專(zhuān)利名稱(chēng)：平版印刷版用支撐體和平版印刷版原版的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及平版印刷版用支撐體和平版印刷版原版。
背景技術(shù)：
平版印刷法是一種利用水和油的固有不混溶性的印刷方式。在用于平版印刷中的平版印刷版的印刷版面上形成了親水并且疏油基墨液的區(qū)域(以下稱(chēng)為“非圖像區(qū)域”)和疏水并且親油基墨液的區(qū)域(以下稱(chēng)為“圖像區(qū)域”)。用于平版印刷版中的平板印刷版用鋁支撐體(以下簡(jiǎn)稱(chēng)為“平版印刷版用支撐體”)以在其表面上攜帶非圖像區(qū)域這樣的方式使用。因此其必須具有許多沖突性質(zhì)，包括 一方面要具有優(yōu)異的親水性和保水性，另一方面要具有對(duì)設(shè)置在其上的圖像記錄層的優(yōu)異的粘附性。如果支撐體的親水性太低，則在印刷時(shí)墨液很可能附著于非圖像區(qū)域，導(dǎo)致橡皮滾筒(blanket cylinder)起臟，從而產(chǎn)生所謂的糊版(scumming)。另外，如果支撐體的保水性太低，則在暗調(diào)部分產(chǎn)生堵塞，除非在印刷時(shí)增加潤(rùn)版液的量。因此，所謂的水裕度變窄。已經(jīng)進(jìn)行了各種研究以獲得表現(xiàn)出良好性質(zhì)的平版印刷版用支撐體。例如，專(zhuān)利文獻(xiàn)1公開(kāi)了一種制備平版印刷版用支撐體的方法，其包括用于陽(yáng)極氧化粗糙鋁板表面的第一步，和用于在微孔的直徑可能小于在第一步中形成的陽(yáng)極氧化膜中的微孔的直徑這樣的條件下再陽(yáng)極氧化的第二步。其描述了使用該平版印刷版用支撐體獲得的平版印刷版可以在不使脫墨能力劣化的情況下，提高對(duì)光敏層的粘附性，不導(dǎo)致光輝部堵塞，并且具有長(zhǎng)的印刷壽命。脫墨能力是涉及在印刷過(guò)程中在將非圖像區(qū)域上的墨液完全移除之前耗費(fèi)紙張數(shù)的能力，并且當(dāng)耗費(fèi)張數(shù)小時(shí)評(píng)級(jí)為"好"。另一方面，有時(shí)印刷可能被暫停。在這樣的情況下，平版印刷版被留置在印版滾筒上，并且其非圖像區(qū)域可能在大氣中污染物的影響下起臟。因此，當(dāng)暫停的印刷再啟動(dòng)后， 必須印刷大量的紙張直至可以進(jìn)行正常的印刷，從而導(dǎo)致印刷用紙的浪費(fèi)使用等缺點(diǎn)。已知的是，這些缺點(diǎn)主要發(fā)生在已經(jīng)在含有鹽酸的酸溶液中經(jīng)歷了電解磨版處理的平版印刷版中。在以下說(shuō)明中，將當(dāng)已經(jīng)暫停的印刷再啟動(dòng)時(shí)耗費(fèi)的張數(shù)用于評(píng)價(jià)暫停印刷后的脫墨能力，并且當(dāng)耗費(fèi)張數(shù)小時(shí)，暫停印刷的脫墨能力評(píng)級(jí)為"好"。另外，已經(jīng)對(duì)近年來(lái)取得了重大進(jìn)展的計(jì)算機(jī)直接制版(CTP)系統(tǒng)進(jìn)行了大量研究。特別地，需要可以在曝光后不用顯影而直接安裝在印刷機(jī)上用于印刷的平版印刷版原版來(lái)解決廢水處理的問(wèn)題，同時(shí)將工藝進(jìn)一步地合理化。用于取消處理步驟的方法中的一種是稱(chēng)為"機(jī)上顯影"的方法，其中將已曝光的平版印刷版原版安裝在印刷機(jī)的印版滾筒上，并且在印版滾筒旋轉(zhuǎn)時(shí)供應(yīng)潤(rùn)版液和墨液從而移除平版印刷版原版的非圖像區(qū)域。換言之，這是一種其中在不進(jìn)行任何進(jìn)一步處理的情況下將曝光的平版印刷版原版安裝在印刷機(jī)上從而顯影處理可以在普通印刷工藝中完成的方法。適合在這樣的機(jī)上顯影中使用的平版印刷版原版需要具有可溶于潤(rùn)版液或墨液溶劑的圖像記錄層，并且需要具有適合在置于光室內(nèi)的印刷機(jī)上顯影的光室處理性能。在以下說(shuō)明中，使用達(dá)到如下?tīng)顟B(tài)所需的印刷紙的張數(shù)來(lái)評(píng)價(jià)機(jī)上顯影性，當(dāng)耗費(fèi)的張數(shù)小時(shí)評(píng)級(jí)為“好”，所述狀態(tài)為在未曝光部分的機(jī)上顯影完成后，沒(méi)有墨液轉(zhuǎn)印到非圖像區(qū)域。
專(zhuān)利文獻(xiàn)2 5公開(kāi)了獲得滿(mǎn)足上述性能的平版印刷版原版的技術(shù)。這些文件各自公開(kāi)了通過(guò)如上述專(zhuān)利文獻(xiàn)1中以?xún)刹襟E進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理制造平版印刷版用支撐體的方法。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)
日本特開(kāi)平1H91657號(hào)公報(bào)日本特開(kāi)2003-0；34090號(hào)公報(bào)日本特開(kāi)2003-0；34091號(hào)公報(bào)日本特開(kāi)2003-103951號(hào)公報(bào)日本特開(kāi)2007-237397號(hào)公報(bào)

專(zhuān)利文獻(xiàn)1 專(zhuān)利文獻(xiàn)2 專(zhuān)利文獻(xiàn)3 專(zhuān)利文獻(xiàn)4 專(zhuān)利文獻(xiàn)
發(fā)明內(nèi)容
另一方面，根據(jù)近來(lái)的市場(chǎng)趨勢(shì)，需要具有更優(yōu)異生產(chǎn)率及更高的印刷適性的平版印刷版和平版印刷版原版，并且關(guān)于性能如印刷壽命，暫停印刷后的脫墨能力，機(jī)上顯影性和連續(xù)印刷中的脫墨能力所需的水平進(jìn)一步提高。本發(fā)明的發(fā)明人已經(jīng)研究了使用平版印刷版用支撐體獲得的平版印刷版和平版印刷版原版的各種性能，所述平版印刷版用支撐體通過(guò)如上述專(zhuān)利文獻(xiàn)1 5中具體描述的以?xún)刹襟E進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理獲得，并且作為結(jié)果發(fā)現(xiàn)了這些性能不符合近年來(lái)需要的水平。換言之，未必易于在保持高的圖像質(zhì)量的同時(shí)實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)單的印刷。另外，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)的是平版印刷版用支撐體的耐劃傷性也需要提高?？紤]到上述情況，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供具有優(yōu)異的耐劃傷性并且能夠獲得如下平版印刷版原版的平版印刷版用支撐體，所述平版印刷版原版表現(xiàn)出優(yōu)異的機(jī)上顯影性并且使得由其形成的平版印刷版具有長(zhǎng)的印刷壽命，以及在連續(xù)印刷中和暫停印刷后的優(yōu)異的脫墨能力。本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供制造這樣的平版印刷版用支撐體的方法。本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供平版印刷版原版。本發(fā)明的發(fā)明人已經(jīng)進(jìn)行了深入細(xì)致的研究以實(shí)現(xiàn)所述目的，并且作為結(jié)果發(fā)現(xiàn)上述問(wèn)題可以通過(guò)控制陽(yáng)極氧化膜中的微孔的形狀而解決。具體地，本發(fā)明提供了下列⑴至(6)。(1) 一種平版印刷版用支撐體，所述平版印刷版用支撐體包括鋁板；和形成于所述鋁板上的陽(yáng)極氧化膜，所述陽(yáng)極氧化膜中，具有從與所述鋁板相反的表面向深度方向上延伸的微孔，其中，微孔具有大直徑部分，所述大直徑部分從所述陽(yáng)極氧化膜的表面延伸5至 60nm的深度A ；和小直徑部分，所述小直徑部分與所述大直徑部分的底部連通，并且從所述小直徑部分和所述大直徑部分之間的連通位置延伸900至2，OOOnm的深度，其中所述大直徑部分具有從所述陽(yáng)極氧化膜的表面朝向所述鋁板側(cè)逐漸增加的直徑，在所述連通位置測(cè)量的所述大直徑部分的平均直徑(平均底部直徑)大于在所述陽(yáng)極氧化膜的表面處測(cè)量的所述大直徑部分的平均直徑(表面層平均直徑)，所述平均底部直徑為10至60nm，并且所述深度A與所述平均底部直徑的比率(所述深度A/所述平均底部直徑)為0. 1至4.0，其中在連通位置處測(cè)量的小直徑部分平均直徑大于Onm而小于20nm，并且其中所述小直徑部分平均直徑與所述平均底部直徑的比率(所述小直徑部分平均直徑/所述平均底部直徑)至多為0. 85。2.根據(jù)(1)所述的平版印刷版用支撐體，其中在所述小直徑部分的底部和鋁板的表面之間的所述陽(yáng)極氧化膜具有至少20nm的厚度。3.根據(jù)⑴或⑵所述的平版印刷版用支撐體，其中所述微孔以100至3，000個(gè)微孔/μ m2的密度形成。4.用于制備根據(jù)(1)至(3)中任一項(xiàng)所述的平版印刷版用支撐體的方法，所述方法包括用于陽(yáng)極氧化所述鋁板的第一陽(yáng)極氧化處理步驟；和用于進(jìn)一步陽(yáng)極氧化在所述第一陽(yáng)極氧化處理步驟中獲得的具有陽(yáng)極氧化膜的所述鋁板的第二陽(yáng)極氧化處理步驟。5. 一種平版印刷版原版，所述平版印刷版原版包括根據(jù)(1)至(3)中任一項(xiàng)所述的平版印刷版用支撐體；和在其上形成的圖像記錄層。6.根據(jù)(5)所述的平版印刷版原版，其中所述圖像記錄層是其中通過(guò)曝光形成圖像并且未暴露的部分可通過(guò)印刷墨液和/或潤(rùn)版液移除的圖像記錄層。本發(fā)明可以提供具有優(yōu)異的耐劃傷性并且能夠獲得平版印刷版原版的平版印刷版用支撐體，所述平版印刷版原版表現(xiàn)出優(yōu)異的機(jī)上顯影性并且使得由其形成的平版印刷版具有長(zhǎng)的印刷壽命，以及在連續(xù)印刷中和暫停印刷后的優(yōu)異的脫墨能力；制造這樣的平版印刷版用支撐體的方法；和平版印刷版原版。


圖IA是顯示本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的一個(gè)實(shí)施方案的橫截面示意圖，并且圖IB是顯示平版印刷版用支撐體的另一個(gè)實(shí)施方案的橫截面示意圖。圖2是顯示可以用于本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法中的電解磨版處理中的交流電波形的實(shí)例的圖。圖3是顯示在使用本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法中的交流電進(jìn)行的電解磨版處理中的徑向池(radial cell)的實(shí)例的側(cè)視圖。圖4是在本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造過(guò)程中用于機(jī)械磨版處理中的刷拭磨版步驟的側(cè)視示意圖。圖5是在本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造過(guò)程中可以用于陽(yáng)極氧化處理中的陽(yáng)極氧化設(shè)備的示意圖。圖6是自動(dòng)顯影處理機(jī)的構(gòu)成簡(jiǎn)圖。符號(hào)說(shuō)明1，12 鋁板
