專利名稱：抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種轉(zhuǎn)印架構(gòu)，尤指一種具有抗磨耗能力的轉(zhuǎn)印架構(gòu)。
背景技術(shù)：
轉(zhuǎn)印技術(shù)是將載體薄膜上的圖文利用壓力的方式，將圖文轉(zhuǎn)移至所欲印制的物品上，而增添物品外觀的變化性。隨著技術(shù)的進展，轉(zhuǎn)印技術(shù)已可廣泛應(yīng)用于各種材質(zhì)的表面，如金屬、玻璃、塑料、陶瓷等。 眾多轉(zhuǎn)印技術(shù)中，最常見者為熱轉(zhuǎn)印技術(shù)，其原理是將所欲轉(zhuǎn)印的花紋圖樣印刷至一耐熱基材薄膜上，將帶有花紋圖樣的基材薄膜放置在所欲轉(zhuǎn)印的物品表面或位置上后，利用加熱加壓等方式，使花紋圖樣轉(zhuǎn)移至該物品上。傳統(tǒng)熱轉(zhuǎn)印技術(shù)完成后，形成花紋圖樣的印刷層直接與外界接觸，一般而言，印刷層屬于軟性材料，容易因為與其它物品之間的磨擦或碰撞而造成斑駁脫落，影響熱轉(zhuǎn)印的品質(zhì)及壽命。為能提供保護效果，傳統(tǒng)的作法是在熱轉(zhuǎn)印后，進行噴涂作業(yè)形成一保護膜。然而，噴涂作業(yè)不僅會造成環(huán)境上的污染，且浪費大量的噴涂材料，增加生產(chǎn)所需成本。 由于傳統(tǒng)熱轉(zhuǎn)印具有上述缺失，模內(nèi)裝飾技術(shù)(In-MoldDecoration， IMD)于是成為形成物品表面圖樣的另一種選擇技術(shù)。其流程是將一附有硬化層結(jié)構(gòu)的具有裝飾圖樣的薄膜，置于進行射出成型模具中，利用射出成型的方式將熱熔樹脂在成形薄膜的一側(cè)射出，使該熱熔樹脂與該薄膜相互結(jié)合為一體。雖然裝飾圖樣被硬化層覆蓋而不會直接與外界接觸造成損壞或刮傷，然而在大彎角的立體設(shè)計模面上容易出現(xiàn)龜裂的狀況，及可能會產(chǎn)生皺褶或氣泡等使用上的局限。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于，使傳統(tǒng)熱轉(zhuǎn)印具備有MD對于文字圖樣的保護能力，并克服MD無法應(yīng)用于立體產(chǎn)品的限制。為達上述目的，本發(fā)明提供一種抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，以壓印工藝將圖樣文字轉(zhuǎn)移至一承印體表面，包括有一硬化保護層以及一離型基層。該硬化保護層包含有一第一表面以及一第二表面，該第一表面以一轉(zhuǎn)印黏著膠貼附于該承印體上，并至少蓋覆于該圖樣文字的相對區(qū)域。該離型基層以離型方式設(shè)置在該硬化保護層的第二表面上，在壓印工藝后對該離型基層施加一撥離力，以使該離型基層與該硬化保護層分離。 其中，在本發(fā)明中，該硬化保護層的硬度以及抗刮標準，分別依據(jù)JIS K 5400以鉛筆硬度試驗測量時具有F或更高的表面硬度，以及依據(jù)RCA的標準在175g施壓下至少300次沒有產(chǎn)生刮痕。此外，該硬化保護層的厚度介于3-100 y m之間，其中以4-30 y m之間為優(yōu)選選擇。 在本發(fā)明中，該離型基層內(nèi)一體地包含有離型材料，或者該離型基層可包含有一與該第二表面接觸的離型膜，以及一位于該離型膜上的基材膜；其中，該離型方式的有效溫度介于5(TC _3001:之間。此外，該圖樣文字可由一油墨層形成，該油墨層位于該硬化保護
4層的第一表面上。該油墨層可為升華型轉(zhuǎn)印油墨、熱熔型轉(zhuǎn)印油墨或者UV型轉(zhuǎn)印油墨等。該油墨層還可包含有遮光層、金屬蒸鍍層、濺鍍層或珠光材料層等。而該轉(zhuǎn)印黏著膠具有一活化溫度，該活化溫度介于80°C _2501:之間；該轉(zhuǎn)印黏著膠可選自多種黏著材料，如熱熔膠、uv膠、光活化膠以及電子束活化膠等。而該轉(zhuǎn)印黏著膠內(nèi)可增加平流劑以得到較為平
整的轉(zhuǎn)印架構(gòu)。 本發(fā)明的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)的特點在于 1.將離型基材撥離后所露出的硬化保護層得以隔絕該圖樣文字與外部的接觸，并提供該承印體表面具有抗磨耗的效果。 2.解決傳統(tǒng)熱轉(zhuǎn)印利用噴涂作業(yè)形成保護膜的污染或浪費問題，以及克服MD技術(shù)不能應(yīng)用于立體產(chǎn)品的限制。


