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網(wǎng)印網(wǎng)版的制作方法

文檔序號:2498446閱讀:349來源:國知局
專利名稱:網(wǎng)印網(wǎng)版的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明關(guān)于一種具有網(wǎng)印模版承載件及網(wǎng)印模版的網(wǎng)印網(wǎng)版。
背景技術(shù)
在網(wǎng)印期間,將網(wǎng)印網(wǎng)版配置于印刷材料或基板上。該網(wǎng)印網(wǎng)版具有網(wǎng)印模版及網(wǎng)印模版承載件,該網(wǎng)印模版連接至組態(tài)為網(wǎng)版的該網(wǎng)印模版承載件。該網(wǎng)版由彼此編織的聚酯或不銹鋼細(xì)線形成。為了可能處理網(wǎng)印網(wǎng)版,在網(wǎng)印框架中緊湊地拉伸網(wǎng)印網(wǎng)版。網(wǎng)印網(wǎng)版具有可收納諸如墨水或漿料的印刷介質(zhì)的自由區(qū)域。若在網(wǎng)印網(wǎng)版上導(dǎo)引刮刀,則印刷介質(zhì)穿過網(wǎng)印網(wǎng)版的自由區(qū)域至配置于網(wǎng)印網(wǎng)版下方的基板上。為了產(chǎn)生精細(xì)印刷軌跡,可使用以照相制版法產(chǎn)生的網(wǎng)印模版。具有小篩網(wǎng)寬度及細(xì)篩網(wǎng)絲的網(wǎng)版為印刷影像的高分辨率及高印刷質(zhì)量所必需。 然而,導(dǎo)線間距愈小且導(dǎo)線愈細(xì),此類型的網(wǎng)版的生產(chǎn)愈復(fù)雜且愈昂貴。在具有(例如)5 微米的直徑的細(xì)篩網(wǎng)絲的狀況下,可不再施加高張應(yīng)力,因而自這些導(dǎo)線產(chǎn)生的網(wǎng)版具有相對機(jī)械敏感性。若在此類型的網(wǎng)版上導(dǎo)引刮刀,則首先可能快速地?fù)p壞導(dǎo)線,且其次網(wǎng)版可能對與網(wǎng)版接觸的刮刀邊緣具有磨損效應(yīng)。后果將為網(wǎng)版的極低的使用壽命。為了防止此舉, 可將用強(qiáng)接合劑接合至網(wǎng)線且增加穩(wěn)定性的涂層涂覆于網(wǎng)版的上側(cè)及下側(cè)上。此類型的構(gòu)造具有的缺點在于其為復(fù)雜的。此外,印刷影像及可達(dá)成的分辨率受可能必須在跟隨彼此的方法步驟中涂覆多次的額外涂層的否定影響。若待印刷的表面具有大的粗糙度,則可迅速地?fù)p壞細(xì)篩孔網(wǎng)版,因而僅達(dá)成短的使用壽命。

發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明的目標(biāo)為提供一種用于技術(shù)網(wǎng)印的網(wǎng)印網(wǎng)版,經(jīng)由該網(wǎng)印網(wǎng)版可達(dá)成高分辨率,該網(wǎng)印網(wǎng)版甚至在欲印刷粗糙表面的狀況下具有高使用壽命,可在工藝中廉價生產(chǎn)且對相關(guān)刮刀不具有磨損效應(yīng)。此外,具有在0. 5微米至100微米的范圍中的厚度的印刷軌跡將經(jīng)由該網(wǎng)印網(wǎng)版達(dá)成。該目標(biāo)由獨立權(quán)利要求的標(biāo)的物達(dá)成。本發(fā)明的有利進(jìn)步為附屬權(quán)利要求的標(biāo)的物。根據(jù)本發(fā)明的網(wǎng)印網(wǎng)版具有-一網(wǎng)印模版承載件,其被配置為具備第一凹槽的薄膜,這些凹槽以其自該薄膜的上側(cè)伸至下側(cè)的方式來組態(tài),及-一網(wǎng)印模版,其被配置為一非金屬屏蔽層,其固定連接至該網(wǎng)印模版承載件的該下側(cè),該屏蔽層具備第二凹槽,其至少部分與該網(wǎng)印模版承載件的這些第一凹槽迭合,其中一印刷介質(zhì)向該下側(cè),自該網(wǎng)印模版承載件上側(cè)穿過這些第一凹槽,且穿過該屏蔽層的這些第二凹槽,達(dá)到一可放置于下方的基板。在根據(jù)本發(fā)明的網(wǎng)印網(wǎng)版中,因此不使用形成網(wǎng)版的敏感篩網(wǎng)絲,而是使用具有
