本發(fā)明致力于提供一種用于制造微纖化纖維素的方法、適于在所述方法中使用的顆粒研磨介質(zhì)、磨得粗糙的材料以及用于制造所述顆粒研磨介質(zhì)的方法。
背景技術(shù)：
：在WO-A-2010/131016中描述了方法和包括微纖化纖維素的組合物(composition)。包括這種微纖化纖維素的紙制品已經(jīng)展現(xiàn)出諸如紙強(qiáng)度的優(yōu)異紙張?zhí)匦?。在WO-A-2010/131016中描述的方法還使能經(jīng)濟(jì)地生產(chǎn)微纖化纖維素。盡管在WO-A-2010/131016中看到了益處，但仍然需要進(jìn)一步改進(jìn)工業(yè)規(guī)模上生產(chǎn)微纖化纖維素的經(jīng)濟(jì)性和開發(fā)用于生產(chǎn)微纖化纖維素的新工藝。還希望能夠進(jìn)一步發(fā)展或增強(qiáng)微纖化纖維素的一個或多種個特性。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：根據(jù)第一方面，本發(fā)明致力于一種用于制造微纖化纖維素的方法，所述方法包括以下步驟：通過在存在顆粒研磨介質(zhì)的情況下進(jìn)行研磨，使包含纖維素的纖維基質(zhì)微纖化，所述顆粒研磨介質(zhì)在研磨完成之后將被去除，其中，所述顆粒研磨介質(zhì)具有至少大約3.5的比重，并且其中，在研磨開始時，所述顆粒研磨介質(zhì)具有：(i)至少大約0.5μm的表面粗糙度；或(ii)至少大約0.10的平均摩擦系數(shù)；或者(i)和(ii)兩者。根據(jù)第二方面，本發(fā)明致力于顆粒研磨介質(zhì)在微纖化纖維素的制造中的使用，所述顆粒研磨介質(zhì)具有至少大約3.5的比重以及i)至少0.5μm的表面粗糙度，或(ii)至少大約0.10的摩擦系數(shù)，或(i)和(ii)兩者。根據(jù)第三方面，本發(fā)明致力于一種顆粒陶瓷研磨介質(zhì)，該顆粒陶瓷研磨介質(zhì)具有(i)至少大約0.5μm的表面粗糙度，或(ii)至少大約0.10的平均摩擦系數(shù)，或(i)和(ii)兩者，其中，所述研磨介質(zhì)通過燒結(jié)包括氧化鋯(ZrO2)和氧化鋁(Al2O3)中的至少一種的組合物形成。根據(jù)第四方面，本發(fā)明致力于一種顆粒研磨介質(zhì)，該顆粒研磨介質(zhì)在研磨期間磨得粗糙，例如，在這樣一種方法中的研磨期間，該方法包括以下步驟：通過在存在所述顆粒研磨介質(zhì)的情況下進(jìn)行研磨，使包含纖維素的纖維基質(zhì)微纖化，所述顆粒研磨介質(zhì)在研磨完成之后將被去除。所述研磨介質(zhì)可以是陶瓷研磨介質(zhì)。根據(jù)第五方面，本發(fā)明致力于一種顆粒研磨介質(zhì)，該顆粒研磨介質(zhì)具有(i)至少大約1.6μm的表面粗糙度，或(ii)至少大約0.25的平均摩擦系數(shù)，或(i)和(ii)兩者。所述研磨介質(zhì)可以是陶瓷研磨介質(zhì)。根據(jù)第六方面，本發(fā)明致力于一種用于制作根據(jù)第三、第三及第五方面所述的、或者在第一和第二方面中使用的顆粒陶瓷研磨介質(zhì)的方法，所述方法包括：a、獲取、提供或制作包括適于制造所述陶瓷研磨介質(zhì)的原材料的組合物；b、混合包括原材料的所述組合物，形成混合物；c、通過將所述混合物與粘合劑混合，形成粘合混合物；d、通過在降低混合速度的時間段內(nèi)混合所述粘合混合物來顆?；稣澈匣旌衔锝M合物；e、可選地使顆?；慕M合物干燥；f、可選地使顆粒化的組合物成形；g、可選地將顆?；慕M合物按大小分級；以及h、燒結(jié)顆?；慕M合物。根據(jù)第七方面，提供了一種材料，在存在包含纖維素的纖維基質(zhì)的情況下攪拌該材料時，該材料粗糙化或磨得粗糙。根據(jù)第八方面，提供了一種未拋光的顆粒研磨介質(zhì)，該未拋光的顆粒研磨介質(zhì)具有在經(jīng)受磨料接觸時增加至少1％的表面粗糙度。根據(jù)第九方面，提供了一種拋光的顆粒研磨介質(zhì)，該拋光的顆粒研磨介質(zhì)具有在經(jīng)受磨料接觸時增加至少20％的表面粗糙度。根據(jù)第十方面，提供了一種制造微纖化纖維素的方法，所述方法通過在存在顆粒研磨介質(zhì)的情況下進(jìn)行研磨，使包含纖維素的纖維基質(zhì)微纖化，而不需要向所述方法補(bǔ)充新鮮的研磨介質(zhì)，其中，在所述研磨開始時，所述顆粒研磨介質(zhì)具有：(i)至少大約0.5μm的表面粗糙度；或(ii)至少大約0.10的平均摩擦系數(shù)；或者(i)和(ii)兩者。根據(jù)第十一方面，提供了一種同時制造(a)微纖化纖維素和(b)粗糙化顆粒研磨介質(zhì)的方法，所述方法包括：通過在存在顆粒研磨介質(zhì)的情況下進(jìn)行研磨，研磨包含纖維素的纖維基質(zhì)，所述顆粒研磨介質(zhì)在研磨開始時具有：(i)至少大約0.5μm的表面粗糙度；或(ii)至少大約0.10的平均摩擦系數(shù)；或者(i)和(ii)兩者。根據(jù)第十二方面，提供了顆粒研磨介質(zhì)在微纖化纖維素的制造中的使用，以減少生產(chǎn)每單位量的微纖化纖維素的能量輸入，所述顆粒研磨介質(zhì)具有(i)至少大約0.5μm的表面粗糙度，或(ii)至少大約0.10的平均摩擦系數(shù)，或(i)和(ii)兩者。根據(jù)第十三方面，提供了顆粒研磨介質(zhì)在微纖化纖維素的制造中的使用，以改進(jìn)所述微纖化纖維素的一個或更多個特性，所述顆粒研磨介質(zhì)具有(i)至少大約0.5μm的表面粗糙度，或(ii)至少大約0.10的平均摩擦系數(shù)，或(i)和(ii)兩者。附圖說明圖1是利用根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的研磨介質(zhì)與對比研磨介質(zhì)生成的包括微纖化纖維素的紙張的耐破強(qiáng)度的圖。具體實(shí)施方式一般來說，本發(fā)明涉及對WO-A-2010/131016中描述的方法和組合物的修改(例如，改進(jìn))，其全部內(nèi)容通過引用并入于此。微纖化方法根據(jù)本發(fā)明第一方面，該方法包括以下步驟：通過在存在顆粒研磨介質(zhì)的情況下進(jìn)行研磨，來對包含纖維素的纖維基質(zhì)進(jìn)行微纖化，該顆粒研磨介質(zhì)在研磨完成之后將被去除?！拔⒗w化”是指這樣一種工藝，即，纖維素的微纖維被釋放或部分釋放為單獨(dú)物質(zhì)，或釋放為與預(yù)微纖化紙漿的纖維相比較小的聚集體。適用于造紙的典型纖維素纖維(即，預(yù)微纖化紙漿)包括數(shù)百或數(shù)千單個纖維素纖維的較大聚集體。通過微纖化纖維素，向微纖化纖維素和包括微纖化纖維素的組合物賦予特定的特征和特性，包括在此描述的特征和特性。在某些實(shí)施方式中，該顆粒研磨介質(zhì)具有至少大約3.5的比重。在研磨開始時，該研磨介質(zhì)具有：(i)至少大約0.5μm的表面粗糙度；或(ii)至少大約0.10的平均摩擦系數(shù)；或者(i)和(ii)兩者。“顆粒研磨介質(zhì)”是指除了無機(jī)顆粒材料之外的其它介質(zhì)，其在某些實(shí)施方式中與包含纖維素的纖維基質(zhì)共研磨。有利的是，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)顆粒研磨介質(zhì)具有相對粗糙的表面，有助于(例如，增強(qiáng))微纖化纖維素制造期間的微纖維的產(chǎn)生。相信由于在研磨工序期間，具有相對粗糙紋理的顆粒研磨介質(zhì)表面與纖維素纖維的緊密相互作用，因此形成微纖維。不希望受理論束縛，認(rèn)為微纖維生產(chǎn)的機(jī)制是由于顆粒研磨介質(zhì)的相對粗糙表面在研磨期間“鉤住”和“撕裂”和/或“遲緩(delayering)”纖維素。顆粒研磨介質(zhì)與導(dǎo)致微纖化纖維素的纖維素之間的相互作用可以包括介質(zhì)-纖維素碰撞、介質(zhì)顆粒之間或介質(zhì)顆粒與研磨器壁之間的纖維素剪切。在此使用的術(shù)語“在研磨開始時”是指研磨介質(zhì)在被用于研磨工序之前的狀態(tài)。表面粗糙度可以通過光學(xué)干涉測量法來確定，即，通過光學(xué)干涉儀進(jìn)行的、顆粒研磨介質(zhì)的測試表面相對于參考表面的表面形貌的測量。在某些實(shí)施方式中，表面粗糙度根據(jù)以下方法來確定。獲取顆粒研磨介質(zhì)的代表性樣本，并放置在與光學(xué)顯微鏡聯(lián)接的干涉儀中。合適的干涉儀是OmniscanMicroXAM2。合適的光學(xué)顯微鏡是Keyence光學(xué)顯微鏡。代表性樣本由待分析的顆粒研磨介質(zhì)的5個單個顆粒(例如，珠粒)組成，其被從任何給定批次的顆粒研磨介質(zhì)中隨機(jī)選擇。在表面上的兩個不同位置確定每個單個顆粒的表面粗糙度，并將10個結(jié)果(即每個顆粒兩個)平均化。在每個顆粒上的每個位置處分析的表面積的大小是恒定的。在附錄1中提供了合適的干涉儀操作過程。在某些實(shí)施方式中，表面粗糙度根據(jù)附錄1中提供的干涉儀操作過程或提供基本相同結(jié)果的任何其它合適過程來確定。平均摩擦系數(shù)可以通過摩擦力測量術(shù)來確定，即，利用摩擦計(jì)執(zhí)行的、對表面上的摩擦的測量。摩擦計(jì)測量在表面彼此相擦?xí)r的摩擦和磨損的量值。在某些實(shí)施方式中，平均摩擦系數(shù)根據(jù)以下方法來確定。獲取待分析的顆粒研磨介質(zhì)的三個單個試樣(例如，珠粒)，并且每個試樣在摩擦計(jì)中經(jīng)受三次相同的輪次(run)。