2，4輥型刷3研磨漿液5，6，7，8 支持輥ta陽(yáng)極反應(yīng)時(shí)間tc陰極反應(yīng)時(shí)間tp電流從0達(dá)到峰值所需的時(shí)間Ia在陽(yáng)極循環(huán)側(cè)的峰值電流Ic在陰極循環(huán)側(cè)的峰值電流10平板印刷版用支撐體14陽(yáng)極氧化鋁膜16 微孔18大直徑部分20，20a小直徑部分30主孔部分32擴(kuò)大直徑部分50主電解池51交流電源52徑向鼓型輥53a，53b 主電極54電解液進(jìn)料入口55電解溶液56 狹縫58輔助陽(yáng)極60輔助陽(yáng)極池100平版印刷版原版104前加熱部105加熱室106顯影部110干燥部112輸入輥114 串棍116輸送輥120顯影槽122輸送輥124 刷輥1 擠壓輥128備用輥136導(dǎo)向輥138 串棍
W鋁板
610陽(yáng)極氧化處理裝置
612電源池
614電解池
616鋁板
618，626電解溶液
620電源電極
622,628 棍
624夾緊輥
630電解電極
632池壁
634直流電源
具體實(shí)施例方式以下對(duì)本發(fā)明的平版印刷版用支撐體及其制造方法進(jìn)行說(shuō)明。本發(fā)明的平版印刷版用支撐體包括鋁板和其上形成的陽(yáng)極氧化膜，陽(yáng)極氧化膜中的微孔具有這樣的形狀具有較大平均直徑的大直徑部分與具有較小平均直徑的小直徑部分沿膜的深度方向(即，膜的厚度方向)連通。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)的是，在本發(fā)明中，特別地通過(guò)控制大直徑部分的形狀(深度或平均直徑等)，可以將性能如印刷壽命，機(jī)上顯影性以及在連續(xù)印刷中和暫停印刷后的脫墨能力保持在高的水平。本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法的優(yōu)選實(shí)施方案包括用于陽(yáng)極氧化鋁板的第一陽(yáng)極氧化處理步驟和用于進(jìn)一步陽(yáng)極氧化具有在第一陽(yáng)極氧化處理步驟中獲得的陽(yáng)極氧化膜的鋁板的第二陽(yáng)極氧化處理步驟。發(fā)現(xiàn)的是，在本發(fā)明中通過(guò)特意控制在陽(yáng)極氧化處理步驟中使用的電解溶液的溫度可以獲得具有期望性能的平版印刷版用支撐體。更具體地，發(fā)現(xiàn)了通過(guò)控制在各個(gè)處理步驟中的電解溶液的溫度條件，在第一陽(yáng)極氧化處理中形成的微孔能夠在第二陽(yáng)極氧化處理中開(kāi)放，從而增加表面積，并且具有較大表面積的微孔對(duì)其上形成的光敏層具有高的粘附性。[平版印刷版用支撐體]圖1 (A)是顯示本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的一個(gè)實(shí)施方案的橫截面示意IA中顯示的平版印刷版用支撐體10具有鋁板12和陽(yáng)極氧化鋁膜14以此順序堆疊的層壓結(jié)構(gòu)。陽(yáng)極氧化膜14具有從其表面朝向鋁板12延伸的微孔16，并且每個(gè)微孔 16具有大直徑部分18和小直徑部分20。術(shù)語(yǔ)"微孔"通常用于表示陽(yáng)極氧化膜中的孔， 而不限定孔的尺寸。鋁板12和陽(yáng)極氧化膜14首先進(jìn)行詳述。[鋁板]用于本發(fā)明中的鋁板12(鋁支撐體)由主要由鋁組成的尺寸穩(wěn)定的金屬制成；即， 鋁或鋁合金。鋁板選自下列板純鋁板；主要由鋁組成并且含有少量其它元素的合金板；和上面層壓或氣相沉積有鋁(合金)的塑料膜或紙。另外，可以使用如日本特公昭48-18327
7號(hào)公報(bào)中所述的其中鋁片附著于聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯膜的復(fù)合材料片.在以下說(shuō)明中，上述由鋁或鋁合金制成的板統(tǒng)稱(chēng)為“鋁板12”。可能存在于鋁合金中的其它元素包括硅，鐵，錳，銅，鎂，鉻，鋅，鉍，鎳和鈦。合金中的其它元素的含量為10重量％以下。在本發(fā)明中，使用的鋁板優(yōu)選由純鋁制成，但是可以含有少量的其它元素，原因在于從冶煉技術(shù)的觀(guān)點(diǎn)來(lái)看難以制造完全純的鋁。不指定如上所述應(yīng)用于本發(fā)明的鋁板12 的組成，但是可以適當(dāng)?shù)厥褂贸Ｒ?guī)已知的材料如JIS A1050, JIS A1100, JIS A3103和JIS A3005材料。用于本發(fā)明中的鋁板12通常在其以網(wǎng)形連續(xù)移行的過(guò)程中進(jìn)行處理，并且使其具有約400mm至約2，OOOmm的寬度和約0. Imm至約0. 6mm的厚度。寬度和厚度可以基于如印刷機(jī)的尺寸、印刷版的尺寸和使用者的期望等這樣的考慮而適當(dāng)?shù)馗淖?。?duì)鋁板12可適當(dāng)實(shí)施后述的基板表面處理。[陽(yáng)極氧化膜]陽(yáng)極氧化膜14是指這樣的陽(yáng)極氧化鋁膜通常通過(guò)陽(yáng)極氧化處理在鋁板12的表面形成，并且具有大致垂直于膜表面且各自以均勻的方式分布的微孔16。微孔16從陽(yáng)極氧化膜的與鋁板12相反的表面朝向厚度方向延伸(鋁板12側(cè))。陽(yáng)極氧化膜14中的每個(gè)微孔16具有從陽(yáng)極氧化膜表面起延伸至5至60nm的深度 (深度A 見(jiàn)圖1A)的大直徑部分18，和與大直徑部分18的底部連通并且從連通位置(連通位置Y)進(jìn)一步延伸至900至2，OOOnm的深度的小直徑部分20。大直徑部分18和小直徑部分20在以下詳述。(大直徑部分)大直徑部分18的直徑(內(nèi)直徑)從陽(yáng)極氧化膜的表面朝向鋁板側(cè)逐漸增加。大直徑部分18的形狀不受特別限制，只要符合上述直徑條件即可，并且優(yōu)選大致圓錐形、大致鐘形。使用具有上述結(jié)構(gòu)的大直徑部分18的平版印刷版用支撐體形成的平版印刷版具有長(zhǎng)的印刷壽命以及在連續(xù)印刷中和暫停印刷后的優(yōu)異脫墨能力，并且使用該支撐體獲得的平版印刷版原版具有優(yōu)異的機(jī)上顯影性。在連通位置Y測(cè)量的大直徑部分18的平均直徑(平均底部直徑)比在陽(yáng)極氧化膜的表面測(cè)量的大直徑部分18的平均直徑(表面層平均直徑)大。如果符合此條件，則使用平版印刷版用支撐體獲得的平版印刷版具有長(zhǎng)的印刷壽命以及在連續(xù)印刷中和暫停印刷后的優(yōu)異脫墨能力，并且使用該支撐體獲得的平版印刷版原版具有優(yōu)異的機(jī)上顯影性。特別地，就更長(zhǎng)的印刷壽命而言，平均底部直徑優(yōu)選比表面層平均直徑大至少5nm，更優(yōu)選至少I(mǎi)Onm并且最優(yōu)選至少15nm。對(duì)平均底部直徑和表面層平均直徑之間的差異的上限沒(méi)有特別限制，但是出于制造業(yè)限制，該差異優(yōu)選至多50nm。如果平均底部直徑等于或小于表面層平均直徑，則在連續(xù)印刷中的脫墨能力特別地差。大直徑部分18具有10至60nm的平均底部直徑。若處于上述范圍，則使用平版印刷版用支撐體獲得的平版印刷版具有長(zhǎng)的印刷壽命以及在連續(xù)印刷中和暫停印刷后的優(yōu)異脫墨能力，并且使用該支撐體獲得的平版印刷版原版具有優(yōu)異的機(jī)上顯影性。就使用平版印刷版用支撐體獲得的平版印刷版的更長(zhǎng)的印刷壽命而言，平均底部直徑優(yōu)選為10至 50nm,更優(yōu)選12至50nm并且更加優(yōu)選20至50nm。
在小于IOnm的平均底部直徑的情況下，沒(méi)有獲得足夠的固定效果，也沒(méi)有提高平版印刷版的印刷壽命。在超過(guò)60nm的平均底部直徑的情況下，粗糙表面被破壞，從而不能改進(jìn)性能如印刷壽命以及在連續(xù)印刷中和暫停印刷后的脫墨能力。大直徑部分18的表面層平均直徑不受特別限制，只要其具有與平均底部直徑的制定關(guān)系即可。就更優(yōu)異的發(fā)明效果而言，表面層平均直徑優(yōu)選為至少lOnm，更優(yōu)選12至 40nm并且更加優(yōu)選14至30nm。通過(guò)下列方法確定大直徑部分18的表面層平均直徑用FE-TEM以50萬(wàn)倍的放大率觀(guān)察陽(yáng)極氧化膜的表面14，測(cè)量60 (N = 60)個(gè)微孔(大直徑部分)的直徑并且計(jì)算測(cè)量值的平均值。通過(guò)下列方法確定大直徑部分18的平均底部直徑用FE-TEM以50萬(wàn)倍的放大率觀(guān)察在連通位置Y處的陽(yáng)極氧化膜14的橫截面，測(cè)量60 (N = 60)個(gè)微孔(大直徑部分) 的直徑并且計(jì)算測(cè)量值的平均值。陽(yáng)極氧化膜的橫截面的測(cè)定方法可應(yīng)用公知的方法(例如，通過(guò)聚焦離子束(FIB)銑削切割陽(yáng)極氧化膜以制備厚度為約50nm的薄膜，所述薄膜用于進(jìn)行對(duì)陽(yáng)極氧化膜14的橫截面的測(cè)量)。如果大直徑部分18的孔徑和底部不是圓形的則使用等效圓直徑?！暗刃A直徑“是指在假設(shè)開(kāi)口部以及底部的形狀是具有與開(kāi)口部的投影面積相同的投影面積的圓的情況下的圓的直徑。大直徑部分18的底部位于從陽(yáng)極氧化膜的表面起為5至60nm的深度(下文中此深度也成為"深度A")處。換言之，大直徑部分18是從陽(yáng)極氧化膜的表面在深度方向(陽(yáng)極氧化膜的厚度方向)上延伸至5至60nm深度的孔部。從使用平版印刷版用支撐體獲得的平版印刷版具有更長(zhǎng)的印刷壽命以及在連續(xù)印刷中和暫停印刷后的更優(yōu)異的脫墨能力， 并且使用該支撐體獲得的平版印刷版原版具有更優(yōu)異的機(jī)上顯影性的觀(guān)點(diǎn)來(lái)看，深度優(yōu)選為 IOnm 至 50nmo在小于5nm的深度時(shí)，沒(méi)有獲得足夠的固定效果，也沒(méi)有提高平版印刷版的印刷壽命，并且平版印刷版原版具有差的機(jī)上顯影性。在超過(guò)60nm的深度時(shí)，平版印刷版在暫停印刷后具有差的脫墨能力，并且平版印刷版原版具有差的機(jī)上顯影性。通過(guò)下列方法確定深度以15萬(wàn)倍的放大率取陽(yáng)極氧化膜14的橫截面(厚度方向的截面)圖像，測(cè)量至少25個(gè)大直徑部分的深度，并且計(jì)算測(cè)量值的平均值。大直徑部分18的深度A與大直徑部分18的平均底部直徑的比率(深度A/平均底部直徑)為0.1至4. O。從使用平版印刷版用支撐體獲得的平版印刷版具有更長(zhǎng)的印刷壽命以及在連續(xù)印刷中和暫停印刷后的更優(yōu)異的脫墨能力，并且使用該支撐體獲得的平版印刷版原版具有更優(yōu)異的機(jī)上顯影性的觀(guān)點(diǎn)來(lái)看，深度A與平均底部直徑的比率優(yōu)選為至少0. 3但小于3. 0，并且更優(yōu)選至少0. 3但小于2. 5。在深度A與平均底部直徑的比率小于0. 1時(shí)，平版印刷版的印刷壽命沒(méi)有提高。在深度A與平均底部直徑的比率超過(guò)4. O時(shí)，平版印刷版在連續(xù)印刷中和暫停印刷后具有差的脫墨能力并且平版印刷版原版具有差的機(jī)上顯影性。(小直徑部分)如圖IA中所示，小直徑部分20是與相應(yīng)大直徑部分18的底部連通并且從連通位置Y起在深度方向上(即，在厚度方向上)進(jìn)一步延伸的孔。一個(gè)小直徑部分20通常與一個(gè)大直徑部分18連通，但是兩個(gè)以上的小直徑部分20可以與一個(gè)大直徑部分18連通。小直徑部分20在連通位置的平均直徑為大于0但小于20nm。就在連續(xù)印刷中和暫停印刷后的脫墨能力以及機(jī)上顯影性而言，平均直徑優(yōu)選為至多15nm，更優(yōu)選至多13nm 并且最優(yōu)選5至lOnm。