圖1是本發(fā)明一優(yōu)選實施例的結(jié)構(gòu)分解示意圖； 圖2是本發(fā)明具有復(fù)合基材膜的離型基層的一優(yōu)選實施例的結(jié)構(gòu)分解示意 圖3是本發(fā)明另一實施例的結(jié)構(gòu)分解示意圖； 圖4是本發(fā)明具有復(fù)合基材膜的離型基層的另一實施例的結(jié)構(gòu)分解示意圖。
具體實施例方式
有關(guān)本發(fā)明的詳細說明及技術(shù)內(nèi)容，現(xiàn)結(jié)合

如下 參照圖1所示，是本發(fā)明一優(yōu)選實施例的結(jié)構(gòu)分解示意圖，如圖所示本發(fā)明為一種抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)10，以壓印工藝將圖樣文字轉(zhuǎn)移至一承印體20表面。該承印體20可為多禾中材質(zhì)，如聚碳酸酉旨(polycarbonate,PC) 、ABS樹月旨(acrylonitrile butadiene styrene，ABS)、聚甲基丙烯酸甲酉旨(polymethylmethacrylate, P薩)、聚縮醛(polyoxymethylene，POM)或聚對苯二甲酸丁二醇酯(polybutylene ter印hthalate，PBT)等；且該承印體20的表面除了可為平面外，亦可具有至少10°至90°的傾斜角度。該轉(zhuǎn)印架構(gòu)10至少包括有一硬化保護層11以及一離型基層12。該硬化保護層11包含有一第一表面111以及一第二表面112，該第一表面111以一轉(zhuǎn)印黏著膠13貼附于該承印體20上，并至少蓋覆于該圖樣文字的相對區(qū)域。該離型基層12以離型方式設(shè)置在該硬化保護層11的第二表面112上，在壓印工藝后對該離型基層12施加一撥離力P，以使該離型基層12與該硬化保護層11分離。 在本發(fā)明中，該硬化保護層11的厚度介于3-100 iim之間；其中，優(yōu)選厚度介于4-20iim之間。 本發(fā)明的硬化保護層11具有良好硬度以及抗刮性以保護該圖樣文字，該硬度以及該抗刮性的標準分別為，依據(jù)JIS K 5400標準方法測量下，其鉛筆硬度可達F或更高的表面硬度，以及依據(jù)RCA的標準方法測量下，在175g施壓時至少可承受300次而沒有產(chǎn)生刮痕。 在本發(fā)明中，該圖樣文字可由一油墨層16形成，該油墨層16位于該硬化保護層11的第一表面111上；且該油墨層16中為因應(yīng)不同的顯示效果還可包含有遮光層、金屬蒸鍍層、濺鍍層或珠光材料層等。其中，該油墨層16為升華型(sublimation type)轉(zhuǎn)印油墨、熱熔型(heat-transfer type)轉(zhuǎn)印油墨或UV型轉(zhuǎn)印油墨等。 負責(zé)將該硬化保護層11黏附于該承印體20表面的轉(zhuǎn)印黏著膠13可根據(jù)不同壓印方式，位于該承印體20的表面，或者位于該硬化保護層11的第一表面111上。在本實施例中，該轉(zhuǎn)印黏著膠13可為熱熔膠、UV膠、光活化膠或電子束活化膠等。且當(dāng)該轉(zhuǎn)印黏著膠13加溫至一活化溫度以上時，該轉(zhuǎn)印黏著膠13具有黏著性，其中，該活化溫度介于80°C _2501:之間。此外，為能得到優(yōu)選的平整度，可于該轉(zhuǎn)印黏著膠13中加入一平流劑。
在本實施例中，為了能使該離型基層12以離型方式結(jié)合于該硬化保護層ll，可在該離型基層12內(nèi)加入離型材料，使該硬化保護層11直接具有離型能力。其中，該離型基層12可為單一層選自聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene ter印hthalate， PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylene naphthalate， PEN) 、二醇變性聚乙烯對苯二甲酸酯(polyethylene glycol_co_cyclohexane_l， 4dimethanolter印hthalate， PETG)、熱塑性聚胺基甲酸酯(thermalplasticpolyurethane， TPU)、聚胺酯(polyurethane， PU)、聚丙烯(polypropylene, PP)、聚碳酸酯(polycarbonate, PC)非結(jié)晶化聚對苯二甲酸二醇酯(amorphous polyethylene ter印hthalate， A-PET)或聚氯乙條(polyvinyl chloride,PVC)等高分子材料，或者可由多個上述高分子材料相互組成。