專利名稱：：適于平版印刷印版的感光聚合物組合物的制作方法適于平版印刷印版的感光聚合物組合物本發(fā)明涉及輻射敏感元件，特別是陰圖制版輻射敏感元件，它的涂層包含由三異氰酸酯和(甲基)丙烯酸類單體制備的低聚物。本發(fā)明還涉及制備這類元件的方法、適于制備這類元件的輻射敏感組合物以及由這類輻射敏感元件制備成〗象元件的方法。平版印刷
技術(shù)領(lǐng)域：
是基于油水不溶混性，其中油性物質(zhì)或印刷油墨優(yōu)選由圖像區(qū)域接受，水或潤版液優(yōu)選由非圖像區(qū)域接受。當將適當制備的表面用水潤濕且施用印刷油墨時，背景即非圖像區(qū)域接受水并排斥印刷油墨，而圖像區(qū)域接受印刷油墨并排斥水。隨后使圖像區(qū)域中的印刷油墨轉(zhuǎn)移到圖像將在其上形成的材料如紙張、織物等的表面上。然而，一般來說，首先使印刷油墨轉(zhuǎn)移到被稱為橡皮布的中間材料上，隨后繼而將印刷油墨轉(zhuǎn)移到圖像將在其上形成的材料的表面上；這種技術(shù)被稱為平版膠印術(shù)。一種經(jīng)常使用的平版印刷印版前體包括施用到基于鋁的底材上的感光涂層。這種涂層可對輻射作出反應(yīng)以使得暴露部分變得可溶，從而在顯影過程期間被移除。這類印版被稱為陽圖制版印版。另一方面，如果涂層的暴露部分因輻射而硬化，則印版被稱為陰圖制版印版。在兩種情況下，剩余圖像區(qū)域接受印刷油墨(即為親油性)，非圖像區(qū)域(背景)接受水(即為親7K性)。圖像區(qū)域與非圖像區(qū)域之間的不同在暴露期間出現(xiàn)，為此在真空下使膠片附于印版前體上以保證良好接觸。隨后通過輻射源使印版暴露。當使用陽圖印版時，對應(yīng)于印版上的圖像的膠片區(qū)域不透明，使得光不到達印版，而對應(yīng)于非圖像區(qū)域的膠片區(qū)域透明并讓光穿過涂層，涂層的溶解性增大。在陰圖印版的情況下，發(fā)生相反情形對應(yīng)于印版上圖像的膠片區(qū)域透明，而非圖像區(qū)域不透明。在透明膠片區(qū)域下的涂層由于入射光而硬化，而未受入射光影響的區(qū)域在顯影期間被移除。陰圖制版印版的光硬化表面因此為親油性的且接受印刷油墨，而曾涂覆有被顯影劑移除的涂層的非圖像區(qū)域不敏感且因此為親水性的。多年來，感光混合物已用于可光聚合組合物中用以生產(chǎn)用于印刷電路和印版的感光材料，如焊劑掩模。然而，改進的敏感性(特別在可見光譜范圍內(nèi))為新近和高級應(yīng)用(例如通過激光暴露)所需，由此可縮短暴露時間。從經(jīng)濟的角度來看，同樣重要的是能使用比高強度激光價格更低廉且更可靠的低強度激光。因此，一段時間以來已進行嘗試來增加用于可光聚合組合物中的感光混合物的敏感性。EP-A2-0355387描述了一種可光聚合混合物，它包含下式的丙烯酸或烷基丙烯酸酯<formula>formulaseeoriginaldocumentpage9</formula>聚合物連接料、光還原性染料、三卣曱基化合物和選自吖啶、吩嗪和喹喔啉化合物的光引發(fā)劑。然而，上述酯導(dǎo)致在顯影劑浴中形成殘渣。DE2361041Al、EP-A1畫0582753和JP2001-117217描述了包含具有氨基甲酸酯基團和烯屬不飽和基團的單體的可光聚合涂層。然而，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)這類涂層很難在老化狀況下顯影。WO94/17452描述了在底材上具有感光層的元件，所述層包含下式的單體<formula>formulaseeoriginaldocumentpage9</formula>然而，這些單體的光反應(yīng)性不足，且這些元件的可顯影性也不能令人滿意。美國專利3,856,830、4,999,271和6,207,347Bl還描述了烯屬不飽和氨基曱酸酯單體。雖然用逸些單體制成的可光聚合涂層展現(xiàn)良好的敏感性，但這需要進一步改進。EP-A2-0424,750描述烯屬不飽和表面活性氨基曱酸酯衍生物，它通過使單異氰酸酯與羥基聚氧亞烷基氧羰基烯或N-(羥基聚氧亞烷基)烯羧酰胺反應(yīng)生成。如果這些氨基甲酸酯衍生物用于制備輻射敏感元件，則所得敏感性會不足。本發(fā)明的目標是提供與現(xiàn)有技術(shù)中已知的輻射敏感元件相比表現(xiàn)出改進的性質(zhì)的新輻射敏感元件，特別是高度光敏感性、高度熱穩(wěn)定性和高分辨率以及良好的儲存穩(wěn)定性，且在印版的情況下，在印刷機上的高運轉(zhuǎn)周期；此外這些新輻射敏感元件能快速顯影且在顯影劑槽中無或有極少易于移除的殘渣將形成。這個目標通過提供一種輻射敏感元件實現(xiàn)，所述輻射敏感元件包括底材和輻射敏感涂層，所述輻射^t感涂層包含(a)至少一種選自光引發(fā)劑和敏化劑/共引發(fā)劑體系的組分，它吸收波長范圍為250-l，200mn的輻射；(b)至少一種由GPC測定的平均分子量在3,500-9,000范圍內(nèi)的可自由基聚合的低聚物A,它通過使三異氰酸酯與(i)至少一種具有兩個游離OH基團和至少一個(甲基)丙烯酸類基團的丙烯酸類或曱基丙烯酸類單體和(ii)至少一種分子內(nèi)包含一個OH基、至少一個(甲基)丙烯酸類基團和至少一個聚(環(huán)氧烷)鏈的化合物反應(yīng)來得到，其中基于具有OH官能團的(甲基)丙烯酸類化合物的總量計算，(曱基)丙烯酸類單體(i)的存在量為2-20%摩爾。除非另作定義，否則本發(fā)明中所用的術(shù)語"烷基和亞烷基"是指直鏈、支鏈或環(huán)狀烷基或亞烷基。這些基團可任選包含一個或多個選自鹵原子(氟、氯、溴、碘)、d-Cu烷氧基、<image>imageseeoriginaldocumentpage11</image>其中11''為(::1_(::18烷基)的取代基。除非另作定義，否則本發(fā)明中所用的術(shù)語"芳基或亞芳基"是指具有一個環(huán)或多個稠環(huán)的芳族碳環(huán)一價或二價基團，它可任選包含一個或多個選自鹵原子(氟、氯、溴、碘)、C,-Ci2烷氧基、<image>imageseeoriginaldocumentpage11</image>其中r"為cvc!8烷基)的取代基。除非另作定義，否則本發(fā)明中所用的術(shù)語"雜環(huán)基團"是指飽和或不飽和(非芳族)環(huán)狀基團，其中一個或多個環(huán)碳原子被選自o、s、Se、Te和N(優(yōu)選為O、S和N)的雜原子置換，優(yōu)選置換一個或兩個碳原子。所述基團優(yōu)選為5或6元雜環(huán)基團。雜環(huán)基團可任選包含一個或多個取代基(鍵合到C原子和/或N原子上)。雜環(huán)基團優(yōu)選未被取代或包含一個取代基。這些4壬選的取代基優(yōu)選選自卣原子、烷基、CN、N02、NRIV2、0RW和SRW，其中R^各自獨立地選自氫和烷基。雜環(huán)基團的實例包括哌咬基、哌。秦基、四氫喹啉基、吡咯烷基、四氫化糠基、四氫吡喃基、嗎啉基和四氫噻吩基。除非另作定義>否則本發(fā)明中所用的術(shù)語"雜芳族基團"是指芳基，其中一個或多個環(huán)碳原子凈皮選自0、S、Se、Te和N(優(yōu)選為O、S和N的雜原子)置換，優(yōu)選置換一個、兩個或三個碳原子。雜芳族基團可任選包含一個或多個優(yōu)選選自鹵原子、烷基、CN、NRIV2、COORIV、ORW和SRW(特別優(yōu)選烷基、0RW和SRW)的取代基，其中R^各自獨立地選自氬和烷基。所述取代基可鍵合到C原子和/或N原子上。雜芳族基團的實例包括咪唑基、1,2,4-三唑基、吡唑基、噻唑基、吡啶基、喹啉基、嘧啶基、1,3,5-噻二唑基、1,3,5-嗯二唑基、l'3，5畫三嗪基、苯并咪唑基、吖啶基、呋喃基和噻吩基。術(shù)語"(曱基)丙烯酸酯"和"(甲基)丙烯酸"分別指"曱基丙烯酸酯"與"丙烯酸酯"和"甲基丙烯酸"與"丙烯酸"。低聚物A可自由基聚合的低聚物a為輻射敏感涂層的基本組分。低聚物a包含丙烯酸酯基團(acrylategroup)、甲基丙烯酸酯基團(methacrylategroup)或兩者，且由凝膠滲透色譜法(GPC)對照聚苯乙烯標準物測定，它的重均分子量為3,500-9,000。低聚物a通過使三異氰酸酯(優(yōu)選式(i)、(n)或(ni-i)-(m-7)的三異氰酸酯與(i)至少一種具有兩個游離oh基團的(甲基)丙烯酸類單體、(ii)至少一種具有一個游離oh基團和聚(環(huán)氧烷)鏈的(曱基)丙烯酸類化合物和任選的(m)至少一種具有一個游離oh基團但無聚(環(huán)氧烷)鏈的(甲基)丙烯酸類單體反應(yīng)來制備；基于具有oh官能團的(甲基)丙烯酸類化合物的總量計算，(曱基)丙烯酸類單體(i)的量為2-20%摩爾。使末端異氰酸基與(曱基)丙烯酸類化合物的游離oh基團反應(yīng)。所述反應(yīng)可分步進行(即，z使各(曱基)丙烯酸類化合物逐個與三異氰酸酯反應(yīng))或同時進行(即，使各(甲基)丙烯酸類化合物全都同時與三異氰酸酯反應(yīng))。優(yōu)選通過首先使具有兩個游離oh基團的(曱基)丙烯酸類單體反應(yīng)來使反應(yīng)分步進行。反應(yīng)通常在非質(zhì)子溶劑(如苯、甲苯、二曱苯、酮(例如曱基乙基酮)或酯(例如乙酸丁酯))中在催化劑(例如叔胺或有機錫(如二月桂酸二丁錫和二月桂酸二辛錫))和防止熱聚合的抑制劑存在下在室溫與約8(TC之間的溫度下進行。