專利名稱：平版印版的成像方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于平版印版成像的方法，在該方法中，該平版印版的覆蓋有兩親分子的表面的部分面通過(guò)電磁輻射曝光。
背景技術(shù)：
在具有覆蓋了兩親分子的表面的平版印版成像時(shí)，典型地需要高的輻射功率、尤其是激光功率，以便直接通過(guò)能量輸入實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)化成親水的(引導(dǎo)潤(rùn)濕劑的)區(qū)域及疏水的(接納油墨的)區(qū)域，由此得到用于平版印刷的印刷面。
文獻(xiàn)DE 10227054A1或US 2004/0007146A1中已公知了用于平版印刷的可重復(fù)使用且可重復(fù)寫入的印版，這種印版具有一個(gè)帶有兩親有機(jī)化合物、尤其是正十八烷-膦酸的印刷面。印刷面在其覆蓋有兩親分子的區(qū)域中是疏水的。為了進(jìn)行印刷面的成像，即產(chǎn)生親水區(qū)域及疏水區(qū)域的圖案，使一個(gè)覆蓋有兩親化合物的自然氧化的金屬表面、例如覆蓋有正十八烷-膦酸的自然氧化的鈦表面局部選擇性地經(jīng)受激光器的光束、例如在1100納米波長(zhǎng)時(shí)具有3瓦功率的釔攙雜的纖維激光器的光束處理，由此去除兩親分子，其中，露出金屬表面的親水區(qū)域。
覆蓋有兩親分子的平版印版成像是基于施加的激光輻射將表面加熱，其中發(fā)生兩親分子的涂層或?qū)拥淖兓?例如通過(guò)熱解)。高激光功率對(duì)于該方案的必要性取決于供傳統(tǒng)印版成像使用的、商業(yè)上可獲得的二極管激光器技術(shù)或許出于成本原因或技術(shù)原因而不可使用。尤其是不可利用多個(gè)集成的二極管激光器進(jìn)行可有利地提供的并行成像，由此對(duì)于成像需要相對(duì)多的時(shí)間消耗。
使用不同波長(zhǎng)、例如830納米波長(zhǎng)的激光器，使用不同的兩親分子(不僅不同的衍生物而且不同的錨定基團(tuán))及通過(guò)例如影響導(dǎo)熱性能、導(dǎo)溫性能或具有確定波長(zhǎng)的光的吸收性能來(lái)優(yōu)化載體材料，這些也不能導(dǎo)致所述狀況的實(shí)質(zhì)性改變。
在可重復(fù)成像的覆蓋有兩親分子的平版印版的再生方面，由文獻(xiàn)DE 10 2005 020 558 A1公知在用大氣壓等離子體處理前可進(jìn)行印版表面的外部涂層的機(jī)械去除。該機(jī)械去除也可在附加地使用起化學(xué)或溶解作用的輔助劑的情況下進(jìn)行。
在本說(shuō)明書的意義上，對(duì)于平版印版的概念也理解為平版印版坯或平版印版母體，即，也理解為未結(jié)構(gòu)化成親水區(qū)域及疏水區(qū)域的或無(wú)圖案的印版。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的任務(wù)在于，提供一種用于平版印版成像的方法，在該方法中，印刷面結(jié)構(gòu)化成親水區(qū)域及疏水區(qū)域可用小的輻射功率、尤其是待成像表面上的小功率密度來(lái)實(shí)現(xiàn)。
根據(jù)本發(fā)明，該任務(wù)通過(guò)本發(fā)明的用于平版印版成像的方法來(lái)解決。本發(fā)明的有利的進(jìn)一步構(gòu)型屬于本發(fā)明的技術(shù)方案。
在根據(jù)本發(fā)明的用于平版印版、尤其是膠印版成像的方法中，該平版印版的覆蓋有兩親分子的表面的部分面通過(guò)電磁輻射曝光或處理或照射。在該平版印版曝光之后且在印刷該平版印版之前，用至少一種形成絡(luò)合物的物質(zhì)來(lái)處理這些部分面，由此得到一個(gè)被結(jié)構(gòu)化成親水的、尤其是排斥油墨的區(qū)域及疏水的、尤其是接納油墨的區(qū)域的平版印刷面。