確定每個輪次的摩擦系數(shù)，得到九個摩擦系數(shù)測量值(即，每個試樣三個)。通過將九個摩擦系數(shù)測量值相加并除以9，獲得平均摩擦系數(shù)。附錄2提供了合適的摩擦計(jì)操作過程。在某些實(shí)施方式中，平均摩擦系數(shù)根據(jù)附錄2中提供的摩擦計(jì)操作過程或生成基本相同結(jié)果的任何其它合適過程來確定。在某些實(shí)施方式中，顆粒研磨介質(zhì)具有大約0.5μm至大約5.0μm的表面粗糙度，例如，從大約0.5μm至大約4.0μm，或從大約0.5μm至大約3.0μm，或從大約0.5μm至大約2.5μm，或從大約0.5μm至大約2.0μm，或從大約0.5μm至大約1.5μm，或從大約0.5μm至大約1.0μm，或從大約0.55μm至大約5.0μm，或從大約0.6μm至大約5.0μm，或從大約0.65μm至大約5.0μm，或從大約0.7μm至大約5.0μm，或從大約0.75μm至大約5.0μm，或從大約0.8μm至大約5.0μm，或從大約0.85μm至大約5.0μm，或從大約0.90至大約5.0μm，或從大約0.95μm至大約0.5μm，或從大約1.0μm至大約5.0μm。在某些實(shí)施方式中，表面粗糙度等于或小于大約5.0μm，例如，等于或小于大約4.5μm，或等于或小于大約4.0μm，或等于或小于大約3.5μm，或等于或小于大約大約3.0μm，或等于或小于大約2.8μm，或等于或小于大約2.6μm，或等于或小于大約2.4μm，或等于或小于大約2.2μm，或等于或小于大于大約2.0μm，或等于或小于大約1.8μm，或等于或小于大約1.6μm，或等于或小于大約1.4μm，或等于或小于大約1.2μm，或等于或小于大約1.0μm。在某些實(shí)施方式中，顆粒研磨介質(zhì)具有至少大約0.55μm的表面粗糙度，例如，至少大約0.6μm，或至少大約0.65μm，或至少大約0.7μm，或至少大約0.75μm，或至少大約0.8μm，或至少大約0.85μm，或至少大約0.9μm，或至少大約0.95μm，或至少大約1.0μm，或至少大約1.05μm，或至少大約1.1μm，或至少大約1.15μm，或至少大約1.2μm，或至少大約1.25μm，或至少大約1.3μm，或至少大約1.35μm，或至少大約1.4μm，或至少大約1.45μm，或至少大約1.5μm，或至少大約1.55μm，或至少大約1.6μm，或至少大約1.65μm，或至少大約1.7μm，或至少大約1.75μm，或至少大約1.8μm，或至少大約1.85μm，或至少大約1.9μm，或至少大約1.95μm，或至少大約2.0μm，或至少大約2.05μm，或至少大約2.1μm，或至少大約2.15μm，或至少大約2.2μm，或至少大約2.25μm，或至少大約2.3μm，或至少大約2.35μm，或至少大約2.4μm，或至少大約2.45μm，或至少大約2.5μm，或至少大約2.55μm，或至少大約2.6μm，或至少大約2.65μm，或至少大約2.7μm，或至少大約2.75μm，或至少大約2.8μm，或至少大約2.85μm，或至少大約2.9μm，或在至少大約2.95μm，或至少大約3.0μm。在某些實(shí)施方式中，例如在第五方面的某些實(shí)施方式中，顆粒研磨介質(zhì)具有至少大約1.6μm的表面粗糙度，例如，從大約1.6μm至大約5.0μm，或至少大約1.7μm，或至少大約1.8μm，或至少大約1.9μm，或至少大約2.0μm，或至少大約2.1μm，或至少大約2.2μm，或至少大約2.3μm，或至少大約2.4μm，或至少大約2.5μm，或至少大約2.6μm，或至少大約2.7μm，或至少大約2.8μm，或至少大約2.9μm，或至少大約3.0μm，或至少大約3.1μm，或至少大約3.2μm，或至少大約3.3μm，或至少大約3.4μm，或至少大約3.5μm，或至少大約3.6μm，或至少大約3.7μm，或至少大約3.8μm，或至少大約3.9μm，或至少大約4.0μm。在某些實(shí)施方式中，表面粗糙度等于或小于大約5.0μm，例如，等于或小于大約4.5μm，或等于或小于大約4.0μm。在某些實(shí)施方式中，顆粒研磨介質(zhì)具有大約0.10至大約0.50的平均摩擦系數(shù)，例如，從大約0.15至大約0.50，或從大約0.175至大約0.50，或從大約0.20至大約0.50，或從大約0.225至大約0.50，或從大約0.25至大約0.50，或從大約0.275至大約0.50，或從大約0.30至大約0.50，或從大約0.325至大約0.50，或從大約0.35至大約0.50，或從大約0.375至大約0.50，或從大約0.40至大約0.50。在某些實(shí)施方式中，平均摩擦系數(shù)等于或小于大約0.50，例如，等于或小于大約0.48，或等于或小于大約0.46，或等于或小于大約0.44，或等于或小于大約0.42，或等于或小于大約0.40，或等于或小于大約0.39，或等于或小于大約0.38，或等于或小于大約0.37，或等于或小于大約0.36，或等于或小于大約0.35。在某些實(shí)施方式中，平均摩擦系數(shù)為至少大約0.15，例如，至少大約0.175，或至少大約0.20，或至少大約0.225，或至少大約0.25，或至少大約0.275，或至少大約0.30。在某些實(shí)施方式中，研磨介質(zhì)具有從大約0.5μm至大約5.0μm的表面粗糙度和從大約0.10至大約0.50的平均摩擦系數(shù)，例如，從大約0.75μm至大約5.0μm的表面粗糙度和從大約0.10至大約0.50的平均摩擦系數(shù)，或從大約1.0μm至大約5.0μm的表面粗糙度和從大約0.10至大約0.50的平均摩擦系數(shù)，或從大約1.0μm至大約5.0μm的表面粗糙度和從大約0.10至大約0.50的平均摩擦系數(shù)，或從大約0.5μm至大約5.0μm的表面粗糙度和從大約0.20至大約0.50的平均摩擦系數(shù)，或從大約0.5μm至大約5.0μm的表面粗糙度和從大約0.25至大約0.50的平均摩擦系數(shù)，或從大約0.5μm至大約5.0μm的表面粗糙度和從大約0.30至大約0.50的平均摩擦系數(shù)，或者從大約0.75μm至大約4.0μm的表面粗糙度和從大約0.20至大約0.40的平均摩擦系數(shù)，或從大約0.75μm至大約3.5μm的表面粗糙度和從大約0.25至大約0.40的平均摩擦系數(shù)。在某些實(shí)施方式中，例如在第五方面的某些實(shí)施方式中，顆粒研磨介質(zhì)具有至少大約0.26的平均摩擦系數(shù)，例如，至少大約0.28，或至少大約0.30，或至少大約0.32，或至少大約0.34，或至少大約0.36，或至少大約0.38，或至少大約0.40，或至少大約0.42，或至少大約0.44，或至少大約0.46，或至少大約0.48，或至少大約0.50。在某些實(shí)施方式中，摩擦系數(shù)不大于大約0.80，例如，不大于大約0.75，或不大于大約0.70，或不大于大約0.65，或不大于大約0.60，或不大于大約0.55。在某些實(shí)施方式中，在研磨完成之后，顆粒研磨介質(zhì)的表面粗糙度為研磨開始時的表面粗糙度的至少大約90％，例如，在研磨開始時的表面粗糙度的至少大約92％，或表面粗糙度的至少大約94％，或表面粗糙度的至少大約96％，或表面粗糙度的至少大約98％，或表面粗糙度的至少大約99％，如根據(jù)在此描述的方法確定的。如在此使用的，術(shù)語“在研磨完成之后”是指在根據(jù)本發(fā)明第一方面的方法中使用之后的研磨介質(zhì)的狀態(tài)，即，用于制造微纖化纖維素的方法，該方法包括以下步驟：通過在存在研磨介質(zhì)的情況下研磨來微纖化包含纖維素的纖維基質(zhì)，例如，用于制造具有從20至50的纖維陡度的微纖化纖維素的方法。所述方法可以在存在或不存在可研磨的無機(jī)顆粒材料的情況下進(jìn)行。在某些實(shí)施方式中，在研磨完成之后，表面粗糙度至少和研磨開始時的表面粗糙度相同，如根據(jù)在此描述的方法所確定的。在某些實(shí)施方式中，顆粒研磨介質(zhì)在研磨期間磨得粗糙，使得在研磨完成之后，表面粗糙度大于研磨開始時的表面粗糙度，如根據(jù)在此描述的方法所確定的。例如，在某些實(shí)施方式中，表面粗糙度在研磨期間增加至少大約1％(即，研磨工序結(jié)束時的表面粗糙度比研磨工序開始時的表面粗糙度大至少大約1％)，或者在研磨期間增加至少大約2％，或在研磨期間增加至少3％，或在研磨期間增加至少4％，或在研磨期間增加至少5％，或在研磨期間增加至少6％，在研磨期間至少7％，或在研磨期間增加至少8％，或在研磨期間增加至少9％，或在研磨期間增加至少10％，或在研磨期間增加至少11％，或增加在研磨期間至少12％，或在研磨期間增加至少13％，或在研磨期間增加至少14％，或在研磨期間增加至少15％，或在研磨期間增加至少16％，或增加在研磨期間至少17％，或在研磨期間增加至少18％，或在研磨期間增加至少19％，或在研磨期間增加直至大約20％。在研磨期間磨得粗糙(或至少保持其初始表面粗糙度的至少90％)的研磨介質(zhì)的提供和使用與常規(guī)研磨介質(zhì)相反，常規(guī)研磨介質(zhì)在研磨期間通常會變得平滑。已經(jīng)具有大于常規(guī)研磨介質(zhì)的表面粗糙度并且在研磨工序期間另外磨得粗糙的研磨介質(zhì)的提供和使用可以提供額外的益處，舉例來說，如在研磨工序期間持續(xù)節(jié)省總能量輸入，和/或在一種或更多種特性(例如，微纖化纖維素和/或包括微纖化纖維素的紙產(chǎn)品的強(qiáng)度特性(例如，耐破強(qiáng)度))方面的額外改進(jìn)，和/或更少甚或不需要向研磨工序補(bǔ)充具有所需表面粗糙度和/或摩擦系數(shù)的新鮮研磨介質(zhì)。