3凹槽的薄膜。薄膜在此欲理解為意謂本身均質(zhì)且自行支撐的扁平可撓性結(jié)構(gòu)。舉例而言,該薄膜可經(jīng)軋制、澆鑄、壓延或擠壓,且可自一個層均質(zhì)地形成或形成為多層復(fù)合物。在網(wǎng)印網(wǎng)版中使用薄膜在許多方面有利的。首先,可以薄膜具有(例如)Rz < 10微米(根據(jù)DIN 4768)的低表面粗糙度的方式以低消耗產(chǎn)生薄膜。參考在編織網(wǎng)版的狀況下,粗糙度Rz等于細(xì)線強(qiáng)度的事實。已在不涂覆額外涂層的情況下達(dá)成此性質(zhì),因而與自導(dǎo)線編織的網(wǎng)版對比,不需要更復(fù)雜的涂布手段以使表面粗糙度平滑。若沿被配置為薄膜的網(wǎng)印模版承載件的上側(cè)上導(dǎo)引印刷刮刀,則甚至在不具有單一額外涂層的情況下,實際上磨損負(fù)載不再作用于印刷刮刀上。因為在薄膜的狀況下,與編織網(wǎng)版對比,在上側(cè)上不再需要涂層以使表面不均勻度平滑,所以在涂層上亦不產(chǎn)生曝光反射。因此,可在印刷影像中達(dá)成較高分辨率及質(zhì)量。 經(jīng)由此舉來避免(如)在具有編織網(wǎng)印承載件的經(jīng)涂布網(wǎng)版的狀況下可能發(fā)生的不齊的印刷邊緣。此外,可在薄膜的整個表面上同等地達(dá)成薄膜的低表面粗糙度。在薄膜的狀況下不發(fā)生編織網(wǎng)版的交叉點處的顯著表面高程。因此,亦能可靠地避免交叉點處的高壓縮負(fù)載與對涂層的均一厚度及幾何形狀的負(fù)效應(yīng)及網(wǎng)版的彈性及形狀的漸增損失。因此,可經(jīng)由使用薄膜來達(dá)成具有長使用壽命的網(wǎng)印模版承載件。另外,可以低消耗在薄膜中制成處于彼此靠近的凹槽,因而可在印刷期間達(dá)成高分辨率。另外,與由導(dǎo)線制成的細(xì)篩孔網(wǎng)版相比,具有凹槽的薄膜具有顯著更大的機(jī)械穩(wěn)定性。此外,可在薄膜的狀況下形成具有任何所要幾何形狀的凹槽,而在由篩網(wǎng)絲制成的網(wǎng)版的狀況下,用于使印刷介質(zhì)穿過的僅可能為大體上正方形的自由空間。使用非金屬屏蔽層可達(dá)成以下情形存在可滿意地適合具有鋸齒狀構(gòu)形的基板的粗糙表面的層的低硬度。因此,亦可能印刷具有高邊緣銳度的粗糙表面。薄膜的下側(cè)具有小于30微米,較佳小于2微米的粗糙度Rz有利的。甚至在0. 5 微米的層厚度的情況下,薄膜的下側(cè)上的非金屬屏蔽層達(dá)成令人滿意的平坦度,因為不須補(bǔ)償網(wǎng)版結(jié)構(gòu)的構(gòu)形。低層厚度引起在曝光的狀況下橫向反射減少的情形。因此,薄膜下側(cè)的低粗糙度使具有甚至更高分辨率的印刷影像成為可能。甚至在下側(cè)上的涂層的厚度 (亦即,網(wǎng)印模版的厚度)相對大時仍達(dá)成此可能性。薄膜的上側(cè)上小于30微米,較佳小于 2微米的粗糙度Rz確保在上側(cè)上不需要用于使粗糙構(gòu)形平整的涂層,因而可在薄膜上側(cè)上直接導(dǎo)引刮刀且該刮刀僅無實質(zhì)性地受磨損。因此,不僅網(wǎng)印網(wǎng)版而且刮刀達(dá)成高的使用壽命ο根據(jù)本發(fā)明的一個進(jìn)步,基于乳液形成非金屬屏蔽層??梢砸后w形式將此類型的乳液涂覆于薄膜且該乳液不需要顯影劑。在曝光后可用水洗掉過量材料,因而處理簡單的。 另外,可產(chǎn)生具有低硬度的乳液層,因而其可甚至可撓性地適合基板(諸如太陽能電池)的粗糙表面構(gòu)形。可以具有在30至60Sh(A)的范圍中的硬度的屏蔽層達(dá)成滿意的結(jié)果。薄膜的下側(cè)上的屏蔽層較佳具有0. 5微米至60微米的范圍中的厚度,因而具有 0. 5至60微米的高度的印刷影像可經(jīng)由單一印刷操作建立于基板上而無需考慮屏蔽層的機(jī)械壓縮。在無限制情況下,屏蔽層的較大厚度可能的,其僅受所要分辨率限制?;诰垡蚁┐夹纬捎绕溥m合的屏蔽層。此類型的屏蔽層可尤其滿意地連接至網(wǎng)印模版承載件的表面,從而亦在小凹槽的側(cè)壁上達(dá)成滿意的連接。
在另一實施例中,該屏蔽層包含干膜或固體抗蝕劑或稱作毛細(xì)管膜的物。將該干膜層壓至網(wǎng)印模版承載件的下側(cè)上。為此目的,干膜可包含不同層,上層可能得以容易地蝕刻,以便促進(jìn)與網(wǎng)印承載件的連接。干膜僅層壓至網(wǎng)印模版承載件的一側(cè)上且不完全穿透孔。干膜經(jīng)曝光且用負(fù)片印刷影像加以顯影,因而產(chǎn)生網(wǎng)印模版。可在薄膜的凹槽中至少部分地含有屏蔽層。若薄膜具有凹槽的規(guī)則圖案,則具有與薄膜的凹槽不同的配置的印刷影像可由部分地涂覆于薄膜的凹槽中的屏蔽層產(chǎn)生。根據(jù)本發(fā)明的一個進(jìn)步,將屏蔽層自薄膜的下側(cè)向薄膜的上側(cè)的方向上提供于薄膜的凹槽中,但屏蔽層不突出超過薄膜的上側(cè)。因此,可沿薄膜的平滑上側(cè)上導(dǎo)引刮刀且刮刀的移動并不因使屏蔽層的材料突出而受阻礙。此處,可以屏蔽層平坦地延伸且與薄膜的上側(cè)處于一個平面中的方式提供屏蔽層。然而,屏蔽層同樣可能不到達(dá)薄膜的上側(cè),因而在屏蔽層與薄膜的上側(cè)之間存在小的高度差。若以此最后方式曝光屏蔽層,則存在相當(dāng)大的必然性,即無屏蔽層材料突出超過薄膜的上側(cè)且因此刮刀在沿上側(cè)的移動期間不受阻礙。