兩親分子尤其是兩親有機(jī)分子?？梢杂卸鄠€(gè)相互無(wú)聯(lián)系的部分面。平版印版尤其可重復(fù)使用，即可多次地成像形成親水區(qū)域及疏水區(qū)域并且這些區(qū)域可清除，由此可在印刷面上產(chǎn)生反復(fù)不同的結(jié)構(gòu)(印刷題材)。在用形成絡(luò)合物的物質(zhì)處理后及處理前，在印刷面上仍可不具有親水區(qū)域及疏水區(qū)域的結(jié)構(gòu)或者親水區(qū)域與疏水區(qū)域的浸潤(rùn)差別對(duì)于平版印刷來(lái)說(shuō)仍可不足夠地大。成像可被描述為形成具有不同浸潤(rùn)特性的面的圖案，其中，具有或具有多個(gè)兩親分子的面形成與圖像有關(guān)的區(qū)域，而無(wú)或具有少量?jī)捎H分子的面形成與圖像無(wú)關(guān)的區(qū)域。只要在該用于成像的方法中控制及處理這些與圖像無(wú)關(guān)的區(qū)域，該成像就可被稱為負(fù)成像。在處理所述部分面時(shí)，所述表面的未由電磁輻射曝光的區(qū)域也可與形成絡(luò)合物的物質(zhì)接觸，但其中與兩親分子或表面在這些區(qū)域中有可能產(chǎn)生的相互作用對(duì)根據(jù)本發(fā)明的結(jié)果無(wú)影響。該處理尤其可以是涂抹、噴射、浸潤(rùn)。所述結(jié)構(gòu)化可根據(jù)待印刷的印刷題材、尤其待印刷的印刷層的分色來(lái)進(jìn)行。
在本說(shuō)明書的意義上，對(duì)于概念“覆蓋”理解為該表面具有兩親分子的涂層，尤其是兩親分子的分子涂層、單分子涂層或納米涂層。兩親分子可被吸附在表面上。兩親分子尤其可通過(guò)親水分子區(qū)域、錨定基團(tuán)被表面吸附、接收或束縛。兩親分子可以是這樣的分子，這些分子可形成自動(dòng)排列的單層(自組裝單分子層，SAM)。兩親分子可具有表面活性劑類型的結(jié)構(gòu)。
在根據(jù)本發(fā)明的成像中，該結(jié)構(gòu)化通過(guò)形成絡(luò)合物的物質(zhì)作用在所述表面的以前經(jīng)受電磁輻射處理的部分區(qū)域上來(lái)實(shí)現(xiàn)。因?yàn)樾纬山j(luò)合物的物質(zhì)起到助溶作用或作為溶劑起作用，所以與通過(guò)電磁輻射的唯一作用去除兩親分子來(lái)成像相比，根據(jù)本發(fā)明僅需要有利地小的輻射功率、尤其是輻射產(chǎn)生裝置的小輸出功率。以此方式尤其可使用商業(yè)上可提供的多通道輻射產(chǎn)生裝置、例如可單個(gè)控制的激光二極管條，如在海德堡印刷機(jī)股份公司的印版曝光機(jī)SuprasetterTM中所使用的。
在根據(jù)本發(fā)明的用于平版印版成像的方法中，可通過(guò)該形成絡(luò)合物的物質(zhì)尤其是在被輻射區(qū)域中的作用使這些部分面中的兩親分子的密度降低和/或使兩親分子從這些部分面去除和/或在這些部分面中被化學(xué)掩模。換句話說(shuō)，根據(jù)本發(fā)明可實(shí)現(xiàn)該表面的先前經(jīng)受電磁輻射處理的部分面中的兩親分子選擇性地減少、去除或化學(xué)掩模，由此形成作為印版上的印刷面的、由親水(具有足夠少的有效的兩親分子)的區(qū)域及疏水(具有足夠多的有效的兩親分子)的區(qū)域組成的圖案。
優(yōu)選在根據(jù)本發(fā)明的方法中，在曝光時(shí)在該表面上施加小于或等于2J/cm^2、優(yōu)選小于或等于1.6J/cm^2的積分通量(Fluenz)和/或小于1000kW/cm^2、優(yōu)選小于700kW/cm^2的功率。尤其是在根據(jù)本發(fā)明的方法中可借助于一個(gè)或多個(gè)激光器進(jìn)行成像，所述激光器在光斑大小具有約10微米直徑(1/e^2衰減)的情況下具有小于1瓦、尤其是小于500毫瓦的功率。該曝光可在成像速度為2.5m/s的情況下進(jìn)行。