因而，在某些實(shí)施方式中，提供了一種制造微纖化纖維素的方法，如在此描述的，所述方法通過在存在顆粒研磨介質(zhì)的情況下進(jìn)行研磨，來對包含纖維素的纖維基質(zhì)進(jìn)行微纖化，而不需要向所述方法補(bǔ)充新鮮研磨介質(zhì)，其中，在所述研磨開始時，所述顆粒研磨介質(zhì)具有：(i)至少大約0.5μm的表面粗糙度；或(ii)至少大約0.10的平均摩擦系數(shù)；或者(i)和(ii)兩者。而且，根據(jù)某些實(shí)施方式，提供了一種同時制造(a)微纖化纖維素和(b)粗糙化顆粒研磨介質(zhì)的方法，如在此描述的，所述方法包括以下步驟：通過在存在顆粒研磨介質(zhì)的情況下進(jìn)行研磨，來對包含纖維素的纖維基質(zhì)進(jìn)行研磨，該顆粒研磨介質(zhì)在研磨開始時具有：(i)至少大約0.5μm的表面粗糙度；或(ii)至少大約0.10的平均摩擦系數(shù)；或者(i)和(ii)兩者。另選或另外地，另外有利的是，在某些實(shí)施方式中，在研磨完成之后，平均摩擦系數(shù)是在研磨開始時的平均摩擦系數(shù)的至少大約90％，例如，在研磨開始時的平均摩擦系數(shù)的至少大約92％，或者在研磨開始時的平均摩擦系數(shù)的至少大約94％，或在研磨開始時的平均摩擦系數(shù)的至少大約96％，或在開始時的平均摩擦系數(shù)的至少大約98％，或者研磨開始時的平均摩擦系數(shù)的至少大約99％，如根據(jù)在此描述的方法所確定的。在某些實(shí)施方式中，在研磨完成后，平均摩擦系數(shù)至少與研磨開始時的表面粗糙度相同，如根據(jù)在此描述的方法所確定的。在某些實(shí)施方式中，顆粒研磨介質(zhì)在研磨期間磨得粗糙，使得在研磨完成后，平均摩擦系數(shù)大于研磨開始時的平均摩擦系數(shù)，如根據(jù)在此描述的方法所確定的。例如，在某些實(shí)施方式中，平均摩擦系數(shù)在研磨期間增加至少大約1％，或在研磨期間增加至少大約2％，或在研磨期間增加至少3％，或在研磨期間增加至少4％，或在研磨期間增加至少4％，或在研磨期間增加至少5％，或在研磨期間增加至少6％，或在研磨期間增加至少7％，或在研磨期間增加至少8％，或在研磨期間增加至少9％，或在研磨期間增加至少10％，或在研磨期間增加至少11％，或在研磨期間增加至少12％，或在研磨期間增加至少13％，或在研磨期間增加至少14％，或在研磨期間增加至少15％，或在研磨期間增加至少16％，或在研磨期間增加至少17％，或在研磨期間增加至少18％，或在研磨期間增加至少19％，或在研磨期間增加直至大約20％。還應(yīng)明白，在某些實(shí)施方式中，具有小于0.5μm的表面粗糙度和/或小于0.10的平均系數(shù)的相對小數(shù)量的顆粒(例如，100個顆粒的代表性樣品中的五個或更少的顆粒)可以呈現(xiàn)為其中制造或處理研磨介質(zhì)顆粒的工序的副產(chǎn)品。在某些實(shí)施方式中，顆粒研磨介質(zhì)具有從大約3.5至大約8.0的比重，例如，從大約3.5至大約7.0，或從大約3.5至大約6.5，或至少大約3.6，或至少大約3.7，或至少大約3.8，或至少大約3.9，或至少大約4.0，或至少大約4.1，或至少大約4.2，或至少大約4.3，或至少大約4.4，或至少大約4.5，或至少大約4.6，或至少大約4.7，或至少大約4.8，或至少大約4.9，或至少大約5.0，或至少大約5.1，或至少大約5.2，或至少大約5.3，或至少大約5.4，或至少大約5.5，或至少大約5.6，或至少大約5.6，或至少大約5.7，或至少大約5.8，或至少大約5.9，或至少大約6.0的比重。較高的比重是優(yōu)選的，因?yàn)檫@種研磨介質(zhì)在制造微纖化纖維素期間具有降低的甚或沒有從研磨容器(例如塔式粉碎機(jī))中淘選(elutriate)的趨勢。另外，較高的比重允許增加磨機(jī)生產(chǎn)率和利用率。這是因?yàn)楦旅艿慕橘|(zhì)導(dǎo)致更高的馬達(dá)功率消耗(即，更高的馬達(dá)效率)；當(dāng)利用較高比重的介質(zhì)時，在研磨機(jī)體積內(nèi)每單位時間有更多的能量傳遞至顆粒。結(jié)果，縮短了達(dá)到目標(biāo)能量或顆粒尺寸的時間。在某些實(shí)施方式中，顆粒研磨介質(zhì)包括顆粒尺寸在從大約0.5mm至大約15mm的范圍內(nèi)的顆粒、基本上由這樣的顆粒組成，或者由這樣的顆粒組成，例如，從大約0.5mm至大約12mm，例如，從大約1mm至大約10mm，或從大約1mm至大約8mm，或從大約1mm至大約6mm，或從大約1mm至大約5mm，或從大約1mm至大約4mm，或從大約1mm至大約3mm的范圍內(nèi)。本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，在本文中使用的術(shù)語“顆粒尺寸”是指顆粒通過具有對應(yīng)于顆粒尺寸的孔徑尺寸的濾網(wǎng)。因此，舉例來說，使顆粒通過具有8mm孔徑尺寸的濾網(wǎng)將產(chǎn)生具有不大于8mm的顆粒尺寸的研磨介質(zhì)顆粒。類似地，具有從大約1mm至大約3mm的顆粒尺寸的研磨介質(zhì)意味著分別利用具有大約1mm(最小)和大約3mm(最大)孔徑尺寸的篩網(wǎng)可以獲取該研磨介質(zhì)。顆粒研磨介質(zhì)可以由天然或合成材料形成，例如，由適于用作研磨介質(zhì)的致密、硬質(zhì)礦物、陶瓷或金屬材料形成。在某些實(shí)施方式中，所述顆粒研磨介質(zhì)是陶瓷研磨介質(zhì)。這種材料包括氧化鋁、氧化鋯、硅酸鋯、氧化釔、二氧化鈰，或氧化釔和/或二氧化鈰穩(wěn)定的氧化鋯的材料，及其混合物。在某些實(shí)施方式中，顆粒陶瓷研磨介質(zhì)可以具有多于一種材料的復(fù)合結(jié)構(gòu)，例如，氧化鋁和氧化鋯，或氧化鋁和硅酸鋯，或氧化鋁和多鋁紅柱石(mullite)。在某些實(shí)施方式中，顆粒研磨介質(zhì)不專門由多鋁紅柱石組成。在某些實(shí)施方式中，顆粒研磨介質(zhì)不包含多鋁紅柱石?？梢耘渲祁w粒研磨介質(zhì)，以將SiO2含量限制到特定的低水平，例如，小于大約4重量％，并且優(yōu)選為不大于大約2重量％。顆粒研磨介質(zhì)可以包含不超過10重量百分比的氧化鐵，例如，不超過8重量％的氧化鐵，或不超過6重量％的氧化鐵，或不超過4重量％的氧化鐵，或不超過2重量％的氧化鐵，或不超過1重量％的氧化鐵。在第一或第二方面的某些實(shí)施方式中，該顆粒研磨介質(zhì)是根據(jù)第三方面所述的顆粒研磨介質(zhì)，如下詳細(xì)描述的。顆粒研磨介質(zhì)可以包括任何合適形狀的顆粒，例如，球、珠、磨段(cylpeb)、團(tuán)粒(pallet)、桿、圓盤、立方體、環(huán)形體、圓錐體等。在某些實(shí)施方式中，顆粒研磨介質(zhì)包括大致球形的顆粒，例如，球和/或珠。例如，研磨介質(zhì)可以包括至少10重量％的大致球形的顆粒，或者可以包括至少20重量％的大致球形的顆粒，或可以包括至少30重量％的大致球形的顆粒，或者可以包括至少40重量％的大致球形的顆粒，或者可以包括至少50重量％的大致球形的顆粒，或者可以包括至少60重量％的大致球形的顆粒，或者可以包括至少70重量％的大致球形的顆粒，或者可以包括至少80重量％的大致球形的顆粒，或者可以包括至少90重量％的大致球形的顆粒，或者可以基本上僅包括(例如95重量％或以上，或者至少99重量％)大致球形的顆粒。在某些實(shí)施方式中，研磨介質(zhì)包括桿狀顆粒，例如，具有等于或大于大約2:1的縱橫比的桿狀顆粒。桿狀顆粒是具有沿著主體的限定外表面的長度延伸的軸和相對端面的實(shí)體。外表面和相對端面一起限定主體。在某些實(shí)施方式中，縱向軸基本上是直線的，由此，意味著表示兩端之間的最短距離的線完全落入主體內(nèi)。在其它實(shí)施方式中，桿狀粒子可以采取其中軸為曲線的弧形形式，并且表示最短距離的線不完全落入主體內(nèi)。設(shè)想具有直線軸的桿狀體和具有弓形形狀的主體的混合物，作為這樣的實(shí)施方式，其中，大致所有(例如，90重量％或95重量％或99重量％)的、縱橫比為2:1或更大的桿狀顆粒具有直線形式或者具有弓形形式。在某些實(shí)施方式中，桿狀顆粒的橫截面沿著顆粒的長度大致恒定?！按笾潞愣ā笔侵笝M截面的主要尺度不變化，例如，大于20％或大于10％或大于5％。在另一實(shí)施方式中，桿狀顆粒的橫截面沿顆粒的長度變化，例如，變化達(dá)大于20％。例如，桿狀顆粒的主體可以采取桶的形式，其中，顆粒的主體的每個端部處的橫截面小于在所述端部之間測量到的橫截面；或者例如，桿狀顆粒的主體可以采取反向桶(inversebarrel)的形式，其中，顆粒的每個端部處的橫截面大于在所述端部之間測量到的橫截面。桿狀顆粒的橫截面形狀可以是對稱或不對稱的。例如，橫截面形狀可以是圓形或大致圓形，或者可以是大致卵形。其它形狀包括角形狀，如三角形、正方形、矩形、星形(五和六角形、菱形等。外部縱向表面和相對端面之間的邊界可以是有角的，即，具有離散的尖銳邊界，或者無角的，即，圓形或倒圓的。端表面可以是平的、凸的或凹的。如前提到的，桿狀顆粒的縱橫比有利地為2:1或大于2:1。縱橫比應(yīng)理解為顆粒的最長尺度與最短尺度的比率。出于本目的，最長尺度是桿狀顆粒的軸向長度。在顆粒沿其長度具有恒定橫截面的情況下，出于限定縱橫比的目的的最短尺度是穿過顆粒橫截面的幾何中心的橫截面的最大尺度。在橫截面沿著顆粒的長度改變的情況下，出于限定縱橫比的目的的最短尺度是橫截面最大的點(diǎn)處的最大尺度。