制備低聚物:a的細節(jié)可例如自de-a-2,361,041推斷。可能存在的未反應(yīng)的異氰酸基通過與醇反應(yīng)來猝滅。輻射敏感涂層可包含一類或多類低聚物a。輻射敏感涂層中低聚物a的量(或如果使用不同的低聚物a,則為總量)不受特定限制，然而，基于干層重量計算，低聚物a的存在量優(yōu)選為10-90%重量(特別優(yōu)選10-70%重量)。三異氰酸酯用于制備低聚物a的三異氰酸酯優(yōu)選選自式(i)、(ii)和(iii-1)-(iii-7)的三異氰酸酯。式(I)的三異氰酸酯具有縮二脲結(jié)構(gòu)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>其中X,、X2和X3獨立地選自脂族或環(huán)脂族Crd2間隔基、芳脂族CVd2間隔基和芳族C6-C)0間隔基，優(yōu)選為脂族和環(huán)脂族C4-C12間隔基。；特別優(yōu)選X'=X2=X3=1,6-亞己基。三異氰酸酯(I)的基本縮二脲結(jié)構(gòu)可通過使至少一種式0=C=N-X-N=C=0(其中X如X1、XS和X"斤定義)的二異氰酸酯與適當選擇量的水(通常3摩爾二異氰酸酯與1摩爾水)反應(yīng)來制備(還參見，例如DE-B-1,101,394和Houben-Weyl,她Aocfew余(rgawJctoC7e/w'e[methodsinorganicchemistry(有機化學(xué)方法)]，第4版(1963)，第14/2巻，第69頁及以后頁)。反應(yīng)優(yōu)選在無溶劑的情況下進行。式(n)的三異氰酸酯具有氰尿酸核<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>其中n各自獨立地為1-10的整數(shù)，優(yōu)選為2-8，且特別優(yōu)選為6;優(yōu)選式(II)中的所有變量n相同。式(II)的三異氰酸酯可根據(jù)通用方法來制備，特別是所有變量n都相同的式(II)的三異氰酸酯也可購得。三異氰酸酯(m)為式(m-i)-(m-7)的芳族或脂族三異氰酸酯<formula>formulaseeoriginaldocumentpage14</formula>(川-2)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage14</formula>(川-3)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage14</formula>(IH-4)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage15</formula>、0N'式(m-i)-(m-7)的三異氰酸酯可根據(jù)通用方法制備，但它們也可購得。根據(jù)一個優(yōu)選的實施方案，使用式(i)的三異氰酸酯，其中=x2=乂3=1,6-亞己基。具有游離OH基團的(曱基)丙烯酸類化合物三元或多元醇與丙烯酸或甲基丙烯酸的所有部分酯(它們?nèi)跃哂袃蓚€游離OH基團)可例如用作具有兩個OH基和至少一個(甲基)丙烯酸類基團的(甲基)丙烯酸類單體(i)。合適的實例包括-季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯-甘油單(甲基)丙烯酸酯-三羥甲基丙烷單(甲基)丙烯酸酯-三羥甲基乙烷單(甲基)丙烯酸酯-三羥甲基丁烷單(曱基)丙烯酸酯-山梨醇四(甲基)丙烯酸酯-雙酚A-二縮水甘油基醚和(甲基)丙烯酸的反應(yīng)產(chǎn)物。具有聚(環(huán)氧烷)鏈的二元或多元醇與(甲基)丙烯酸的部分酯(它們?nèi)跃哂幸粋€游離OH基團)可例如用作具有一個OH基和聚(環(huán)氧烷)鏈的(曱基)丙烯酸類化合物(ii)。所述聚(環(huán)氧烷)鏈優(yōu)選為氧化(C2-Cs亞烷基)鏈，其中亞烷基部分可具有直鏈或支鏈，特別優(yōu)選聚環(huán)氧乙烷和聚環(huán)氧丙烷鏈，優(yōu)選聚合度為至少3且優(yōu)選不超過20。合適的實例包括-聚(環(huán)氧乙烷)單(甲基)丙烯酸酯-聚(環(huán)氧丙烷)單(甲基)丙烯酸酯-其一端用(曱基)丙烯酸酯化的環(huán)氧丙烷和環(huán)氧乙烷無規(guī)共聚物或嵌段共聚物，-用(甲基)丙烯酸雙酯化的乙氧基化和/或丙l基化甘油。二元或多元醇與丙烯酸或甲基丙烯酸的所有部分酯(其仍具有一個游離OH基團)可例如用作無聚(環(huán)氧烷)鏈并具有至少一個(曱基)丙烯酸類基團和僅一個OH基的任選的(甲基)丙烯酸類單體(iii)。合適的實例包括-季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯-甘油二(甲基)丙烯酸酯-三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯-三羥甲基乙烷二(甲基)丙烯酸酯-三羥甲基丁烷二(甲基)丙烯酸酯-三羥甲基丁烷二(甲基)丙烯酸酯-山梨醇五(甲基)丙烯酸酯。任選還可使用用(甲基)丙烯酸單酯化的乙氧基化和/或丙氧基化甘油。出于成本原因，可考慮使用(曱基)丙烯酸酯的工業(yè)混合物作為組分(i);它的實例包括-甘油二(甲基)丙烯酸酯，包括最多達15%重量的甘油單(甲基)丙烯酸酯和此外最多達40%重量的甘油三(甲基)丙烯酸酯；-三羥曱基丙烷二(甲基)丙烯酸酯，包括最多達15%重量的三羥甲基丙烷單(甲基)丙烯酸酯和此外最多達40%重量的三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯；-季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯，包括最多達15%重量的季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯和此外最多達40%重量的季戊四醇四(曱基)丙烯酸酯。在上述曱基丙烯酸酯和丙烯酸酯中，在本發(fā)明中優(yōu)選使用甲基丙彿酸酯，因為已發(fā)現(xiàn)它們通常產(chǎn)生更穩(wěn)定且更具感光性的體系。對于制備低聚物來說，基于具有OH官能團的(甲基)丙烯酸類化合物的總量計算，使用2-20%摩爾(優(yōu)選5-15%摩爾)具有兩個OH基的(曱基)丙烯酸類單體(i)。基于具有OH官能團的(甲基)丙烯酸類化合物的總量計算，具有一個游離OH基團的(曱基)丙烯酸類化合物的量(即(甲基)丙烯酸類化合物(ii)的量或，如果存在任選的(甲基)丙烯酸類單體(iii)，則(ii)和(iii)的總量)優(yōu)選為80-98%摩爾(特別優(yōu)選為85-95%摩爾)。如果(甲i0丙烯酸類化合物(ii)和(曱基)丙烯酸類單體(iii)作為具有一個OH基的(甲基)丙烯酸組分而存在，則基于(ii)和(iii)的總量計算，(ii)的存在量優(yōu)選為至少10%摩爾，特別優(yōu)選為20-70%摩爾。如果存在具有3個或更多個OH基的(甲基)丙烯酸酯，則它應(yīng)占具有OH官能團的(甲基)丙烯酸酯的小于1%重量。吸>)文劑組分輻射敏感涂層還包含至少一種選自光引發(fā)劑和敏化劑/共引發(fā)劑體系的吸收劑組分。選擇吸收劑組分以使它能夠在稍后成像期間使用的輻射源發(fā)射的范圍內(nèi)顯著吸收；吸收劑優(yōu)選在此范圍內(nèi)表現(xiàn)出最大吸收。因此，如果輻射敏感元件例如將通過IR激光成像，則吸收劑應(yīng)主要吸收約750-1,200nm范圍內(nèi)的輻射，且優(yōu)選在此范圍內(nèi)表現(xiàn)出最大吸收。另一方面，如果成像將通過UV/VIS輻射進行，則吸收劑應(yīng)主要吸收約250-750nm范圍內(nèi)的輻射，且優(yōu)選在此范圍內(nèi)表現(xiàn)出最大吸收。合適的光引發(fā)劑和/或敏化劑為本領(lǐng)域技術(shù)人員所知，或它可通過簡單測試(例如記錄吸收光譜)根據(jù)在所要波長范圍內(nèi)是否出現(xiàn)顯著吸收而容易地確定。在本發(fā)明中，光引發(fā)劑為能夠在暴露于輻射時吸收輻射且能夠單獨(即，在不加入共引發(fā)劑的情況下)形成自由基的化合物。吸收UV或VIS輻射的合適光引發(fā)劑的實例包括具有1-3個CX3基(其中每個X獨立地選自氯或溴原子且優(yōu)選為氯原子)的三嗪衍生物、六芳基雙咪唑化合物、苯偶姻醚、千基縮酮、肟醚、肟酯、a-羥基苯乙酮或a-氨基苯乙酮、?；?、?；⒀趸?、?；⒘蚧铩⒔饘倜?、過氧化物等。合適的三嗪衍生物的實例包括-三嗪、2,4,6-三(三氯曱基)-3-三嗪、2-曱基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(苯乙烯基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基-萘(naphtho)-l-基)-4,6-雙-三氯甲基-s-三嗪和2-(4-乙氧基二萘-1-基)-4,6-雙(三氯曱基)-s-三嗪和2-[4-(2-乙氧基乙基)-萘-l-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪。合適肟醚和肟酯為例如衍生自苯偶姻的肟醚和肟酯。