在本說(shuō)明書的意義上，對(duì)于“形成絡(luò)合物的物質(zhì)”應(yīng)理解為這樣的物質(zhì)，該物質(zhì)可與一個(gè)或多個(gè)中心分子或中心原子或中心離子(中心粒子)形成分子復(fù)合物或原子復(fù)合物，在這些分子復(fù)合物或原子復(fù)合物中，通過(guò)圍繞所述一個(gè)或多個(gè)中心粒子形成(未必絕對(duì)完整的)分子殼或分子基體可至少部分地、優(yōu)選完全地抑制絡(luò)合的中心粒子的確定的物理特性或化學(xué)特性。該中心粒子因此似乎被部分地或完全地掩模。這例如可引起該中心粒子的溶解性的改變并且由此引起在給定溶劑中該中心粒子的運(yùn)動(dòng)性的改變。形成絡(luò)合物的物質(zhì)本身在其它方面也可作為溶劑出現(xiàn)或是用于給定溶劑的助溶物質(zhì)。簡(jiǎn)言之，形成絡(luò)合物的物質(zhì)包括中心粒子并且改變其化學(xué)特性。
在根據(jù)本發(fā)明的方法的具體實(shí)施形式中，該形成絡(luò)合物的物質(zhì)可以是極性介質(zhì)或溶解在極性介質(zhì)中，尤其是溶解在水中。該形成絡(luò)合物的物質(zhì)可被稱為顯影溶液。
優(yōu)選在根據(jù)本發(fā)明的方法中，該形成絡(luò)合物的物質(zhì)的分子是配體，這些配體可與兩親分子和/或兩親分子的片段、尤其是兩親分子的通過(guò)光致離解形成的片段形成一個(gè)或多個(gè)配位鍵。
在本說(shuō)明書的意義上，對(duì)于“配體”應(yīng)理解為這樣的形成絡(luò)合物的物質(zhì)，該形成絡(luò)合物的物質(zhì)可與一個(gè)或多個(gè)中心分子或中心原子或中心離子(中心粒子)形成鍵或相互作用，由此在確定的前提下(例如在確定的pH值或在確定的溶劑體系中)可形成鍵合的分子復(fù)合物或鍵合的原子復(fù)合物(絡(luò)合物)。該絡(luò)合物形成了新的或改變了的物理特性或化學(xué)特性。在該絡(luò)合物中可圍繞一個(gè)或多個(gè)適合的中心粒子排列一個(gè)或多個(gè)配體。在此情況下該鍵不必絕對(duì)是具有共價(jià)特性的化學(xué)鍵。絡(luò)合鍵可為多鍵的或多重的，即配體不僅構(gòu)成一個(gè)而且構(gòu)成多個(gè)與絡(luò)合的中心粒子的鍵。此外，多個(gè)配體也可同時(shí)與同一個(gè)中心粒子形成一個(gè)或多個(gè)鍵。這樣形成的各個(gè)鍵或相互作用通常比共價(jià)鍵弱。簡(jiǎn)言之，配體配位地鍵合在中心粒子上。
在根據(jù)本發(fā)明的方法的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施形式中，該形成絡(luò)合物的物質(zhì)是形成絡(luò)合物的寡糖或形成絡(luò)合物的多糖。寡糖由可達(dá)100個(gè)的單糖組成，而多糖具有多于100個(gè)的單糖。糖類可為醛糖(多羥基醛)或?yàn)橥?多羥基酮)。形成絡(luò)合物的物質(zhì)尤其可以是阿拉伯樹膠。例如以AgumO及AgumZ為名稱的阿拉伯樹膠由德國(guó)莎斯特的埃根-化學(xué)兩合公司(Eggen-Chemie GmbH & Co.KG，31157 Sarstedt，Deutschland)銷售。
在根據(jù)本發(fā)明的方法的一個(gè)作為替換方案的優(yōu)選實(shí)施形式中，該形成絡(luò)合物的物質(zhì)是氨或檸檬酸或氨與檸檬酸的混合物，尤其溶解于水中。
在根據(jù)本發(fā)明方法的一個(gè)進(jìn)一步構(gòu)型中，這些部分面在用該形成絡(luò)合物的物質(zhì)處理期間經(jīng)受一種弱酸、尤其是一種不具有氧化作用的酸處理。
優(yōu)選在根據(jù)本發(fā)明的方法中，該電磁輻射是紅外激光輻射。優(yōu)選該紅外激光輻射由一個(gè)或多個(gè)固體激光器或半導(dǎo)體激光器、尤其是二極管激光器產(chǎn)生。
此外或作為對(duì)此的替換方案，在根據(jù)本發(fā)明的方法中，可覆蓋有兩親分子的該表面優(yōu)選具有自然氧化的鈦、鋁、鋼、鋯、鎂或這些金屬的混合物或鈦酸鹽或鋯酸鹽。