平均直徑為20nm以上時(shí)，使用本發(fā)明的平版印刷版用支撐體獲得的平版印刷版在連續(xù)印刷中和暫停印刷后具有差的脫墨能力并且平版印刷版原版具有差的機(jī)上顯影性。小直徑部分20在連通位置的平均直徑通過(guò)下列方法確定使用FE-TEM以50萬(wàn)倍的放大率觀(guān)察在陽(yáng)極氧化膜14的連通位置Y處的橫截面，測(cè)量60 (N = 60)個(gè)微孔(小直徑部分)的直徑，并且計(jì)算測(cè)量值的平均值。陽(yáng)極氧化膜的橫截面的測(cè)量方法可使用公知的方法(例如，將陽(yáng)極氧化膜通過(guò)FIB銑削切割，以制備厚度為約50nm的薄膜，所述薄膜用于進(jìn)行對(duì)陽(yáng)極氧化物膜14的橫截面的測(cè)量。)。如果小直徑部分的開(kāi)口形狀不是圓筒形則使用等效圓直徑?！暗刃A直徑"是指在假設(shè)開(kāi)口部的形狀是具有與開(kāi)口部的投影面積相同的投影面積的圓的情況下的圓的直徑。小直徑部分20的底部位于從與相應(yīng)大直徑部分18連通的位置(相當(dāng)于上述深度 A)起在深度方向上為900至2，OOOnm的距離處。換言之，小直徑部分20是從與相應(yīng)大直徑部分18連通的位置Y起在深度方向上(厚度方向)進(jìn)一步延伸的孔，并且小直徑部分20 具有900至2，OOOnn的深度。就平版印刷版用支撐體的耐劃傷性而言，小直徑部分20的底部?jī)?yōu)選位于從連通位置起900至1，500nm的深度處。在小于900nm的深度的情況下，平版印刷版用支撐體具有差的耐劃傷性。超過(guò) 2，OOOnm的深度時(shí)，需要延長(zhǎng)的處理時(shí)間并且降低生產(chǎn)率和經(jīng)濟(jì)效率。深度通過(guò)以下方法確定以5萬(wàn)倍的放大率取陽(yáng)極氧化膜14的橫截面(厚度方向的截面)圖像，測(cè)量至少25個(gè)小直徑部分的深度，并且計(jì)算測(cè)量值的平均值。小直徑部分20在連通位置的平均直徑(小直徑部分直徑)和大直徑部分18的平均底部直徑的比率(小直徑部分直徑/平均底部直徑)至多為0.85。此比率的下限大于 0，優(yōu)選0. 02至0. 85并且更優(yōu)選0. 1至0. 70。在處于上述范圍內(nèi)的平均直徑比率，所得平版印刷版具有更長(zhǎng)的印刷壽命以及在連續(xù)印刷中和暫停印刷后的更優(yōu)異的脫墨能力，并且平版印刷版原版具有更優(yōu)異的機(jī)上顯影性.。在超過(guò)0. 85的平均直徑比率的情況下，在印刷壽命和暫停印刷后的脫墨能力/機(jī)上顯影性之間不能獲得良好的平衡。小直徑部分20的形狀不受特別限制。示例性的形狀包括大致直管形(大致柱形)， 和其中直徑在深度方向上減小的倒圓錐形，并且優(yōu)選大致直管形。小直徑部分20的底部形狀不受特別限制并且可以是彎曲的(凸起的)或平的。小直徑部分20的內(nèi)直徑不受特別限制，并且通?？梢曰旧系扔?、小于或大于連通位置Y處的直徑。在小直徑部分20的內(nèi)直徑和小直徑部分20在連通位置處的直徑之間通常可以有約Inm至約IOnm的差異。與圖IA中的厚度X對(duì)應(yīng)的陽(yáng)極氧化膜中的小直徑部分20的底部和鋁板12的表面之間的厚度不受特別限制，優(yōu)選為至少20nm。與陽(yáng)極氧化膜中的厚度X對(duì)應(yīng)的部分也稱(chēng)為"阻擋層"。在以上規(guī)定范圍內(nèi)的厚度X使得獲得的平版印刷版能夠?qū)Π唿c(diǎn)(斑點(diǎn))和形成正圓形白色斑點(diǎn)具有高的耐受性。特別地，厚度X優(yōu)選為至少22nm并且更優(yōu)選至少 Mnm，原因在于上述效果更優(yōu)異。上限不受特別限制，并且就均勻膜的形成和形成速率而言，厚度X優(yōu)選至多35nm。在平版印刷版原版長(zhǎng)時(shí)期儲(chǔ)存的情況下，墨液傾向于粘附于非圖像區(qū)域表面的一部分，在印刷紙上產(chǎn)生點(diǎn)狀或環(huán)狀的污點(diǎn)。這種缺點(diǎn)在本文中也被稱(chēng)為"斑點(diǎn)"。正圓形白色斑點(diǎn)是指呈正圓形狀缺少的圖像，這可能在使用通過(guò)將長(zhǎng)期儲(chǔ)存后的平版印刷版原版曝光和顯影而獲得的平版印刷版進(jìn)行印刷時(shí)發(fā)生，所述平版印刷版原版通過(guò)在平版印刷版用支撐體上形成感光聚合物型圖像記錄層獲得。斑點(diǎn)和正圓形白色斑點(diǎn)的產(chǎn)生可以通過(guò)如上所述控制厚度X來(lái)進(jìn)行抑制。(小直徑部分的優(yōu)選實(shí)施方案)小直徑部分的優(yōu)選實(shí)施方案的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案是如圖IB中所示的小直徑部分 20a，其包括沿陽(yáng)極氧化膜16的厚度方向連接在一起的主孔部分30和擴(kuò)大直徑部分32。 具有上述結(jié)構(gòu)的小直徑部分使得使用平版印刷版用支撐體獲得的平版印刷版具有更優(yōu)異的耐斑點(diǎn)性。主孔部分30是從小直徑部分20a和大直徑部分18之間的連通位置(下文中稱(chēng)為〃連通位置Y")朝向鋁板12側(cè)延伸的孔部分，并且是小直徑部分20a的主要部分。主孔部分30通常處于如圖IB中所示的大致直管形。主孔部分30的內(nèi)直徑沿陽(yáng)極氧化膜16的厚度方向可能具有約Inm至約5nm的差異。擴(kuò)大直徑部分32是與主孔部分30的一個(gè)末端連通，朝向鋁板12側(cè)延伸并且具有比主孔部分30的內(nèi)直徑最大值更大的最大直徑的孔部分。例如，擴(kuò)大直徑部分32可以是倒錐形部(大致鐘形的部分)，其中孔直徑從主孔部分30的下端朝向鋁板12側(cè)擴(kuò)大。擴(kuò)大直徑部分32優(yōu)選具有至少6nm并且更優(yōu)選8至30nm的平均最大直徑。擴(kuò)大直徑部分32的最大直徑和主孔部分30的內(nèi)直徑最大值之間的平均差優(yōu)選為至少3nm并且更優(yōu)選6至25nm。在小直徑部分20a從連通位置Y到其底部的總深度中，具有大致直管形的主孔部分30的深度通常占40至98%，并且擴(kuò)大直徑部分32的深度占剩下的百分?jǐn)?shù)。陽(yáng)極氧化膜14中的微孔16的密度不受特別限制，并且陽(yáng)極氧化膜14優(yōu)選具有50 至4，000個(gè)微孔/ μ m2，并且更優(yōu)選100至3，000個(gè)微孔/ μ m2，原因在于所得平版印刷版具有更長(zhǎng)的印刷壽命，以及在連續(xù)印刷中和在暫停印刷后的優(yōu)異的脫墨能力，并且平版印刷版原版具有優(yōu)異的機(jī)上顯影性。陽(yáng)極氧化膜14的涂布重量不受特別限制，并且就平版印刷版用支撐體的優(yōu)異的耐劃傷性而言，優(yōu)選為2. 3至5. 5g/m2并且更優(yōu)選2. 3至4. Og/m2。具有在其表面上形成的將隨后描述的圖像記錄層的上述平版印刷支撐體可以用作平版印刷版原版。[制造平版印刷版用支撐體的方法]根據(jù)本發(fā)明的制造平版印刷版用支撐體的方法，優(yōu)選其中按順序進(jìn)行下列步驟的制造方法。(表面粗糙化處理步驟)在鋁板上進(jìn)行表面粗糙化處理的步驟；(第一陽(yáng)極氧化處理步驟)陽(yáng)極氧化已經(jīng)歷表面粗糙化處理的鋁板的步驟；
(第二陽(yáng)極氧化處理步驟)進(jìn)一步陽(yáng)極氧化在第一陽(yáng)極氧化處理步驟中獲得的鋁板的步驟；(第三陽(yáng)極氧化處理步驟)進(jìn)一步陽(yáng)極氧化在第二陽(yáng)極氧化處理步驟中獲得的鋁板的步驟；(親水化處理步驟)將在第三陽(yáng)極氧化處理步驟中獲得的鋁板親水化的步驟。表面粗糙化處理步驟，第三陽(yáng)極氧化處理步驟和親水化處理步驟對(duì)于本發(fā)明有利的效果不是必要步驟。各個(gè)步驟在以下進(jìn)行詳述。[表面粗糙化處理步驟]表面粗糙化處理步驟是其中對(duì)鋁板的表面進(jìn)行包括電解磨版處理的表面粗糙化處理的步驟。此步驟優(yōu)選在將隨后描述的第一陽(yáng)極氧化處理步驟之前進(jìn)行，但是如果鋁板已經(jīng)具有優(yōu)選的表面形狀則可以不進(jìn)行。可以?xún)H進(jìn)行電解磨版處理用于表面粗糙化處理，但是電解磨版處理可以進(jìn)行機(jī)械磨版處理和/或化學(xué)磨版處理結(jié)合。在機(jī)械磨版處理結(jié)合電解磨版處理的情況下，優(yōu)選在機(jī)械磨版處理后進(jìn)行電解磨版處理。在本發(fā)明的實(shí)踐中，電解磨版處理優(yōu)選在硝酸或鹽酸的水溶液中進(jìn)行。通常進(jìn)行機(jī)械磨版處理以便使鋁板的表面可以具有0. 35至1. 0 μ m的表面粗糙度
Ra °在本發(fā)明中，機(jī)械磨版處理的條件不受特別限制并且可以根據(jù)例如日本特公昭 50-40047號(hào)公報(bào)中描述的方法進(jìn)行。機(jī)械磨版處理可以通過(guò)使用浮石的懸浮液的刷拭磨版或者通過(guò)轉(zhuǎn)印系統(tǒng)進(jìn)行?；瘜W(xué)磨版處理也不受特別限制并且可以通過(guò)任何已知方法進(jìn)行。機(jī)械磨版處理后優(yōu)選進(jìn)行下述化學(xué)蝕刻處理。機(jī)械磨版處理后進(jìn)行化學(xué)蝕刻處理的目的是使鋁板表面不規(guī)則的邊緣光滑，以防止墨液在印刷過(guò)程中附著(catching on)在邊緣上，從而提高平版印刷版的耐起臟性，并且移除殘留在表面上的磨料粒子或其它不必要的物質(zhì)?；瘜W(xué)蝕刻工藝包括領(lǐng)域中已知的使用酸的蝕刻或使用堿的蝕刻，并且就蝕刻效率而言特別優(yōu)異的示例性方法包括使用堿水溶液的化學(xué)蝕刻處理。這種處理在下文中稱(chēng)為"堿蝕刻處理.“。可以用于堿溶液中的堿性試劑不受特別限制并且合適的堿性試劑的示例性實(shí)例包括氫氧化鈉，氫氧化鉀，偏硅酸鈉，碳酸鈉，鋁酸鈉和葡萄糖酸鈉。堿性試劑可以含有鋁離子。堿溶液的濃度優(yōu)選為至少0. 01重量％并且更優(yōu)選至少3重量％，但是優(yōu)選不大于30重量％并且更優(yōu)選不大于25重量％。堿溶液的溫度優(yōu)選為室溫以上，并且更優(yōu)選至少30°C，但是優(yōu)選不高于80°C，并且更優(yōu)選不高于75°C。從鋁板移除的材料的量(以下也稱(chēng)為"蝕刻量")優(yōu)選為至少0. lg/m2并且更優(yōu)選至少lg/m2，但是優(yōu)選不多于20g/m2并且更優(yōu)選不多于10g/m2。取決于蝕刻量，處理時(shí)間優(yōu)選為2秒至5分鐘，并且就提高生產(chǎn)率而言更優(yōu)選2至10秒。在本發(fā)明中機(jī)械磨版處理后為堿蝕刻處理的情況下，優(yōu)選進(jìn)行在低溫使用酸溶液的化學(xué)蝕刻處理(下文中也稱(chēng)為"除垢處理")以移除通過(guò)堿蝕刻處理產(chǎn)生的物質(zhì)?？梢杂糜谒崛芤褐械乃岵皇芴貏e限制，并且其示例性實(shí)例包括硫酸，硝酸和鹽酸。 酸溶液優(yōu)選具有1至50重量％的濃度。酸溶液優(yōu)選具有20至80°C的溫度。當(dāng)酸溶液的濃度和溫度落入以上規(guī)定范圍內(nèi)時(shí)，使用本發(fā)明的平版印刷版用支撐體獲得的平版印刷版具有更大提高的耐斑點(diǎn)性。在本發(fā)明的實(shí)踐中，表面粗糙化處理是其中在根據(jù)需要進(jìn)行機(jī)械磨版處理和化學(xué)蝕刻處理之后進(jìn)行電解磨版處理的處理，但是在不進(jìn)行機(jī)械磨版處理而進(jìn)行電解磨版處理的情況下，電解磨版處理可以通過(guò)使用堿水溶液如氫氧化鈉的化學(xué)蝕刻處理進(jìn)行。以此方式，可以移除存在于鋁板表面附近中的雜質(zhì)。