優(yōu)選的金屬茂為例如具有兩個5元環(huán)二烯基如環(huán)戊二烯基和一個或兩個具有至少一個鄰氟原子、4壬選還具有一個吡咯基的6元芳族基團的二茂鈦；最優(yōu)選的金屬茂為雙(環(huán)戊二烯基)-雙[2,6-二氟-3-(吡咯-1-基)-苯基]合鈦和二環(huán)戊二烯-雙-2,4,6-三氟苯基-合鈦或鋯。在本發(fā)明中，可使用單一光引發(fā)劑或兩種或多種光引發(fā)劑的混合物。光引發(fā)劑可單獨使用或與一種或多種共引發(fā)劑組合使用；加入共引發(fā)劑可增加光引發(fā)的有效性。一種或多種光引發(fā)劑的量不受特定限制；然而，如果存在光引發(fā)劑，則基于干層重量計算，它的量優(yōu)選為0.2-25%重量，特別優(yōu)選為0.5-15%重量。本發(fā)明中所提到的敏化劑為在暴露于輻射時可吸收輻射，但無法單獨(即，在不加入共引發(fā)劑的情況)形成自由基的化合物。具有光氧化性或光還原性或能夠?qū)⑺鼈兊募ぐl(fā)能轉(zhuǎn)移給受體分子的所有光吸收化合物均為適用于本發(fā)明的合適敏化劑。這類染料的實例包括花青染料、部花青染料、氧雜菁(oxonol)染料、二芳基甲烷染料、三芳基曱烷染料、沾噸染料、香豆素衍生物、香豆素酮(ketocoumarin)染料、吖咬染料、吩。秦染料、唾喔啉染料、pyrrylium染料或thapyrrylium染料、azaanulene染料(如酞菁和卟淋)、靛類染料、蒽醌染料、聚亞芳基、聚芳基多烯、2,5-二苯基異苯并呋喃、2，5-二芳基呋喃、2，5-二芳基噻吩、2,5-二芳基吡咯、2，5-二芳基環(huán)戊二烯、聚芳基亞苯基、聚芳基-2-吡唑啉、羰基化合物如芳族酮或苯醌，例如二苯甲酮衍生物、米貴酮、噻噸酮衍生物、蒽醌衍生物和芴酮衍生物。式(A)的香豆素敏化劑例如適于電磁波語的UV范圍其中R)、R16、R"和R"獨立地選自-H、卣原子、d-C2o烷基、-OH、_0-R4。-NR5R6，其中R"為C廣C2o烷基、Cs-do芳基或CVC3o芳烷基(優(yōu)選為d-C6烷基)且115和W獨立地選自氬原子和d-C20烷基，或R'與R，R"與R"或R"與R"—起形成具有選自N或O的雜原子的5或6元雜環(huán)，其在一個或兩個位置與式(I)所示的苯環(huán)相鄰，或R16或R17各自連同它的兩個相鄰取代基形成具有選自N或0的雜原子的5或6元雜環(huán)，其在一個或兩個位置與式(I)所示的苯環(huán)相鄰，其中各個形成的5或6元雜環(huán)可獨立地被一個或多個d-C6烷基取代，，限制條件為R1、R16、R^和R"中的至少一個不為氫和C廣C2o烷基，W為氫原子、d-C20烷基、Cs-Cu)芳基或C6-C30芳烷基且R3為氫原子或選自以下基團的取代基-COOH、-COOR7、-COR8、-CONR9R10、-CN、CVdo芳基、C6-C30芳烷基、任選與苯基稠合的5或6元雜環(huán)基團、基團-CH-CH-R"和0II-S=01R，'其中R為C廣C2o烷基，118為C廣C2o烷基或5或6元雜環(huán)基，R9和R^獨立地選自氫原子和C廣C2o烷基，R11為C廣Cu烷基或烯基、雜環(huán)非芳族環(huán)或任選具有選自0、S和N的雜原子的CrC2Q芳基，且1112為Cs-do芳基或5或6元雜環(huán)，任選為芳族環(huán)；或W與W連同它們所鍵合的碳原子一起形成5或6元環(huán)，任選為芳族環(huán)。它們更詳細地描述在例如WO2004/049068Al中。此外，式(B)的雙嚼唑衍生物和類似物適于UV范圍其中x為包含至少一個與雜環(huán)共輒的c-c雙鍵的間隔基，Y和Z獨立地表示任選^支取代的稠合芳族環(huán)，且V和W獨立地選自O(shè)、S和NR，其中R為烷基、芳基和芳烷基，它任選可被單取代或多取代，如<formula>formulaseeoriginaldocumentpage21</formula>中更詳細地描述，和式(C)的嗨唑化合物其中R1、112和113各自獨立地選自卣原子、任選被取代的烷基、任選被取代的芳基(它還可為稠合芳基)、任選被取代的芳烷基、基團-忖114115和基團-0116,其中R"和RS獨立地選自氫原子、烷基、芳基或芳烷基，其中W為任選被取代的烷基、芳基或芳烷基或氫原子，且k、m和n獨立地為0或1-5的整數(shù)，如<formula>formulaseeoriginaldocumentpage21</formula>中詳細描迷。如<formula>formulaseeoriginaldocumentpage21</formula>中所述的式(D)的1,4-二氫吡啶化合物為另一類適于UV范圍的敏化劑的實例Ri選自氫原子、-C(O)OR7、任選被取代的烷基、任選4支取代的其中芳基和任選被取代的芳烷基，112和113獨立地選自任選被取代的烷基、任選被取代的芳基、CN和氫原子，R4和R5獨立地選自-C(O)OR7、-C(O)R7、-C(0)NR8R9和CN，或尺2與W—起形成任選一史取代的苯環(huán)或5-7元碳環(huán)或雜環(huán)，其中單元0II-c-處于碳環(huán)或雜環(huán)中鄰近二氫吡啶環(huán)5位處且其中碳環(huán)或雜環(huán)任選包含其他取代基，或R2與R4以及R3與R5形成任選被取代的苯環(huán)或5-7元碳環(huán)或雜環(huán)，其中單元OII-c-處于碳環(huán)或雜環(huán)中鄰近二氫吡啶環(huán)3和5位處且其中碳環(huán)或雜環(huán)任選包含其他取代基，或R2/R4對和R3/R5對中之一形成5-7元碳環(huán)或雜環(huán)，其中單元0II-c一處于碳環(huán)或雜環(huán)中鄰近二氫吡啶環(huán)5或3位處且其中;友環(huán)或雜環(huán)任選包含其他取代基，且另一對形成任選被取代的苯環(huán)，或112與R'或RS與W形成5-7元雜環(huán)，它可任選包含一個或多個取代基，且除了它與1,4-二氫吡啶環(huán)共有的氮原子之外，它任選還包含其4也氮原子、—11113-基團、-S-或-O-，R"選自氫原子、烷基、芳基和芳烷基，R6選自任選被卣原子或-C(O)基團取代的烷基、任選被取代的芳基、任選^皮取代的芳烷基、任選被取代的雜環(huán)基團和基團Y為亞烷基或亞芳基，W為氬原子、芳基、芳烷基或烷基，其中所述烷基和所述芳烷基的烷基單元任選包含一個或多個C-C雙鍵和/或C-C三鍵，且118和119獨立地選自氫原子、任選被取代的烷基、任選被取代的芳基和任選被取代的芳烷基。式(E)的敏化劑其中和各個@獨立地表示芳族或雜芳族單元，R和RS各自獨立地選自鹵原子、烷基、芳基或芳烷基、基團-NRVS或基團-OR6，R4、115和116獨立地選自烷基、芳基和芳烷基，n為至少2的整數(shù)且k和m獨立地表示0或1-5的整數(shù)，以及式(F)的低聚物或聚合物<formula>formulaseeoriginaldocumentpage24</formula>其中為芳族或雜芳族單元或兩者的組合，以致共軛的71體系處于結(jié)構(gòu)(I)中的兩個基團Z之間，Z各自獨立地表示連接間隔基AS和共軛體系的雜原子，W和I^各自獨立地選自卣原子、烷基、芳基、烷基芳基或芳烷基、基團-M^R4和基團-OR5，R3、114和115各自獨立地選自烷基、芳基、烷基芳基和芳烷基，a和b獨立地表示0或1-4的整數(shù)，n的值>1且AS為脂族間隔基，也適于UV敏感元件。如果輻射敏感元件將暴露于VIS激光二極管，則例如描述于WO03/069411Al中的氰基吡啶酮衫f生物適用作敏化劑。對于IR敏感元件來說，敏化劑例如選自碳黑、酞花青顏料/染料禾口聚p塞口分、squarylium、p塞p坐爭翁(thiazolium)、克S同酉交酉旨(croconate)、部花青、花青、中氮茚、pyrylilum或metaldithiolin類顏料/染料，特別優(yōu)選選自花青類。US-A-6,326,122的表1中提到的化合物例如為合適的IR吸收劑。其他實例可見于US-A-4,327,169、US-A-4,756,993、US-A-5，156,938、WO00/29214、US-B-6,410，207和EP-A-1176007中。根據(jù)一個實施方案中，使用一種式(IV)花青染料<formula>formulaseeoriginaldocumentpage25</formula>其中Z'各自獨立地表示S、O、NRa或C(烷基)2;R'各自獨立地表示烷基、烷基磺酸酯基或烷基銨基；R"表示卣原子、SRa、ORa、S02R^NRa2;R'"各自獨立i也表示氬原子、烷基、-COORa、-ORa、-SRa、-NRa2或卣原子；R"'還可為苯并稠環(huán)；A—表示陰離子；Rb和Re兩者皆表示氫原予，或連同它們所鍵合的碳原子一起形成5或6元碳環(huán)；Ra表示氫原子、烷基或芳基；b各自獨立地為0、1、2或3。如果R'表示烷基磺酸酯基，則可形成內(nèi)鹽，因此無需陰離子A-。如果R'表示烷基銨基，則需要第二反荷離子，它與A'相同或不同。ZM尤選為C(烷基)2。R'優(yōu)選為具有1-4個碳原子的烷基。R"優(yōu)選為囟原子或SRa。R"'優(yōu)選為氫原子。Ra優(yōu)選為任選被取代的苯基或任選被取代的雜芳族基團(例如，在SRa的情況下，硫原子可成為芳族環(huán)的一部分)。Rb和Re連同它們所鍵合的碳原子一起優(yōu)選形成5或6元碳環(huán)。