xì)節(jié)而被實(shí)踐。在其他的例子中,為了不遮蔽本公開的教導(dǎo),廣為人知的方法、步驟、部件和電路沒有被詳細(xì)地描述。雖然結(jié)合實(shí)施例的一個(gè)而描述本發(fā)明,將被理解的是不g在將本發(fā)明限制在該實(shí)施例。相反,_在覆蓋所附權(quán)利要求所覆蓋的所有的替代、修改以及等效。圖2示出了本發(fā)明的實(shí)施例。描繪了用于直接燒蝕印刷印版的自動聚焦系統(tǒng)。自動聚焦系統(tǒng)200被建在成像設(shè)備(部分地被示出)中。成像設(shè)備包括旋轉(zhuǎn)圓柱形滾筒104或者印刷套筒(沒有示出)。印刷印版204被安裝在圓柱形滾筒104上。成像平臺208被放置在耦合于螺桿214的支架210上,使得支架馬達(dá)(沒有示出) 驅(qū)動的螺桿的旋轉(zhuǎn)促使支架210在水平(平行于圓柱形滾筒104X軸)X方向248上移動。成像平臺208能夠在垂直Z方向244上向圓柱形滾筒104移動。在Z方向上的成像平臺208的移動由平臺組件驅(qū)動器224提供。成像平臺208攜帯成像光學(xué)器件組件216。成像光學(xué)器件組件216適于被自動聚焦驅(qū)動器220所驅(qū)動,相對于成像平臺208在Z方向244上移動。位移傳感器212被放在成像平臺208上以進(jìn)行在Z方向244上的到印版204的距離的持續(xù)測量。在X和Y方向的移動分別由編碼器256和260測量。圓柱形滾筒104旋轉(zhuǎn)的能力,以及支架210移動,結(jié)合X、Y和Z方向測量允許了印版/滾筒表面掃描。印版204表面掃描結(jié)果被控制器228整理,并且進(jìn)一步通過數(shù)據(jù)鏈路232被傳送給機(jī)器計(jì)算機(jī)236。在待機(jī)階段時(shí),成像平臺208被停放在出發(fā)點(diǎn)位置,其典型地在滾筒左或者右側(cè)之前,并且成像光學(xué)器件組件216被放在相對于圓柱形滾筒104的預(yù)定聚焦位置。根據(jù)機(jī)器操作者的開始命令,計(jì)算機(jī)236自動地控制具有印版204的圓柱形滾筒104的旋轉(zhuǎn),以及沿著圓柱形滾筒104從出發(fā)點(diǎn)位置到相對于出發(fā)點(diǎn)位置滾筒側(cè)的他處位置的支架210的移動。在相同的時(shí)間,由控制器228進(jìn)行X、Y和Z測量的同時(shí)記錄。所記錄的數(shù)據(jù)被進(jìn)一步通過數(shù)據(jù)鏈路232被傳送給機(jī)器計(jì)算機(jī)236。這發(fā)生直到掃描的結(jié)束,其發(fā)生在例如,支架到達(dá)他處位置的時(shí)刻。所測量的數(shù)據(jù)被傳輸給計(jì)算機(jī)236,數(shù)據(jù)被歸檔在計(jì)算機(jī)236的存儲器中,作為被繪制的表面結(jié)構(gòu)304(在圖3中所示)。分別地,括號中的索引確定測量記錄數(shù),并且“k”是最大測量記錄數(shù)(最后的記錄數(shù))記錄數(shù)。計(jì)算機(jī)進(jìn)行對被掃描的數(shù)據(jù)的處理,只為了產(chǎn)生聚焦命令的陣列,每個(gè)陣列g(shù)在被用于至少ー個(gè)滾筒旋轉(zhuǎn),并且每個(gè)陣列不同于下ー個(gè)。當(dāng)其發(fā)現(xiàn)下一個(gè)旋轉(zhuǎn)需要不同的命令的陣列時(shí),計(jì)算機(jī)發(fā)出聚焦命令的新陣列給控制器。每個(gè)陣列的命令的數(shù)目是相同的,并且每個(gè)陣列代表對于整個(gè)滾筒旋轉(zhuǎn)的聚焦命令。根據(jù)預(yù)定的算法,計(jì)算機(jī)軟件產(chǎn)生集合命令陣列,并且將其存儲在計(jì)算機(jī)存儲器中。在圓柱形滾筒104表面(X-Y軸)上的被計(jì)算的集合命令的圖形(圖4)表示可簡化對集合命令陣列產(chǎn)生的解釋。每個(gè)被計(jì)算的集合命令(集合點(diǎn))由Xi、Yi和Zi值表征,其中Xi和Yi是圓柱形滾筒104和支架210位置,其中自動聚焦驅(qū)動器220應(yīng)當(dāng)根據(jù)所期望的計(jì)算的Zi值更新成像光學(xué)器件組件216的位置。