在根據(jù)本發(fā)明的具有如網(wǎng)印模版承載件的薄膜的網(wǎng)印網(wǎng)版的狀況下,若屏蔽層獨占地提供于下側(cè)上且亦可能提供于凹槽中,則基于聚乙烯醇的乳液層特別有利,因為僅可在此等側(cè)上達(dá)成可靠黏著力。與編織網(wǎng)印模版承載件對比,無需上側(cè)上的額外涂層。薄膜的凹槽可為圓形、矩形或六邊形。此類型的薄膜可簡單地予以產(chǎn)生且形成極均質(zhì)的承載件。該薄膜較佳具有10至100微米的厚度且凹槽之間的間距具有1微米至50 微米的寬度。此處,凹槽之間的間距可變化。舉例而言,若提供圓形橫截面的凹槽,則兩個鄰近圓之間的間距在最狹窄點處可為1微米,該最狹窄點在這些圓的兩個中心點之間的虛連接在線產(chǎn)生。若相對于此連接線垂直地進(jìn)行移動,則圓形線之間的間距相應(yīng)地增加。因此,具有此類型的凹槽的薄膜不具有如在具有導(dǎo)線的篩網(wǎng)中存在的作為載運結(jié)構(gòu)組件的桿體,而具有相對于穿孔圖案的倒像。若(例如)經(jīng)由蝕刻產(chǎn)生凹槽,則可經(jīng)由作用于薄膜上達(dá)足夠長時間的蝕刻劑在凹槽之間達(dá)成極小的間距。當(dāng)作用的持續(xù)時間增加時,凹槽擴(kuò)大且凹槽之間的間距減小。在使用雙卷軸工藝處理薄膜的狀況下,此舉以低技術(shù)消耗且因此以低成本進(jìn)行可能的。同樣可能在一個薄膜上使不同類型的凹槽彼此組合且根據(jù)所要印刷影像來配置這些凹槽。在薄膜的狀況下,與編織網(wǎng)版對比,可同樣經(jīng)由短蝕刻持續(xù)時間簡單地產(chǎn)生極小的開口。舉例而言,經(jīng)由與諸如磷酸的蝕刻介質(zhì)或諸如NaOH或KOH的堿性介質(zhì)接觸來達(dá)成薄膜的表面粗糙度的增加有利的??梢源朔绞礁牧计帘螌又帘∧さ酿ぶ?。在根據(jù)本發(fā)明的網(wǎng)印網(wǎng)版的狀況下,粗糙度僅在欲載運屏蔽層的表面上選擇性地增加有利的。此等表面為薄膜的下側(cè)(印刷側(cè))及凹槽內(nèi)的表面。在與刮刀進(jìn)行接觸的上側(cè)的狀況下,不進(jìn)行表面粗糙度的此類型的增加有利的,因為刮刀可為此更平滑地移動且達(dá)成較長使用壽命。該薄膜可為具有不銹鋼、銅、鎳或呈純態(tài)形式或作為合金的另一金屬的金屬薄膜。 然而,同等可能使用塑料薄膜,較佳用玻璃纖維或碳纖維加固該塑料薄膜。與電流產(chǎn)生的薄膜對比,可用極小的平坦度公差產(chǎn)生軋制的金屬薄膜。對于根據(jù)本發(fā)明的網(wǎng)印網(wǎng)版,較佳在小于薄膜厚度的5%,較佳小于薄膜厚度的2. 5%的平坦度公差下使用軋制薄膜。另外,該薄膜應(yīng)具有低粗糙度。在具有50微米的厚度的薄膜的狀況下, 可使用雙卷軸工藝廉價地達(dá)成< 10微米的粗糙度Rz,尤其< 1微米的Rz。若具有此類型的表面粗糙度及平坦度公差的金屬薄膜用于網(wǎng)印模版承載件,則可產(chǎn)生極精密的網(wǎng)印模版及極精密的印刷影像。視分辨率及質(zhì)量的需求而定,可使用在先前技術(shù)中習(xí)慣的工藝(例如,經(jīng)由激光打孔、濕式蝕刻、超音波蝕刻、腐蝕或鉆孔)來產(chǎn)生凹槽。在又一實施例中,該薄膜在表面上具有用于改質(zhì)相對于蝕刻介質(zhì)的可濕性及/或鈍化的層。對網(wǎng)印模版的可濕性的改質(zhì)可(例如)經(jīng)由親水化或疏水化引起。親水化引起印刷介質(zhì)可以改良方式穿過部分極小的凹槽的情形。疏水化達(dá)成自網(wǎng)印模版更容易地釋放印刷介質(zhì)而不部分地陷入凹槽中的情形。通常,此類型的效應(yīng)可由具有在大于90°至 150°的范圍中與水的接觸角的層來達(dá)成,在此狀況下,當(dāng)自基板移除網(wǎng)印網(wǎng)版時,引入凹槽中的印刷介質(zhì)在凹槽中僅小比例保留。接觸角表示液滴在固體的表面上形成的相對于該表面而言之角。在所陳述的接觸角范圍的狀況下,可達(dá)成印刷介質(zhì)與涂層的表面的小相互作用。結(jié)果則可為印刷軌跡,在此狀況下,高度與寬度的比率為在1 1或更大的區(qū)域內(nèi)。 對于應(yīng)用而言,在此狀況下,需要印刷介質(zhì)的低應(yīng)用,涂層可具有在大于0°至90°的范圍中與水的接觸角且可具有印刷介質(zhì)與涂層的表面的高相互作用。在網(wǎng)印網(wǎng)版的進(jìn)步中,網(wǎng)印承載件薄膜與網(wǎng)印模版皆具備涂層。對可濕性的改質(zhì)亦可由用堿性介質(zhì)的所述選擇處理來達(dá)成,不銹鋼表面在用堿性介質(zhì)處理之后變得更親水。為了制造上文所展示的網(wǎng)印網(wǎng)版,可使用具有以下步驟的方法-用感旋光性屏蔽材料涂布于薄膜的上側(cè)上、凹槽中及下側(cè)上;-在預(yù)定區(qū)域中曝光存在于下側(cè)上及凹槽中的屏蔽材料;及-移除薄膜的上側(cè)上、下側(cè)上及凹槽中的屏蔽材料的未經(jīng)曝光區(qū)域,因而形成屏蔽層。