反荷離子A-優(yōu)選為氯離子、三氟甲磺酸根陰離子或曱苯磺酸根陰離子。在式(II)的IR染料之中，特別優(yōu)選具有對稱結(jié)構(gòu)的染料。特別優(yōu)選的染料的實例包括氯化2-[2-[2-苯基磺?；?3-[2-(l,3-二氫-l,3,3-三甲基-2H-吲哚-2畫叉基)-乙叉基]-l-環(huán)己烯-1-基]-乙烯基]-l,3,3-三曱基-3H-吲哚鎖、氯化2-[2-[2-噻吩基-3-[2-(l，3-二氫-l,3,3-三曱基-2H-吲哚-2-叉基)-乙叉基]-l-環(huán)己烯-1-基]-乙烯基]-l,3,3-三甲基-3H-吲哚镚、甲苯磺酸2-[2-[2-噻口分基-3-[2-(1,3-二氫-1，3,3-三甲基-211-吲哚-2-叉基)-乙叉基]-l-環(huán)戊烯-l-基]-乙烯基]-l,3,3-三曱基-3H-吲哚鏘、甲苯磺酸2-[2-[2-氯-3-[2-(1,3-二氫-1,3，3-三甲基-2H-苯并[e]-吲哚-2-叉基)-乙叉基]-1-環(huán)己烯-1-基]-乙烯基]-1,3,3-三甲基-1^苯并[6]-口引哚鏡和甲苯磺酸2-[2-[2-氯-3-[2-乙基-(3^苯并噻唑-2-叉基)-乙叉基]-l-環(huán)己烯-l-基]-乙烯基]-3-乙基-苯并噻唑鎖。以下化合物也為適于本發(fā)明的IR吸收劑<formula>formulaseeoriginaldocumentpage27</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage28</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage29</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage30</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage31</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage32</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage33</formula>在本發(fā)明中，可使用一種壽丈化劑或兩種或多種敏化劑的混合物。敏化劑與一種或多種共引發(fā)劑組合使用。另外，可使用光《I發(fā)劑；然而，這并不優(yōu)選。一種或多種敏化劑的量不受特定限制；然而，如果存在敏化劑，則基于干層重量計算，它的量優(yōu)選為0.2-15%重量，特別優(yōu)選為0.5-10%重量。如果光引發(fā)劑和敏化劑都存在于涂層中，則基于干層重量計算，它們的總量優(yōu)選為0.5-30%重量，特別優(yōu)選為1-15%重量。本發(fā)明中提到的共引發(fā)劑為在照射時基本上不能吸收但與本發(fā)明中所用的輻射吸收敏化劑一起形成自由基的化合物。共引發(fā)劑例如選自鏡類化合物，例如其中鏡陽離子選自碘鎖(如三芳基碘鏡鹽)、锍(如三芳基锍鹽)、轔、氧亞砜錄鹽(oxysulfoxonium)、氧锍(oxysulfonium)、氧4b4危(sulfoxonium)、4要、重氮翁t、4西、f申禾口N-取代的N-雜環(huán)輸陽離子的化合物，其中N被任選被取代的烷基、烯基、炔基或芳基取代；N-芳基甘氨酸及其衍生物(例如N-苯基甘氨酸)；芳族磺酰卣；三鹵甲基芳基砜；酰亞胺如N-苯曱?；?氧基鄰苯酰亞胺；二氮雜磺酸鹽；9,10-二氫化蒽衍生物；N-芳基、S-芳基或O-芳基多元羧酸，它具有至少兩個羧基，其中至少一個羧基與芳基單元的氮、氧或硫原子鍵合(例如苯胺二乙酸及其衍生物及US-A-5,629,354中所述的其他共引發(fā)劑)；六芳基聯(lián)咪唑；硫醇化合物(例如巰基苯并噻唑、巰基苯并。卑唑和巰基三唑)；具有1-3個CX3基團的1，3，5-三嗪衍生物(其中每個X獨立地選自氯或溴原子，優(yōu)選為氯原子)，如2-苯基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2,4,6-三(三氯曱基)-s-三嗪、2-甲基-4，6-雙(三氯甲基)-s-三溱、2-(苯乙烯基-4,6，雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基-萘-1-基)-4，6-雙-三氯曱基-s-三嗪、2-(4-乙氧基-萘-1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪和2-[4-(2-乙氧基乙基)-萘-l-基]-4,6-雙(三氯曱基)-s-三溱；肟醚和肟酯，如衍生自苯偶姻的肟醚和肟酯；金屬茂(優(yōu)選二茂鈦，特別優(yōu)選具有兩個5元環(huán)二烯基(如環(huán)戊二烯基)和一個或兩個具有至少一個鄰氟原子且任選還有吡咯基的6元芳基的二茂鈦)，如雙(環(huán)戊二烯基)-雙-[2,6-二氟-3-(吡咯-1-基)-苯基]合鈦和二環(huán)戊二烯-雙-2,4,6-三氟苯基合鈦或鋯)；?；⒀趸?、二?；⒀趸锖瓦^氧化物(例如EP-1035435Al中列為有機過氧化物型活化劑的那些物質(zhì))、a-羥基苯乙酮或a-氨基苯乙酮、酰基膦、酰基膦硫化物、羰基化合物如芳族酮或苯醌，例如二苯甲酮衍生物、米貴酮、噻噸酮衍生物、蒽醌衍生物和芴酮衍生物。合適2,2',4,4',5,5'-六芳基聯(lián)咪唑(下文中簡稱為六芳基聯(lián)咪唑)由下式(V)表示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage34</formula>其中V-Ae為被取代或未^支取代的Cs-C2o芳基，它彼此相同或不同，在它們的環(huán)中，一個或多個^灰原子可任選被選自O(shè)、N和S的雜原子取代。對于所述芳基的合適取代基為不抑制光誘導(dǎo)分解為三芳基咪唑自由基的取代基，例如卣原子(氟、氯、溴、碘)、-CN、d-Ce烷基(任選具有一個或多個選自囟原子、-CN和-OH的取代基)、CrC6烷氧基、C廣C6烷硫基、(C廣C6烷基)磺酰基。優(yōu)選的芳基為被取代和未被取代的苯基、聯(lián)苯基、萘基、吡啶基、呋喃基和噻吩基。特別優(yōu)選被取代和未被取代的苯基，特別優(yōu)選被鹵素取代的苯基。實例包括2,2'-雙(溴苯基)-4,4'，5，5'-四苯基聯(lián)咪唑、2,2'-雙(對羧基苯基)-4,4',5,5"-四苯基聯(lián)咪唑、2，2'-雙(鄰氯苯基)-4，4',5,5'-四(對曱氧基苯基)聯(lián)咪唑、2,2，-雙(對氯苯基)-4,4',5,5'-四(對甲氧基苯基)聯(lián)咪唑、2,2'-雙(對氰基苯基)-4,4',5,5'-四(對甲氧基苯基)聯(lián)咪唑、2,2'-雙(2,4-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑、2,2'-雙(2,4-二曱氧基苯基)-4,4'，5,5'-四苯基聯(lián)咪唑、2,2'-雙(鄰乙氧基苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑、2,2'-雙(間氟苯基)-4,4',5，5'-四苯基聯(lián)咪唑、2,2，-雙(鄰氟苯基)-4,4',5，5'-四苯基聯(lián)咪唑、2,2'-雙(對氟苯基)-4,4'，5,5'-四苯基聯(lián)咪唑、2,2'-雙(鄰己氧基苯基)-4，4'，5,5'-四苯基聯(lián)咪唑、2,2'-雙(鄰己基苯基)-4,4'，5,5'-四(對甲氧基苯基)聯(lián)咪唑、2,2'-雙(3，4-亞甲二氧基苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑、2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四(間曱氧基苯基)聯(lián)咪唑、2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5，5'-四[間(P-苯氧基-乙氧基苯基)聯(lián)咪唑、2,2'-雙(2,6-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)味唑、2，2'-雙(鄰甲氧基苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑、2,2'-雙(對甲氧基苯基)-4,4'-雙(鄰甲氧基苯基)-5,5'-二苯基聯(lián)咪2，2'-雙(鄰硝基苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑、2,2'-雙(對苯基磺?；交?-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑、2，2'-雙(對氨磺?；交?