在顆粒具有不規(guī)則形狀的橫截面的情況下，出于限定縱橫比的目的的最短尺度是垂直于桿狀顆粒的軸的最大橫向尺度。用于本發(fā)明的某些實(shí)施方式的合適的桿狀顆粒的示例是具有大致直線軸和大致圓形橫截面的顆粒。用于本發(fā)明的某些實(shí)施方式的合適的桿狀顆粒的另一示例是具有弧形形式和大致圓形橫截面的顆粒。在這兩個示例中，外部縱向表面與相對端面之間的邊界是圓形的，并且端部總體上是平坦的或凸起的。在某些實(shí)施方式中，桿狀顆粒的縱橫比為2.5:1或大于2.5:1，或縱橫比為3:1或大于3:1，或縱橫比為4:1或大于4:1，或縱橫比為5:1或大于5:1，或縱橫比為6:1或大于6:1?？v橫比可以為10:1或小于10:1，或可以為9:1或小于9:1，或可以為8:1或小于8:1，或可以為7:1或小于7:1。或可以為6:1或小于6:1，或可以為5:1或小于5:1?？v橫比可以在從2:1至10:1的范圍內(nèi)，或者可以在從2:1至5:1的范圍內(nèi)，或者可以在從3:1至8:1的范圍內(nèi)，或者可以在從3:1至6:1的范圍內(nèi)。在某些實(shí)施方式中，桿狀粒子的軸向長度范圍為從大約1mm至大約5mm，或從大約2mm至大約4mm。在另一實(shí)施方式中，桿長度小于大約3mm。在某些實(shí)施方式中，研磨介質(zhì)可以包括(即，除了具有2:1或更大的縱橫比的桿狀顆粒以外)其它顆粒，這些其它顆粒選自具有小于2:1的縱橫比的桿狀顆粒和具有其它形狀(如球體、磨段、立方體、圓盤、環(huán)形體、圓錐體等)的顆粒。例如，研磨介質(zhì)可以包括至少10重量％的縱橫比為2:1或更大的桿狀顆粒，或者可以包括至少20重量％的縱橫比為2:1或更大的桿狀顆粒，或者可以包括至少30重量％的縱橫比為2:1或更大的桿狀顆粒，或者可以包括至少40重量％的縱橫比為2:1或更大的桿狀顆粒，或者可以包括至少50重量％的縱橫比為2:1或更大的桿狀顆粒，或者可以包括至少60重量％的縱橫比為2:1或者更大的桿狀顆粒，或者可以包括至少70重量％的縱橫比為2:1或更大的桿狀顆粒，或者可以包括至少80重量％的縱橫比為2:1或更大的桿狀顆粒，或者可以包括至少90重量％的縱橫比為2:1或更大的桿狀顆粒，或者可以基本上僅包括(例如，95重量％或以上)縱橫比為2:1或更大的桿狀顆粒。還應(yīng)理解，在本發(fā)明的某些實(shí)施方式中，縱橫比小于2:1的相對少量的成形顆粒可以作為制造或處理顆粒的工序的副產(chǎn)品而存在。類似地，具有相對高的縱橫比(舉例來說，如大于大約10:1)的桿狀顆粒可以被添加至研磨工序，在該情況下，這些桿可以在研磨工序期間折斷(snap)至它們自己的優(yōu)選長度。還將理解，隨著研磨工序的進(jìn)行，至少一些桿狀顆粒的形狀可能演變，致使端部變圓，從而縱橫比降低，并且在一些情況下，原始桿狀顆?？赡茏罱K變成小球體，因此典型的成熟研磨機(jī)可能含有桿、磨損的桿、甚或球體。因此，初始具有至少2:1或更大的縱橫比的桿狀顆粒的“加工(worked-in)”樣品可以包含在形狀上與包括在原始介質(zhì)中的桿狀顆粒稍微不同的大部分顆粒(如果加工時間足夠長)。研磨機(jī)可以利用包括縱橫比為2:1或更大的桿狀顆粒的新鮮介質(zhì)加滿。包含纖維素的纖維基質(zhì)可以衍生自任何合適的來源，諸如木材、禾草(例如，甘蔗、竹)或碎布(例如，紡織廢物、棉花、大麻或亞麻)。包含纖維素的纖維基質(zhì)可以是紙漿(即，纖維素纖維懸浮在水中)的形式，其可通過任何合適的化學(xué)或機(jī)械處理或其組合來制備。例如，紙漿可以是化學(xué)紙漿，或化學(xué)熱機(jī)械紙漿，或機(jī)械紙漿，或再生紙漿，或造紙廠廢紙，或造紙廢水，或來自造紙廠的廢物，或其組合。纖維素紙漿可以被打漿(例如，在Valley打漿機(jī)中)和/或以其它方式精制(例如，在錐形或板式精漿機(jī)中加工)至任何預(yù)定的游離度，在本領(lǐng)域中稱為加拿大標(biāo)準(zhǔn)游離度(CSF)，以cm3計(jì)。CSF是指根據(jù)紙漿懸浮液可以排出的速率測量的紙漿的游離度或排放速率的值。例如，在微纖化之前，纖維素紙漿可以具有大約10cm3或更大的加拿大標(biāo)準(zhǔn)游離度。纖維素紙漿可以具有大約700cm3或更小的CSF，例如，等于或小于大約650cm3，或等于或小于大約600cm3，或等于或小于大約550cm3，小于大約500cm3，或等于或小于大約450cm3，或等于或小于大約400cm3，或等于或小于大約350cm3，或等于或小于大約300cm3，或等于或小于大約300cm3，小于大約250cm3，或等于或小于大約200cm3，或等于或小于大約150cm3，或等于或小于大約100cm3，或等于或小于大約50cm3。然后，可以通過本領(lǐng)域公知的方法將纖維素紙漿脫水，例如，可以通過篩網(wǎng)過濾紙漿，以便獲取包括至少大約10％固體的濕片材，例如，至少大約15％固體，或至少大約20％固體，或至少大約30％固體，或至少大約40％固體。紙漿可以在未精制的狀態(tài)使用，即，不被打漿或脫水，或以其它方式精制。微纖化的步驟可以在任何合適的裝置中進(jìn)行，包括但不限于精漿機(jī)。在一個實(shí)施方式中，該微纖化步驟在研磨容器中進(jìn)行。該微纖化步驟可以在水環(huán)境中執(zhí)行，即，在濕磨條件下執(zhí)行。在另一實(shí)施方式中，該微纖化步驟在均質(zhì)器中執(zhí)行。在某些實(shí)施方式中，在存在可研磨的無機(jī)顆粒材料的情況下執(zhí)行微纖化工序，例如，研磨。在某些實(shí)施方式中，在不存在可研磨的無機(jī)顆粒材料的情況下執(zhí)行研磨。研磨介質(zhì)可以以填料體積的直至大約70％的量存在。研磨介質(zhì)可以以填料體積的至少大約10％的量存在，例如、填料體積的至少大約20％，或填料體積的至少大約30％，或填料體積的至少大約40％，或填料體積的至少大約50％，或填料體積的至少大約60％。在某些實(shí)施方式中，研磨介質(zhì)以填料體積的大約30％至大約70％的量存在，例如，填料體積的大約40％至大約60％，例如，填料體積的大約45％至大約55％?！疤盍?charge)”是指作為進(jìn)給至研磨容器的進(jìn)料的組合物。填料包括水(當(dāng)存在時)、研磨介質(zhì)、包含纖維素和無機(jī)顆粒材料(當(dāng)存在時)的纖維基材以及如在此描述的任何其它可選添加劑(當(dāng)存在時)。研磨可以在立式磨機(jī)或臥式磨機(jī)中執(zhí)行。在某些實(shí)施方式中，研磨在研磨容器中執(zhí)行，如滾磨機(jī)(例如、桿、球以及自體(autogenous))、攪拌磨(例如，SAM或IsaMill)、塔磨機(jī)、攪拌介質(zhì)磨(SMD:StirredMediaDetritor)，或研磨容器，其包括旋轉(zhuǎn)的平行研磨板，在平行研磨板之間進(jìn)給待研磨的進(jìn)料。在一個實(shí)施方式中，研磨容器是立式磨，例如，攪拌磨，或攪拌介質(zhì)磨，或塔磨機(jī)。立式磨機(jī)可以包括處于一個或更多個研磨區(qū)域上方的篩網(wǎng)。在一實(shí)施方式中，篩網(wǎng)與靜止區(qū)域和/或分類器相鄰地設(shè)置。篩網(wǎng)的尺寸可以調(diào)整成將研磨介質(zhì)與包括微纖化纖維素和無機(jī)顆粒材料的產(chǎn)品水懸浮液分離開，并增強(qiáng)研磨介質(zhì)沉積。在一個實(shí)施方式中，研磨容器是塔磨機(jī)。塔磨機(jī)可以包括處于一個或更多個研磨區(qū)上方的靜止區(qū)。靜止區(qū)是朝向塔磨機(jī)內(nèi)頂部定位的區(qū)域，在該區(qū)域中，進(jìn)行最小研磨或不進(jìn)行研磨，并且包括微纖化纖維素和(若存在的話)無機(jī)顆粒材料。該靜止區(qū)域是研磨介質(zhì)的顆粒向下沉積到塔磨機(jī)的一個或更多個研磨區(qū)域中的區(qū)域。塔磨機(jī)可以包括貫穿其長度的、配備有一系列葉輪轉(zhuǎn)子盤的豎直葉輪軸。葉輪轉(zhuǎn)子盤的動作在整個磨機(jī)中產(chǎn)生一系列離散的研磨區(qū)。塔磨機(jī)可以包括處于一個或更多個研磨區(qū)域上方的分類器。在實(shí)施方式中，分類器被頂部安裝并位于靜止區(qū)附近。分類器可以是水力旋流器。塔磨機(jī)可以包括處于一個或更多個研磨區(qū)域上方的篩網(wǎng)。在實(shí)施方式中，篩網(wǎng)位于靜止區(qū)域和/或分類器附近。篩網(wǎng)的尺寸可以被調(diào)整成分離研磨介質(zhì)與包括微纖化纖維素和(若存在的話)無機(jī)顆粒材料的產(chǎn)品水懸浮液，并增強(qiáng)研磨介質(zhì)沉積。在另一實(shí)施方式中，研磨在篩分研磨機(jī)中執(zhí)行，例如，攪拌介質(zhì)磨。篩分研磨機(jī)可以包括一個或更多個篩網(wǎng)，篩網(wǎng)的尺寸被調(diào)整成將研磨介質(zhì)與包括微纖化纖維素和無機(jī)顆粒材料的產(chǎn)品水懸浮液分離。篩分研磨機(jī)可以包括具有至少大約250μm的標(biāo)稱孔徑尺寸的一個或更多個篩網(wǎng)，例如，所述一個或更多個篩網(wǎng)可以具有以下的標(biāo)稱孔徑尺寸：至少大約300μm、或至少大約350μm、或至少大約400μm，或至少大約450μm，或至少大約500μm，或至少大約550μm，或至少大約600μm，或至少大約650μm，或至少大約700μm，或至少大約750μm，或至少大約800μm，或至少大約850μm，或至少大約900μm，或至少大約1000μm，或至少大約1250μm，或至少大約1500μm。