以此方式,可制造具有無屏蔽層的平滑上側(cè)的薄膜,在下側(cè)上及凹槽中存在屏蔽層??梢允勾嬖谟诒∧さ南聜?cè)上及凹槽中的屏蔽材料曝光達(dá)至多伸至薄膜上側(cè)的深度的方式來選擇薄膜的凹槽中屏蔽材料的曝光劑量。因此,沿上側(cè)上導(dǎo)引的刮刀由于經(jīng)曝光的屏蔽材料而不經(jīng)歷障礙且可達(dá)成最大使用壽命。薄膜的表面粗糙度的增加可限于經(jīng)曝光的屏蔽材料欲黏著至薄膜所在的區(qū)域,因而可達(dá)成改良黏著力。蝕刻薄膜的表面的物質(zhì)可用以增加表面粗糙度,可能欲使用Na0H、K0H或磷酸。此處,堿性介質(zhì)尤其適于同時脫脂??山?jīng)由刮刀涂覆該物質(zhì)。屏蔽材料的未經(jīng)曝光的區(qū)域可經(jīng)由洗滌而予以移除。根據(jù)又一實施例,以突出物突出至第一或第二凹槽中的至少一者的區(qū)域中,且減小其用于印刷介質(zhì)的信道表面區(qū)域的方式,來組態(tài)網(wǎng)印模版承載件及/或網(wǎng)印模版。凹槽中的突出物引起凹槽并不在其整個長度上減小其橫截面,而僅在小區(qū)域中減小。該凹槽可具有在此區(qū)域外的寬闊組態(tài),然而,可能經(jīng)由經(jīng)由該凹槽傳送的印刷介質(zhì)的突出物來達(dá)成凹槽的橫截面減小。盡管凹槽可具有遠(yuǎn)離突出物的寬大橫截面,但此舉使得可能產(chǎn)生精細(xì)的印刷軌跡。為了將具有相對小橫截面的第一凹槽至少部分地帶進(jìn)與具有同樣小橫截面的第二凹槽的迭合中,因此不產(chǎn)生用于網(wǎng)印模版承載件相對于網(wǎng)印模版的精確定位的高消耗。 實情為,可用習(xí)慣的制造精度進(jìn)行工作。此外,用于將印刷介質(zhì)引入至具有突出至凹槽中的突出物的相對寬闊凹槽中的力比在具有連續(xù)小橫截面的凹槽的狀況下要低。此舉可結(jié)合經(jīng)由網(wǎng)印模版或網(wǎng)印模版承載件中的突出物增加其撓曲剛度及張力強(qiáng)度的事實。當(dāng)沿網(wǎng)印模版承載件的表面上移動刮刀時,網(wǎng)印網(wǎng)版因此被伸展至次顯著程度,因而以較高可靠性保留其幾何形狀。因此,此類型的網(wǎng)印網(wǎng)版達(dá)成相對高的使用壽命??山?jīng)由電鍍有利地產(chǎn)生此實施例。用于產(chǎn)生具有突出物的網(wǎng)印網(wǎng)版的方法具有以下步驟-提供基板-在基板上產(chǎn)生網(wǎng)版-在基板上的網(wǎng)版中將金屬層結(jié)構(gòu)化鍍鋅-自基板釋放金屬層及網(wǎng)版,及-移除網(wǎng)版,因而在金屬層中產(chǎn)生凹槽,-在網(wǎng)版上方將金屬層至少部分地鍍鋅,以形成至少一個突出物。由于電鍍,可能在一個步驟中達(dá)成突出物的生長及橫截面表面區(qū)域的減小而無需進(jìn)一步結(jié)構(gòu)化。不需要蝕刻金屬。此外,電鍍使得可能形成突出物,該突出物產(chǎn)生凹槽的信道表面區(qū)域,該信道表面區(qū)域?qū)嶋H上與所要者一樣小。在極端狀況下,突出物可甚至完全封閉凹槽。根據(jù)網(wǎng)印網(wǎng)版的又一實施例,第一凹槽中的至少一者在各別上側(cè)上具有印刷介質(zhì)入口開口且在各別下側(cè)上具有印刷介質(zhì)出口開口,在突出物相對于該表面區(qū)域垂直的狀況下,該至少一個凹槽的印刷介質(zhì)入口開口的表面區(qū)域至多部分地位于該一個凹槽的印刷介質(zhì)出口開口的表面區(qū)域上方。在此類型的網(wǎng)印模版承載件的構(gòu)造的狀況下,不再必須相對于網(wǎng)印模版承載件的上側(cè)法線地或垂直地將印刷介質(zhì)引入至凹槽中,但亦可在偏離法線的方向上予以傳送。此舉有助于在基板的方向上輸送印刷介質(zhì),因而可用刮刀的較小力施加經(jīng)由凹槽輸送印刷介質(zhì)。以此方式,可達(dá)成網(wǎng)印模版承載件的較長使用壽命。根據(jù)網(wǎng)印網(wǎng)版的又一實施例,將間隔片組件提供于網(wǎng)印模版承載件及/或網(wǎng)印模版的下側(cè)上,該間隔片組件適于將網(wǎng)印模版承載件及/或網(wǎng)印模版配置于與一平面相隔之間距處,待印刷的基板放置于該平面上。根據(jù)本發(fā)明的進(jìn)步性設(shè)計,網(wǎng)印網(wǎng)版具有具夾緊結(jié)構(gòu)的框架以用于夾緊組態(tài)為薄膜的網(wǎng)印模版承載件。在邊緣區(qū)域中,薄膜可具有適于以可達(dá)成邊緣區(qū)域與夾緊結(jié)構(gòu)的接合的方式收納接合材料(諸如黏著劑)的表面結(jié)構(gòu)??梢栽摻Y(jié)構(gòu)由薄膜制成或形成為包含附著于薄膜上的組件的反向區(qū)域的方式形成該結(jié)構(gòu)。