-4,4',5，5'-四苯基聯(lián)咪唑、2,2'-雙(2,4,5-三甲基苯基)-4,4',5，5'-^苯基聯(lián)咪唑、2,2'-二-4-聯(lián)苯基-4,4',5，5'-四苯基聯(lián)咪唑、2，2'-二-1-萘基-4,4',5,5'-四(對甲氧基苯基)聯(lián)咪唑、2,2'-二-9-菲基-4,4',5,5'-四(對甲氧基苯基)聯(lián)咪唑、2，2'-二苯基-4,4',5,5'-四-4-聯(lián)苯基聯(lián)詠唑、2,2'-二苯基-4,4',5,5'-四-2,4-二曱苯基聯(lián)咪唑、2,2'-二-3-吡卩定基-4,4'，5，5'-四苯基聯(lián)咪唑、2,2'-二-3-噻吩基-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑、2,2'-二-鄰甲苯基-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑、2,2'-二-對甲苯基-4,4'-二-鄰甲苯基-5,5'-二苯基聯(lián)咪唑、2，2'-二-2,4-二甲苯基-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑、2,2',4,4',5,5'-六(對苯硫基苯基)聯(lián)咪唑、2,2'，4,4',5,5'-六-1-萘基聯(lián)咪唑、2，2',4,4',5,5'-六苯基聯(lián)咪唑、2,2'-雙(2-硝基-5-曱氧基苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯(lián)咪唑、2,2'-雙(鄰硝基苯基)-4,4',5,5'-四(間曱氧基苯基)聯(lián)咪唑和2,2'-雙(2-氯-5-磺基苯基)-4,4',5，5'-四苯基聯(lián)咪唑，且特別優(yōu)選2，2'-雙(鄰氯苯基)-4，4'，5，5'-四苯基聯(lián)咪唑、2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四(對氟苯基)聯(lián)咪唑、2,2'-雙(鄰溴苯基)-4,4',5,5'-四(對碘苯基)聯(lián)咪唑、2，2'-雙(鄰氯苯基)-4，4',5,5'-四(對氯萘基)聯(lián)咪唑、2,2'-雙(鄰氯苯基)-4，4',5,5'-四(對氯苯基)聯(lián)咪唑、2,2'-雙(鄰溴苯基)-4,4',5,5'-四(對氯-對曱氧基苯基)聯(lián)咪唑、2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5，5'-四(鄰,對-二氯苯基)聯(lián)咪唑、2，2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四(鄰，對-二溴苯基)聯(lián)咪唑、2,2'-雙(鄰溴苯基)-4,4',5,5'-四(鄰,對-二氯苯基)聯(lián)咪唑或2,2'-雙(鄰,對-二氯苯基)-4,4',5,5'-四(鄰，對-二氯苯基)聯(lián)咪唑；但本發(fā)明不限于這些化合物。合適的六芳基聯(lián)咪唑可根據(jù)已知方法制備(參見例如US-A-3,445，232)。優(yōu)選方法為在堿溶液中使相應(yīng)三芳基咪唑與鐵(III)-六氰基高鐵酸鹽(II)氧化二聚。使用六芳基聯(lián)咪唑異構(gòu)體(或異構(gòu)體的混合物)(例如1,2'-、l,l'-、1,4'、2,2'-、2,4'-和4,4'-異構(gòu)體)對本發(fā)明的目的沒有影響,只要它具有光可離解性且在所述工藝中提供三芳基咪唑自由基即可。適用作為共引發(fā)劑的三卣甲基化合物能夠形成自由基。優(yōu)選三鹵甲基-取代的三口秦和三氯甲基芳基砜。可提及以下實例(本發(fā)明不限于這些化合物)2-(4-甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪，2-(4-氯苯基)-4,6-雙-(三氯甲基)-s-三嗪，2-苯基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪，2,4,6-三(三氯甲基)-s-三嗪，2,4，6-三(三溴甲基)-s-三嗪和三溴甲基苯基砜。當暴露于它們的吸收帶中時，許多共引發(fā)劑也可用作光引發(fā)劑。因此，可得到例如在寬光語范圍內(nèi)敏感的感光層，因為光引發(fā)劑或敏化劑覆蓋長波長光語范圍(IR和/或可見區(qū))且共引發(fā)劑覆蓋短波長光譜范圍(例如UV范圍)。這種作用可在消費者想要用不同輻射源照射相同材料時有利。在這種情況下，共引發(fā)劑在上文對于IR或可見光范圍給出的定義的意義上充當真實的共引發(fā)劑，而對于UV范圍它充當光引發(fā)劑。在本發(fā)明中，可使用一種共引發(fā)劑或共引發(fā)劑的混合物。一種或多種共引發(fā)劑的量不受特別限制，然而，基于干層重量計算，它的量優(yōu)選為0.2-25%重量，特別優(yōu)選為0.5-15%重量。IR敏感涂層的合適敏化劑和共引發(fā)劑的其他實例還在WO2004/041544、WO2000/48836和DE102004003143中提及。任選的組分除可自由基聚合的低聚物A之外，輻射敏感涂層還可包含其他C-C不飽和單體和/或包含至少一個C-C雙鍵或三鍵的低聚物和/或聚合物。這類化合物為本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知且可在不受任何特定限制的情況下用于本發(fā)明。優(yōu)選單體、低聚物或預(yù)聚物形式的具有一個或多個不飽和基團的丙烯酸和甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸和異巴豆酸、順丁烯二酸和反丁烯二酸的酯。它們可以固體或液體形式存在，其中優(yōu)選固體或高粘性形式。適合用作單體的化合物包括例如三羥甲基丙烷三丙烯酸酯和三曱基丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯和六曱基丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯和四甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙烷四丙烯酸酯和四甲基丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯和二曱基丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯或四乙二醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯。合適的低聚物和/或預(yù)聚物為例如聚氨酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、環(huán)氧化物丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯或不飽和聚酯樹脂。除單體和/或低聚物之外，還可使用在主鏈或側(cè)鏈上包含可自由基聚合C-C雙鍵的聚合物。它的實例包括順丁烯二酸酐-烯烴-共聚物和(甲基)-丙烯酸羥烷酯的反應(yīng)產(chǎn)物；包含烯丙醇酯基的聚酯；聚合多元醇和異氰酸基(甲基)丙烯酸酯的反應(yīng)產(chǎn)物；不飽和聚酯；(曱基)丙烯酸酯封端的聚苯乙烯、聚(甲基)丙烯酸酯、聚(甲基)丙烯酸、聚(曱基)丙烯酰胺和聚醚。在這一點上，詞頭"(甲基)"表明可使用丙烯酸的衍生物和曱基丙烯酸的衍生物。其他合適C-C不飽和可自由基聚合化合物例如描迷在EP-A-1176007中。根據(jù)一個實施方案，輻射l文感涂層包含三羥基化合物的三(甲基)丙烯酸酯，如甘油三(曱基)丙蜂酸酯；如果存在這類三(曱基)丙烯酸酯，則基于所用的所有(甲基)丙烯酸酯的總量計算，它的存在量優(yōu)選為2-20%重量?；谳椛涿舾型繉拥母蓪又亓坑嬎?，不同于低聚物A的可自由基聚合單體、低聚物或聚合物的存在量優(yōu)選為0-40%重量；當使用單體/低聚物時，它們的存在量優(yōu)選為0-20%重量。本發(fā)明的輻射敏感涂層任選還可包含連接料或連接料的混合物。連接料優(yōu)選選自聚乙烯醇縮醛、丙烯酸類聚合物和聚氨酯。連接料優(yōu)選含有酸基，特別優(yōu)選羧基。最優(yōu)選丙烯酸類聚合物。具有酸基的連接料的酸值優(yōu)選為10-250mgKOH/g聚合物。連接料在主鏈或側(cè)鏈中可任選包含不飽和基團。這類不飽和鍵能夠進行自由基光聚合反應(yīng)或另外的光反應(yīng)，如2+2-光環(huán)化加成?；诟蓪又亓坑嬎?，連接^f的存在量優(yōu)選為0-90%重量，特別優(yōu)選為10-60%重量。輻射敏感涂層任選還可包含少量熱聚合抑制劑以避免在感光組合物的生產(chǎn)或儲存期間烯屬不飽和單體的不合需要的熱聚合。熱聚合抑制劑的合適實例包括例如氫醌、對甲氧基苯酚、二叔丁基對甲酚、pyrrogallol、叔丁基兒茶紛、苯醌、4,4'-硫聯(lián)(thio)-雙(3-曱基-6-叔丁基苯酚)、2，2'-亞甲基-雙(4-曱基-6-叔丁基苯酚)和N-亞硝基苯基羥基胺鹽?；诟蓪又亓坑嬎?，本發(fā)明感光組合物中聚合抑制劑的量優(yōu)選為0-5%重量，特別優(yōu)選為0.01-2%重量。這類熱聚合抑制劑經(jīng)常通過市售單體或低聚物引入輻射敏感涂層中，因此不再明確提及。此外，本發(fā)明的輻射敏感涂層可包含用于使所述層著色的染料或顏料。著色劑的實例包括例如酞花青顏料、偶氮顏料、碳黑和二氧化鈦、乙基紫、結(jié)晶紫、偶氮染并+、蒽醌染料和花青染料?；诟蓪又亓坑嬎?，著色劑的量優(yōu)選為0-20%重量，特別優(yōu)選為0.5-10%重量。