此外或作為對(duì)此的替換方案，在根據(jù)本發(fā)明的方法中，兩親分子可以是一種用脂族殘基或芳族殘基取代的無(wú)機(jī)酸或有機(jī)酸。所述兩親分子尤其可以是異羥肟酸或羧酸或膦酸。此外，所述殘基尤其可具有未被取代的或被取代的碳鏈，其中，碳原子的數(shù)目大于或等于6、優(yōu)選大于或等于8、尤其是大于或等于12且小于或等于25。
對(duì)于通過(guò)本說(shuō)明書提及的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，顯然該平版印版可以是如文獻(xiàn)DE 102 27 054 A1與US 2004/0007146A1中所公開的印版。這些文獻(xiàn)DE 102 27 054 A1與US 2004/0007136A1的所有公開內(nèi)容通過(guò)參考而記錄在本說(shuō)明書的公開內(nèi)容中。


下面借助于下列附圖及其說(shuō)明來(lái)描述本發(fā)明的其它優(yōu)點(diǎn)和有利的實(shí)施形式及進(jìn)一步構(gòu)型。附圖分別表示圖1根據(jù)本發(fā)明的方法的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施形式的流程圖，圖2可用根據(jù)本發(fā)明的方法成像的平版印版的一個(gè)覆蓋有兩親分子的表面的實(shí)施形式的示意性顯微視圖，圖3覆蓋有兩親分子的表面在經(jīng)受電磁輻射處理后的示意性顯微視圖的三個(gè)分圖A、B及C，圖4對(duì)圖3A中所示狀況中的覆蓋有兩親分子的表面用一種形成絡(luò)合物的物質(zhì)進(jìn)行的處理的示意性顯微視圖，圖5對(duì)圖3B中所示狀況中的覆蓋有兩親分子的表面用一種形成絡(luò)合物的物質(zhì)進(jìn)行的處理的示意性顯微視圖及該應(yīng)用的結(jié)果，圖6對(duì)圖3B中所示狀況中的覆蓋有兩親分子的表面用一種作為替換方案的形成絡(luò)合物的物質(zhì)進(jìn)行的處理的示意性顯微視圖及該應(yīng)用的作為圖5中所示狀況的替換方案的結(jié)果，及圖7對(duì)圖3C中所示狀況中的覆蓋有兩親分子的表面用一種形成絡(luò)合物的物質(zhì)進(jìn)行的處理的示意性顯微視圖。
具體實(shí)施例方式
圖1表示根據(jù)本發(fā)明的方法的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施形式的流程圖。對(duì)于平版印刷方法、尤其是膠版印刷方法，制備具有一個(gè)兩親分子涂層的表面、尤其是具有微觀的兩親分子涂層、例如一個(gè)單層。該表面的后來(lái)成為印刷面的部分暫時(shí)不被結(jié)構(gòu)化，即基本上均勻地且緊密地覆蓋有兩親分子。通過(guò)該覆蓋，由于兩親分子的背對(duì)該表面的疏水側(cè)，印刷面基本上是均勻疏水的(對(duì)此也參見圖2)。該原始狀態(tài)可多次地重復(fù)建立，由此，下面描述的方法可多次用于不同的結(jié)構(gòu)圖案(印刷題材)。具有兩親分子的印版的制備10的詳細(xì)情況可從剛才所述的并且記錄在公開內(nèi)容中的文獻(xiàn)DE 102 27 054 A1或US 2004/0007146A1中獲知。在該優(yōu)選的實(shí)施形式中，該表面是一個(gè)自然氧化的鈦表面，并且使用膦酸作為兩親分子。
根據(jù)本發(fā)明，在用于成像的該方法中用電磁輻射、在該實(shí)施形式中用激光輻射來(lái)對(duì)覆蓋有兩親分子的印版進(jìn)行曝光12。該曝光12選擇性地、即僅在該表面的部分區(qū)域中根據(jù)待印刷的印刷題材、尤其是待印刷的分色以一個(gè)(兩維的)圖案進(jìn)行。在此情況下，該表面、確切地說(shuō)是兩親分子僅經(jīng)受這樣小的激光功率處理——例如使用具有僅幾百毫瓦輸出功率、優(yōu)選100至300毫瓦輸出功率的激光器，使得在兩親分子層中僅出現(xiàn)很小變化(對(duì)此也參見圖3的分圖)。此后并未形成用于平版印刷的曝光區(qū)域與未曝光區(qū)域之間足夠大的接觸角度差(用于親水性或疏水性的量度)。