在表面結(jié)構(gòu)被配置以具有圓形、矩形或六邊形橫截面且與凹槽在同一時間予以制造的情況下,制造尤其廉價。薄膜的邊緣區(qū)域中的連續(xù)孔尤其有利,以便可以與引腳類似的方式形成黏著或接合材料的接合。較佳經(jīng)由熔合塑料使夾緊結(jié)構(gòu)與網(wǎng)印模版承載件彼此接合,該塑料已透入網(wǎng)印模版承載件的凹陷或孔及夾緊結(jié)構(gòu)的篩網(wǎng)中??梢詫⑦吘墔^(qū)域中具備通孔的網(wǎng)印模版承載件配置于夾緊結(jié)構(gòu)上方的方式進(jìn)行生產(chǎn)。接著將經(jīng)由熱輸入而熔融的塑料薄膜放置于網(wǎng)印模版承載件與夾緊結(jié)構(gòu)之間。熔融材料透入網(wǎng)印模版承載件的通孔中且透入夾緊結(jié)構(gòu)的篩網(wǎng)中,且在冷卻之后將網(wǎng)印模版承載件永久地接合至夾緊結(jié)構(gòu)。此接合極堅固且可在無需黏著劑的情況下用低技術(shù)復(fù)雜性得以達(dá)成且因此極適于廉價的大量生產(chǎn)。


圖1展示根據(jù)本發(fā)明的網(wǎng)印網(wǎng)版的第一實施例的圖解橫截面圖;圖2展示根據(jù)本發(fā)明的網(wǎng)印網(wǎng)版的第二實施例的圖解橫截面圖;圖3展示在薄膜上側(cè)上及凹槽中具有屏蔽材料的第二實施例的圖解橫截面圖;圖4展示在薄膜上側(cè)上、薄膜下側(cè)上及凹槽中具有屏蔽材料的第二實施例的圖解橫截面圖;圖5展示具有屏蔽材料及相關(guān)曝光屏蔽的第二實施例的圖解橫截面圖;圖6展示根據(jù)本發(fā)明的網(wǎng)印網(wǎng)版的第三實施例的圖解橫截面圖;圖7展示根據(jù)本發(fā)明的網(wǎng)印網(wǎng)版的第四實施例的圖解圖;圖8展示根據(jù)圖7的具有印刷介質(zhì)的第四實施例的圖解橫截面圖;圖9展示根據(jù)圖7的具有印刷介質(zhì)的第四實施例的圖解橫截面圖,及印刷基板的側(cè)視圖;圖10展示在方法步驟期間用于產(chǎn)生根據(jù)圖6的網(wǎng)印網(wǎng)版的第三實施例的裝置的圖解橫截面圖 ’及圖11以側(cè)視圖展示根據(jù)本發(fā)明的網(wǎng)印網(wǎng)版的第五實施例的圖解圖。
具體實施例方式在以下文字中,將參閱圖式來闡釋本發(fā)明的示范性實施例。圖1展示根據(jù)本發(fā)明的網(wǎng)印網(wǎng)版1的圖解橫截面圖,網(wǎng)印網(wǎng)版1具有作為網(wǎng)印模版承載件的薄膜2。薄膜2具有亦稱作刮刀側(cè)的上側(cè)3且在上側(cè)3上,具有邊緣101的刮刀 100可沿上側(cè)3分配印刷介質(zhì)102 (亦參見圖2)。將屏蔽層5作為網(wǎng)印模版附著于亦可稱作印刷側(cè)或基板側(cè)(因為其面向基板)的薄膜上側(cè)4上,屏蔽層5在某些預(yù)定點處具有自由及非遮蔽點或凹槽6。這些凹槽6可位于與薄膜2的凹槽7的迭合處,因而印刷介質(zhì)102 可在向基板103的方向上穿過凹槽7及6 (參見圖2)。相對于下側(cè)4,屏蔽層5具有可大致確定基板103上的印刷介質(zhì)102的厚度的突出物或高度8。若在壓力負(fù)載期間屏蔽層5由刮刀100彈性地壓縮,則在基板103上達(dá)成印刷介質(zhì)稍微低于高度8的實際高度。屏蔽層5亦部分位于薄膜2的凹槽7中(參見組件符號9)。為此目的,用于產(chǎn)生屏蔽層5的曝光以自下側(cè)4開始,使屏蔽材料51 (參見圖5)曝光遠(yuǎn)達(dá)延伸直至剛好在上側(cè) 3之前的深度的方式而發(fā)生。經(jīng)曝光的屏蔽材料51形成處于固化狀態(tài)的屏蔽層5,在凹槽 7中的屏蔽層5的部分9與上側(cè)3之間存在間距10。然而,亦可能使屏蔽材料51曝光遠(yuǎn)達(dá)精確遠(yuǎn)伸至上側(cè)3的深度,因而間距10減少至零。在兩種狀況下,達(dá)成可沿平滑上側(cè)3上不斷地導(dǎo)引刮刀100,而不使邊緣101在屏蔽層5的曝光部分上受磨損的情形。大于零之間距10在此方面增加安全性且有助于刮刀100在其線性移動期間不受阻礙。如自圖示根據(jù)本發(fā)明的網(wǎng)印網(wǎng)版的第二實施例的圖2可見,薄膜2在邊緣區(qū)域20 中具有帶凹陷21的結(jié)構(gòu),凹陷21適于以可達(dá)成邊緣區(qū)域20與夾緊結(jié)構(gòu)23 (例如,由聚酯制成)的黏著結(jié)合的方式收納黏著劑22。夾緊結(jié)構(gòu)23可由網(wǎng)版框架24夾緊。夾緊結(jié)構(gòu) 23可有利地用于吸收由刮刀100施加于薄膜2上的力。刮刀力主要由框架的夾緊結(jié)構(gòu)23 吸收,因而使薄膜2及網(wǎng)印模版5僅稍微偏離。