這意味著每個(gè)集合命令可被圖形地示為在X-Y坐標(biāo)中所示的滾筒表面上的點(diǎn)。例如,坐標(biāo)X(1),Y(1)和Z(I)所表征的第一集合命令被具有坐標(biāo)X⑴,Y(I)的點(diǎn)404所代表。坐標(biāo)X(2),Y(2)和Z(2)所表征的第二集合命令被具有坐標(biāo)X (2),Y (2)和Z (2)的點(diǎn)408所代表。其他的集合命令,如代表點(diǎn)412的X(k)、Y(k)以及Z(k)被分別代表。如可以從圖4中看到的那樣,滾筒表面被片416虛擬地劃分。在片416之間的分隔在圖4中被垂直的虛線所示出。每個(gè)片416被片高420和片寬424所表征。片高420等于滾筒周長,而片寬424等于ー個(gè)圓柱形滾筒104旋轉(zhuǎn)的時(shí)間的支架210位移。假如其中圓柱形滾筒104和支架210速度恒定,所有的片416將在大小上相同。為了簡化算法,也假設(shè)每個(gè)片將具有恒定數(shù)目的集合點(diǎn)。同時(shí),在片416中的相鄰的集合點(diǎn)之間的距離不需要恒定。假設(shè)“m”是片數(shù)而“η”是每個(gè)滾筒旋轉(zhuǎn)的集合點(diǎn)數(shù),集合命令陣列結(jié)構(gòu)504可如圖5所示那樣被代表。換而言之,集合命令陣列結(jié)構(gòu)504由被X,Y,和Z坐標(biāo)表征的并且為了校正被自動聚焦驅(qū)動器220所控制的成像光學(xué)器件216的聚焦位置誤差而產(chǎn)生的命令組 成。在這種情形中,控制器228的目標(biāo)是通過比較實(shí)際和被計(jì)算的(Xi和Yi)值,探測自動聚焦驅(qū)動器220將以用于每個(gè)即將來臨的集合點(diǎn)的新命令Zi而被更新的合適的時(shí)間。在產(chǎn)生集合命令陣列504之前,計(jì)算機(jī)236軟件可額外地實(shí)施不同的任務(wù),如數(shù)據(jù)過濾、旋轉(zhuǎn)調(diào)整(樣本旋轉(zhuǎn)和集合旋轉(zhuǎn)可能不同),控制系統(tǒng)部件延遲的補(bǔ)償,以及其他。集合結(jié)構(gòu)504可以不同的方式被傳送給控制器228,例如通過剛好產(chǎn)生在計(jì)算機(jī)236中之后傳輸整個(gè)命令陣列結(jié)構(gòu)504給控制器228。在這種情形中,只要成像被執(zhí)行,控制器228將存儲該陣列并且使用其用于自動聚焦驅(qū)動器220控制。該選項(xiàng)要求在控制器228中的大存儲器和邏輯電路需求,但是在另一方面,這樣的方法降低了在計(jì)算機(jī)236上的負(fù)載,其在燒蝕エ序期間將需要實(shí)施快速3D圖像計(jì)算。將幫助降低控制器228的邏輯電路和存儲器需求,并降低從計(jì)算機(jī)236傳輸?shù)娇刂破?28的數(shù)據(jù)的量的另ー實(shí)施例可能是優(yōu)選的。根據(jù)該實(shí)施例,在處理陣列304中計(jì)算機(jī)236將估計(jì)在每個(gè)滾筒旋轉(zhuǎn)的成像光學(xué)器件組件216的期望的路線之間的區(qū)別。在其中區(qū)別小的情況下(每個(gè)滾筒旋轉(zhuǎn)的集合命令基本上相似),計(jì)算機(jī)236將不把用于當(dāng)前旋轉(zhuǎn)的集合命令數(shù)據(jù)包括到集合命令陣列504中,從而使得陣列504只代表不同的滾筒旋轉(zhuǎn)控制路線。為了支持以連續(xù)方式的聚焦控制,控制器228將能夠重復(fù)利用之前的旋轉(zhuǎn)的集合控制數(shù)據(jù),直到從計(jì)算機(jī)236接收到更新的滾筒旋轉(zhuǎn)控制數(shù)據(jù)的時(shí)刻。在這種情形中,控制器228將以之前的數(shù)據(jù)結(jié)束旋轉(zhuǎn),并且以下ー個(gè)(更新的)滾筒旋轉(zhuǎn)控制數(shù)據(jù)開始。