電解磨版處理易于在鋁板的表面形成微細(xì)凹坑并因而適于制備具有優(yōu)異的印刷適性的平版印刷版。電解磨版處理在含有硝酸或鹽酸作為其主要成分的水溶液中使用直流電或交流電進(jìn)行。電解磨版處理后優(yōu)選進(jìn)行下述化學(xué)蝕刻處理。污跡和金屬間化合物存在于已經(jīng)歷過(guò)電解磨版處理的鋁板的表面。在電解磨版處理后進(jìn)行的化學(xué)蝕刻處理中，優(yōu)選首先進(jìn)行使用堿溶液的化學(xué)蝕刻(堿蝕刻處理)，以便特別是高效地移除污跡。使用堿溶液的化學(xué)蝕刻處理的條件包括20至80°C的處理溫度和1至60秒的處理時(shí)間。期望堿溶液含有鋁離子。為了移除電解磨版處理之后通過(guò)使用堿溶液的化學(xué)蝕刻處理產(chǎn)生的物質(zhì)，還優(yōu)選在低溫使用酸溶液進(jìn)行化學(xué)蝕刻處理(除垢處理)。甚至在電解磨版處理后沒(méi)有進(jìn)行堿蝕刻處理的情況下，也優(yōu)選進(jìn)行除垢處理以有效地去除污跡。在本發(fā)明的實(shí)踐中，化學(xué)蝕刻處理不受特別限制，并且可以通過(guò)浸漬、噴淋、涂布或其它工藝進(jìn)行。[第一陽(yáng)極氧化處理步驟]第一陽(yáng)極氧化處理步驟是這樣的步驟其中通過(guò)用直流電或交流電在鋁板或已經(jīng)歷上述表面粗糙化處理的鋁板上進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理，在鋁板的表面形成具有微孔的陽(yáng)極氧化鋁膜，所述微孔在膜的深度方向(厚度方向)上延伸。(處理?xiàng)l件)溫度(溶液溫度)至高為45°C的第一電解溶液用于第一陽(yáng)極氧化處理中。電解溶液的使用使得能夠制造這樣的平版印刷版用支撐體可以提供具有更長(zhǎng)的印刷壽命以及在連續(xù)印刷中和暫停印刷后的更優(yōu)異的脫墨能力，并且具有優(yōu)異的機(jī)上顯影性的平版印刷版原版。第一電解溶液優(yōu)選具有15至45°C并且更優(yōu)選25至45°C的溫度。在處于上述范圍內(nèi)的溫度的情況下，所得平版印刷版平版印刷版原版具有更優(yōu)異的性能。在第一電解溶液具有超過(guò)45°C的溫度的情況下，所得平版印刷版具有短的印刷壽命。第一電解溶液優(yōu)選含有至少一種選自由下列各項(xiàng)組成的組中的電解質(zhì)硫酸，磷酸，鉻酸，草酸，硼酸/硼酸鈉，氨基磺酸，苯磺酸和酰胺基磺酸，并且就更優(yōu)異的發(fā)明效果而言，更優(yōu)選硫酸。第一電解溶液中的電解質(zhì)的濃度不受特別限制，并且就更優(yōu)異的發(fā)明效果而言?xún)?yōu)選10至170g/L，并且更優(yōu)選30至170g/L。第一電解溶液可以含有鋁離子。鋁離子含量不受特別限制并且優(yōu)選0. 1至10g/L 并且更優(yōu)選1. 0至8. Og/L。用于第一電解溶液的溶劑不受特別限制并且優(yōu)選使用水。可以使用水不溶性溶劑如有機(jī)溶劑，只要本發(fā)明的效果不受損害即可。第一電解溶液可以含有通常存在于鋁板，電極，自來(lái)水，地下水等中的成分。另外， 可以添加第二或第三成分。這里，“第二和第三成分”包括，例如，金屬如鈉，鉀，鎂，鋰，鈣， 鈦，鋁，釩，鉻，猛，鐵，鈷，鎳，銅和鋅的離子；陽(yáng)離子如銨離子；以及陰離子如硝酸根離子， 碳酸根離子，氯離子，磷酸根離子，氟離子，亞硫酸根離子，鈦酸根離子，硅酸根離子和硼酸根離子。這些可以以約0至10，OOOppm的濃度存在。第一陽(yáng)極氧化處理步驟中的電流密度取決于使用的電解溶液的類(lèi)型而不同，并且就更優(yōu)異的發(fā)明效果而言，優(yōu)選為20至60A/dm2并且更優(yōu)選30至50A/dm2。第一陽(yáng)極氧化處理步驟中的處理時(shí)間取決于使用的電解溶液的類(lèi)型而不同，并且就更優(yōu)異的發(fā)明效果而言，優(yōu)選為0. 1至10秒并且更優(yōu)選0. 5至1. 0秒。第一陽(yáng)極氧化處理步驟中的電量取決于使用的電解溶液的類(lèi)型而不同，并且就更優(yōu)異的發(fā)明效果而言，優(yōu)選為10至50C/dm2并且更優(yōu)選20至30C/dm2。第一陽(yáng)極氧化處理步驟中的電壓條件取決于使用的電解溶液的類(lèi)型而不同，并且就更優(yōu)異的發(fā)明效果而言，優(yōu)選為20至60V并且更優(yōu)選30至45V。在第一陽(yáng)極氧化處理步驟中，就更優(yōu)異的發(fā)明效果而言，電壓優(yōu)選以連續(xù)的方式增加。就本發(fā)明的效果而言，優(yōu)選電壓連續(xù)增加，原因在于在第一陽(yáng)極氧化處理步驟中產(chǎn)生在厚度方向上的的溶解度差異，導(dǎo)致微孔直徑在第一陽(yáng)極氧化處理步驟后進(jìn)一步增加。特別地，單位時(shí)間電壓的變化優(yōu)選為20至200V/s并且更優(yōu)選70至90V/s。在處于以上限定范圍內(nèi)的電壓變化的情況下，可以制造這樣的平版印刷版原版其表現(xiàn)出優(yōu)異的機(jī)上顯影性，并且其使得由其能夠形成具有長(zhǎng)的印刷壽命以及在連續(xù)印刷中和暫停印刷后的優(yōu)異的脫墨能力的平版印刷版第一陽(yáng)極氧化處理步驟優(yōu)選在下述條件下進(jìn)行電解溶液(水溶液)的主要成分 硫酸；其濃度1至170g/L ；以及電流密度20至60A/dm2。(處理方法)第一陽(yáng)極氧化處理步驟中的處理方法不受特別限制，連續(xù)陽(yáng)極氧化處理優(yōu)選使用經(jīng)由電解溶液向鋁板供電的溶液介質(zhì)供電系統(tǒng)進(jìn)行。直流或交流優(yōu)選施加于在含硫酸的電解溶液中進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理中的鋁板?？梢允褂糜摄U，氧化銥，鉬或鐵素體形成的電極對(duì)鋁板供電。特別地，優(yōu)選主要由氧化銥形成的電極和通過(guò)用氧化銥涂布基板表面形成的電極。所謂閥金屬(valve metal) 如鈦，鉭，鈮和鋯優(yōu)選用于基板，并且在這些閥金屬中，優(yōu)選鈦和鈮。閥金屬具有相對(duì)較高的電阻并因此基板可以通過(guò)用閥金屬中的任一種將由銅制成的核的表面包層而形成。在使用閥金屬將由銅制成的核的表面包層的情況下，可以通過(guò)將被分成對(duì)應(yīng)于部件的片段的核用閥金屬包層并且將部件組合在一起來(lái)組裝基板。(膜性能)在陽(yáng)極氧化膜的表面測(cè)量的在第一陽(yáng)極氧化處理步驟中形成的微孔的平均直徑 (平均孔徑大小)優(yōu)選為5至IOrm并且更優(yōu)選6至8nm。在處于上述范圍內(nèi)的平均直徑， 所得平版印刷版和平版印刷版原版在印刷壽命和其它性能方面更優(yōu)異。微孔的平均直徑確定如下通過(guò)FE-SEM以15萬(wàn)倍的放大率觀(guān)察陽(yáng)極氧化膜的表面而獲得四幅圖像，并且在所得四幅圖像中，測(cè)量400X600nm2面積內(nèi)的微孔的直徑并且計(jì)算測(cè)量值的平均值。如果微孔的孔徑不是圓形的則使用等效圓直徑?！暗刃A直徑"是指在假設(shè)開(kāi)口部的形狀是具有與開(kāi)口部的投影面積相同的投影面積的圓的情況下的圓的直徑。微孔優(yōu)選具有10至65nm并且更優(yōu)選15至30nm的深度。在處于上述范圍內(nèi)的深度時(shí)，所得平版印刷版和平版印刷版原版在印刷壽命和其它性能方面更優(yōu)異。深度測(cè)量如下以15萬(wàn)倍的放大率取陽(yáng)極氧化膜的橫截面圖像，測(cè)量至少25個(gè)微孔的深度，并且計(jì)算測(cè)量值的平均值。微孔的密度不受特別限制并且優(yōu)選100至3，000微孔/ μ m2，并且更優(yōu)選100至 800微孔/μ m2。在處于上述范圍內(nèi)的密度時(shí)，所得平版印刷版和平版印刷版原版在印刷壽命和其它性能方面更優(yōu)異。通過(guò)第一陽(yáng)極氧化處理步驟獲得的陽(yáng)極氧化膜具有20至SOnm并且更優(yōu)選50至 70nm的厚度。通過(guò)第一陽(yáng)極氧化處理步驟獲得的陽(yáng)極氧化膜優(yōu)選具有0.05至0.21g/m2 并且更優(yōu)選0. 10至0. 18g/m2的涂布重量。在處于上述范圍內(nèi)的膜厚度和涂布重量，所得平版印刷版和平版印刷版原版在印刷壽命和其它性能方面更優(yōu)異。[第二陽(yáng)極氧化處理步驟]第二陽(yáng)極氧化處理步驟是這樣的步驟其中將已實(shí)施了第一陽(yáng)極氧化處理的鋁板進(jìn)一步陽(yáng)極氧化以擴(kuò)大微孔的孔徑。換言之，第二陽(yáng)極氧化處理步驟將在第一陽(yáng)極氧化處理中獲得的微孔的平均直徑擴(kuò)大并形成上述小直徑部分，并且這樣獲得的微孔具有適于實(shí)現(xiàn)本發(fā)明效果的形狀。(處理?xiàng)l件)具有50至70°C的溫度(溶液溫度)的第二電解溶液用于第二陽(yáng)極氧化處理中。 電解溶液的使用使得能夠制造這樣的平版印刷版用支撐體可以提供具有長(zhǎng)的印刷壽命以及在連續(xù)印刷中和暫停印刷后的優(yōu)異的脫墨能力的平版印刷版，和具有優(yōu)異的機(jī)上顯影性的平版印刷版原版。第二電解溶液優(yōu)選具有55至65°C的溫度。在處于上述范圍內(nèi)的溫度時(shí)，所得平版印刷版和平版印刷版原版具有更優(yōu)異的性能。在第二電解溶液具有小于50°C的溫度的情況下，所得平版印刷版具有短的印刷壽命。在第二電解溶液具有超過(guò)70°C的溫度的情況下，所得平版印刷版在連續(xù)印刷中和暫停印刷后具有低的脫墨能力。第二電解溶液的溫度優(yōu)選比第一電解溶液的溫度至少高15°C。如果符合第一電解溶液的溫度和第二電解溶液的溫度之間的關(guān)系，則所得平版印刷版和平版印刷版原版在性能如印刷壽命和連續(xù)印刷中的脫墨能力方面更優(yōu)異。
第二電解溶液優(yōu)選含有選自由下列各項(xiàng)組成的組中的至少一種電解質(zhì)硫酸，磷酸，鉻酸，草酸，硼酸/硼酸鈉，氨基磺酸，苯磺酸和酰胺基磺酸，并且就更優(yōu)異的發(fā)明效果而言更優(yōu)選硫酸。第二電解溶液中的電解質(zhì)濃度不受特別限制，并且就更優(yōu)異的發(fā)明效果而言?xún)?yōu)選為100至500g/L并且更優(yōu)選150至300g/L。第二電解溶液可以含有鋁離子。鋁離子的含量不受特別限制并且優(yōu)選為0. 1至 10g/L，并且更優(yōu)選1. 0至8. Og/L。用于第二電解溶液的溶劑不受特別限制并且優(yōu)選使用水?？梢允褂盟蝗苄匀軇┤缬袡C(jī)溶劑，至少本發(fā)明的效果不受損害即可。如第一電解溶液中，第二電解溶液可以含有通常存在于鋁板，電極，自來(lái)水，地下水等中的成分。另外，可以添加上述第二和第三成分。第二陽(yáng)極氧化處理步驟中的電流密度取決于使用的電解溶液的類(lèi)型而不同，并且就更優(yōu)異的發(fā)明效果而言?xún)?yōu)選為10至80A/dm2并且更優(yōu)選15至30A/dm2。第二陽(yáng)極氧化處理步驟中的處理時(shí)間取決于使用的電解溶液的類(lèi)型而不同，并且就更優(yōu)異的發(fā)明效果而言?xún)?yōu)選為3至60秒并且更優(yōu)選10至20秒。第二陽(yáng)極氧化處理步驟中的電量取決于使用的電解溶液的類(lèi)型而不同，并且就更優(yōu)異的發(fā)明效果而言?xún)?yōu)選為200至600C/dm2并且更優(yōu)選240至400C/dm2。第二陽(yáng)極氧化處理步驟中的電壓條件取決于使用的電解溶液的類(lèi)型而不同，并且就更優(yōu)異的發(fā)明效果而言?xún)?yōu)選為10至30V并且更優(yōu)選10至20V。