其中，該離型方式的有效溫度介于50°C -30(TC之間。 或者，如圖2所示，該離型基層12是由一主基材層121以及一副基材層122組成的復(fù)合基材膜，該主基材層121可為聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene ter印hthalate，PET)、非結(jié)晶化聚對苯二甲酸二醇酯(amorphous polyethylene ter印hthalate， A-PET)或聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylene n即hthalate， PEN)等，而該副基材層122可為二醇變性聚乙烯對苯二甲酸酉旨(polyethyleneglycol_co_cyclohexane_l，4dimethanolter印hthalate， PETG)、熱塑性聚胺基甲酸酯(thermalplastic polyurethane， TPU)、聚胺酉旨(polyurethane,PU)、聚丙烯(polypropylene,PP)、聚碳酸酉旨(polycarbonate,PC)、非結(jié)晶化聚對苯二甲酸二醇酯(amorphouspolyethylene ter印hthalate， A-PET)或聚氯乙烯(polyvinyl chloride, PVC)等。其中，該離型方式的有效溫度介于50°C-30(TC之間。
在本發(fā)明中，該離型基層12除了可因加入離型材料，使該硬化保護層11直接具有離型能力外，亦可以分層為一與該第二表面112接觸的離型膜14以及一位于該離型膜14上的基材膜15的方式，來達到具有離型能力效果，參照圖3所示。其中，該基材膜15可為單一層選自聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene ter印hthalate， PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylene naphthalate, PEN) 、 二醇變性聚乙烯對苯二甲酸酯(polyethylene glycol_co_cyclohexane_l，4dimethano1 ter印hthalate， PETG)、熱塑性聚胺基甲酸酯(thermalplastic polyurethane, TPU)、聚胺酯(polyurethane, PU)、聚丙烯(polypropylene, PP)、聚碳酸酯(polycarbonate, PC)、非結(jié)晶化聚對苯二甲酸二醇酯(amorphous polyethylene ter印hthalate， A-PET)或聚氯乙條(polyvinyl chloride,PVC)等高分子材料，或者可由多個上述高分子材料相互組成。其中，該離型方式的有效溫度介于50°C -30(TC之間。 或者，如圖4所示，該基材膜15是由一主基材層151以及一副基材層152組成的復(fù)合基材膜，該主基材層151可為聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene ter印hthalate，PET)、非結(jié)晶化聚對苯二甲酸二醇酯(amorphous polyethylene ter印hthalate， A-PET)或聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylene naphthalate， PEN)等，而該副基材層152可為二醇變性聚乙烯對苯二甲酸酉旨(polyethyleneglycol_co_cyclohexane_l，4dimethanolter印hthalate， PETG)、熱塑性聚胺基甲酸酯(thermalplastic polyurethane， TPU)、聚胺酉旨(polyurethane,PU)、聚丙烯(polypropylene,PP)、聚碳酸酉旨(polycarbonate,PC)、非結(jié)晶化聚對苯二甲酸二醇酯(amorphouspolyethylene ter印hthalate， A-PET)或聚氯乙烯(polyvinyl chloride, PVC)等。其中，該離型方式的有效溫度介于50°C-30(TC之間。