緊接著曝光12的、用形成絡(luò)合物的物質(zhì)進(jìn)行的處理14才導(dǎo)致在表面的部分區(qū)域中通過(guò)激光輻射改變的兩親分子層這樣強(qiáng)地變化，使得獲得足夠大的接觸角度差。在該優(yōu)選的實(shí)施形式中，該形成絡(luò)合物的物質(zhì)是阿拉伯樹膠，作為對(duì)此的替代方案是檸檬酸、氨或由這兩種物質(zhì)組成的混合物的一克分子(einmolarig)水溶液。換句話說(shuō)，該形成絡(luò)合物的物質(zhì)作為曝光12后存在的結(jié)構(gòu)的一種顯影劑或顯影溶液，該結(jié)構(gòu)相對(duì)于足夠強(qiáng)的結(jié)構(gòu)具有不足夠強(qiáng)的浸潤(rùn)差別。對(duì)于專業(yè)人員來(lái)說(shuō)清楚的是只要兩親分子通過(guò)曝光12已被完全去除，就不需要該處理14。對(duì)于專業(yè)人員來(lái)說(shuō)也清楚的是為了實(shí)現(xiàn)從該表面的部分面選擇性地去除兩親分子，該處理14本身不是足夠的。在未曝光的區(qū)域中，即在未受到電磁輻射影響的區(qū)域中，兩親分子被過(guò)強(qiáng)地束縛在涂層中，以致這些兩親分子不能通過(guò)形成絡(luò)合物的物質(zhì)的唯一影響被去除。
以根據(jù)本發(fā)明的方式得到被結(jié)構(gòu)化成親水區(qū)域及疏水區(qū)域的印刷面。平版印版的印刷16可用傳統(tǒng)方式進(jìn)行。此后，必要時(shí)在清洗后，可進(jìn)行印版的重新的制備10。換句話說(shuō)，去除或清除該結(jié)構(gòu)或親水區(qū)域及疏水區(qū)域的圖案并且使該表面轉(zhuǎn)變到未結(jié)構(gòu)化的原始狀態(tài)中。
平版印版18、尤其是金屬的印版的在圖2中示意性地表示的優(yōu)選實(shí)施形式具有一個(gè)(例如由于自然氧化)親水的表面20，該表面覆蓋有兩親分子22。優(yōu)選這些兩親分子22構(gòu)成一個(gè)自動(dòng)排列的單層，但也可在平版印版18上存在由多層兩親分子22組成的一個(gè)多重層或涂層。兩親分子22具有親水的錨定基團(tuán)24及疏水的有機(jī)鏈26。一個(gè)兩親分子22可借助于疏水的錨定基團(tuán)24束縛在、例如吸附在表面20上。兩親分子22優(yōu)選這樣定向，使得有機(jī)鏈26垂直地背離該表面。但對(duì)于這些兩親分子22的層或涂層作為印刷面的疏水的部分面的功能，該定向不是絕對(duì)必要的。
圖3示意性地涉及三個(gè)分圖A、B及C，用于顯微地表示用電磁輻射處理或曝光后所述覆蓋有兩親分子的表面。在一個(gè)覆蓋有兩親分子的表面曝光后，這些兩親分子可被完全地、不完全地去除或未被去除。尤其是在被不完全去除的情況下，兩親分子可被電磁輻射損壞。并且兩親分子的定向可變化或排列的條理性可降低。
圖3的分圖A中示出了具有變稀的兩親分子層的平版印版18。換句話說(shuō)，借助于起作用的電磁輻射將一部分兩親分子完整地、尤其是連同錨定基團(tuán)一起去除。以此方式可降低表面的該區(qū)域的疏水性。但曝光區(qū)域與未曝光區(qū)域之間的疏水性的差別有可能不足以進(jìn)行平版印刷過(guò)程。
圖3的分圖B中示出了平版印版18的表面20上的具有部分破壞的鏈26的兩親分子層30。錨定基團(tuán)24仍束縛在表面上，而疏水的鏈通過(guò)電磁輻射的作用已被部分破壞或去除。在此狀況下，疏水性也降低，親水的錨定基團(tuán)可從外部的背離表面的一側(cè)至少部分地被接近并相對(duì)于極性介質(zhì)如平版印刷過(guò)程中的潤(rùn)濕劑表現(xiàn)出相對(duì)大的相互作用。
在圖3的分圖C中可看到平版印版18的表面20上的具有部分脫離的錨定基團(tuán)的兩親分子層32。這些錨定基團(tuán)24完全地或部分地從表面20脫離，廢料即很大程度上疏水的分子片段積聚在表面20上并且妨礙親水的浸潤(rùn)特性。此外，在兩親分子包括它們的錨定基團(tuán)被分離時(shí)可使平版印版18的金屬基體的單個(gè)原子或離子與兩親分子一起被去除。