在第二陽(yáng)極氧化處理步驟中，就更優(yōu)異的發(fā)明效果而言具體地，從在將耐起臟性的劣化最小化的同時(shí)防止光敏層進(jìn)入到在第二陽(yáng)極氧化處理步驟中獲得的陽(yáng)極氧化膜中的觀(guān)點(diǎn)來(lái)看，電壓優(yōu)選是恒定的，第二陽(yáng)極氧化處理步驟優(yōu)選在下列條件下進(jìn)行電解溶液的主要成分硫酸；其濃度170至500g/L ；以及電流密度10至80A/dm2。第二陽(yáng)極氧化處理步驟中的處理方法不受特別限制，并且常規(guī)已知的方法可以用于第一陽(yáng)極氧化處理步驟中。(膜性能)在陽(yáng)極氧化膜的表面測(cè)量在第二陽(yáng)極氧化處理步驟中形成的微孔的平均直徑 (平均孔徑大小)對(duì)應(yīng)于上述大直徑部分18的表面層平均直徑并且優(yōu)選在以上限定的數(shù)字范圍內(nèi)。在陽(yáng)極氧化膜的表面測(cè)量的在第一陽(yáng)極氧化處理步驟中獲得的微孔的平均直徑 (第一平均微孔直徑)和在陽(yáng)極氧化膜的表面測(cè)量的在第二陽(yáng)極氧化處理步驟中獲得的微孔的平均直徑(第二平均微孔直徑)之差優(yōu)選為至少3nm，更優(yōu)選3至15nm并且更加優(yōu)選 3至lOnm。在處于上述范圍內(nèi)的平均直徑，所得平版印刷版和平版印刷版原版在印刷壽命和其它性能方面更優(yōu)異。微孔的密度不受特別限制，并且優(yōu)選與在第一陽(yáng)極氧化處理步驟中獲得的微孔的密度的相同。通過(guò)第二陽(yáng)極氧化處理步驟獲得的陽(yáng)極氧化膜優(yōu)選具有900至2，OOOnm并且更優(yōu)選900至1，200nm的厚度。通過(guò)第二陽(yáng)極氧化處理步驟獲得的陽(yáng)極氧化膜優(yōu)選具有2. 3至5. 2g/m2并且更優(yōu)選2. 4至3. Og/m2的涂布重量。在處于上述范圍內(nèi)的膜厚度和涂布重量，所得平版印刷版和平版印刷版原版具有更優(yōu)異的性能和特別是更高的耐劃傷性。在進(jìn)行下述第三陽(yáng)極氧化處理步驟的情況下，通過(guò)第二和第三陽(yáng)極氧化處理步驟獲得的陽(yáng)極氧化膜的總厚度優(yōu)選為900至2，OOOnm并且更優(yōu)選900至1，200nm。在第一陽(yáng)極氧化處理步驟中獲得的陽(yáng)極氧化膜的厚度(第一膜厚度)和在第二陽(yáng)極氧化處理步驟中獲得的陽(yáng)極氧化膜的厚度(第二膜厚度)之間的比率(第一膜厚度/第二膜厚度)優(yōu)選為0. 02至0. 085并且更優(yōu)選0. 04至0. 06。在處于上述范圍內(nèi)的膜厚度比率，所得平版印刷版和平版印刷版原版具有更優(yōu)異的性能和特別是更長(zhǎng)的印刷壽命。在進(jìn)行下述第三陽(yáng)極氧化處理步驟的情況下，在第一陽(yáng)極氧化處理步驟中獲得的陽(yáng)極氧化膜的厚度(第一膜厚度)和在第二和第三陽(yáng)極氧化處理步驟中獲得的陽(yáng)極氧化膜的總厚度(第二和第三膜的總厚度)之間的比率(第一膜厚度/第二膜厚度+第三膜厚度)優(yōu)選以上限定的范圍內(nèi)。為了獲得上述的小直徑部分20a的形狀，在第二陽(yáng)極氧化處理步驟中的處理過(guò)程中(特別是在處理的后半段過(guò)程中)，所要施加的電壓可以逐步增加或者連續(xù)地增加，或者可以降低電解溶液的溫度。此處理使得形成的孔能夠具有更大的直徑，從而獲得如上述小直徑部分20a那樣的形狀。作為在第二陽(yáng)極氧化處理步驟中的處理的結(jié)果，在所得小直徑部分的底部和鋁板之間的陽(yáng)極氧化膜的厚度趨向于增加。在作為上述處理的結(jié)果，小直徑部分的底部和鋁板之間的陽(yáng)極氧化膜具有的預(yù)定厚度的情況下，可以不進(jìn)行下述第三陽(yáng)極氧化處理步驟。只要本發(fā)明的效果不受損，在第一陽(yáng)極氧化處理步驟和第二陽(yáng)極氧化處理步驟之間或者在第二陽(yáng)極氧化處理步驟之后可以在不同的條件下進(jìn)行另外的陽(yáng)極氧化處理。就更優(yōu)異的發(fā)明效果的而言，第一和第二陽(yáng)極氧化處理步驟優(yōu)選以連續(xù)的方式進(jìn)行。換言之，第一陽(yáng)極氧化處理步驟和第二陽(yáng)極氧化處理步驟之間不包括另外的陽(yáng)極氧化處理步驟。[第三陽(yáng)極氧化處理步驟]第三陽(yáng)極氧化處理步驟是其中將已經(jīng)歷第二陽(yáng)極氧化處理的鋁板進(jìn)一步陽(yáng)極氧化，以主要增加位于小直徑部分的底部和鋁板之間的陽(yáng)極氧化膜的厚度(阻擋層的厚度) 的步驟。作為第三陽(yáng)極氧化處理步驟的結(jié)果，圖IA中所示的厚度X達(dá)到預(yù)定值。在微孔在第二陽(yáng)極氧化處理步驟末期已經(jīng)具有期望形狀的情況下，可以不進(jìn)行如上所述的第三陽(yáng)極氧化處理步驟。對(duì)于利用使用的電解溶液而適當(dāng)?shù)卦O(shè)定第三陽(yáng)極氧化處理步驟中的陽(yáng)極氧化處理的條件。該處理通常以比第二陽(yáng)極氧化處理步驟中施加的電壓更高的電壓進(jìn)行，或者使用具有比在第二陽(yáng)極氧化處理步驟中使用的電解溶液的溫度更低的溫度的電解溶液進(jìn)行。使用的電解溶液的種類(lèi)不受特別限制，并且可以使用上述電解溶液中的任一種。 通過(guò)在電解池中使用例如含硼酸的水溶液，可以在不改變?cè)诘诙?yáng)極氧化處理步驟中獲得的小直徑部分的形狀的情況下有效地增加厚度X。通過(guò)第三陽(yáng)極氧化處理步驟獲得的陽(yáng)極氧化膜通常具有0. 1至2. Og/m2并且優(yōu)選 0. 2至1. 6g/m2的涂布重量。當(dāng)涂布重量在上述范圍內(nèi)時(shí)，使用通過(guò)上述步驟形成的平版印刷版用支撐體所獲得的平版印刷版具有長(zhǎng)的印刷壽命，在連續(xù)印刷中和暫停印刷后優(yōu)異的脫墨能力，優(yōu)異的耐斑點(diǎn)性，和優(yōu)異的耐形成正圓形白色斑點(diǎn)性，并且平版印刷版原版具有優(yōu)異的機(jī)上顯影性。作為第三陽(yáng)極氧化處理步驟的結(jié)果，微孔可以在陽(yáng)極氧化膜的厚度方向上進(jìn)一步延伸。[親水化處理步驟]本發(fā)明的制造平版印刷版用支撐體的方法可以具有親水化處理步驟，其中在上述第三陽(yáng)極氧化處理步驟后將鋁板再親水化。親水化處理可以通過(guò)公開(kāi)在日本特開(kāi) 2005-254638的第W109]至W114]段中的任何已知方法進(jìn)行。優(yōu)選通過(guò)如下方法進(jìn)行親水化處理其中，將鋁板浸漬在堿金屬硅酸鹽如硅酸鈉或硅酸鉀的水溶液中，或者用親水性乙烯基聚合物或親水性化合物涂覆以形成親水性底涂層。使用堿金屬硅酸鹽如硅酸鈉或硅酸鉀的水溶液的親水化處理可以根據(jù)美國(guó)專(zhuān)利 2，714，066號(hào)說(shuō)明書(shū)和美國(guó)專(zhuān)利第3，181，461號(hào)說(shuō)明書(shū)中描述的方法和順序進(jìn)行。(優(yōu)選實(shí)施方案)另一方面，在本發(fā)明中，平版印刷版用支撐體優(yōu)選通過(guò)按下示順序?qū)︿X板進(jìn)行描述在實(shí)施方案A中的各個(gè)處理而獲得。優(yōu)選在各個(gè)處理之間進(jìn)行水沖洗。然而，在連續(xù)進(jìn)行的兩個(gè)步驟(處理)中使用相同組成的溶液時(shí)，用水沖洗可以省略。(實(shí)施方案A)(1)機(jī)械磨版處理；(2)在堿水溶液中的化學(xué)蝕刻處理(第一堿蝕刻處理)；(3)在酸水溶液中的化學(xué)蝕刻處理(第一除垢處理)；(4)在以硝酸為主體的水溶液中進(jìn)行的電解磨版處理(第一電解磨版處理)；(5)在堿水溶液中的化學(xué)蝕刻處理(第二堿蝕刻處理)；(6)在酸水溶液中的化學(xué)蝕刻處理(第二除垢處理)；(7)在以鹽酸為主體的水溶液中的電解磨版處理(第二電解磨版處理)；(8)在堿水溶液中的化學(xué)蝕刻處理(第三堿蝕刻處理)；(9)在酸水溶液中的化學(xué)蝕刻處理(第三除垢處理)；(10)陽(yáng)極氧化處理(第一至第三陽(yáng)極氧化處理)；(11)親水化處理.上述(1)至(11)中的機(jī)械磨版處理，電解磨版處理，化學(xué)蝕刻處理，陽(yáng)極氧化處理和親水化處理可以在與上述那些相同的條件下通過(guò)相同的處理方法進(jìn)行，但是優(yōu)選使用下述處理方法和條件進(jìn)行這些處理。機(jī)械磨版處理優(yōu)選通過(guò)使用具有0. 2至1. 61mm的毛直徑的旋轉(zhuǎn)尼龍刷輥和供給到鋁板表面的漿液進(jìn)行?？梢允褂霉哪チ?，并且可以?xún)?yōu)選使用的示例性實(shí)例包括硅砂，石英，氫氧化鋁和它們的混合物。漿液優(yōu)選具有1. 05至1. 3的比重。可以使用漿液噴霧的技術(shù)，使用鋼絲刷的技術(shù)，或者其中將刻花(textured)軋輥的表面形狀轉(zhuǎn)印到鋁板上的技術(shù)等。
可以在堿水溶液中的化學(xué)蝕刻處理中使用的堿水溶液具有優(yōu)選1至30重量％的濃度，并且可以0至10重量％的含有量含有鋁和/或存在于鋁合金中的合金成分。堿水溶液優(yōu)選使用主要由氫氧化鈉組成的水溶液?；瘜W(xué)蝕刻優(yōu)選在室溫至95°C的溶液溫度下進(jìn)行1至120秒的時(shí)間。蝕刻處理終止后，優(yōu)選進(jìn)行使用夾緊輥進(jìn)行處理溶液的移除和用水噴霧進(jìn)行的沖洗，以防止處理溶液攜帶到隨后的步驟中。在第一堿蝕刻處理中，優(yōu)選以0. 5至30g/m2，更優(yōu)選1. 0至20g/m2，并且更加優(yōu)選 3. 0至15g/m2的量溶解鋁板。在第二堿蝕刻處理中，優(yōu)選以0.001至30g/m2，更優(yōu)選0. 1至4g/m2，并且更加優(yōu)選 0. 2至1. 5g/m2的量溶解鋁板。在第三堿蝕刻處理中，優(yōu)選以0. 001至30g/m2，更優(yōu)選0. 01至0. 8g/m2，并且更加優(yōu)選0. 02至0. 3g/m2的量溶解鋁板。在酸水溶液中的化學(xué)蝕刻處理(第一至第三除垢處理)中，可以有利地使用磷酸， 硝酸，硫酸，鉻酸，鹽酸或含有它們中的兩種以上的混合酸。酸水溶液優(yōu)選具有0. 5至60重量％的濃度。鋁和/或存在于鋁合金中的合金成分可以以0至5重量％的量溶解于水溶液中?；瘜W(xué)蝕刻優(yōu)選在室溫至95°C的溶液溫度進(jìn)行1至120秒的處理時(shí)間。除垢處理終止后，優(yōu)選進(jìn)行使用夾緊輥進(jìn)行的處理溶液的移除和用水噴霧進(jìn)行的沖洗，以防止處理溶液被攜帶到隨后的步驟中?，F(xiàn)在描述可以用于電解磨版處理中的水溶液。使用直流電或交流電的常規(guī)電解磨版處理中使用的水溶液，可以用于在第一電解磨版處理中使用的以硝酸為主體的水溶液。所要使用的水溶液可以通過(guò)向硝酸濃度為1至 100g/L的水溶液中添加lg/L至飽和的范圍內(nèi)的至少一種含硝酸根離子的硝酸化合物，如硝酸鋁，硝酸鈉或硝酸銨，或者至少一種含氯離子的氯化物，如氯化鋁，氯化鈉或氯化銨等來(lái)制備?？赡艽嬖谟阡X合金中的金屬如鐵，銅，錳，鎳，鈦，鎂和硅也可以溶解在以硝酸為主體的水溶液中。更具體地，優(yōu)選使用向其中添加氯化鋁或硝酸鋁的溶液從而使在0. 5至2重量％ 的硝酸水溶液中可以含有3至50g/L的鋁離子。溫度優(yōu)選為10至90°C并且更優(yōu)選40至80°C。使用直流電或交流電的常規(guī)電解磨版處理中使用的水溶液，可以用于在第二電解磨版處理中使用的以鹽酸為主體的水溶液。所要使用的水溶液可以通過(guò)向鹽酸濃度為1至 100g/L的水溶液中添加lg/L至飽和的范圍內(nèi)的至少一種含硝酸根離子的硝酸化合物，如硝酸鋁，硝酸鈉或硝酸銨，或者至少一種含氯離子的氯化物，如氯化鋁，氯化鈉或氯化銨等來(lái)制備?？赡艽嬖谟阡X合金中的金屬如鐵，銅，錳，鎳，鈦，鎂和硅也可以溶解在以鹽酸為主體的水溶液中。更具體地，優(yōu)選使用向其中添加氯化鋁或硝酸鋁的溶液從而使在0. 5至2重量％ 的鹽酸水溶液可以含有3至50g/L的鋁離子。