為了改進硬化層的物理性質(zhì)，本發(fā)明的輻射敏感涂層還可包含其他添加劑，如增塑劑或無機填料。合適增塑劑包括例如鄰苯二甲酸二丁酯、鄰苯二曱酸二辛酯、鄰苯二甲酸雙十二烷酯、己二酸二辛酯、癸二酸二丁酯、三乙?；视秃土姿崛追吁?。增塑劑的量不受特別限制，然而，基于干層重量計算，它的量優(yōu)選為0-10%重量，特別優(yōu)選為0.25-5%重量。輻射敏感涂層還可包含已知的鏈轉(zhuǎn)移劑，如巰基化合物?；诟蓪又亓坑嬎?，它們的使用量優(yōu)選為0-15%重量，特別優(yōu)選為0.5-5%重量。此外，輻射敏感涂層可包含隱色染料(leucodye)，如隱色結(jié)晶紫和隱色孔雀綠。基于千層重量計算，它們的存在量優(yōu)選為0-10%重量，特別優(yōu)選為0.5-5%重量。另外，輻射敏感凃?qū)涌砂砻婊钚詣?。合適的表面活性劑包括含硅氧烷的聚合物、含氟聚合物和具有環(huán)氧乙烷和/或環(huán)氧丙烷基團的聚合物。基于干層重量計算，它們的存在量優(yōu)選為0-10%重量，特別優(yōu)選為0.2-5%重量。輻射敏感涂層的其他任選組分有無機填料，如Al203和Si02?；谇又亓坑嬎?，它們的存在量優(yōu)選為0-20%重量，特別優(yōu)選為0.1-5%重量。輻射敏感元件根據(jù)本發(fā)明的輻射敏感元件可例如為印版前體(特別為平版印刷印版前體)、集成電路板或光掩^f莫。底材在印版前體(printingformprecursor)的生產(chǎn)中，尺寸穩(wěn)定的板或箔片形材料優(yōu)選用作底材。優(yōu)選4吏用尺寸穩(wěn)定的板或箔片形材料，它已被用作印刷品的底材。這類底材的實例包括紙張；涂覆有塑料材料(如聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯)的紙張；金屬板或箔片，如鋁(包括鋁合金)、鋅和銅板；例如由二乙酸纖維素、三乙酸纖維素、丙酸纖維素、乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、石肖酸纖維素、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯和聚乙酸乙烯酯制成的塑料薄膜；和由紙張或塑料薄膜和以上提及的金屬之一制成的層壓材料(如鋁和聚酯或聚碳酸酯的層壓板)或已通過氣相沉積金屬化的紙張/塑料薄膜。在這些底村之中，特別優(yōu)選鋁板或箔片，因為它表現(xiàn)出顯著程度的尺寸穩(wěn)定性、廉價并且還表現(xiàn)出對涂層的優(yōu)良粘著性。此外，可使用復(fù)合薄膜，其中鋁箔已層壓到聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜上。優(yōu)選使金屬底材(特別為鋁底材)經(jīng)受至少一種選自糙化(例如以千燥態(tài)刷涂或刷涂磨料懸浮體或電化學(xué)糙化，例如通過鹽酸電解質(zhì)進行)、陽極化和親水化的處理。為了改進已糙化且任選在石克酸或磷酸中陽極化的金屬底材表面的親水性質(zhì)，可用硅酸鈉、氟化鈣鋯、聚乙烯基膦酸或^#酸的水溶液對金屬底材進行后處理。在本發(fā)明的范圍內(nèi)，術(shù)語"底材"還包含任選經(jīng)預(yù)處理而例如在其表面上表現(xiàn)出親水層的底材。以上底材預(yù)處理的細節(jié)為本領(lǐng)域技術(shù)人員所知。制備對于制備輻射敏感元件來說，將本發(fā)明的輻射敏感組合物通過常見涂覆方法(例如旋涂、噴涂、浸涂、通過刮片涂覆)施用到底材表面上。還可施用輻射敏感組合物到底材的兩側(cè)；然而，對于本發(fā)明的元件來說，優(yōu)選僅將輻射敏感涂^l"施用到底材一側(cè)。通常，輻射敏感組合物是由有機溶劑或溶劑混合物施用。合適的溶劑包括低級醇(例如曱醇、乙醇、丙醇和丁醇)、二醇醚衍生物(例如乙二醇單曱醚、乙二醇二曱醚、丙二醇單甲醚、乙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單曱醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、乙二醇單異丙醚乙酸酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、二乙二醇單曱醚、二乙二醇單乙醚)、酮(例如二丙酮醇、乙酰基丙酮、丙酮、甲基乙基酮、環(huán)己酮、甲基異丁基酮)、酯(例如乳酸甲酯、乳酸乙酯、乙酸乙酯、乙酸3-甲氧基丙酯和乙酸丁酯)、芳族化合物(例如曱苯和二曱苯)、環(huán)己烷、3-曱氧基-2-丙醇、l-曱氧基-2-丙醇、曱氧基曱氧基乙醇、，丁內(nèi)酯和偶極非質(zhì)子溶劑(例如THF、二曱亞砜、二甲基甲酰胺和N-甲基吡咯烷酮)及其混合物。待施用的輻射敏感混合物的固含量取決于所用的涂覆方法且優(yōu)選為1-50%重量。輻射敏感層的干層重量優(yōu)選為0.5-4g/m2，更優(yōu)選為0.8-3g/m2。任選的覆蓋層將水溶性不透氧覆蓋層另外施用到輻射^:感層上可能是有利的；覆蓋層可大大降低或甚至完全防止氧對輻射敏感層的破壞作用。它還保護輻射敏感層不受機械損傷。適于這類覆蓋層的聚合物尤其包括聚乙烯醇、聚乙烯醇/聚乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙烯基吡咯烷酮/聚乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯基曱基醚、順丁烯二酸酐與如曱基乙烯基醚的共聚單體的開環(huán)共聚物、聚丙烯酸、纖維素醚和明膠；優(yōu)選聚乙烯醇。覆蓋層的層重例如可為0.1-6g/m2,優(yōu)選為0.5-4g/m2。然而，即使沒有覆蓋層，根據(jù)本發(fā)明的印版前體也表現(xiàn)出優(yōu)良性質(zhì)。覆蓋層還可包含消光劑(即粒徑為2-20>im的有機或無機顆粒)，它便于接觸暴露期間薄膜的平面布局。為了改進覆蓋層與輻射敏感層的粘著，覆蓋層可包含增粘劑，如聚(乙烯基咪唑)。關(guān)于合適覆蓋層的更多細節(jié)可自WO99/06890推斷。成像如果敏化劑吸收UV/VIS輻射，則因此制成的輻射敏感元件以本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的方式用波長250-750nm的UV/VIS輻射按圖像暴露。為此目的，可使用常用燈，如碳弧燈、汞燈、氙氣燈和金屬鹵素?zé)?；或激光器或激光二極管。發(fā)射約405nm范圍(例如405士10nm)的UV輻射的UV激光二極管、在可見區(qū)(488nm或514nm)發(fā)射的氬離子激光器和在約532nm發(fā)射的倍頻fd:Nd:YAG激光器作為輻射源備受關(guān)注。如果敏化劑吸收IR輻射(即顯著吸收波長范圍為大于750-1,200nm的輻射)且優(yōu)選在它此范圍的吸收光譜中表現(xiàn)出最大吸收，則可用IR輻射源進行按圖像暴露。合適的輻射源例如為在650-l,300nm范圍內(nèi)、優(yōu)選在750-1,120nm范圍內(nèi)發(fā)射的半導(dǎo)體激光器或激光二極管，例如Nd:YAG激光器(l,064nm);在790-990nm之間發(fā)射的激光二極管；和Ti:藍寶石激光器。激光照射可通過計算機進行數(shù)字化控制，即，它可開啟或關(guān)閉，因此可通過在計算機內(nèi)儲存數(shù)字化信息進行印版的按圖像暴露；因此，可得到所謂的計算機直接制版(ctp)印版?？墒褂帽绢I(lǐng)域技術(shù)人員已知的裝有IR激光器的任何圖像輸出機。在顯影期間，可使暴露區(qū)域保留在底材上，而除去非暴露區(qū)域。非暴露區(qū)域用顯影劑的堿性水溶液移除或在印刷機上用印刷油墨和/或潤版溶液移除。本領(lǐng)域」汰術(shù)人員可通過進行一些簡單的測試容易地確定使給定印版前體(即輻射^:感涂層的某種組合物)顯影的最佳途徑。為此目的，可使用可購得的顯影劑和顯影劑混合物，它們的pH值通常為8-14，優(yōu)選為10-14。此外通過使印刷層經(jīng)受熱處理(稱為"烘烤")和/或整體暴露(例如暴露于紫外光)有利地增加印刷層的機械強度。為此目的，在處理之前，將已成像印版用保護非圖像區(qū)域以使熱處理不引起這些區(qū)域接受油墨的溶液處理。適于此目的的溶液例如描述于US-A-4，355，096中。烘烤通常發(fā)生在150-250。C的溫度下。然而，即使沒有經(jīng)受熱處理/整體暴露，由根據(jù)本發(fā)明的印版前體制備的印版也表現(xiàn)出優(yōu)良的性質(zhì)。當進行烘烤和整體暴露時，這兩個處理步驟可同時或相繼進行。根據(jù)本發(fā)明的平版印刷印版前體的特征在于高度的光敏感性以及良好的儲存穩(wěn)定性；顯影后的印版表現(xiàn)出出優(yōu)良的耐磨性，這可印制大量副本。此外，避免在顯影期間在顯影劑槽中形成殘渣。在本發(fā)明的范圍內(nèi)，術(shù)語"輻射敏感元件"還包含底材的兩側(cè)都包括輻射敏感涂層(和任選的不透氧覆蓋層)的元件。然而，優(yōu)選在一側(cè)有涂層。將在以下實例中更詳細地i兌明本發(fā)明。實施例下文中使用的縮寫解釋如下Desmodur100式(I)的三官能異氰酸酯，其中X！