其也意味著在更新的旋轉(zhuǎn)控制數(shù)據(jù)的時(shí)刻,傳輸需要根據(jù)實(shí)際的支架位置。例如,如圖6所描繪的那樣,第一旋轉(zhuǎn)控制數(shù)據(jù)傳輸?shù)臅r(shí)刻發(fā)生在時(shí)間t軸上示出的時(shí)間tl并且在如X軸上Xl所示出的初始支架位置附近。在接收到該數(shù)據(jù)之后,通過比較編碼器260指示出的實(shí)際Y位置和接收到的Yi (從結(jié)構(gòu)504接收到的)滾筒位置,控制器228將立即開始發(fā)送集合命令Zi給自動聚焦驅(qū)動器220。集合點(diǎn)604正代表滾筒表面上的點(diǎn),其中對于每個(gè)Yi,聚焦校正命令Zi被發(fā)送給自動聚焦驅(qū)動器220,只要其和各個(gè)編碼器位置260實(shí)際讀數(shù)配合。在其中在滾筒幾何形狀上沒有顯著改變的情況下,對于下一個(gè)滾筒旋轉(zhuǎn)的成像光學(xué)器件216的路線將相似于之前的ー個(gè)。由于該相似性,下一個(gè)旋轉(zhuǎn)集合控制數(shù)據(jù)將不被包括在結(jié)構(gòu)504中并且計(jì)算機(jī)236將不把該數(shù)據(jù)發(fā)送給控制器228。為了支持不可中斷的聚焦校正,只要沒有被更新的旋轉(zhuǎn)數(shù)據(jù)被發(fā)送給控制器228,控制器228的邏輯電路探測旋轉(zhuǎn)的結(jié)束。在這種情形中,參考存儲在控制器228的存儲器(沒有示出)中的之前的旋轉(zhuǎn)控制數(shù)據(jù),控制器228邏輯電路開始下一個(gè)旋轉(zhuǎn)聚焦控制。集合點(diǎn)608指示在滾筒表面上的那些點(diǎn),其中Yi等于位置編碼器260讀數(shù),并且各個(gè)聚焦校正命令Zi被發(fā)送給自動聚焦驅(qū)動器220。Yi已經(jīng)存在于控制器228存儲器中。因此,在每個(gè)旋轉(zhuǎn)的結(jié)尾,控制器228探測下ー個(gè)旋轉(zhuǎn)數(shù)據(jù)更新。在其中數(shù)據(jù)被更新的情況下控制器228將使用其用于控制,否則控制器228將使用存儲在控制器存儲器中的數(shù)據(jù)。滾筒幾何形狀偏差引起的在期望的成像光學(xué)器件216路線中的第一顯著改變將在X軸上被描繪為X2的支架位置附近,示出了印版表面偏差612。分別地,當(dāng)前旋轉(zhuǎn)控制數(shù)據(jù)被包括在集合命令陣列結(jié)構(gòu)504中,并且該數(shù)據(jù)的傳輸將發(fā)生在當(dāng)計(jì)算機(jī)236發(fā)現(xiàn)實(shí)際支架位置等于或者接近X2吋。該時(shí)刻被示為t2。上面描述了接收下ー旋轉(zhuǎn)控制數(shù)據(jù)的控制器228的行為。在支架位置X3附近,同樣的行為將在時(shí)刻t3。
注意計(jì)算機(jī)236到控制器228通信方法,只發(fā)送對于每個(gè)旋轉(zhuǎn)集合控制數(shù)據(jù)的Yi信息(沒有支架位置Xi)是足夠的。在該情形中,支架位置由集合命令陣列結(jié)構(gòu)504所指示的相關(guān)的滾筒幾何形狀改變的計(jì)算機(jī)236時(shí)序所限定。對在印版204上的燒蝕的成像可在多于ー個(gè)成像周期中實(shí)施,因此在每個(gè)周期中,燒蝕預(yù)定深度的層。圖7示出了在印版204上的燒蝕區(qū)域704。在第一成像周期中,燒蝕層708。對于每個(gè)后續(xù)層712,成像平臺208以等于之前層的燒蝕深度的距離向印版204推迸。成像平臺208由平臺驅(qū)動器組件224推進(jìn),其由控制器228所配合。
部件列表
104圓柱形滾筒
108滾筒方向
112傳感器
116控制器
120平臺的移動方向
124被驅(qū)動的平臺
128光束
132透鏡
136平臺到滾筒距離
200用于直接燒蝕成像系統(tǒng)的自動聚焦系統(tǒng)
204印版
208成像平臺
210支架
212位移傳感器
214螺桿