因此,網(wǎng)印網(wǎng)版的使用壽命增加且印刷影像的精確度由網(wǎng)印模版維持。與金屬網(wǎng)印承載件薄膜的組合尤其有利。這些力由夾緊結(jié)構(gòu)23 吸收,金屬薄膜在尺寸上保持穩(wěn)定且在長使用壽命期間精確地收納印刷影像??山?jīng)由以下方法步驟進(jìn)行根據(jù)本發(fā)明的網(wǎng)印網(wǎng)版1的生產(chǎn)1.較佳經(jīng)由將黏著劑22涂覆于凹陷或通孔21中或?qū)⑺芰先廴谟诎枷莼蛲?1 中而將薄膜2接合至夾緊結(jié)構(gòu)23,這些凹陷或通孔21提供于薄膜2的邊緣區(qū)域20中,隨后將夾緊結(jié)構(gòu)23密封于網(wǎng)版框架24中。2.將薄膜2于其上側(cè)3上、下側(cè)4上及凹槽7中進(jìn)行脫脂。3.增加薄膜2的表面區(qū)域中的表面的粗糙度,在稍后方法步驟中欲將屏蔽材料51 涂覆于該表面上。因此,表面區(qū)域獨占地為下側(cè)4及凹槽7。經(jīng)由蝕刻化學(xué)品達(dá)成較大粗糙度,經(jīng)由刮刀100將該蝕刻化學(xué)品涂覆于下側(cè)4且涂覆至凹槽7中;該蝕刻化學(xué)品可為(例如)含有NaOH、KOH或磷酸的介質(zhì)。具有這些組成部分的漿狀可印刷介質(zhì)尤其適于選擇性處理。較大粗糙度達(dá)成欲在以下步驟中涂覆的屏蔽材料51的改良黏著力。4.以屏蔽材料51亦透入薄膜2的凹槽7中直至屏蔽材料51已封閉凹槽7且已移置在其中含有的空氣且已使上側(cè)3及下側(cè)4平整(亦參見圖3)的方式用屏蔽材料51涂布薄膜2的表面。可(例如)基于聚乙烯醇形成屏蔽材料51。較佳使用乳液。替代涂覆乳液,亦可將干膜附著至薄膜2的下側(cè)。5.在乳液涂布的狀況下,烘干屏蔽材料51。6.在乳液涂布的狀況下,以大致對應(yīng)于待稍后印刷的印刷影像的厚度的層厚度, 用屏蔽材料51涂布薄膜2的下側(cè)4(參見圖4)。7.在乳液涂布的狀況下,烘干屏蔽材料51。8.在乳液涂布的狀況下,可能重復(fù)方法步驟6及7直至達(dá)到所要層厚度。9.經(jīng)由具有開口 61的屏蔽60曝光屏蔽材料51,光62穿過開口 6且在該過程中, 屏蔽材料51的經(jīng)曝光區(qū)域固化(參見編號52)。以使屏蔽材料51曝光遠(yuǎn)達(dá)至多伸至薄膜 2的上側(cè)3的深度的方式選擇曝光劑量(參見圖5)。10.洗掉下側(cè)4上、凹槽7中及上側(cè)3上的未經(jīng)曝光的區(qū)域中的屏蔽材料51,因而形成具有屏蔽層5的網(wǎng)印網(wǎng)版1(參見圖1)。圖6展示根據(jù)本發(fā)明的網(wǎng)印網(wǎng)版1的第三實施例。網(wǎng)印網(wǎng)版1具有網(wǎng)印模版承載件70及固定地接合至網(wǎng)印模版承載件70的網(wǎng)印模版71。網(wǎng)印模版承載件70具備至少一個第一凹槽72,該第一凹槽72在一端處具有突出物74。突出物74在第一凹槽72內(nèi)且沿第一凹槽72的壁延伸,因而達(dá)成第一凹槽72的橫截面表面區(qū)域的均一減小。第一凹槽72 通向提供于第一凹槽72下方且在網(wǎng)印模版71內(nèi)的第二凹槽73。在此實施例中,第二凹槽 73不具有突出物,然而,可能將此提供為突出物74的替代或補(bǔ)充。圖10展示在生產(chǎn)網(wǎng)印網(wǎng)版的第二實施例期間中間產(chǎn)物的橫截面。第一上漆模板 76已形成于基板75上,在隨后方法步驟中已于基板75上以結(jié)構(gòu)化方式將金屬層77鍍鋅。 已進(jìn)行鍍鋅操作直至金屬層77已達(dá)越過上漆模板76的高度的高度。此處,已以金屬層77 能夠橫向地長滿至上漆模板76上(參見編號78)的方式控制鍍鋅工藝,作為此舉之結(jié)果, 形成橫截面具有T結(jié)構(gòu)的個別區(qū)域。舉例而言,若金屬層77及上漆模板76隨后與基板75分離且移除上漆模板76,則形成具有突出物74的凹槽72 (如圖6中所示)。金屬層77可接著充當(dāng)網(wǎng)印模版承載件70。圖7展示根據(jù)本發(fā)明的網(wǎng)印網(wǎng)版1的第四實施例的橫截面。網(wǎng)印模版承載件80 具有凹槽82,凹槽82在上側(cè)83上具備印刷介質(zhì)入口開口 85且在下側(cè)84上具備印刷介質(zhì)出口開口 87。在沿相對于此表面區(qū)域86垂直的突出方向89的突出物的狀況下,以入口開口 85 的表面區(qū)域86及出口開口 87的表面區(qū)域88中一者至多部分地位于另一者上方的方式組態(tài)網(wǎng)印模版承載件80。此意謂根本不存在兩個表面區(qū)域86或88的迭合或僅存在兩個表面區(qū)域86或88的部分迭合。在以下文字中將表面區(qū)域86及88部分地重迭所在的區(qū)域表示為重迭表面區(qū)域90。此重迭表面區(qū)域90始終小于表面區(qū)域86或88。