在某些實(shí)施方式中，篩分研磨機(jī)可以包括具有直至大約4000μm的標(biāo)稱孔徑尺寸的一個或更多個篩網(wǎng)，例如，直至大約3500μm，或直至大約3000μm，或直至大約2500μm，或直至大約2000μm。在某些實(shí)施方式中，初始固體含量的至少大約5重量％可以是包含纖維素的纖維基質(zhì)，例如，初始固體含量的至少大約10重量％，或至少大約15重量％，或至少大約20重量％可以是包含纖維素的纖維基質(zhì)。如在此描述的，在本方法中使用的能量總量(即，總能量輸入)可以小于在對比方法中使用的能量總量，在該對比方法中，顆粒研磨介質(zhì)在研磨開始時具有的(i)不太粗糙的表面粗糙度和/或(ii)比本發(fā)明第一方面的方法所需平均摩擦系數(shù)小的平均摩擦系數(shù)。這樣，本發(fā)明人驚奇地發(fā)現(xiàn)，當(dāng)纖維素紙漿在存在具有(i)至少大約0.5μm的表面粗糙度，或(ii)至少大約0.10的平均摩擦系數(shù)，或(i)和(ii)兩者的顆粒研磨介質(zhì)的情況下研磨時，可以在相對較低的能量輸入下進(jìn)行微纖化。換句話說，可以使用顆粒研磨介質(zhì)，以便減少生產(chǎn)每單位量的微纖化纖維素的能量輸入。而且，如上所述，在某些實(shí)施方式中，使用顆粒研磨介質(zhì)(該顆粒研磨介質(zhì)具有(i)至少大約0.5μm的表面粗糙度，或(ii)至少大約0.10的平均摩擦系數(shù)，或(i)和(ii)兩者)可以改善微纖化纖維素的一個或多個特性，例如，微纖化纖維素和/或包括微纖化纖維素的紙產(chǎn)品的強(qiáng)度特性(例如，耐破強(qiáng)度)。當(dāng)存在時，無機(jī)顆粒材料例如可以是堿土金屬碳酸鹽或硫酸鹽，如碳酸鈣、碳酸鎂、白云石、石膏、含水高嶺石族礦物(kandite)粘土(諸如高嶺土、多水高嶺土或球粘土)、無水(焙燒)高嶺石族礦物粘土(諸如偏高嶺土或完全焙燒的高嶺土)、滑石、云母，珍珠巖或硅藻土，或氫氧化鎂，或三水合氟合鋁，或其組合。在某些實(shí)施方式中，無機(jī)顆粒材料包括碳酸鈣或者是碳酸鈣。在下文中，本發(fā)明的某些實(shí)施方式可以趨于用碳酸鈣來討論，并且涉及碳酸鈣被加工和/或處理的方面。本發(fā)明不應(yīng)被解釋為限于這種實(shí)施方式。在本發(fā)明的某些實(shí)施方式中使用的顆粒碳酸鈣可以通過研磨從天然來源獲取。研磨碳酸鈣(GCC)通常通過粉碎并接著研磨礦物來源(諸如白堊、大理石或石灰石)而獲取，其隨后可以進(jìn)行顆粒尺寸分類步驟，以便獲取具有希望細(xì)度的產(chǎn)品。也可以使用其它技術(shù)(諸如漂白、浮選以及磁分離)，來獲取具有希望細(xì)度和/或顏色的產(chǎn)品。顆粒固體材料可以自體研磨，即，通過固體材料本身的顆粒之間的磨擦，或者另選地，在包括與待研磨的碳酸鈣不同的材料的顆粒的顆粒研磨介質(zhì)的情況下。這些工序可以在存在或不存在可在工序的任何階段加入的分散劑和殺生物劑的情況下執(zhí)行。在本發(fā)明的某些實(shí)施方式中，沉淀碳酸鈣(PCC)可以用作顆粒碳酸鈣的來源，并且可以通過本領(lǐng)域可用的任何已知方法生產(chǎn)。TAPPIMonographSeriesNo30，“PaperCoatingPigments”，第34-35頁描述了用于制備沉淀碳酸鈣的三種主要的商業(yè)工藝，其適用于制備用于造紙工業(yè)的產(chǎn)品，但也可用于本發(fā)明某些實(shí)施方式的實(shí)踐中。在所有三種工藝中，首先將碳酸鈣進(jìn)給材料(如石灰石)焙燒以產(chǎn)生生石灰，然后將生石灰在水中熟化以產(chǎn)生氫氧化鈣或石灰乳。在第一種工藝中，石灰乳直接用二氧化碳?xì)怏w碳酸化。該工藝具有不形成副產(chǎn)品的優(yōu)點(diǎn)，并且相對容易控制碳酸鈣產(chǎn)品的特性和純度。在第二種工藝中，石灰乳與蘇打灰接觸，以通過復(fù)分解來產(chǎn)生碳酸鈣沉淀物和氫氧化鈉溶液。如果該工藝在商業(yè)上使用，則氫氧化鈉可以大致完全與碳酸鈣分離。在第三個主要的商業(yè)工藝中，石灰乳首先與氯化銨接觸，以得到氯化鈣溶液和氨氣。然后將氯化鈣溶液與蘇打灰接觸，以通過復(fù)分解產(chǎn)生沉淀的碳酸鈣和氯化鈉溶液。根據(jù)所使用的具體反應(yīng)工藝，晶體可以按照多種不同的形狀和尺寸生成。PCC晶體的三種主要形式是文石、菱面體以及偏三角面體，所有這些形式都適用于本發(fā)明的某些實(shí)施方式，包括其混合物。碳酸鈣的濕法研磨涉及形成碳酸鈣的水懸浮液，其然后可以可選地在存在合適分散劑情況下加以研磨。針對有關(guān)碳酸鈣的濕磨的更多信息，例如可以參考EP-A-614948(其內(nèi)容通過引用整體而并入于此)。在一些情況下，可以包括少量添加的其它礦物質(zhì)，例如，也可以存在高嶺土、焙燒高嶺土、硅灰石、鋁土礦、滑石或云母中的一種或多種。當(dāng)從天然存在的來源獲取無機(jī)顆粒材料時，可能一些礦物雜質(zhì)將污染研磨材料。例如，天然存在的碳酸鈣可以與其它礦物質(zhì)關(guān)聯(lián)存在。因此，在一些實(shí)施方式中，無機(jī)顆粒材料包括一定量的雜質(zhì)。然而，通常來說，在本發(fā)明的某些實(shí)施方式中使用的無機(jī)顆粒材料將包含小于大約5重量％、優(yōu)選小于大約1重量％的其它礦物雜質(zhì)。無機(jī)顆粒材料可以具有這樣的顆粒尺寸分布，即，使得至少大約10重量％，例如至少大約20重量％，例如至少大約30重量％，例如至少大約40重量％，例如至少大約50重量％，例如至少大約60重量％，例如至少大約70重量％，例如至少大約80重量％，例如至少大約90重量％，例如至少大約95重量％，或例如大約100％的顆粒具有小于2μm的e.s.d。在某些實(shí)施方式中，至少大約50重量％的顆粒具有小于2μm的e.s.d，例如，至少大約55重量％的顆粒具有小于2μm的e.s.d，或至少大約60重量％的顆粒具有小于2μm的e.s.d。除非另有說明，在此針對無機(jī)顆粒材料引用的顆粒尺寸特性是以公知的方式，通過利用由MicromeriticsInstrumentsCorporation,Norcross,Georgia,USA(網(wǎng)站：www.micromeritics.com)提供的Sedigraph5100機(jī)器(在此被稱為“MicromeriticsSedigraph5100單元”)，在水性介質(zhì)中沉積處于完全分散狀態(tài)的顆粒材料來測量。這種機(jī)器提供了具有小于給定e.s.d值的尺寸(在本領(lǐng)域中稱為“等效球體直徑”(e.s.d))的顆粒的累積重量百分比的測量和標(biāo)繪圖。平均顆粒尺寸d50是以這種方式確定的顆粒e.s.d的值，在該值下存在50重量％的、具有小于d50值的等效球體直徑的顆粒。另選的是，在規(guī)定的情況下，在此針對無機(jī)顆粒材料引用的顆粒尺寸特性是如通過激光散射領(lǐng)域中采用的公知常規(guī)方法，利用由MalvernInstrumentsLtd提供的MalvernMastersizerS機(jī)器(或通過給出基本相同結(jié)果的其它方法)所測量的。在激光散射技術(shù)中，基于Mie理論的應(yīng)用，可以利用激光束的衍射來測量粉末、懸浮液以及乳液中的顆粒的尺寸。這種機(jī)器提供了具有小于給定e.s.d值的尺寸(在本領(lǐng)域中稱為“等效球體直徑”(e.s.d))的顆粒的累積體積百分比的測量和標(biāo)繪圖。平均顆粒尺寸d50是以這種方式確定的顆粒e.s.d的值，即，在該值下有50體積％的、具有小于d50值的等效球體直徑的顆粒。由此，在另一實(shí)施方式中，無機(jī)顆粒材料可以具有在通過激光散射領(lǐng)域中采用的公知常規(guī)方法所測量的顆粒尺寸分布，使得至少大約10體積％，例如至少大約20體積％，例如至少大約30體積％，例如至少大約40體積％，例如至少大約50體積％，例如至少大約60體積％，例如至少大約70體積％，例如至少大約80體積％，例如至少大約90體積％，例如至少大約95體積％，或例如大約100體積％的顆粒具有小于2μm的e.s.d。在某些實(shí)施方式中，至少大約50體積％的顆粒具有小于2μm的e.s.d，例如，至少大約55體積％的顆粒具有小于2μm的e.s.d，或至少大約60體積％的顆粒具有小于2μm的e.s.d。WO-A-2010/131016第40頁第32行至第41頁第34行提供了可以被用于利用激光散射領(lǐng)域中采用的公知常規(guī)方法，來表征無機(jī)顆粒材料和微纖化纖維素的混合物的顆粒尺寸分布的過程細(xì)節(jié)，其全部內(nèi)容通過引用并入于此。用于根據(jù)本發(fā)明第一方面的方法中的另一種優(yōu)選無機(jī)顆粒材料是高嶺土。此后，本說明書的該部分可傾向于就高嶺土以及關(guān)于加工和/或處理高嶺土的方面進(jìn)行討論。本發(fā)明不應(yīng)被解釋為限于這種實(shí)施方式。因此，在一些實(shí)施方式中，高嶺土以未加工的形式使用。在本發(fā)明的某些實(shí)施方式中使用的高嶺土可以是衍生自天然來源的加工材料，即，原始天然高嶺土礦物。加工的高嶺土通?？梢园辽俅蠹s50重量％的高嶺石。例如，大多數(shù)商業(yè)加工的高嶺土包含大于大約75重量％的高嶺石，并且可以包含大于大約90重量％(在一些情況下，大于大約95重量％)的高嶺石。本發(fā)明中使用的高嶺土可以通過本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的一種或多種其它工藝(例如，通過已知的精制或精選步驟)由原始天然高嶺土礦物來制備。