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溫度優(yōu)選為10至60°C并且更優(yōu)選20至50°C。次氯酸可以添加到該水溶液中。正弦曲線(xiàn)、方形、梯形或三角形的波形可以用作在電解磨版處理中的交流電的波形。頻率優(yōu)選為0. 1至250Hz。圖2是顯示可以用于本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法中的電解磨版處理中的交流電波形的實(shí)例的圖。在圖2中，“ta〃表示陽(yáng)極反應(yīng)時(shí)間，“tc〃為陰極反應(yīng)時(shí)間，“tp〃是電流從0達(dá)到峰值所需的時(shí)間，“Ia"是在陽(yáng)極循環(huán)側(cè)的峰值電流，并且"Ic"是在陰極循環(huán)側(cè)的峰值電流。在梯形波形中，優(yōu)選電流從0直至達(dá)到峰值為止的時(shí)間tp為1至10msec。 在電源電路中阻抗的影響下，tp小于1時(shí)，在電流脈沖的前緣需要大的電源電壓，因此增加了電源設(shè)備成本。在tp大于10時(shí)，鋁板趨向于受電解溶液中的痕量成分的影響，使得難以進(jìn)行均勻的磨版。可以用于電解磨版處理中的交流電的一個(gè)循環(huán)優(yōu)選滿(mǎn)足下列條件在鋁板中陰極反應(yīng)時(shí)間tc與陽(yáng)極反應(yīng)時(shí)間ta的比率(tc/ta)為1至20 ；當(dāng)鋁板充當(dāng)陰極時(shí)的電量Qc與當(dāng)其充當(dāng)陽(yáng)極時(shí)的電量Qa的比率(Qc/Qa)為0. 3至20 ；并且陽(yáng)極反應(yīng)時(shí)間ta為 5至1，000msec。比率tc/ta更優(yōu)選為2. 5至15。比率Qc/Qa更優(yōu)選為2. 5至15。梯形波形中電流峰值的電流密度在陽(yáng)極循環(huán)側(cè)(Ia)和陰極循環(huán)側(cè)(Ic)都優(yōu)選為10至200A/dm2。 比率Ic/Ia優(yōu)選在0. 3至20的范圍內(nèi)。供應(yīng)到鋁板上用于陽(yáng)極反應(yīng)直至電解磨版處理完成的總電量?jī)?yōu)選為25至1，000C/dm2。在本發(fā)明的實(shí)踐中，任何用于表面處理的公知的電解池，包括垂直型，扁平型和徑向型電解池均可以用于進(jìn)行使用交流電的電解磨版處理。特別優(yōu)選徑向型電解池如日本特開(kāi)平5-195300號(hào)公報(bào)中描述的那些徑向型電解池。圖3中所示的裝置可以用于使用交流電的電解磨版處理中。圖3是可以用于本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法中使用交流電進(jìn)行的電解磨版處理中的徑向電解池的側(cè)視圖。圖3顯示了主電解池50，交流電源51，徑向a徑向鼓型輥52，主電極53a和53b， 溶液進(jìn)料入口 54，電解溶液55，狹縫56，電解溶液通道57，輔助陽(yáng)極58，輔助陽(yáng)極池60和鋁板W。當(dāng)使用兩個(gè)以上的電解池時(shí)，電解可以在相同或不同的條件下進(jìn)行。鋁板W卷繞在設(shè)置的徑向鼓型輥52以便浸漬在電解池50內(nèi)，并且在其行進(jìn)過(guò)程中通過(guò)連接到交流電源51的主電極53a和5 而進(jìn)行電解處理。電解溶液55從溶液進(jìn)料入口 M經(jīng)由狹縫56進(jìn)料到徑向鼓型輥52與主電極53a和5 之間的電解溶液通道57中。 在主電解池50中處理的鋁板W隨后在輔助陽(yáng)極池60中被電解。在輔助陽(yáng)極池60中，輔助陽(yáng)極58以與鋁板W面對(duì)面的關(guān)系設(shè)置，以使電解溶液55經(jīng)由輔助陽(yáng)極58和鋁板W之間的空間流動(dòng)。另一方面，電解磨版處理(第一和第二電解磨版處理)可以通過(guò)如下方法進(jìn)行其中通過(guò)在鋁板和與其相對(duì)的電極之間施加直流電，對(duì)該鋁板進(jìn)行電化學(xué)磨版。<干燥步驟>在通過(guò)上述步驟獲得平版印刷版用支撐體后，優(yōu)選在其上提供后述圖像記錄層之前進(jìn)行用于干燥支撐體表面的處理(干燥步驟)。干燥優(yōu)選在已實(shí)施了表面處理的最后處理后再進(jìn)行水洗處理以及使用夾緊輥除去水后進(jìn)行。具體條件不受特別限制，但是平版印刷版用支撐體的表面優(yōu)選通過(guò)50°C至2000C的熱空氣或自然空氣進(jìn)行干燥。[平版印刷版原版]本發(fā)明的平版印刷版原版可以通過(guò)在本發(fā)明的平版印刷版用支撐體上形成圖像記錄層如光敏層或熱敏層而獲得。圖像記錄層的類(lèi)型不受特別限制，但是優(yōu)選使用如日本特開(kāi)2003-1956號(hào)公報(bào)的第W042]至W198]段中描述的傳統(tǒng)陽(yáng)圖型，傳統(tǒng)陰圖型，感光聚合物型，熱陽(yáng)圖型，熱陰圖型和可機(jī)上顯影的未處理型。例如，熱陽(yáng)圖型的平版印刷版原版的圖像記錄層可以由單一的層(單層)構(gòu)成， 也可以由多個(gè)層(多層)構(gòu)成。圖像記錄層為多個(gè)層時(shí)，優(yōu)選由2層構(gòu)成。作為單層型的具體例，可舉出日本特表2010-532488號(hào)公報(bào)。作為多層型的具體例，可舉出日本特開(kāi) 2006-267294 號(hào)公報(bào)。作為感光聚合物型的圖像記錄層的具體例，優(yōu)選可舉出日本特開(kāi)2008-242046號(hào)公報(bào)中記載的例子。作為熱陰圖型的圖像記錄層的具體例，優(yōu)選可舉出日本特愿2010-192645號(hào)中記載的圖像記錄層。作為可機(jī)上顯影非處理型，優(yōu)選可舉出后述的圖像記錄層、日本特表2009-502590 號(hào)公報(bào)、日本特愿2010-294336號(hào)中記載的圖像記錄層。作為顯影方式，沒(méi)有特別限制，優(yōu)選可使用添加了堿顯影液、溶劑的顯影液等。也可優(yōu)選使用美國(guó)公開(kāi)公報(bào)20100216067中記載的顯影液。另外，也優(yōu)選可舉出在利用pH2 11的顯影液或膠液的可一次性除去保護(hù)層和非曝光部的光敏層的平版印刷版原版中使用的圖像記錄層，作為代表性的圖像形成方式，可舉出(1)含有敏化色素或紅外線(xiàn)吸收劑、自由基聚合引發(fā)劑和自由基聚合性化合物，利用聚合反應(yīng)使圖像部固化的方式；以及(2)含有紅外線(xiàn)吸收劑和聚合物微粒，利用聚合物微粒的熱融合或熱反應(yīng)形成疏水性區(qū)域(圖像部)的方式(這樣的聚合物微粒也稱(chēng)為疏水化前體)。具體而言，可舉出在日本特開(kāi)2003-255527號(hào)公報(bào)、日本特表2007-538279號(hào)公報(bào)、 日本特開(kāi)2009-2586 號(hào)公報(bào)、日本特開(kāi)2009_2四944號(hào)公報(bào)、日本特開(kāi)2010-156945號(hào)公報(bào)中記載的圖像記錄層。作為pH2 11的顯影液或膠液的優(yōu)選的例子，也可以使用在日本特開(kāi) 2003-255527號(hào)公報(bào)、日本特表2007-538279號(hào)公報(bào)、日本特開(kāi)2009-258624號(hào)公報(bào)、日本特開(kāi)2009-2^944號(hào)公報(bào)、日本特開(kāi)2010-156945號(hào)公報(bào)、日本特愿2011-017309中記載的顯影液。以下，對(duì)優(yōu)選的圖像記錄層進(jìn)行詳細(xì)地說(shuō)明。[圖像記錄層]可以?xún)?yōu)選用于本發(fā)明的平版印刷版原版中的圖像記錄層是可以通過(guò)印刷墨液和/ 或潤(rùn)版液移除的圖像記錄層。更具體地，圖像記錄層優(yōu)選為包括紅外吸收劑、聚合引發(fā)劑和可聚合化合物，并且能夠通過(guò)紅外光的照射能夠進(jìn)行記錄的圖像記錄層。在本發(fā)明的平版印刷版原版中，用紅外光照射使圖像記錄層的曝光部固化以形成疏水(親油)區(qū)域，同時(shí)在印刷開(kāi)始時(shí)，將未曝光的部分及時(shí)地通過(guò)潤(rùn)版液、墨液、或墨液和潤(rùn)版液的乳液從支撐體移除。以下對(duì)圖像記錄層的成分進(jìn)行描述。
(紅外吸收劑)使用760至1，200nm的發(fā)射紅外線(xiàn)的激光作為光源，在本發(fā)明的平版印刷版原版上形成圖像的情況下，通常使用紅外吸收劑。紅外吸收劑具有將吸收的紅外光轉(zhuǎn)化為熱的功能以及通過(guò)用紅外光激發(fā)而將電子和能量轉(zhuǎn)移到后述聚合引發(fā)劑(自由基產(chǎn)生劑)的功能。可以用于本發(fā)明中的紅外吸收劑是最大吸收在760至1200nm的波長(zhǎng)范圍內(nèi)的染料或顏料。可以使用的染料包括商用染料和技術(shù)文獻(xiàn)如％11巧0 Binran[染料手冊(cè)](有機(jī)合成化合物協(xié)會(huì)編，日本，1970)中提及的已知染料。合適的染料的示例性實(shí)例包括偶氮染料，金屬絡(luò)合偶氮染料，吡唑啉酮偶氮染料， 萘醌染料，葸醌染料，酞菁染料，碳錫染料，醌亞胺染料，次甲基染料，花青染料，方酸色素， 吡喃錯(cuò)鹽和金屬-硫醇鹽配合物。另外，優(yōu)選花青染料和假吲哚花青染料，并且特別優(yōu)選以下通式(a)的花青染料。通式(a)
Xi
…vi R5 R6 V R7 R8 V2
(A「rVL丄八』-!-< P)
、- 《L· L·\j」…，
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R3 Za""R4在通式(a)中，X1是氫原子，鹵素原子，-N(R9) (Riq)，-X2-L1或下列基團(tuán)。R9和R10 可以相同或不同并且各自表示可以具有取代基的含有6至10個(gè)碳原子的芳基，可以具有取代基的含有1至8個(gè)碳原子的烷基，或氫原子。R9和Rltl可以結(jié)合在一起形成環(huán)。在這些中， R9和儼各自?xún)?yōu)選為苯基(-NPh2)。X2是氧原子或硫原子。L1是含有1至12個(gè)碳原子的烴基，雜芳基或含有1至12個(gè)碳原子并且具有雜原子的的烴基。示例性的雜原子包括氮，硫， 氧，鹵素原子和硒。在以下顯示的組中，Xa—以與下述Za—相同的方式限定，并且『是選自氫原子，烷基，芳基，取代或未取代的氨基以及鹵素原子中的取代基。
、//\Ra
Xa"R1和R2各自獨(dú)立為含有1至12個(gè)碳原子的烴基。就圖像記錄層形成用涂布液的儲(chǔ)存穩(wěn)定性而言，R1和R2各自?xún)?yōu)選為含有至少2個(gè)碳原子的烴基。R1和R2可以結(jié)合在一起形成環(huán)并且形成的環(huán)最優(yōu)選為5或6元環(huán)。Ar1和Ar2可以相同或不同并且各自為可以具有取代基的芳基。優(yōu)選的芳基包括苯環(huán)和萘環(huán)。取代基的優(yōu)選實(shí)例包括含有至多12個(gè)碳原子的烴基，鹵素原子，和含有至多 12個(gè)碳原子的烷氧基。Y1和Y2可以相同或不同并且各自為硫原子或含有至多12個(gè)碳原子的二烷基亞甲基。R3和R4可以相同或不同并且各自為可以具有取代基的含有至多20個(gè)碳原子的烴基。取代基的優(yōu)選實(shí)例包括含有至多12個(gè)碳原子的烷氧基，羧基和磺基。R5，R6， R7和R8可以相同或不同并且各自為氫原子或含有至多12個(gè)碳原子的烴基?？紤]到起始材