圖3的三個(gè)分圖A、B及C中示出的狀況也可彼此共同組合或混合地出現(xiàn)在該表面的一個(gè)曝光的部分區(qū)域上。
對(duì)在部分面中通過(guò)電磁輻射曝光的表面進(jìn)行的處理、即顯影步驟具有其目的在曝光的部位或區(qū)域上獲得對(duì)于平版印刷過(guò)程足夠的親水性、相對(duì)于未曝光的區(qū)域足夠的浸潤(rùn)差別，而不降低或限制油墨控制、未曝光的區(qū)域的疏水性。
在圖4中可看到對(duì)圖3A中所示的狀況中的覆蓋有兩親分子的表面用一種形成絡(luò)合物的物質(zhì)進(jìn)行的處理的示意性顯微視圖。由于兩親分子22變稀，通過(guò)形成絡(luò)合物的物質(zhì)擴(kuò)散到兩親分子的層中在化學(xué)上可接近錨定基團(tuán)24。尤其是可與極性介質(zhì)形成相互作用。形成絡(luò)合物的物質(zhì)的作用34通過(guò)圖4中所示的箭頭來(lái)指示。以此方式，錨定基團(tuán)在平版印版18的(自然氧化的)金屬的表面20上的鍵合通過(guò)化學(xué)反應(yīng)、例如通過(guò)水解而破裂。與此相對(duì)，在兩親分子22的涂層或?qū)泳o密閉合的情況下，極化物質(zhì)、尤其極性介質(zhì)在立體或空間上不可能到達(dá)兩親分子22的錨定基團(tuán)24并且不可能使這些兩親分子在表面20上的鍵合破裂。此外，化學(xué)上起作用的形成絡(luò)合物的物質(zhì)、即顯影溶液由于變稀的層的疏水性降低而可使通過(guò)電磁輻射曝光的區(qū)域部分地浸潤(rùn)并且在那里使在其與表面20鍵合方面變?nèi)醯膬捎H分子去除。在此情況下，鍵合的變?nèi)跻矁H通過(guò)缺陷、即通過(guò)兩親分子層中條理性的降低來(lái)產(chǎn)生，由此使該涂層失去其機(jī)械持久性。親水性、換句話說(shuō)是成像區(qū)域與非成像區(qū)域用油墨或水浸潤(rùn)的能力的區(qū)別由此由于溶劑分解與機(jī)械過(guò)程的組合而在這些區(qū)域中進(jìn)一步提高，由此，該親水性對(duì)于平版印刷過(guò)程已足夠。
圖4的下部分中示出了用形成絡(luò)合物的物質(zhì)處理平版印版18的結(jié)果。該表面20具有親水區(qū)域36及疏水區(qū)域38，在這些疏水區(qū)域中仍具有兩親分子22的緊密的層。該表面與圖像有關(guān)地或與題材有關(guān)地或與圖案有關(guān)地被結(jié)構(gòu)化。
圖5示意性地示出了對(duì)圖3B中所示的狀況中的、平版印版18的覆蓋有兩親分子的表面20用形成絡(luò)合物的物質(zhì)進(jìn)行的處理及該應(yīng)用的結(jié)果。被破壞的兩親分子22的部分地保留的錨定基團(tuán)24被極性介質(zhì)、尤其是形成絡(luò)合物的物質(zhì)浸潤(rùn)、必要時(shí)侵蝕或去除。在此情況下也可以溶解錨定基團(tuán)24與表面20的金屬原子或金屬離子的絡(luò)合化合物。其余的(未破壞的)變稀的兩親分子的去除可類似于參照?qǐng)D4描述的過(guò)程看出。如圖5的下部分中示意性地表示的那樣，當(dāng)剩余的極性的錨定基團(tuán)24未被去除時(shí)就得到了親水性的提高。表面20具有親水區(qū)域36及疏水區(qū)域38，在這些親水區(qū)域中仍具有單個(gè)的親水的錨定基團(tuán)24，在這些疏水區(qū)域中仍具有兩親分子22的緊密的層。該表面與圖像有關(guān)地或與題材有關(guān)地或與圖案有關(guān)地被結(jié)構(gòu)化。