使用者可將本發(fā)明的轉(zhuǎn)印架構(gòu)10通過該轉(zhuǎn)印黏著膠13貼附于該承印體20上，利用滾輪熱壓或平板熱壓等印壓工藝，使該轉(zhuǎn)印架構(gòu)10固著在該承印體20上。此時，使用者對該離型基層12施以一撥離力P，使該離型基層12脫離于固定在該承印體20上的硬化保護層ll，因此，露出的硬化保護層ll得以隔絕該圖樣文字與外部的接觸，并提供該承印體20表面具有抗磨耗的效果。 綜上所述，本發(fā)明抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)主要包含有一硬化保護層以及一離型基層。相比較于傳統(tǒng)熱轉(zhuǎn)印技術(shù)，轉(zhuǎn)印在該承印體上的圖樣文字得以受到該硬化保護層覆蓋，而避免因與其它物品的碰撞或磨擦而導(dǎo)致?lián)茈x，亦沒有因使用傳統(tǒng)噴涂作業(yè)所產(chǎn)生的污染及浪費。另一方面，該硬化保護層得以均勻貼附于該承印體表面，得以克服MD技術(shù)因立體彎角過大而產(chǎn)生皺褶或氣泡等問題。 以上已將本發(fā)明做一詳細說明，只是以上所述僅為本發(fā)明的一優(yōu)選實施例而已，當(dāng)不能限定本發(fā)明實施的范圍。即凡依本發(fā)明申請范圍所作的均等變化與修飾等，皆應(yīng)仍屬本發(fā)明的專利涵蓋范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
一種抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，以壓印工藝將圖樣文字轉(zhuǎn)移至一承印體(20)表面，其特征在于包括有一硬化保護層(11)，包含有一第一表面(111)以及一第二表面(112)，所述第一表面(111)以一轉(zhuǎn)印黏著膠(13)貼附于所述承印體(20)上，并至少蓋覆于所述圖樣文字的相對區(qū)域；以及一離型基層(12)，以離型方式設(shè)置在所述硬化保護層(11)的第二表面(112)上，在壓印工藝后對所述離型基層(12)施加一撥離力(P)，以使所述離型基層(12)與所述硬化保護層(11)分離；由此，露出的硬化保護層(11)得以隔絕所述圖樣文字與外部的接觸，并提供所述承印體(20)表面具有抗磨耗的效果。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，其特征在于，所述硬化保護層(11)依據(jù)JISK 5400以鉛筆硬度試驗測量時具有F或更高的表面硬度。
3. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，其特征在于，所述硬化保護層(11)依據(jù)RCA的標準在175g施壓下至少300次沒有產(chǎn)生刮痕。
4. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，其特征在于，所述硬化保護層(11)的厚度介于3-100 iim之間。
5. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，其特征在于，所述硬化保護層(11)的優(yōu)選厚度介于4-30iim之間。
6. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，其特征在于，所述離型基層(12)內(nèi)一體地包含有離型材料。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，其特征在于，所述離型基層(12)選自聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、二醇變性聚乙烯對苯二甲酸酯、熱塑性聚胺基甲酸酯、聚胺酯、聚丙烯、聚碳酸酯、非結(jié)晶化聚對苯二甲酸二醇酯以及聚氯乙烯組成的群組或其組合。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，其特征在于，所述離型基層(12)是由一主基材層(121)以及一副基材層(122)組成的復(fù)合基材膜，所述主基材層(121)選自聚對苯二甲酸乙二酯、非結(jié)晶化聚對苯二甲酸二醇酯以及聚萘二甲酸乙二醇酯組成的群組，而所述副基材層(122)選自二醇變性聚乙烯對苯二甲酸酯、熱塑性聚胺基甲酸酯、聚胺酯、聚丙烯、聚碳酸酯、非結(jié)晶化聚對苯二甲酸二醇酯以及聚氯乙烯組成的群組。
9. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，其特征在于，所述離型方式的有效溫度介于50°C -30(TC之間。
10. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，其特征在于，所述離型基層(12)包含有一與所述第二表面(112)接觸的離型膜(14)，以及一位于所述離型膜(14)上的基材膜(15)。
11. 根據(jù)權(quán)利要求IO所述的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，其特征在于，所述基材膜(15)選自聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、二醇變性聚乙烯對苯二甲酸酯、熱塑性聚胺基甲酸酯、聚胺酯、聚丙烯、聚碳酸酯、非結(jié)晶化聚對苯二甲酸二醇酯以及聚氯乙烯組成的群組或其組合。
12. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，其特征在于，所述基材膜(15)是由一主基材層(151)以及一副基材層(152)組成的復(fù)合基材膜，所述主基材層(151)選自聚對苯二甲酸乙二酯、非結(jié)晶化聚對苯二甲酸二醇酯以及聚萘二甲酸乙二醇酯組成的群組，而所述副基材層(152)選自二醇變性聚乙烯對苯二甲酸酯、熱塑性聚胺基甲酸酯、聚胺酯、聚丙烯、聚碳酸酯、非結(jié)晶化聚對苯二甲酸二醇酯以及聚氯乙烯組成的群組。
13. 根據(jù)權(quán)利要求IO所述的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，其特征在于，所述離型方式的有效溫度介于50°C -30(TC之間。
14. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，其特征在于，所述圖樣文字由一油墨層(16)形成，所述油墨層(16)位于所述硬化保護層(11)的第一表面(111)上。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，其特征在于，所述油墨層(16)選自升華型轉(zhuǎn)印油墨、熱熔型轉(zhuǎn)印油墨以及UV型轉(zhuǎn)印油墨等組成的群組。
16. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，其特征在于，所述油墨層(16)還包含有遮光層、金屬蒸鍍層、濺鍍層或珠光材料層等。
17. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，其特征在于，所述轉(zhuǎn)印黏著膠(13)具有一活化溫度，所述活化溫度介于80°C -250°C之間。
18. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，其特征在于，所述轉(zhuǎn)印黏著膠(13)中還具有一平流劑。
19. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，其特征在于，所述轉(zhuǎn)印黏著膠(13)選自熱熔膠、UV膠、光活化膠以及電子束活化膠等組成的群組或其組合。
全文摘要
一種抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)，以壓印工藝將圖樣文字轉(zhuǎn)移至一承印體表面，包括有一硬化保護層以及一離型基層。該硬化保護層包含有一第一表面以及一第二表面，該第一表面以一轉(zhuǎn)印黏著膠貼附于該承印體上，并至少蓋覆于該圖樣文字的相對區(qū)域。該離型基層以離型方式設(shè)置在該硬化保護層的第二表面上，在壓印工藝后對該離型基層施加一撥離力，以使該離型基層與該硬化保護層分離。由此，本發(fā)明的抗磨耗轉(zhuǎn)印架構(gòu)所露出的硬化保護層得以隔絕該圖樣文字與外部的接觸，并提供該承印體表面具有抗磨耗的效果。
文檔編號B41M5/00GK101746171SQ20081018408
公開日2010年6月23日 申請日期2008年12月17日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月17日
發(fā)明者廖志遠, 王順程, 陳玟蓉, 黃世敏 申請人:鑼洋科技股份有限公司