216成像光學(xué)器件組件 220自動聚焦驅(qū)動器224平臺組件驅(qū)動器228控制器
232在控制器和計(jì)算機(jī)之間的數(shù)據(jù)鏈路
236計(jì)算機(jī)
244 Z方向
248 X方向
252 Y方向
256 X位置編碼器 260 Y位置編碼器
304被繪制的表面結(jié)構(gòu)
404集合點(diǎn)中的點(diǎn)
408集合點(diǎn)中的點(diǎn)
412集合點(diǎn)中的點(diǎn)
416片
420片高度
424片寬度
504集合命令陣列結(jié)構(gòu)
604從計(jì)算機(jī)轉(zhuǎn)移到控制器的點(diǎn)的集合
608從控制器存儲器存儲的點(diǎn)的集合
612印版表面偏差
704燒蝕區(qū)域
708第一成像層
712后續(xù)成像層。
權(quán)利要求
1.用于在安裝在圓柱形滾筒上的柔性介質(zhì)的表面上的三維成像的自動聚焦成像裝置, 包括與所述滾筒的表面平行地移動的支架;安裝在所述支架上的成像平臺;其中所述成像平臺包括位移傳感器,用于測量到所述柔性介質(zhì)的表面的距離;成像光學(xué) 器件,用于在所述柔性介質(zhì)上產(chǎn)生三維圖像;自動聚焦驅(qū)動器,用于改變所述成像光學(xué)器件的焦點(diǎn);編碼器,用于提供關(guān)于所述滾筒和支架位置的數(shù)據(jù);控制器,其接收和處理來自所述位移傳感器和所述編碼器的數(shù)據(jù);計(jì)算機(jī),其接收來自所述控制器的數(shù)據(jù),處理所述控制器數(shù)據(jù),并且傳輸指令給所述控制器;并且其中所述控制器接收計(jì)算機(jī)指令并且傳輸聚焦命令給所述自動聚焦驅(qū)動器或者所述成像平臺。
2.根據(jù)權(quán)利要求I的裝置,其中根據(jù)聚焦命令,朝向或者遠(yuǎn)離所述滾筒移動所述成像T D O
3.根據(jù)權(quán)利要求I的裝置,其中根據(jù)所述聚焦命令,所述自動聚焦驅(qū)動器再次聚焦所述成像光學(xué)器件。
4.根據(jù)權(quán)利要求I的裝置,其中在所述介質(zhì)上寫出圖像之前,所述位移傳感器從所述柔性介質(zhì)的整個(gè)表面搜集數(shù)據(jù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求I的裝置,其中當(dāng)在所述控制器中的被存儲的聚焦命令和在下一個(gè)滾筒旋轉(zhuǎn)中將被處理的所述聚焦命令實(shí)質(zhì)地不同時(shí),從所述計(jì)算機(jī)發(fā)送所述聚焦命令。
6.根據(jù)權(quán)利要求I的裝置,其中在寫圖像的同時(shí)收集所述位移傳感器數(shù)據(jù)和所述編碼器數(shù)據(jù)。
全文摘要
用于在安裝在圓柱形滾筒(104)上的柔性介質(zhì)的表面上的三維成像的自動聚焦成像裝置(200),包括與所述滾筒的表面平行地移動的支架(210)和安裝在所述支架上的成像平臺(208)。所述成像平臺包括位移傳感器(112),用于測量到所述柔性介質(zhì)的表面的距離;成像光學(xué)器件(216),用于在所述柔性介質(zhì)上產(chǎn)生三維圖像;以及自動聚焦驅(qū)動器(220),用于改變所述成像光學(xué)器件的焦點(diǎn)。編碼器(256,260)提供關(guān)于滾筒和支架位置的數(shù)據(jù)??刂破?116)接收和處理來自所述位移傳感器和所述編碼器的數(shù)據(jù)。計(jì)算機(jī)(236)接收來自所述控制器的數(shù)據(jù),處理控制器數(shù)據(jù),并且傳輸指令給所述控制器。所述控制器接收計(jì)算機(jī)指令并且傳輸聚焦命令給所述自動聚焦驅(qū)動器或者所述成像平臺。
文檔編號B41C1/05GK102869510SQ201180023382
公開日2013年1月9日 申請日期2011年4月20日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月11日
發(fā)明者V.伯卡托夫斯基, D.艾薇兒 申請人:伊斯曼柯達(dá)公司