圖6涉及對(duì)圖3B中所示的狀態(tài)中的、平版印版18的覆蓋有兩親分子的表面20用極性介質(zhì)40中的作為替換方案的形成絡(luò)合物的物質(zhì)進(jìn)行的處理及該應(yīng)用的作為對(duì)圖5中所示狀況的替換方案的結(jié)果。被破壞的兩親分子22的部分地保留的錨定基團(tuán)24被具有形成絡(luò)合物的物質(zhì)的極性介質(zhì)浸潤(rùn)、有可能侵蝕或去除。在此情況下也可以溶解錨定基團(tuán)24與表面20的金屬原子或金屬離子的絡(luò)合化合物。其余的(未破壞的)變稀的兩親分子的去除可類似于參照?qǐng)D4描述的過(guò)程看出。如圖6的下部分中示意性地表示的那樣，當(dāng)甚至剩余的極性的錨定基團(tuán)24被一起去除時(shí)，得到親水性更強(qiáng)的提高。表面20具有親水區(qū)域36及疏水區(qū)域38，這些親水區(qū)域不具有兩親分子和兩親分子的殘基，在這些疏水區(qū)域中仍具有兩親分子22的緊密的層。該表面與圖像有關(guān)地或與題材有關(guān)地或與圖案有關(guān)地被結(jié)構(gòu)化。
圖7是對(duì)圖3C中所示的狀況中的覆蓋有兩親分子的表面用極性介質(zhì)40中的形成絡(luò)合物的物質(zhì)進(jìn)行的處理的示意性顯微視圖。必須機(jī)械地或在溶解過(guò)程中從表面20去除廢料。如在圖7的下部分中示意性地表示的那樣，表面20包括親水區(qū)域36及疏水區(qū)域38，這些親水區(qū)域仍具有束縛在表面20上的單個(gè)的變稀的兩親分子或錨定基團(tuán)，在這些疏水區(qū)域中仍具有兩親分子22的緊密的層。該表面與圖像有關(guān)地或與題材有關(guān)地或與圖案有關(guān)地被結(jié)構(gòu)化。
換句話說(shuō)，作為形成絡(luò)合物的物質(zhì)或顯影溶液使用(極性的)物質(zhì)、尤其是介質(zhì)，它們提高金屬離子的溶解度(Lslichkeot)和/或使在兩親分子的層或涂層中形成的與表面的鍵合(絡(luò)合鍵或共價(jià)鍵、尤其是縮合鍵)削弱或破裂，例如通過(guò)絡(luò)合粒子的鍵合平衡的移位或通過(guò)共價(jià)鍵、尤其是縮合鍵的水解。在使用合適的形成絡(luò)合物的物質(zhì)或形成絡(luò)合物的物質(zhì)在一種介質(zhì)中的溶液的情況下，具有兩親分子的可重復(fù)成像的表面上的通過(guò)電磁輻射產(chǎn)生的、浸潤(rùn)差別的弱結(jié)構(gòu)可發(fā)展，即被增強(qiáng)。通過(guò)小輻射功率與濕化學(xué)處理的作用相結(jié)合而產(chǎn)生結(jié)構(gòu)化的平版印版，其結(jié)果是選擇性地提高成像的與非成像的區(qū)域或部分面相對(duì)于水的接觸角行程。
參考標(biāo)號(hào)清單10印版的制備12通過(guò)電磁輻射曝光14用形成絡(luò)合物的物質(zhì)處理16印版的印刷18平版印版20表面
22雙親分子24錨定基團(tuán)26有機(jī)鏈28變稀的雙親分子層30具有部分地破壞的鏈的雙親分子層32具有部分地脫離的鏈的雙親分子層34形成絡(luò)合物的物質(zhì)的作用36親水區(qū)域38疏水區(qū)域40極性介質(zhì)中的形成絡(luò)合物的物質(zhì)
權(quán)利要求
1.用于平版印版(18)成像的方法，在該方法中，該平版印版(18)的覆蓋有兩親分子(22)的表面(20)的部分面通過(guò)電磁輻射曝光，其特征在于在該平版印版(18)曝光之后且在印刷該平版印版之前，用至少一種形成絡(luò)合物的物質(zhì)來(lái)處理這些部分面，由此得到一個(gè)被結(jié)構(gòu)化成親水區(qū)域(36)及疏水區(qū)域(38)的平版印刷面(18)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于通過(guò)該形成絡(luò)合物的物質(zhì)的作用使這些部分面中的兩親分子(22)的密度降低和/或使兩親分子(22)從這些部分面去除和/或在這些部分面中被化學(xué)掩模。
3.根據(jù)以上權(quán)利要求中一項(xiàng)的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于在曝光時(shí)在該表面(20)上施加小于或等于2J/cm^2的積分通量和/或小于1000kW/cm^2的功率。