根據(jù)本發(fā)明的一實施例,重迭表面區(qū)域90具有不大于表面區(qū)域86或表面區(qū)域88的30 %的尺寸。兩個表面區(qū)域86及88較佳不重迭,因而亦不存在重達(dá)表面區(qū)域90。在圖7至圖9中所示的網(wǎng)印模版承載件的實施例中,以大致70° (參見編號92) 的角度范圍相對于網(wǎng)印模版承載件80的下側(cè)84定向入口開口 85與出口開口 87之間的凹槽82的壁91。因此,凹槽82沿其整個長度自上側(cè)83傾斜遠(yuǎn)達(dá)網(wǎng)印模版承載件80的下側(cè) 84。在網(wǎng)印模版承載件80中,印刷介質(zhì)102可比在相對于網(wǎng)印模版的上側(cè)垂直地定向凹槽的狀況下更容易引入至該傾斜凹槽82中。圖8展示已經(jīng)由刮刀100傳送至凹槽82中的印刷介質(zhì)102。為此目的,已沿移動方向110,接近于網(wǎng)印模版承載件80的上側(cè)83拉動刮刀 100。在圖8中所示的情形下,已完全引入至凹槽82中的印刷介質(zhì)102已到達(dá)附著于網(wǎng)印模版承載件80下方的基板103,且與該基板103的表面接觸。若在以下步驟期間經(jīng)由向上的正交垂直移動自基板103移除網(wǎng)印模版承載件80,則下側(cè)84上的邊緣93充當(dāng)撕裂邊緣,因而印刷介質(zhì)102在此邊緣93處開始斷裂(參見圖9)。印刷介質(zhì)102的一部分(在此展示為三角部分94)接著保留在基板103上,印刷介質(zhì)102的另一部分保留在網(wǎng)印模版承載件80中。然而,由于撕裂邊緣93,基板103上及網(wǎng)印模版承載件80中的印刷介質(zhì)的部分得以預(yù)定且可容易地再生產(chǎn),因而達(dá)成基板103上的印刷介質(zhì)的均一涂覆。圖11展示根據(jù)本發(fā)明的網(wǎng)印網(wǎng)版的第五實施例。網(wǎng)印網(wǎng)版120具有網(wǎng)印模版承載件Iio及網(wǎng)印模版111,網(wǎng)印模版111與基板112的上側(cè)輕輕接觸。將基板112放置于基板支撐物113上。在根據(jù)本發(fā)明的網(wǎng)印網(wǎng)版120中,間隔片組件114附著于網(wǎng)印模版承載件110的下側(cè)上及網(wǎng)印模版111的下側(cè)上。在此實施例中,其具有遠(yuǎn)伸至基板112的下側(cè)或基板支撐物113的上側(cè)的間距高度。然而,間隔片組件114亦可具備稍微較小的高度,因而其并非完全遠(yuǎn)伸至基板112的下側(cè)。若經(jīng)由刮刀115擠壓印刷介質(zhì)116穿過網(wǎng)印網(wǎng)版120,則垂直向下定向的力作用于網(wǎng)印網(wǎng)版120上。間隔片組件114確保不將網(wǎng)印模版承載件110往下壓遠(yuǎn)達(dá)基板112的外部邊緣的區(qū)域中的基板支撐物113,而是將其固持于在基板112的區(qū)域中使網(wǎng)印模版111 的水平支撐在基板112的上側(cè)上變得可能的位置中。因此,甚至在基板112的邊緣區(qū)域中可達(dá)成均一及正確的印刷影像。此外,在沿網(wǎng)印模版承載件110的表面上拉動刮刀115的情況下,網(wǎng)印模版111及網(wǎng)印承載件110在基板112的邊緣區(qū)域中受間隔片組件114機(jī)械地保護(hù)。若使用相對柔軟的基板支撐物113,則可發(fā)生在沿間隔片組件114的區(qū)域中網(wǎng)印模版承載件110上拉動刮刀115時,將這些間隔片組件114擠壓至基板支撐物113中,因而網(wǎng)印模版承載件110及網(wǎng)印模版111并非在基板112的邊緣區(qū)域中平整地停置于基板112 上。在此狀況下,根據(jù)本發(fā)明的一個進(jìn)步,間隔片組件114可具有一高度以使得在未加載狀態(tài)中(亦即,刮刀115不施加垂直力),在間隔片組件114與基板支撐物113接觸的狀況下, 使網(wǎng)印模版承載件110及網(wǎng)印模版111位于與基板112的上側(cè)相隔之間距處。間隔片組件114可回顧地附著至網(wǎng)印模版承載件110及/或網(wǎng)印模版111。其可為由以單件組態(tài)的塑料或金屬制成的平坦材料或薄膜。此外,數(shù)個間隔片組件114可能在彼此相隔預(yù)定間距處配置于基板112的邊緣區(qū)域周圍。亦可自網(wǎng)印模版承載件110或網(wǎng)印模版111機(jī)械加工間隔片組件114。在此狀況下,不再需要間隔片組件114與網(wǎng)印模版承載件110或網(wǎng)印模版111之間的組裝及精確分配,因而完全省略組裝復(fù)雜性。在機(jī)械加工之間隔片組件114的狀況下,不需要滿足關(guān)于待彼此接合的表面的配合、平坦度及平行度。在基板112的邊緣區(qū)域周圍以框架形式以單件組態(tài)之間隔片組件114尤其有利, 因而在相對于關(guān)于基板112的位置預(yù)定位期間,網(wǎng)印模版承載件110及/或網(wǎng)印模版111在同一時間相對于基板112居中,因而不再需要網(wǎng)印模版承載件110及/或網(wǎng)印模版111相對于基板112的精確定位及定向。