22料的可獲得性，優(yōu)選R5至R8中的每一個(gè)為氫原子。Za_表示抗衡陰離子。在通式(a)的花青染料在結(jié)構(gòu)中具有陰離子型取代基并且不需要電荷中和的情況下，Za_是不必要的。為了圖像記錄層形成用涂布液的良好的儲(chǔ)存穩(wěn)定性，Za-的優(yōu)選實(shí)例包括鹵離子，高氯酸根離子，四氟硼酸根離子，六氟磷酸根離子和磺酸離子。在這些中，最優(yōu)選高氯酸根離子，六氟磷酸根離子和芳基磺酸根。可以有利地使用的通式(a)的花青染料的具體實(shí)例包括日本特開(kāi)2001-133969號(hào)公報(bào)的第
至
段，日本特開(kāi)2002-023360號(hào)公報(bào)的第
至
段， 和日本特開(kāi)2002-040638號(hào)公報(bào)的第W012]至W037]段中描述的化合物，優(yōu)選日本特開(kāi) 2002-278057號(hào)公報(bào)的第
至
段和日本特開(kāi)2008-195018號(hào)公報(bào)的第
至W086]段中描述的化合物，并且最優(yōu)選日本特開(kāi)2007-90850號(hào)公報(bào)的第W035]至
段中描述的化合物?？梢?xún)?yōu)選使用日本特開(kāi)平5-5005號(hào)公報(bào)的第W008]至W009] 段和日本特開(kāi)2001-222101公報(bào)的第W022]至W025]段中描述的化合物。這些紅外吸收染料可以單獨(dú)使用或以其兩個(gè)以上的組合使用，或者與除了紅外吸收染料以外的紅外吸收劑如顏料組合使用。可以?xún)?yōu)選使用的示例性顏料包括日本特開(kāi) 2008-195018號(hào)公報(bào)的第
至
段中描述的化合物。相對(duì)于本發(fā)明的圖像記錄層中的全部固體，紅外吸收染料圖像在記錄層中的含量?jī)?yōu)選為0. 1至10.0重量％，并且更優(yōu)選0.5至5.0重量％。(聚合引發(fā)劑)可以使用的示例性聚合引發(fā)劑是在光和熱能或兩者下產(chǎn)生自由基，并且引發(fā)或促進(jìn)具有可聚合不飽和基團(tuán)的化合物的聚合的化合物。在本發(fā)明中，優(yōu)選使用在熱的作用下產(chǎn)生自由基的化合物(熱自由基產(chǎn)生劑)。已知的熱聚合引發(fā)劑，具有鍵解離能小的鍵的化合物，以及光聚合引發(fā)劑可以用于聚合引發(fā)劑。例如，可以使用描述在日本特開(kāi)2009-255434號(hào)公報(bào)的第W115]至W141]段中的聚合引發(fā)劑。錯(cuò)鹽可以用于聚合引發(fā)劑，并且從反應(yīng)性和穩(wěn)定性方面來(lái)看，優(yōu)選肟酯化合物，重氮鹽，碘鎮(zhèn)鹽和锍鹽?；跇?gòu)成圖像記錄層的全部固體，這些聚合引發(fā)劑可以以0. 1至50重量％，優(yōu)選 0. 5至30重量％，并且更優(yōu)選1至20重量％的比例添加。在以上述規(guī)定范圍內(nèi)的聚合引發(fā)劑含量，獲得了優(yōu)異的敏感性和在印刷過(guò)程中非圖像區(qū)域中高的耐起臟性。(可聚合化合物)可聚合化合物是具有至少一個(gè)烯屬不飽和雙鍵的可加聚化合物，并且選自具有至少一個(gè)，并且優(yōu)選兩個(gè)以上的末端烯屬不飽和鍵的化合物。在本發(fā)明中，可以使用現(xiàn)有技術(shù)中已知的任何可加聚化合物，而沒(méi)有特別限制。例如，可以使用日本特開(kāi)2009-255434號(hào)公報(bào)的第W142]至W163]段中描述的
可聚合化合物。利用異氰酸酯基和羥基之間的加成反應(yīng)制備的氨基甲酸酯型可加聚化合物也是合適的。具體實(shí)例包括日本特公昭48-41708號(hào)公報(bào)中提及的每分子具有兩個(gè)以上可聚合乙烯基的乙烯基氨基甲酸酯化合物，其通過(guò)將下述通式(A)的帶羥基的乙烯基單體加成到每分子具有兩個(gè)以上異氰酸酯基的多異氰酸酯化合物中獲得。 CH2 = C(R4)C00CH2CH(R5)0H (A) 式(A)中，R4和R5各自獨(dú)立地表示H或CH3。相對(duì)于圖像記錄層中的非揮發(fā)性成分，可聚合化合物以?xún)?yōu)選5至80重量％，并且更優(yōu)選25至75重量％的量使用。這些可加聚化合物可以單獨(dú)使用或者以其兩種以上的組合使用。(膠粘劑聚合物)在本發(fā)明的實(shí)踐中，可以在圖像記錄層中使用膠粘劑聚合物以便提高圖像記錄層的成膜性能?？梢允褂贸Ｒ?guī)公知的膠粘劑聚合物而沒(méi)有任何特別限制，并且優(yōu)選具有成膜性能的聚合物。這樣的膠粘劑聚合物的實(shí)例包括丙烯酸樹(shù)脂，聚乙烯醇縮醛樹(shù)脂，聚氨基甲酸酯樹(shù)脂，聚脲樹(shù)脂，聚酰亞胺樹(shù)脂，聚酰胺樹(shù)脂，環(huán)氧樹(shù)脂，甲基丙烯酸樹(shù)脂，聚苯乙烯樹(shù)脂，酚醛清漆樹(shù)脂，聚酯樹(shù)脂，合成橡膠和天然橡膠?？梢再x予膠粘劑聚合物可交聯(lián)性以提高圖像區(qū)域中的膜強(qiáng)度。為了對(duì)膠粘劑聚合物賦予可交聯(lián)性，可以在聚合物主鏈或側(cè)鏈中引入可交聯(lián)官能團(tuán)如烯屬不飽和鍵。可交聯(lián)官能團(tuán)可以通過(guò)共聚引入。還可以使用日本特開(kāi)2009-255434號(hào)公報(bào)的第W165]至W172]段中公開(kāi)的膠粘劑聚合物?；趫D像記錄層的全部固體，膠粘劑聚合物的含量為5至90重量％，優(yōu)選5至80 重量％并且更優(yōu)選10至70重量％。在處于以上限定范圍內(nèi)的膠粘劑聚合物含量，實(shí)現(xiàn)了在圖像區(qū)域中的高強(qiáng)度和良好的圖像形成性能?？删酆匣衔锖湍z粘劑聚合物優(yōu)選以0. 5/1至4/1的重量比使用。(表面活性劑)優(yōu)選在圖像記錄層中使用表面活性劑以便促進(jìn)印刷開(kāi)始時(shí)的機(jī)上顯影性并改進(jìn)涂布的表面狀態(tài)。
示例性表面活性劑包括非離子表面活性劑，陰離子表面活性劑，陽(yáng)離子表面活性劑，兩性表面活性劑和氟表面活性劑。
例如，可以使用日本特開(kāi)2009-255434號(hào)公報(bào)的第W175]至W179]段中公開(kāi)的
表面活性劑。表面活性劑可以單獨(dú)使用或以其兩種以上的組合使用?；趫D像記錄層中的全部固體，表面活性劑的含量?jī)?yōu)選為0. 001至10重量％并且更優(yōu)選0.01至5重量％。除了上述那些化合物物以外，各種其它化合物可以任選地添加到圖像記錄層中。 例如，可以使用日本特開(kāi)2009-255434好公報(bào)的第W181]至W190]段中公開(kāi)的化合物如著色劑，曬印劑(printing-out agent)，聚合抑制劑，高級(jí)脂肪酸衍生物，增塑劑，無(wú)機(jī)微粒子和低分子量親水性化合物等。[圖像記錄層的形成]圖像記錄層通過(guò)以下方法形成將上述必要成分分散或溶解在溶劑中制備成涂布液，并且將這樣制備的涂布液涂覆于支撐體。可以使用的溶劑的實(shí)例包括但不限于，二氯乙烷，環(huán)己酮，甲基乙基酮，甲醇，乙醇，丙醇，乙二醇單甲醚，I"甲氧基-2-丙醇，乙酸-2-甲氧基乙酯，乙酸-1-甲氧基-2-丙酯，水等。這些溶劑可以單獨(dú)使用或者以其兩種以上的混合物使用。涂布液具有優(yōu)選1至50 重量％的固體濃度。在涂布和干燥后獲得的平板印刷版用支撐體上的圖像記錄層涂布重量(固體含量)根據(jù)預(yù)期用途而變，通常優(yōu)選0.3至3. Og/m2的量。在處于此范圍內(nèi)的圖像記錄層涂布重量，獲得了良好的敏感性和良好的圖像記錄層膜性能。合適的涂布方法的實(shí)例包括刮條涂布，旋涂，噴涂，幕涂，浸涂，氣刀涂布，刮刀涂布和輥涂。[底涂層]在本發(fā)明的平版印刷版原版中，期望在圖像記錄層和平版印刷版用支撐體之間設(shè)置底涂層。底涂層優(yōu)選含有具有基底可吸收基團(tuán)、可聚合基團(tuán)和親水性基團(tuán)的聚合物。具有基板可吸收基團(tuán)、可聚合基團(tuán)和親水性基團(tuán)的聚合物的實(shí)例包括底涂層用聚合物樹(shù)脂，其通過(guò)將帶可吸收基團(tuán)單體，帶親水性基團(tuán)單體和帶聚合反應(yīng)性基團(tuán)(可交聯(lián)基團(tuán))單體共聚而獲得。描述在日本特開(kāi)2009-255434號(hào)公報(bào)的W197]至W210]段中的單體可以用于底涂層用聚合物樹(shù)脂。各種已知方法可以用于將底涂層形成用涂布溶液涂覆于支撐體。合適的涂布方法的實(shí)例包括刮條涂布，旋涂，噴涂，幕涂，浸涂，氣刀涂布，刮刀涂布和輥涂。底涂層的涂布重量(固體含量)優(yōu)選為0. 1至100mg/m2，并且更優(yōu)選1至50mg/
2
m ο[保護(hù)層]在本發(fā)明的平版印刷版原版中，可以在圖像記錄層上形成保護(hù)層以防止劃傷和對(duì)圖像記錄層的其它傷害、充當(dāng)氧阻擋層以及防止在暴露于高強(qiáng)度激光的過(guò)程中燒蝕。保護(hù)層詳述在例如，美國(guó)專(zhuān)利第3，458，311號(hào)說(shuō)明書(shū)和日本特公昭55-497 號(hào)公報(bào)中?？梢杂糜诒Ｗo(hù)層的示例性材料包括日本特開(kāi)2009-255434號(hào)公報(bào)的第W213]至
段中描述的那些(例如，水溶性聚合物化合物和無(wú)機(jī)層狀化合物等)。將這樣制備的保護(hù)層形成用涂布液涂覆到設(shè)置在支撐體上的圖像記錄層上并且干燥以形成保護(hù)層?？梢愿鶕?jù)膠粘劑適當(dāng)?shù)剡x擇涂布溶劑，但是在采用水溶性聚合物的情況下優(yōu)選使用蒸餾水和純化水。用于形成保護(hù)層的涂布方法的實(shí)例包括但不限于刮條涂布，氣刀涂布，凹版涂布，輥涂，噴涂，浸涂和刮刀涂布。保護(hù)層優(yōu)選在干燥后具有0. 01至10g/m2，更優(yōu)選0. 02至3g/m2并且最優(yōu)選0. 02 至lg/m2的涂布重量。實(shí)施例本發(fā)明在以下借助于實(shí)施例進(jìn)行詳述。然而，本發(fā)明不應(yīng)當(dāng)被理解為受限于下列實(shí)施例。[平版印刷版用支撐體的制造]