4.根據(jù)以上權(quán)利要求中一項(xiàng)的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于該形成絡(luò)合物的物質(zhì)是極性介質(zhì)或溶解在極性介質(zhì)中。
5.根據(jù)以上權(quán)利要求中一項(xiàng)的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于該形成絡(luò)合物的物質(zhì)的分子是配體，這些配體可與兩親分子和/或兩親分子的片段形成一個(gè)或多個(gè)配位鍵。
6.根據(jù)以上權(quán)利要求中一項(xiàng)的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于該形成絡(luò)合物的物質(zhì)是形成絡(luò)合物的寡糖或形成絡(luò)合物的多糖。
7.根據(jù)以上權(quán)利要求中一項(xiàng)的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于該形成絡(luò)合物的物質(zhì)是阿拉伯樹膠。
8.根據(jù)以上權(quán)利要求中一項(xiàng)的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于該形成絡(luò)合物的物質(zhì)是氨或檸檬酸或氨與檸檬酸的混合物。
9.根據(jù)以上權(quán)利要求中一項(xiàng)的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于這些部分面在用該形成絡(luò)合物的物質(zhì)處理期間經(jīng)受一種弱酸處理。
10.根據(jù)以上權(quán)利要求中一項(xiàng)的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于該電磁輻射是紅外激光輻射。
11.根據(jù)以上權(quán)利要求中一項(xiàng)的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于可覆蓋有兩親分子的該表面(20)具有自然氧化的鈦、鋁、鋼、鋯、鎂或這些金屬的混合物或鈦酸鹽或鋯酸鹽。
12.根據(jù)以上權(quán)利要求中一項(xiàng)的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于兩親分子是一種用脂族殘基或芳族殘基取代的無(wú)機(jī)酸或有機(jī)酸。
13.根據(jù)權(quán)利要求12的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于兩親分子是異羥肟酸或羧酸或膦酸。
14.根據(jù)權(quán)利要求12或13的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于所述殘基具有未被取代的或被取代的碳鏈，其中，碳原子的數(shù)目大于或等于6且小于或等于25。
全文摘要
本發(fā)明涉及用于平版印版(18)成像的方法，在該方法中，該平版印版(18)的覆蓋有兩親分子(22)的表面(20)的部分面通過(guò)電磁輻射曝光。在該平版印版(18)曝光之后且在印刷該平版印版之前，用至少一種形成絡(luò)合物的物質(zhì)來(lái)處理這些部分面，由此得到一個(gè)被結(jié)構(gòu)化成親水區(qū)域(36)及疏水區(qū)域(38)的平版印刷面(18)。
文檔編號(hào)B41M1/06GK101042530SQ2007100897
公開日2007年9月26日 申請(qǐng)日期2007年3月26日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月24日
發(fā)明者馬蒂亞斯·施勒爾霍爾茨, 哈拉爾德·拉策爾, 貝恩德·福塞勒 申請(qǐng)人:海德堡印刷機(jī)械股份公司