權(quán)利要求
1.一種網(wǎng)印網(wǎng)版,其具有一網(wǎng)印模版承載件,其被配置為一具備第一凹槽的薄膜,這些第一凹槽被配置為自該薄膜的一上側(cè)伸至下側(cè),及一網(wǎng)印模版,其被配置為一非金屬屏蔽層,其固定連接至該網(wǎng)印模版承載件的該下側(cè), 該屏蔽層具備第二凹槽,其至少部分與該網(wǎng)印模版承載件的這些第一凹槽迭合,其中一印刷介質(zhì)向該下側(cè),自該網(wǎng)印模版承載件上側(cè)穿過這些第一凹槽,且穿過該屏蔽層的這些第二凹槽,達(dá)到一可放置于下方的基板。
2.如權(quán)利要求1所述的網(wǎng)印網(wǎng)版,該薄膜的該下側(cè)及/或該上側(cè)具有一粗糙度Rz,其小于30微米,較佳小于2微米。
3.如前述權(quán)利要求中任一所述的網(wǎng)印網(wǎng)版,該屏蔽層由一乳液、一干膜或一固體抗蝕劑形成。
4.如前述權(quán)利要求中任一所述的網(wǎng)印網(wǎng)版,該薄膜的該下側(cè)上的該屏蔽層具有一厚度,其在0. 5微米至60微米的一范圍中。
5.如前述權(quán)利要求中任一所述的網(wǎng)印網(wǎng)版,該屏蔽層利用聚乙烯醇形成。
6.如前述權(quán)利要求中任一所述的網(wǎng)印網(wǎng)版,自該薄膜的該下側(cè)向該薄膜的該上側(cè),在該薄膜的這些凹槽中提供該屏蔽層,但不突出超過該薄膜的該上側(cè)外。
7.如前述權(quán)利要求中任一所述的網(wǎng)印網(wǎng)版,該薄膜及/或該網(wǎng)印模版在其表面上具有一用于相對于蝕刻介質(zhì)來改質(zhì)可濕性及/或鈍化性的層。
8.如前述權(quán)利要求中任一所述的網(wǎng)印網(wǎng)版,該網(wǎng)印模版承載件及/或該網(wǎng)印模版被配置為以一突出物突出至這些第一凹槽或這些第二凹槽中的至少一者的區(qū)域中,且減少其用于一印刷介質(zhì)的信道表面區(qū)域。
9.如前述權(quán)利要求中任一所述的網(wǎng)印網(wǎng)版,這些第一凹槽中的至少一者在該各別上側(cè)上具有一印刷介質(zhì)入口開口,且在該各別下側(cè)上具有一印刷介質(zhì)出口開口,在一突出物相對于該表面區(qū)域垂直的狀況下,該至少一凹槽的該印刷介質(zhì)入口開口的該表面區(qū)域最多有部分位于該一個凹槽的該印刷介質(zhì)出口開口的該表面區(qū)域上方。
10.如前述權(quán)利要求中任一所述的網(wǎng)印網(wǎng)版,一間隔片組件提供于該網(wǎng)印模版承載件及/或該網(wǎng)印模版的下側(cè)上,該間隔片組件適于將該網(wǎng)印模版承載件及/或該網(wǎng)印模版配置于與一平面相隔的一間距處,該待印刷的基板放置于該平面上。
11.如前述權(quán)利要求中任一所述的網(wǎng)印網(wǎng)版,該網(wǎng)印網(wǎng)版具有一框架,其具一夾緊結(jié)構(gòu),以用于夾緊該網(wǎng)印模版承載件。
12.如權(quán)利要求11所述的網(wǎng)印網(wǎng)版,經(jīng)由熔融塑料,使該夾緊結(jié)構(gòu)與該網(wǎng)印模版承載件彼此接合,該塑料透入該網(wǎng)印模版承載件的凹陷或孔及該夾緊結(jié)構(gòu)的篩網(wǎng)中。
全文摘要
一種網(wǎng)印網(wǎng)版包括一網(wǎng)印模版承載件,其被配置為一具備第一凹槽的薄膜(2),這些凹槽被配置為自該薄膜的一上側(cè)伸至下側(cè),及一網(wǎng)印模版,其被配置為一非金屬屏蔽層(5),其固定連接至該網(wǎng)印模版承載件的該下側(cè),該屏蔽層具備第二凹槽,其至少部分與該網(wǎng)印模版承載件的這些第一凹槽迭合,其中一印刷介質(zhì)(102)向該下側(cè),自該網(wǎng)印模版承載件上側(cè)穿過這些第一凹槽,且穿過該屏蔽層的這些第二凹槽,達(dá)到一可放置于下方的基板(103)。
文檔編號B41F15/36GK102202907SQ200980138418
公開日2011年9月28日 申請日期2009年9月25日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月26日
發(fā)明者D·陸特科諾塔普, M·貝克 申請人:Nb技術(shù)股份有限公司
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