例如，粘土礦物可以利用還原性漂白劑(如亞硫酸氫鈉)漂白。如果使用亞硫酸氫鈉，則在亞硫酸氫鈉漂白步驟之后，漂白的粘土礦物可以可選地加以脫水，并且可選地洗滌并再次可選地脫水。可以處理粘土礦物以除去雜質(zhì)，例如，通過本領(lǐng)域公知的絮凝、浮選或磁性分離技術(shù)。另選的是，本發(fā)明的第一方面中使用的粘土礦物可以是未處理的固體形式或水性懸浮液。在本發(fā)明的某些實(shí)施方式中使用的、用于制備顆粒高嶺土的工序還可以包括一個或更多個粉碎步驟，例如，研磨(grinding)或碾磨(milling)。使用粗高嶺土的輕微粉碎以獲得其合適的分層。粉碎可以通過使用塑料(例如，尼龍)、砂或陶瓷研磨或碾磨助劑的珠?；蚣?xì)粒來執(zhí)行。可以利用公知過程精制粗高嶺土，以除去雜質(zhì)并改善物理特性。高嶺土可以通過已知的顆粒尺寸分類過程(例如，篩選和離心(或兩者))加以處理，以獲取具有希望的d50值或顆粒尺寸分布的顆粒。無機(jī)顆粒材料與纖維素材料(包括微纖化纖維素)的相對量可以基于無機(jī)顆粒材料和纖維素材料的干重在比率上從大約99.5:0.5變化至大約0.5:99.5，例如，基于無機(jī)顆粒材料與纖維素材料的干重在比率上從大約99.5:0.5變化至大約50:50。例如，無機(jī)顆粒材料與纖維素材料的量的比率可以為大約99.5:0.5至大約70:30。在某些實(shí)施方式中，無機(jī)顆粒材料與纖維素材料的比率為大約80:20，或例如大約85:15，或大約90:10，或大約91:9，或大約92:8，或大約93:7，或大約94:6，或大約95:5，或大約96:4，或大約97:3，或大約98:2，或大約99:1。在某一實(shí)施方式中，通過第一方面的方法可獲得的微纖化纖維素包括直至大約80重量％的水，例如，直至大約75％的水，或直至大約70％，或直至大約65重量％的水，或直至大約60重量％的水，或直至大約55重量％的水，或直至大約50重量％的水，或直至大約45重量％的水，或直至大約40重量％的水，或直至大約35重量％的水，或直至大約30重量％的水，或直至大約25重量％的水。在某些實(shí)施方式中，通過第一方面的方法可獲得的微纖化纖維素包括從大約50重量％至大約70重量％的水，例如，從大約55重量％至大約65重量％的水，或從大約60重量％至大約70重量％的水，或從大約60重量％至大約65重量％的水，或從大約65重量％至大約70重量％的水。通過第一方面的方法可獲得的微纖化纖維素可以包括其它可選添加劑，包括但不限于分散劑、殺生物劑、助懸劑、鹽以及其它添加劑，例如，淀粉或羧甲基纖維素或聚合物，其可以促進(jìn)礦物顆粒與纖維的相互作用。在存在可研磨無機(jī)顆粒的某些實(shí)施方式中，包括纖維素的纖維基質(zhì)和無機(jī)顆粒材料以至少大約2重量％的初始固體含量存在于水性環(huán)境中，其中，至少大約2重量％是包括纖維素的纖維基質(zhì)，例如，從大約2重量％至大約20重量％，或從大約4重量％至大約15重量％，或從大約5重量％至大約12重量％，或從大約7重量％至大約10重量％的初始固體含量。在這種實(shí)施方式中，初始固體含量的至少大約5重量％可以是包含纖維素的纖維基質(zhì)，例如，初始固體含量的至少大約10重量％，或至少大約15重量％，或至少大約20重量％可以是包含纖維素的纖維基質(zhì)。在某些實(shí)施方式中，不超過大約40重量％的初始固體含量是包括纖維素的纖維基質(zhì)，例如，不超過大約30重量％的初始固體含量是包括纖維素的纖維基質(zhì)，或不超過大約25重量％的初始固體含量是包括纖維素的纖維基質(zhì)。研磨工序可以包括預(yù)研磨步驟，在該預(yù)研磨步驟中，在研磨器容器中將粗無機(jī)顆粒研磨至預(yù)定的顆粒尺寸分布，之后將包括纖維素的纖維材料與預(yù)研磨的無機(jī)顆粒材料組合，并且在相同或不同的研磨容器繼續(xù)研磨，直到獲得希望程度的微纖化為止。由于待研磨的材料的懸浮液可以具有相對高的粘度，因此，可以在研磨之前或期間將合適的分散劑加入懸浮液中。分散劑例如可以是水溶性縮合磷酸鹽、聚硅酸(polysilicicacid)或其鹽，或聚合電解質(zhì)，例如，具有不大于80000的數(shù)均分子量的聚(丙烯酸)或聚(甲基丙烯酸)的水溶性鹽。基于干的無機(jī)顆粒固體材料的重量，分散劑的用量通常處于0.1重量％-2.0重量％的范圍內(nèi)。懸浮液可以適當(dāng)?shù)卦诜秶鸀?℃-100℃的溫度下研磨。在微纖化步驟期間可以包括的其它添加劑包括：羧甲基纖維素、兩性羧甲基纖維素、氧化劑、2,2,6,6-四甲基哌啶-1-氧基(TEMPO)、TEMPO衍生物，以及木材降解酶。在某些實(shí)施方式中，處理該工序的產(chǎn)品以除去至少一部分或大致全部的水，從而形成部分干燥或基本完全干燥的產(chǎn)品。例如，至少大約10體積％，例如，至少大約20體積％，或至少大約30體積％，或至少大約40體積％，或至少大約50體積％，或至少大約60體積％，或至少大約70體積％，或至少大約80體積％，或至少大約90體積％，或至少大約100體積％的水可以從研磨工序產(chǎn)品中除去?？梢允褂萌魏魏线m的技術(shù)從產(chǎn)品中除去水，例如，包括通過重力或真空輔助排水，有或沒有壓制(pressing)，或通過蒸發(fā)，或通過過濾，或通過這些技術(shù)的組合。部分干燥或基本完全干燥的產(chǎn)品將包括微纖化纖維素并可選地包括無機(jī)顆粒材料以及在干燥之前可能已經(jīng)加入的任何其它可選添加劑。部分干燥或基本完全干燥的產(chǎn)品可以儲存或包裝以供出售。部分干燥或基本完全干燥的產(chǎn)品可可以可選地再水化并摻入造紙組合物和其它紙產(chǎn)品中，如在此描述的那樣。包含纖維素的纖維基質(zhì)可以在存在無機(jī)顆粒材料的情況下進(jìn)行微纖化，以獲得具有通過激光散射測量的范圍為大約5μm至大約500μm的d50的微纖化纖維素。包含纖維素的纖維基質(zhì)可以在存在無機(jī)顆粒材料的情況下進(jìn)行微纖化，以獲得具有等于或小于大約400μm的d50的微纖化纖維素，例如，d50等于或小于大約300μm，或等于或小于大約200μm，或等于或小于大約150μm，或等于或小于大約125μm，或等于或小于大約100μm，或等于或小于大約90μm，或等于或小于大約80μm，或等于或小于大約70μm，或等于或小于大于大約60μm，或等于或小于大約50μm，或等于或小于大約40μm，或等于或小于大約30μm，或等于或小于大約20μm，或等于或小于大約10μm。包含纖維素的纖維基質(zhì)可以在存在無機(jī)顆粒材料的情況下進(jìn)行微纖化，以獲得具有從大約0.1μm-500μm的模態(tài)纖維顆粒尺寸和從0.25μm-20μm的模態(tài)無機(jī)顆粒材料顆粒尺寸的微纖化纖維素。包含纖維素的纖維基質(zhì)可以在存在無機(jī)顆粒材料的情況下進(jìn)行微纖化，以獲得具有至少大約0.5μm的模態(tài)纖維顆粒尺寸的微纖化纖維素，例如，至少大約10μm，或至少大約50μm，或者至少大約100μm，或至少大約150μm，或至少大約200μm，或至少大約300μm，或至少大約400μm。包含纖維素的纖維基質(zhì)可以在存在無機(jī)顆粒材料的情況下進(jìn)行微纖化，以獲得具有如由Malvern測量的、等于或大于10的纖維陡度的微纖化纖維素。纖維陡度(即，纖維的顆粒尺寸分布的陡度)由下式確定：陡度＝100×(d30/d70)微纖化纖維素可以具有等于或小于大約100的纖維陡度。微纖化纖維素可以具有等于或小于大約75，或等于或小于大約50，或等于或小于大約40，或等于或小于大約30的纖維陡度。微纖化纖維素可以具有從大約20至大約50，或從大約25至大約40，或從大約25至大約35，或從大約30至大約40的纖維陡度。在WO-A-2010/131016的第40頁第32行至第41頁第34行中描述了用于特征化微纖化纖維素的顆粒尺寸分布和無機(jī)顆粒材料與微纖化纖維素的混合物的合適過程。根據(jù)第三、第四以及第五方面的研磨介質(zhì)可選地用于第一和第二方面。第三方面的顆粒陶瓷研磨介質(zhì)具有(i)至少大約0.5μm的表面粗糙度，或(ii)至少大約0.10的平均摩擦系數(shù)，或(i)和(ii)兩者。該研磨介質(zhì)通過燒結(jié)包含氧化鋯(ZrO2)(例如，二氧化鈰穩(wěn)定的氧化鋯)和氧化鋁(Al2O3)中的至少一種的組合物而形成。在某些實(shí)施方式中，該組合物包含氧化鋯(ZrO2)，這意味著通過燒結(jié)這種組合物而形成的顆粒陶瓷研磨介質(zhì)將包含氧化鋯相。在某些實(shí)施方式中，該組合物還包含基于組合物總重量的大約5wt.％至大約25wt.％的二氧化鈰(Ce2O3)，例如，從大約10wt.％至大約20wt.％的二氧化鈰，或從大約12wt.％至大約18wt.％的二氧化鈰，或從大約10wt.％至大約15wt.％的二氧化鈰，或從大約11wt.％至大約14wt.％的二氧化鈰，或從大約11wt.％至大約13wt.％的二氧化鈰。另外，該組合物可以包含基于組合物總重量的至少大約40wt.％的氧化鋯，例如，從大約40wt.％至大約90wt.％的氧化鋯，或從大約40wt.％至大約80wt.％的氧化鋯，或從大約50wt.％至大約70wt.％的氧化鋯，或從大約55wt.％至大約70wt.％的氧化鋯，或從大約60wt.％至大約75wt.％的氧化鋯，或從大約65wt.％至大約75wt.％的氧化鋯，或從大約65wt.％至大約70wt.％的氧化鋯。另外，該組合物可以包含直至大約40wt.