=X2=X3=1,6-亞己基，自拜耳公司(Bayer)購4尋，醇HMDI二異氰酸l，6-亞己基酯GMMA甘油單甲基丙烯酸酯GDMA甘油-l,3-二甲基丙烯酸酯HEMA曱基丙烯酸(2-羥基乙酯)PPGMA聚丙二醇甲基丙烯酸酯PEGMA聚乙二醇曱基丙烯酸酯HEPi2-(2-羥乙基)-哌啶HEA丙烯酸(2-羥基乙酯)PETA季戊四醇三丙烯酸酯DEMA二乙二醇曱基丙烯酸酯PCI199得自Polygon公司的乙氧基化/丙氧基化C10-CRew叩o媳NLS28十二烷基硫酸鈉Texapon842辛基硫酸鈉NekalPaste甲基萘磧酸鈉DowanolPM丙二醇單甲醚低聚物1-6和比較低聚物1-12的制備在4(TC下將相應(yīng)的異氰酸酯、二月桂酸二丁錫催化劑和穩(wěn)定劑2,6-二-叔丁基-4-甲基苯酚溶解于甲基乙基酮；選擇甲基乙基酮的量以使得非揮發(fā)性組分的最終濃度為約30%重量。隨后，加入異氰酸酯的反應(yīng)搭配物，以使溫度不超出42°C。攪拌2小時后，使溫度增加到6CTC且另外保持2小時。通過紅外光譜監(jiān)測反應(yīng)；最后仍存在的異氰酸酯用合適量的曱醇猝滅。隨后用GPC證實低聚物ml-m6和比較低聚物cml-cm12的形成。原料化合物、它們的量、反應(yīng)混合物的固含量以及通過GPC測定的所得產(chǎn)物的分子量見表1。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage45</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage46</column></row><table>(1)括號中的數(shù)字表示摩爾比。實施例1-10和比較實施例1-21用聚乙烯基膦酸(PVPA)水溶液對電化學(xué)糙化并陽極化的鋁箔進行處理。將如此預(yù)處理的底材用如經(jīng)過濾的表2或3所示溶液涂覆，隨后在90。C下干燥4分鐘。在所有情況下，感光聚合物層的干層重量為約1.7g/m2。表2(對405nm輻射敏感的組合物)36ml丙二醇單曱醚(DowanolPM)24ml曱醇29ml甲基乙基酮6.48g曱基丙烯酸曱酯與曱基丙烯酸的共聚物，溶于丙二醇單曱醚中(固含量27.9%重量)，酸值85U2g丙二醇單甲醚分散體，包舍7.25。/。重量銅酞菁和7.25%重量聚乙烯醇縮乙醛連接料，所述連接料包含39.9%摩爾乙婦醇、1.2%摩爾乙酸乙烯酯、15.4%摩爾來源于乙酸的縮醛基、36.1%摩爾來源于丁醛的縮醛基和7.4%摩爾來源于4-甲?；考姿岬目s醛基(于DowanolPM中的27%溶液)O.OSgKayamerPM-2(1摩爾膦酸與1.5摩爾曱基丙烯酸幾乙酯的酯)10.98g低聚物(見表1)0.6g乙M化雙酚A二曱基丙烯酸酯U2g2_笨基斗(2-氯苯基)-5-(4-二乙基城苯基)-嗨唑0.273g2，2-雙(2-氯苯基)-4'5，4',5'-四笨基-2'H-[l,2']聯(lián)咪唑0.497g琉基-3-三唑表3(對810-830nm輻射敏感的組合物)4.26g連接料l:通過使470重量份苯乙烯、336重量份曱基丙烯酸甲酯和193重量份甲基丙烯酸聚合制備的三元共聚物，于丙二醇單曱醚中的30%溶液1.26g連接料2:Ioncryl(得自SCJohnson&SonInc.,USA的丙烯酸類樹脂)9g低聚物(見表1)0.1OgN-苯基亞氛基二乙酸0.30g2-(4-甲緣苯基)-4,6-三氯甲基-l,3,5-三嗪0.075g得自巴斯夫(BASF)的BasonylViolet6100.021g磷酸(85%)0.09g得自FEWChemicalsGmbH(Wolfen)的IR染料66e3)0.33g5-(4-乙歸基節(jié)基)硫基-1,3,4-噱二唑-2-硫醇30ml丙二醇單曱醚3ml丙酮通過施用聚(乙烯醇)(Celvo1203,自Airproducts購得；水解度88%)的水溶液在所得樣品上涂覆覆蓋層。在9(TC下干燥4分鐘后，得到覆蓋層的千層重量為約2.5g/r^的印版前體。將用對405nm輻射敏感的表2組合物制備的印版用得自Lithotech的圖像照排機(image-setter)Andromeda(30mW，405nm紫外激光二極管)(UGRA/FOGRAPostscriptstrip,2.0版ERS用于此目的)按圖像暴露，隨后立即在烘箱中在90。C下加熱2分鐘。隨后將印版用表4的顯影劑Dl顯影。將用表3的組合物制備的印版用得自Creo的圖像照排機Trendsetter3244(40-90mJ/cm2,830mn激光二極管)按圖像暴露且使用UGRA/FOGRAPostscriptteststrip,2.0版EPS(它含有用于評估副本質(zhì)量的不同元件)。暴露后立即將印版在烘箱中在卯。C下加熱2分鐘。隨后使用表4的顯影劑D2進行顯影。對于所有暴露并隨后加熱的印版，首先用水移除覆蓋層，隨后將各種各種顯影劑分配在印版上。停留30秒之后，再用擦墨墊摩擦印版30秒，隨后將整個印版用水漂洗。這種處理之后，暴露的部分保留在印版上。為了評定印版的光敏感性，將印版在濕潤狀況下用印刷油墨黑化。表4<table>tableseeoriginaldocumentpage49</column></row><table>對于制備平版印刷印版來說，將印刷層施用到鋁箔上，如上所述經(jīng)暴露、加熱、顯影，并用水漂洗之后，將顯影的印版用0.5%磷酸和6%阿拉伯膠的水溶液摩擦。將如此制備的印版裝載在片材進料膠印機中且用于用磨蝕性印刷油墨(自SunChemical購得的OffsetS7184,含有10%碳酸鉀)印刷。檢查背景區(qū)域(backgroundarea)可能的油墨接受性。進行以下測試以確定低聚物(I)如何影響平版印刷印版的性質(zhì)?？娠@影性將未暴露的5cmx30cm印板條帶在9(TC的烘箱中加熱2分鐘，洗掉覆蓋層且將條帶干燥。隨后將條帶逐漸浸入各種顯影劑中，以使每5秒有4cm浸入顯影劑槽。在50秒的總停留時間之后，將條帶自見表5和6。光敏感性(l)對405nm輻射敏感的印版敏感性通過用上文對這類印版所提及的暴露裝置整體暴露來測定。敏感性定義為獲得兩級UGRA灰度所需的能量。檢查新印版和老化印版(在90。C下熱老化1小時)。結(jié)果可見表5。(2)對830nm輻射敏感的印版敏感性通過用上文對這類印版所提及的暴露裝置使用不同能量值來測定。某一印版的敏感性定義為得到UGRA/FOGRAPostscriptstrip2.0版ERS的所有微元件的清晰圖像所需的能量。檢查新印版和老化印版(在60°C下熱老化16小時)。結(jié)果可見表6。顯影劑槽中殘渣的形成為了評價殘渣形成，使用以下方法。在得自Glunz&Jensen的RaptorPolymerHW型顯影機中裝入不同顯影劑(見表4)，R叩torPolymerHW型顯影機可用于預(yù)加熱印版(在印版背側(cè)測得的溫度為ll(TC),用自來水洗去覆蓋層，借助于兩個刷子在20。C下使印版顯影20秒，用自來水漂洗且用得自KodakPolychromeGraphics的上膠溶液850S使印版上膠。各印版用5%篩網(wǎng)(screen)暴露，之后使它在上述顯影機中顯影。在每升顯影劑使45m2的某一印版顯影之后，顯影劑槽變空。隨后檢查顯影機的顯影劑槽的殘留殘渣；如果適用，則隨后評估殘渣的可移除性。使用以下評價級別(A)無或有極少殘渣形成，(B)有殘渣形成，殘渣可通過用自來水漂洗容易地移除，(C)有殘渣形成，殘渣僅可在用自來水長時間漂洗后移除，(D)有殘渣形成，殘渣不能通過用自來水漂洗移除，而需要使用清潔劑二丙二醇醚單曱醚。結(jié)果可見表5和6。網(wǎng)點消失(Dotloss)術(shù)語"網(wǎng)點消失"描述線性化印版在印刷期間色調(diào)值(TV)的變化。線性化是指自預(yù)先確定的設(shè)定色調(diào)值(STV)的偏差通過RIP軟件(RIP=光柵圖像處理器)補償?？傻玫降臏y量值為印版上印刷前的色調(diào)值(rK0)和印刷后的色調(diào)值(7T/0。為了確定網(wǎng)點消失，測量印刷前線性化色調(diào)值(7T5)。本發(fā)明中描迷的線性化并顯影的印版在印刷機中用于10,000次印刷，清潔且隨后再次對其進行色調(diào)值檢查，它表示為印刷后色調(diào)值(n^)。隨后使用等式i對所有預(yù)先確定的設(shè)定色調(diào)值(stv)進行積分來計算網(wǎng)點消失。加i加U)網(wǎng)點消失-i[TVJ5-S7V]cOTV-I[rVA-S7V]必7y00理想的情況是，網(wǎng)點消失理論地應(yīng)趨近為零。換句話說色調(diào)值損失越低，印版越好。將比較實施例1和11的印版(即，在以不同色調(diào)值印刷期間具有相當大網(wǎng)點消失的印版)用作參照物。相對網(wǎng)點消失使用以下等式(2)計算』HWA網(wǎng)點消失(樣品)(2)相對網(wǎng)點消失=網(wǎng)點消失(；照;'10°%結(jié)果可見表5和6。印刷運轉(zhuǎn)周期可得到的印刷運轉(zhuǎn)周期的標準確定為用肉眼可觀察到印版的圖像區(qū)域被磨損時的時間點。粘性粘性為可在感光聚合物印版中出現(xiàn)的另一問題。因為在生產(chǎn)期間印輥與感光聚合物表面相接觸，所以難以大規(guī)模制成這類印版。因此保持粘性盡可能低為明智的。粘性通過首先用先前去油污的拇指在印版上按壓，隨后再次用覆有實驗室膠乳手套的拇指按壓來檢查。