對(duì)厚度為0. 3mm IS型材料的鋁合金板進(jìn)行處理(a)至(m)以制造平版印刷版用支撐體。在所有處理步驟中都進(jìn)行沖洗處理并且使用夾緊輥移除沖洗處理后殘留的水。(a)機(jī)械磨版處理(刷拭磨版)在對(duì)鋁板的表面供給比重為1. lg/cm3的浮石懸浮液形式的研磨漿液的同時(shí)，使用如圖4中所示裝置的旋轉(zhuǎn)硬毛束刷進(jìn)行機(jī)械磨版處理。圖4顯示鋁板1，輥型刷(實(shí)施例中的硬毛束刷)2和4，研磨漿液3，和支撐輥5，6，7和8。在使四個(gè)刷以250rpm旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，使用中位直徑為30 μ m的磨料進(jìn)行機(jī)械磨版處理。硬毛束刷由尼龍6/10制成并且具有0.3mm的硬毛直徑和50mm的硬毛長(zhǎng)度。每個(gè)刷由 300mm直徑不銹鋼圓柱構(gòu)成，在該不銹鋼圓柱中形成有孔并密集地設(shè)置了硬毛。兩個(gè)支撐輥 OOOmm直徑)設(shè)置在每個(gè)硬毛束刷下部并且間隔300mm。將束狀硬毛刷壓在鋁板上直至使刷旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)電動(dòng)機(jī)上的負(fù)荷比將束狀硬毛刷壓在板上之前的負(fù)荷大IOkW為止。刷旋轉(zhuǎn)的方向與鋁板移動(dòng)的方向相同。(b)堿蝕刻處理通過(guò)使用噴霧管線(xiàn)(spray line)在70°C的溫度下對(duì)上述得到的鋁板噴霧下述溶液來(lái)進(jìn)行蝕刻處理，所述溶液為氫氧化鈉濃度為26質(zhì)量％、鋁離子濃度為6. 5質(zhì)量％的氫氧化鈉水溶液。然后用水噴霧來(lái)沖洗該板。鋁的溶解量為10g/m2。(c)在酸水溶液中的除垢處理接下來(lái)，在硝酸水溶液中進(jìn)行除垢處理。在隨后的電解磨版處理步驟中使用的硝酸用于除垢處理中的硝酸水溶液。溶液溫度為35°C。除垢處理通過(guò)用除垢溶液對(duì)板噴霧3 秒而進(jìn)行。(d)電解磨版處理電解磨版處理通過(guò)使用60Hz交流電壓的硝酸電解連續(xù)地進(jìn)行。向溫度為35°C的含有10. 4g/L硝酸的水溶液中加入硝酸鋁，以制備鋁離子濃度調(diào)節(jié)為4. 5g/L的電解溶液， 并且將該電解溶液用于電解磨版處理中。電解磨版處理用碳電極作為對(duì)電極，利用圖2中所示的具有梯形波形的交流電，以1 1的占空比，進(jìn)行0.8msec的時(shí)間tp直至電流從O 達(dá)到峰值。鐵素體用于輔助陽(yáng)極。使用圖3中所示類(lèi)型的電解池。在電流峰值的電流密度為30A/dm2。在從電源流出的電流中，5%被轉(zhuǎn)移到輔助陽(yáng)極。以鋁板充當(dāng)陽(yáng)極時(shí)總電量計(jì)，電量(C/dm2)為185C/dm2。然后通過(guò)用水噴霧沖洗板。(e)堿蝕刻處理通過(guò)使用噴霧管線(xiàn)在溫度為50°C下對(duì)如上所述獲得的鋁板噴霧下述溶液來(lái)進(jìn)行蝕刻處理，所述溶液為氫氧化鈉濃度為5重量％、鋁離子濃度為0. 5重量％的氫氧化鈉水溶液。然后用水噴霧來(lái)沖洗該板。鋁的溶解量為0. 5g/m2。(f)在酸水溶液中的除垢處理接下來(lái)，在硫酸水溶液中進(jìn)行除垢處理。在除垢處理中使用的硫酸溶液具有170g/ L的硫酸濃度和5g/L的鋁離子濃度。溶液溫度為60°C。除垢處理通過(guò)用除垢溶液對(duì)板噴霧3秒而進(jìn)行。(g)電解磨版處理電解磨版處理通過(guò)使用60Hz交流電壓的鹽酸電解連續(xù)地進(jìn)行。向溫度為35°C的含有6. 2g/L的鹽酸的水溶液中加入氯化鋁，以制備鋁離子濃度調(diào)節(jié)為4. 5g/L的電解溶液，
26并且將該電解溶液用于電解磨版處理中。電解磨版處理用碳電極作為對(duì)電極，利用圖2中所示的具有梯形波形的交流電，以1 1的占空比，進(jìn)行0.8msec的時(shí)間tp直至電流從0 達(dá)到峰值。鐵素體用于輔助陽(yáng)極。使用圖3中所示類(lèi)型的電解池。在電流峰值的電流密度為25A/dm2。以鋁板充當(dāng)陽(yáng)極時(shí)的總電量計(jì)，鹽酸電解中的電量(C/dm2)為63C/dm2。然后通過(guò)用水噴霧沖洗板。(h)堿蝕刻處理通過(guò)使用噴霧管線(xiàn)在溫度為50°C下對(duì)如上所述獲得的鋁板噴霧下述溶液來(lái)進(jìn)行蝕刻處理，所述溶液為氫氧化鈉濃度為5重量％、鋁離子濃度為0. 5重量％的氫氧化鈉水溶液。鋁的溶解量為0. lg/m2。(i)在酸水溶液中的除垢處理接下來(lái)，在硫酸水溶液中進(jìn)行除垢處理。更具體地，將陽(yáng)極氧化處理步驟中使用的硫酸水溶液(含有170g/L的硫酸中熔解了 5g/L的鋁離子的水溶液)以35°C的溶液溫度進(jìn)行除垢處理4秒。除垢處理通過(guò)用除垢溶液對(duì)板噴霧3秒而進(jìn)行。(j)第一陽(yáng)極氧化處理使用如圖5中所示的間接供電電解系統(tǒng)的陽(yáng)極氧化裝置進(jìn)行第一陽(yáng)極氧化處理。 陽(yáng)極氧化處理在表1中所示的條件下進(jìn)行從而形成具有規(guī)定膜厚度的陽(yáng)極氧化膜。使用的電解溶液是含有表1中所示成分的水溶液。在陽(yáng)極氧化裝置610中，鋁板616如圖5中箭頭所示輸送。鋁板616通過(guò)含有電解溶液618的電源池612中的電源電極620而帶正電荷(+)。鋁板616隨后通過(guò)安置在電源池612中的輥622向上輸送，在夾緊輥擬4上轉(zhuǎn)向下并且朝向含有電解溶液626的電解池614輸送，從而將通過(guò)輥6 轉(zhuǎn)向水平方向。然后，鋁板616通過(guò)電解電極630帶負(fù)電荷 ㈠以在板表面上形成陽(yáng)極氧化膜。從電解池614中出來(lái)的鋁板616然后被輸送到用于隨后步驟中。在陽(yáng)極氧化裝置610中，輥622、夾緊輥6 和輥6 構(gòu)成方向轉(zhuǎn)換裝置，并且鋁板616借助于這些輥622、6 和628以山形和倒U形在電源池612和電解池614之間的槽間部位輸送。電源電極620和電解電極630連接到直流電源634。(k)第二陽(yáng)極氧化處理使用如圖5中所示的間接供電電解系統(tǒng)的陽(yáng)極氧化裝置進(jìn)行第二陽(yáng)極氧化處理。 陽(yáng)極氧化處理在表1中所示的條件下進(jìn)行以形成具有規(guī)定膜厚度的陽(yáng)極氧化膜。使用的電解溶液是含有表1中所示成分的水溶液。(1)第三陽(yáng)極氧化處理使用如圖5中所示的間接供電電解系統(tǒng)的陽(yáng)極氧化裝置進(jìn)行第三陽(yáng)極氧化處理。 陽(yáng)極氧化處理在表1中所示的條件下進(jìn)行以形成具有規(guī)定膜厚度的陽(yáng)極氧化膜。使用的電解溶液是含有表1中所示成分的水溶液。(m)硅酸鹽處理為了確保非圖像區(qū)域中的親水性，通過(guò)將板浸漬在50°C的含有2. 5重量％的3號(hào)硅酸鈉的水溶液中7秒進(jìn)行硅酸鹽處理。硅的沉積量為8. 5mg/m2。 然后通過(guò)用水噴霧沖洗該板。在第二陽(yáng)極氧化處理步驟(或第三陽(yáng)極氧化處理步驟)后獲得的帶微孔的陽(yáng)極氧化膜中大直徑部分在陽(yáng)極氧化膜表面和連通位置的平均直徑(表面層平均直徑和平均底部直徑)、小直徑部分在連通位置的平均直徑(小直徑部分直徑)、大直徑部分和小直徑部分的深度、小直徑部分直徑與平均底部直徑的比率、微孔的密度、以及小直徑部分的底部和鋁板的表面之間的陽(yáng)極氧化膜的厚度(阻擋層的厚度)全部都顯示在表2中。微孔的平均直徑(大直徑部分的表面層平均直徑和平均底部直徑，以及小直徑部分的平均直徑(小直徑部分直徑))通過(guò)如下方法確定通過(guò)FE-TEM以50萬(wàn)倍的放大率觀(guān)察陽(yáng)極氧化膜14的表面和測(cè)量60 (N = 60)個(gè)微孔的直徑，并且計(jì)算測(cè)量值的平均值。予以說(shuō)明，根據(jù)需要可通過(guò)FIB銑削切割陽(yáng)極氧化膜以形成厚度為約50nm的薄膜，并且測(cè)量陽(yáng)極氧化膜14的橫截面。微孔的深度(大直徑部分的深度和小直徑部分的深度)通過(guò)如下方法確定通過(guò) FE-SEM以15萬(wàn)倍的放大率觀(guān)察支撐體橫截面(陽(yáng)極氧化膜)的大直徑部分的深度，并且以 5萬(wàn)倍的放大率觀(guān)察小直徑部分的深度，測(cè)量在所得圖像中任意選擇的25個(gè)微孔的深度， 并且計(jì)算測(cè)量值的平均值。用于每個(gè)步驟中的電解溶液是含有表1中所示成分的水溶液。在表1中，術(shù)語(yǔ)" 濃度"是指"溶液"列中所示每種成分的濃度(g/L)。比較例12中，在第一陽(yáng)極氧化處理和第二陽(yáng)極氧化處理之間進(jìn)行下述擴(kuò)孔處理。(擴(kuò)孔處理)擴(kuò)孔處理通過(guò)將陽(yáng)極氧化鋁板浸漬在氫氧化鈉濃度為5重量％、鋁離子濃度為 0. 5重量％并且溫度為35°C的水溶液中，并在表1中所示的條件下進(jìn)行。然后通過(guò)用水噴霧沖洗該板。
權(quán)利要求
1.一種平版印刷版用支撐體，所述平版印刷版用支撐體包括 鋁板；和形成于所述鋁板上的陽(yáng)極氧化膜，所述陽(yáng)極氧化膜中，具有從與所述鋁板相反的表面向深度方向上延伸的微孔， 其中，微孔具有大直徑部分，所述大直徑部分從所述陽(yáng)極氧化膜的表面延伸5至60nm 的深度A ；和小直徑部分，所述小直徑部分與所述大直徑部分的底部連通，并且從所述小直徑部分和所述大直徑部分之間的連通位置延伸900至2，OOOnm的深度，其中所述大直徑部分具有從所述陽(yáng)極氧化膜的表面朝向所述鋁板側(cè)逐漸增加的直徑， 在所述連通位置測(cè)量的所述大直徑部分的平均底部直徑大于在所述陽(yáng)極氧化膜的表面處測(cè)量的所述大直徑部分的表面層平均直徑，所述平均底部直徑為10至60nm，并且所述深度 A與所述平均底部直徑的比率即所述深度A/所述平均底部直徑為0. 1至4. 0， 其中在連通位置處測(cè)量的小直徑部分平均直徑大于Onm而小于20nm，并且其中所述小直徑部分平均直徑與所述平均底部直徑的比率即所述小直徑部分平均直徑/所述平均底部直徑至多為0. 85。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平版印刷版用支撐體，其中在所述小直徑部分的底部和鋁板的表面之間的所述陽(yáng)極氧化膜具有至少20nm的厚度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的平版印刷版用支撐體，其中所述微孔以100至3，000個(gè)微孔/μ m2的密度形成。
4.用于制備根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的平版印刷版用支撐體的方法，所述方法包括用于陽(yáng)極氧化所述鋁板的第一陽(yáng)極氧化處理步驟；和用于進(jìn)一步陽(yáng)極氧化在所述第一陽(yáng)極氧化處理步驟中獲得的具有陽(yáng)極氧化膜的所述鋁板的第二陽(yáng)極氧化處理步驟。
5.一種平版印刷版原版，所述平版印刷版原版包括根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的平版印刷版用支撐體；和在其上形成的圖像記錄層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的平版印刷版原版，其中所述圖像記錄層是通過(guò)曝光形成圖像并且未曝光的部分可通過(guò)印刷墨液和/或潤(rùn)版液移除的圖像記錄層。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種平版印刷版用支撐體，其包括鋁板和在該鋁板上形成的陽(yáng)極氧化膜，并且在陽(yáng)極氧化膜中具有從與鋁板相反的表面向深度方向上延伸的微孔，微孔包括具有預(yù)定形狀的大直徑部分和具有預(yù)定形狀的小直徑部分。平版印刷版用支撐體具有優(yōu)異的耐劃傷性，并且能夠獲得表現(xiàn)出下列性能的平版印刷版原版優(yōu)異的機(jī)上顯影性并且使由此形成的平版印刷版能夠具有長(zhǎng)的印刷壽命，以及在連續(xù)印刷中和暫停印刷后的優(yōu)異的脫墨能力。
文檔編號(hào)B41C1/10GK102241181SQ2011101142
公開(kāi)日2011年11月16日 申請(qǐng)日期2011年4月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月30日
發(fā)明者宮川侑也, 澤田宏和, 田川義治, 西野溫夫, 黑川真也 申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社