％的氧化鋁，例如，直至大約30wt.％的氧化鋁，或從大約1wt.％至大約40wt.％的氧化鋁，或從大約5wt.％至大約30wt.％的氧化鋁，或從大約10wt.％至大約25wt.％的氧化鋁，或從大約10wt.％至大約20wt.％氧化鋁，或從大約12wt.％至大約20wt.％的氧化鋁，或從大約14wt.％至大約20wt.％的氧化鋁，或從大約14wt.％至大約18wt.％的氧化鋁。在組合物包含二氧化鈰和氧化鋯，或二氧化鈰、氧化鋯以及氧化鋁的實(shí)施方式中，二氧化鈰和氧化鋯可以是二氧化鈰穩(wěn)定的氧化鋯的形式。在某些實(shí)施方式中，二氧化鈰穩(wěn)定的氧化鋯包含基于二氧化鈰穩(wěn)定的氧化鋯的總重量的大約10wt.％至大約20wt.％的二氧化鈰，和直至大約90wt.％的氧化鋯，例如，從大約12wt.％至大約18wt.％的二氧化鈰和直至大約88wt.％的氧化鋯，或從大約14wt.％至大約16wt.％和直至大約86wt.％的氧化鋯，或直至大約85wt.％的氧化鋯，或直至大約84wt.％的氧化鋯。在某些實(shí)施方式中，二氧化鈰穩(wěn)定的氧化鋯包含不超過大約2wt.％的氧化鐵，例如，不超過大約1wt.％的氧化鐵，或不超過大約0.75wt.％的氧化鐵，或不超過大約0.5wt.％的氧化鐵，或從大約0.1wt.％至大約0.75wt.％的氧化鐵，或從大約0.2wt.％至大約0.6wt.％的氧化鐵。在某些實(shí)施方式中，組合物包含至少大約10wt.％的氧化鋁與余下的二氧化鈰穩(wěn)定的氧化鋯(其可以包含少量氧化鐵，如上所述)，其中，二氧化鈰穩(wěn)定的氧化鋯包含如上所述相對量的二氧化鈰和氧化鋯。在某些實(shí)施方式中，組合物包含從大約10wt.％至大約30wt.％的氧化鋁，其余為二氧化鈰穩(wěn)定的氧化鋯，例如，大約15wt.％至大約25wt.％的氧化鋁，其余為二氧化鈰穩(wěn)定的氧化鋯。在某些實(shí)施方式中，組合物包含從大約15wt.％至大約25wt.％的氧化鋁，從大約10wt.％至大約15wt.％的二氧化鈰，和大約50wt.％至大約75wt.％的氧化鋯。在某些實(shí)施方式中，顆粒陶瓷研磨介質(zhì)通過燒結(jié)包含至少大約90wt.％的氧化鋁的組合物來形成，例如，包含至少大約95wt.％的氧化鋁，或至少大約99wt.％氧化鋁，或至少大約99.5wt.％的氧化鋁，或至少大約99.9wt.％或基本上100wt.％的氧化鋁。例如，顆粒研磨介質(zhì)可以通過燒結(jié)含氧化鋁的材料(舉例來說，如工業(yè)級氧化鋁、鋁土礦或其氧化物的任何其它合適的組合物)制成。在某些實(shí)施方式中，根據(jù)第三和第四方面的顆粒陶瓷研磨介質(zhì)可通過包括以下步驟的方法獲得：a、獲取、提供或制造包括適于制造所述陶瓷研磨介質(zhì)的原材料的組合物；b、混合包括原材料的所述組合物，形成混合物；c、將所述混合物與粘合劑和/或溶劑混合，形成粘合混合物；d、通過在降低混合速度的時間段內(nèi)混合所述粘合混合物，顆粒化所述粘合混合物；e、可選地使顆?；慕M合物干燥；f、可選地使顆?；慕M合物成形；g、可選地將顆?；慕M合物按大小分級；以及h、燒結(jié)顆?；慕M合物。在某些實(shí)施方式中，將該方法的步驟b)中的原料均質(zhì)化(例如，通過混合)，從而形成均質(zhì)化組合物?！熬|(zhì)化”是指原料的混合物始終具有均勻的組成。在這種實(shí)施方式中，在步驟c)中將均質(zhì)化的組合物與粘合劑和/或溶劑組合，從而形成粘合的均質(zhì)化組合物，其通過在步驟d)中在降低混合速度的時段內(nèi)被混合而顆?；?。粘合劑和/或溶劑是工業(yè)中公知的那些之一?？赡艿恼澈蟿├绨谆w維素、聚乙烯醇縮丁醛、乳化丙烯酸酯、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯酸化物、淀粉、硅粘合劑、聚丙烯酸酯、硅酸鹽、聚乙烯亞胺、木素磺酸鹽、藻酸鹽等。在某些實(shí)施方式中，使用聚乙烯醇粘合劑?？赡艿娜軇├缈梢园ㄋ?、醇、酮、芳族化合物、烴等。也可以加入工業(yè)中公知的其它添加劑。例如，可以加入潤滑劑，如硬脂酸銨、蠟乳液、油酸、曼哈頓魚油、硬脂酸、蠟、棕櫚酸、亞油酸、肉豆蔻酸以及月桂酸。也可以使用增塑劑，包括聚乙二醇、鄰苯二甲酸辛酯以及乙二醇。在某些實(shí)施方式中，均質(zhì)化包括將包含原料的組合物混合達(dá)適合的時段，使得原料的混合物始終具有均勻的組成。在某些實(shí)施方式中，步驟c)包括將均質(zhì)化組合物與粘合劑和/或溶劑混合。在某些實(shí)施方式中，步驟b)期間的混合速度大于步驟c)中的混合步驟，并且步驟d)中的初始混合速度不大于步驟c)中的最終混合速度。在某些實(shí)施方式中，在步驟b)中的混合或均質(zhì)化包括將包含原料的組合物混合達(dá)從大約1分鐘至大約60分鐘的時段，例如，從大約1分鐘至大約30分鐘，或從大約1分鐘至大約20分鐘，或從大約1分鐘至大約10分鐘，或從大約2分鐘至大約10分鐘，或從大約2分鐘至大約8分鐘，或從大約2分鐘至大約分鐘。通常，混合速度在步驟b)期間保持恒定。在某些實(shí)施方式中，將混合物或均質(zhì)組合物與粘合劑和/或溶劑組合(例如，混合)可以進(jìn)行大約30秒至大約30分鐘的時段，例如，從大約30秒至大約20分鐘，或從大約30秒至大約10分鐘，或從大約1分鐘至大約8分鐘，或從大約1分鐘至大約5分鐘，或從大約2分鐘至大約5分鐘，或從大約2分鐘至大約4分鐘。如上所述，步驟c)期間的混合速度優(yōu)選小于步驟b)中的混合速度，并且可選地至少等于或大于步驟d)中的初始混合速度。在該步驟期間可以緩慢加入粘合劑和/或溶劑，例如，連續(xù)地，或間歇地，優(yōu)選連續(xù)地加入。另選的是，可以在混合開始時加入所有的粘合劑和/或溶劑。在某些實(shí)施方式中，使均質(zhì)化結(jié)合組合物?；ㄔ诨旌纤俣戎饾u或逐步降低的時段內(nèi)混合組合物。合適的時段可以為從大約1分鐘至大約60分鐘，例如，從大約2分鐘至大約30分鐘，或從大約3分鐘至大約20分鐘，或從大約4分鐘至大約15分鐘，或從大約4分鐘至大約12分鐘，或從大約4分鐘至大約10分鐘，或從大約4分鐘至大約8分鐘。在合適的時段期間，混合速度可以例如逐步降低，使得最終混合速度比步驟d)中的初始混合速度低至少大約25％，例如，比步驟d)中的初始混合速的低至少大約30％，或低至少大約35％，或低至少大約40％，或低至少大約45％。在某些實(shí)施方式中，步驟b)中的初始混合速度比步驟d)中的最終混合速度高至少高約150％，例如，高至少大約175％，或高至少大約190％，或高至少大約200％，或高至少大約210％。各種混合階段可以在任何合適的混合設(shè)備中執(zhí)行，例如，配備有葉輪的混合器。示例性混合裝置是配備有銷型葉輪的型號為RV02E的Eirich混合器。在某些實(shí)施方式中，步驟b)中的初始葉輪速度在大約2750rpm至3250rpm之間，步驟d)中的最終葉輪速度在大約600rpm至1200rpm之間。在某些實(shí)施方式中，步驟b)中的葉輪速度在大約2750rpm至3250rpm之間，并且步驟c)期間的葉輪速度在大約2000rpm至2500rpm之間。在這種實(shí)施方式中，步驟d)中的初始葉輪速度不高于，優(yōu)選為低于步驟c)期間的葉輪速度，例如，低大約2000rpm，或低大約1900rpm，或低大約1800rpm。在這種實(shí)施方式中，步驟d)中的最終葉輪速度可以低大約1500rpm，例如，小于大約1200rpm，或小于大約1000rpm，或小于大約800rpm。最終混合速度(例如，最終葉輪速度)可以保持恒定達(dá)從大約1分鐘至大約10分鐘的時段，例如，從大約1分鐘至大約8分鐘。在制粒之后，可以將?；慕M合物從混合器中除去并干燥。例如，在直至大約120℃的溫度下達(dá)合適時段，例如，從大約10分鐘至大約5小時，或從大約30分鐘至大約2小時。在干燥之前或期間，可以使?；M合物成形，例如形成桿狀顆粒。然后，可選地，可以使干燥的組合物經(jīng)受按大小分級(sizing)過程，例如通過篩選?？梢赃x擇與顆粒研磨介質(zhì)的希望尺寸相對應(yīng)的大小合適的濾網(wǎng)。然后將顆粒化組合物在合適的燒結(jié)溫度燒結(jié)。合適的燒結(jié)溫度范圍為從大約1200℃至大約1700℃。燒結(jié)期間的適宜時間可以從大約1小時至大約24小時，例如，從大約2小時至大約12小時，或從大約2小時至大約8小時，或從大約2小時至大約6小時，或從大約3小時至大約5小時，或從大約3.5小時至大約4.5小時。對于顆粒陶瓷研磨介質(zhì)由至少包含二氧化鈰和氧化鋯的組合物形成的實(shí)施方式，燒結(jié)溫度有利地從大約1400℃至大約1500℃，例如，從大約1425℃至大約1475℃，或從大約1440℃至大約1460℃，并且適宜時間從大約2小時至大約6小時，例如，從大約3小時至大約5小時，或從大約3.5小時至大約4.5小時。對于顆?；慕M合物由包含至少大約90wt.％的氧化鋁的組合物形成的實(shí)施方式，燒結(jié)溫度有利地從大約1500℃至大約1700℃，例如，從大約1550℃至大約1650℃，或從大約1575℃至大約1625℃，并且適宜時間從大約2小時至大約6小時，例如，從大約3小時至大約5小時，或從大約3.5小時至大約4.5小時。在某些實(shí)施方式中，第三方面的顆粒研磨介質(zhì)可以具有如上所述的、與在根據(jù)本發(fā)明第一方面的方法中使用的特定研磨介質(zhì)相關(guān)的表面粗糙度和/或平均系數(shù)。