使用以下評價級別(1)優(yōu)良；在用或不用手套的情況下均未觀察到粘性；(2)良好，在用手套的情況下發(fā)現(xiàn)有輕微粘性，在用棵拇指的情況下指發(fā)現(xiàn)無粘性；(3)可接受；在用和不用手套的情況下均有輕微粘性；(4)不可接受；在用手套的情況下有相當大的粘性，在不用手套的情況下無或僅有輕微粘性；(5)不可接受；在用和不用手套的情況下均有相當大的粘性。結(jié)果可得自表5和6。比較結(jié)果表明使用本發(fā)明的低聚物ml-m6即使在高負載量的情況下也僅導(dǎo)致可忽略的殘渣形成；此外，與使用比較單體cml-cmll相比較，發(fā)現(xiàn)有改進的可顯影性、改進的熱穩(wěn)定性和更高程度的敏感性。在印刷期間得到的印刷運轉(zhuǎn)周期不受單體m1-m6影響。表5(對405nm輻射敏感的印版)<table>tableseeoriginaldocumentpage53</column></row><table>表6(對810-860nm輻射敏感的印版)<table>tableseeoriginaldocumentpage54</column></row><table>權(quán)利要求1.一種陰圖制版輻射敏感元件，所述元件包括底材和輻射敏感涂層，所述輻射敏感涂層包含(a)至少一種選自光引發(fā)劑和敏化劑/共引發(fā)劑體系的組分，它吸收波長范圍為250-1,200nm的輻射；(b)至少一種由GPC測定的平均分子量在3,500-9,000范圍內(nèi)的可自由基聚合的低聚物A，它通過使三異氰酸酯與(i)至少一種具有兩個游離OH基團和至少一個(甲基)丙烯酸類基團的丙烯酸類或甲基丙烯酸類單體和(ii)至少一種分子內(nèi)包含一個OH基、至少一個(甲基)丙烯酸類基團和至少一個聚(環(huán)氧烷)鏈的化合物反應(yīng)來得到，其中基于具有OH官能團的(甲基)丙烯酸類化合物的總量計算，(甲基)丙烯酸類單體(i)的存在量為2-20％摩爾。2.權(quán)利要求1的輻射敏感元件，其中所述三異氰酸酯還與(iii)至少一種包含一個游離OH基團和至少一個(甲基)丙烯酸類基團但無聚(環(huán)氧烷)鏈的丙烯酸類或曱基丙酸類單體反應(yīng)。3.權(quán)利要求1或2的輻射敏感元件，其中所述三異氰酸酯選自下式(I)、(n)和(III-l)-(III-7)的三異氰酸酯<formula>formulaseeoriginaldocumentpage2</formula>其中X!、X2和X3獨立地選自脂族或環(huán)脂族Crd2間隔基、芳脂族C8-C12間隔基和芳族C6-C10間隔基；<formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula>(ii)其中n為1-10的整數(shù)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage4</formula>4.權(quán)利要求3的輻射敏感元件，其中所述三異氰酸酯為式(I)的三異氰酸酯，其中X產(chǎn)X「X3。5.權(quán)利要求4的輻射敏感元件，其中X!二X2二X3-l,6-亞己基。6.權(quán)利要求1-5中任一項的輻射敏感元件，其中所述聚(環(huán)氧烷)鏈為聚合度為至少3的聚(環(huán)氧乙烷)或聚(環(huán)氧丙烷)鏈。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage4</formula>7.權(quán)利要求1-6中任一項的輻射敏感元件，其中具有兩個游離OH基團和至少一個(甲基)丙烯酸類基團的(曱基)丙烯酸類單體(i)選自季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、甘油單(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷單(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷單(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丁烷單(甲基)丙烯酸酯、山梨醇四(甲基)丙烯酸酯及其混合物。8.權(quán)利要求1-7中任一項的輻射敏感元件，其中所述化合物(ii)選自聚(環(huán)氧乙烷)單(甲基)丙烯酸酯、聚(環(huán)氧丙烷)單(甲基)丙烯酸酯、用(曱基)丙烯酸在一端酯化的環(huán)氧丙烷和環(huán)氧乙烷的統(tǒng)計共聚物或嵌段共聚物、用(曱基)丙烯酸雙酯化的乙氧基化和/或丙氧基化甘油及其混合物。9.權(quán)利要求2的輻射敏感元件，其中所述化合物(iii)選自季戊四醇三(曱基)丙烯酸酯、甘油二(曱基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(曱基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷二(曱基)丙烯酸酯、三羥曱基丁烷二(曱基)丙烯酸酯、三羥甲基丁烷二(甲基)丙烯酸酯、山梨醇五(曱基)丙烯酸酯及其混合物。10.權(quán)利要求1-9中任一項的輻射敏感元件，其中所述輻射敏感涂層還包含至少一種選自連接料、熱聚合抑制劑、著色劑、增塑劑、鏈轉(zhuǎn)移劑、隱色染料、無機填料和表面活性劑的其他組分。11.權(quán)利要求1-10中任一項的輻射敏感元件，其中所述輻射敏感涂層還包含三羥基化合物的三(甲基)丙烯酸酯。12.權(quán)利要求1-11中任一項的輻射敏感元件，其中組分(a)吸收波長范圍為250-750nm的輻射。13.權(quán)利要求1-11中任一項的輻射敏感元件，其中組分(a)吸收波長范圍為大于750-l,200nm的輻射。14.權(quán)利要求1-13中任一項的輻射敏感元件，其中在所述輻射敏感涂層上提供不透氧覆蓋層。15.權(quán)利要求1-14中任一項的輻射敏感元件，其中所述底材為鋁箔或板。16.權(quán)利要求1-15中任一項的輻射敏感元件，其中在涂覆之前，所述底材已經(jīng)受至少一種選自#造化、陽極化和親水化的處理。17.—種制備成像元件的方法，所述方法包括(a)按圖像將權(quán)利要求1-16中任一項的輻射敏感元件暴露于一定波長的輻射，該波長適應(yīng)所迷元件的輻射敏感涂層中存在的光引發(fā)劑或敏化劑；和(b)移除非暴露區(qū)域。18.權(quán)利要求17的方法，其中將在步驟(a)中得到的按圖像暴露的元件在步驟(b)之前加熱。19.權(quán)利要求17或18的方法，其中將在步驟(b)中得到的成像元件加熱和/或使它經(jīng)受整體暴露。20.權(quán)利要求17-19中任一項的方法，其中將顯影劑的堿性水溶液用于步驟(b)中。21.權(quán)利要求17-19中任一項的方法，其中步驟(b)在機進行且所述非暴露區(qū)域通過印刷油墨或潤版溶液或兩者移除。22.—種輻射敏感組合物，所述組合物包含(a)至少一種選自光引發(fā)劑和敏化齊'V共引發(fā)劑體系的組分，它吸收波長范圍為250-l,200nm的輻射；(b)至少一種由GPC測定的平均分子量在3,500-9,000范圍內(nèi)的可自由基聚合的低聚物A，它通過使三異氰酸酯與(i)至少一種具有兩個游離OH基團和至少一個(甲基)丙烯酸類基團的丙烯酸類或曱基丙烯酸類單體和(ii)至少一種分子內(nèi)包含一個游離OH基團、至少一個(曱基)丙烯酸類基團和至少一個聚(環(huán)氧烷)鏈的化合物反應(yīng)來得到，其中基于具有OH官能團的(甲基)丙烯酸類化合物的總量計算，(曱基)丙烯酸類單體(i)的存在量為2-20%摩爾；和(c)溶劑或溶劑混合物。23.權(quán)利要求22的輻射每文感組合物，所述組合物還包含至少一種選自連接料、熱聚合抑制劑、著色劑、增塑劑、鏈轉(zhuǎn)移劑、隱色染料、無機填料和表面活性劑的其他組分。24.權(quán)利要求22或23的輻射敏感組合物用于制備輻射敏感元件的用途。25.—種制備權(quán)利要求1-16中任一項的輻射敏感元件的方法，所述方法包括(a)將權(quán)利要求22或23的輻射敏感組合物施用到預(yù)處理或未處理的底材上；(b)干燥。全文摘要一種輻射敏感元件，所述元件包括底材和輻射敏感涂層，所述輻射敏感涂層包含(a)至少一種選自光引發(fā)劑和敏化劑/共引發(fā)劑體系的組分，它吸收波長范圍為250-1,200nm的輻射；(b)至少一種由GPC測定的平均分子量在3,500-9,000范圍內(nèi)的可自由基聚合的低聚物A，它通過使三異氰酸酯與(i)至少一種具有兩個游離OH基團和至少一個(甲基)丙烯酸類基團的丙烯酸類或甲基丙烯酸類單體和(ii)至少一種分子內(nèi)包含一個OH基、至少一個(甲基)丙烯酸類基團和至少一個聚(環(huán)氧烷)鏈的化合物反應(yīng)來得到，其中基于具有OH官能團的(甲基)丙烯酸類化合物的總量計算，(甲基)丙烯酸類單體(i)的存在量為2-20％摩爾。文檔編號B41M5/40GK101379432SQ200780001847公開日2009年3月4日申請日期2007年1月2日優(yōu)先權(quán)日2006年1月4日發(fā)明者B·斯特勒梅爾,H·鮑曼,U·德瓦斯,U·米勒申請人:柯達圖形通信有限責(zé)任公司