同樣，在某些實(shí)施方式中，第三方面的研磨介質(zhì)在其將被使用的研磨工序期間(例如，在本文中描述的根據(jù)本發(fā)明第一方面的方法中的研磨期間)磨得粗糙。根據(jù)第四方面，還提供了一種顆粒研磨介質(zhì)，其在將被使用的研磨工序期間(例如，在本文中描述的根據(jù)本發(fā)明第一方面的方法中的研磨期間)磨得粗糙。在某些實(shí)施方式中，第四方面的顆粒研磨介質(zhì)可以具有如上所述的、與在根據(jù)本發(fā)明第一方面的方法中使用的特定研磨介質(zhì)相關(guān)的表面粗糙度和/或平均系數(shù)。在某些實(shí)施方式中，在研磨期間磨得粗糙的顆粒研磨介質(zhì)在研磨開始時，具有(i)至少大約0.5μm的表面粗糙度，或(ii)至少大約0.10的平均摩擦系數(shù)，或(i)和(ii)兩者。所述顆粒研磨介質(zhì)可以由天然或合成材料形成，例如由適于用作研磨介質(zhì)的致密，硬質(zhì)礦物，陶瓷或金屬材料形成。在某些實(shí)施方式中，所述顆粒研磨介質(zhì)是陶瓷研磨介質(zhì)。這種材料包括氧化鋁、氧化鋯、硅酸鋯、氧化釔、二氧化鈰，或氧化釔和/或二氧化鈰穩(wěn)定的氧化鋯的材料及其混合物。在某些實(shí)施方式中，根據(jù)第三和第四方面的顆粒研磨介質(zhì)具有至少大約3.5的比重，例如，大約3.5至大約8.0的比重，例如，從大約3.5至大約7.0，或從大約3.5至大約6.5，或至少大約3.6，或至少大約3.7，或至少大約3.8，或至少大約3.9，或至少大約4.0，或至少大約4.1，或至少大約4.2，或至少大約4.3，或至少大約4.4，或至少大約4.5，或至少大約4.6，或至少大約4.7，或至少大約4.8，或至少大約4.9，或至少大約5.0，或至少大約5.1，或至少大約5.2，或至少大約5.3，或至少大約5.4，或至少大約5.5，或至少大約5.6，或至少大約5.6，或至少大約5.7，或至少大約5.8，或至少大約5.9，或至少大約6.0的比重。在某些實(shí)施方式中，顆粒研磨介質(zhì)用于制造微纖化纖維素。在某些實(shí)施方式中，將顆粒研磨介質(zhì)用于改進(jìn)微纖化纖維素的一個或更多個特性，和/或用于減少生成每單位量的微纖化纖維素的能量輸入。在某些實(shí)施方式中，根據(jù)第四和第五方面的顆粒研磨介質(zhì)被用于一種制造微纖化纖維素的方法中，所述方法包括以下步驟：通過在存在顆粒研磨介質(zhì)的情況下進(jìn)行研磨，對包含纖維素的纖維基質(zhì)進(jìn)行微纖化，所述顆粒研磨介質(zhì)將在研磨完成之后去除。在某些實(shí)施方式中，提供了一種材料，該材料當(dāng)在存在包含纖維素的纖維基質(zhì)的情況下被攪拌時磨得粗糙或粗糙化。在某些實(shí)施方式中，該材料是顆粒形式，當(dāng)在存在包含纖維素的纖維基質(zhì)的情況下研磨時磨得粗糙或粗糙化，以生成微纖化纖維素，如在此描述的。為了避免疑義，磨得粗糙或粗糙化的材料不是在此描述的無機(jī)顆粒材料，其根據(jù)某些實(shí)施方式可以與包含纖維素的纖維基質(zhì)共研磨。在某些實(shí)施方式中，該材料是研磨介質(zhì)，例如，根據(jù)在此描述的某些實(shí)施方式的研磨介質(zhì)?！澳サ么植凇被颉按植诨笔侵覆牧系谋砻嬖跀嚢韬罂蓽y量地變得粗糙。表面粗糙度的增加可以根據(jù)在此描述的方法在視覺上辨別或確定。在某些實(shí)施方式中，該材料具有至少大約3.5的比重。根據(jù)某些實(shí)施方式，提供了一種未拋光的顆粒研磨介質(zhì)，該顆粒研磨介質(zhì)在經(jīng)受磨料接觸時具有增加至少大約1％的表面粗糙度。“未拋光”是指研磨介質(zhì)在用作研磨介質(zhì)之前未經(jīng)受任何拋光處理(即，使其表面變光滑)。表面粗糙度的增加可以根據(jù)在此描述的方法加以確定。在某些實(shí)施方式中，未拋光的顆粒研磨介質(zhì)在磨料接觸之前具有至少大約0.5μm的表面粗糙度，和/或(ii)至少大約0.10的平均摩擦系數(shù)。磨料接觸可以是自體工序(例如，在磨機(jī)或其它合適的研磨裝置中攪拌)，或者可以在存在另一種材料的情況下進(jìn)行，例如，在磨料接觸之后可與未拋光的顆粒研磨介質(zhì)分離的另一種研磨介質(zhì)，或者例如，包含纖維素的纖維基質(zhì)，該纖維基質(zhì)在磨料接觸期間可以被研磨以生成微纖化纖維素(例如，在此描述的根據(jù)實(shí)施方式的微纖化纖維素)。在某些實(shí)施方式中，表面粗糙度增加至少大約5％，或至少大約10％，或至少大約15％，或至少大約20％，或至少大約25％，或至少大約30％，或至少大約35％，或至少大約40％，或至少大約45％，或至少大約50％。在某些實(shí)施方式中，該材料具有至少大約3.5的比重。在某些實(shí)施方式中，在磨料接觸之前，未拋光的顆粒研磨介質(zhì)具有至少大約2.0μm的表面粗糙度，和/或(ii)至少大約0.20的平均摩擦系數(shù)，例如，至少大約2.2的表面粗糙度，或至少大約2.4μm的表面粗糙度，或至少大約2.6μm的表面粗糙度，或至少大約2.8μm的表面粗糙度，或至少大約3.0μm的表面粗糙度。在某些實(shí)施方式中，提供了一種拋光的顆粒研磨介質(zhì)，該顆粒研磨介質(zhì)在經(jīng)受磨料接觸時具有增加至少大約20％的表面粗糙度?！皰伖狻笔侵秆心ソ橘|(zhì)在用作研磨介質(zhì)之前已經(jīng)經(jīng)受拋光處理(即，使其表面變光滑)。表面粗糙度的增加可以根據(jù)在此描述的方法加以確定。在某些實(shí)施方式中，拋光的顆粒研磨介質(zhì)在磨料接觸之前具有至少大約0.5μm的表面粗糙度，和/或(ii)至少大約0.10的平均摩擦系數(shù)。磨料接觸可以是自體工序(例如，在磨機(jī)或其它合適的研磨裝置中攪拌)，或者可以在存在另一種材料的情況下進(jìn)行，例如，在磨料接觸之后可與拋光的顆粒研磨介質(zhì)分離的另一種研磨介質(zhì)，或者例如，包含纖維素的纖維基質(zhì)，該纖維基質(zhì)在磨料接觸期間可以被研磨以生成微纖化纖維素(例如，在此描述的根據(jù)實(shí)施方式的微纖化纖維素)。在某些實(shí)施方式中，表面粗糙度增加至少大約25％，或至少大約30％，或至少大約35％，或至少大約40％，或至少大約45％，或至少大約50％。在某些實(shí)施方式中，該材料具有至少大約3.5的比重。在某些實(shí)施方式中，在磨料接觸之前，拋光的顆粒研磨介質(zhì)具有至少大約1.4μm的表面粗糙度，和/或(ii)至少大約0.08或至少大約0.10的平均摩擦系數(shù)，例如，至少大約1.6μm的表面粗糙度，或至少大約1.8μm的表面粗糙度，或至少大約1.9μm的表面粗糙度。制造顆粒研磨介質(zhì)的方法在某些實(shí)施方式中，顆粒研磨介質(zhì)可以通過任何合適方法來制造，其中，生成具有(i)至少大約0.5μm的表面粗糙度，或(ii)至少大約0.10的平均摩擦系數(shù)，或(i)和(ii)兩者的顆粒研磨介質(zhì)。該方法可以包括以下步驟：形成具有小于0.5μm的表面粗糙度和/或小于0.10的平均摩擦系數(shù)的顆粒研磨介質(zhì)，并且使顆粒研磨介質(zhì)經(jīng)受表面粗糙化步驟，使得在表面粗糙化步驟結(jié)束時，表面粗糙度為至少大約0.5μm，和/或平均摩擦系數(shù)為至少大約0.10。例如，最初不滿足第一方面的表面粗糙度和/或平均摩擦系數(shù)要求的顆粒研磨介質(zhì)可以與研磨容器(諸如行星式磨機(jī))中的磨料材料(諸如微磨料粉末(例如，熔融氧化鋁微磨料粉末))共研磨。有利的是，第一方面(以及第二、第三、第四和第五方面)的顆粒研磨介質(zhì)可以通過包括以下步驟的工序制造：a、獲取、提供或制造包括適于制造所述陶瓷研磨介質(zhì)的原材料的組合物；b、混合包括原材料的所述組合物，形成混合物；c、將所述混合物與粘合劑混合，形成粘合混合物；d、通過在降低混合速度的時間段內(nèi)混合所述粘合混合物來顆?；稣澈匣旌衔?；e、可選地使顆?；慕M合物干燥；f、可選地使顆?；慕M合物成形；g、可選地將顆?；慕M合物按大小分級；以及h、燒結(jié)顆粒化的組合物。在某些實(shí)施方式中，將該方法的步驟b)中的原料均質(zhì)化(例如，通過混合)，從而形成均質(zhì)化組合物。在這種實(shí)施方式中，在步驟c)中將均質(zhì)化的組合物與粘合劑和/或溶劑組合，從而形成粘合的均質(zhì)化組合物，其在步驟d)中通過在降低混合速度的時段內(nèi)被混合而顆?；＿@種工序的另一些實(shí)施方式和細(xì)節(jié)在上面結(jié)合制造根據(jù)第三和/或第四方面的顆粒研磨介質(zhì)進(jìn)行了描述。紙產(chǎn)品和用于制備紙產(chǎn)品的工序通過本發(fā)明第一方面可獲取的包含微纖化纖維素和(當(dāng)存在時)無機(jī)顆粒材料的組合物可以并入造紙組合物中，該組合物又可用于制備紙產(chǎn)品。如結(jié)合本發(fā)明的某些實(shí)施方式使用的，術(shù)語紙產(chǎn)品應(yīng)理解為是指所有形式的紙，包括板，如白襯板和掛面紙板、卡片紙板、紙板、涂布板等。存在許多類型的涂布或未涂布的紙，其可根據(jù)本發(fā)明的某些實(shí)施方式制造，包括適用于書籍、雜志、報(bào)紙等的紙張和辦公用紙。所述紙可以適當(dāng)?shù)貕汗饣虺墘汗?；例如，用于照相凹版印刷和膠版印刷的超級壓光雜志紙可以根據(jù)本發(fā)明的方法制造。適于輕質(zhì)涂布(LWC)、中等重量涂布(MWC)或機(jī)械機(jī)器完成著色(MFP)的紙也可以根據(jù)本發(fā)明的方法制造。還可以根據(jù)本發(fā)明的方法制造具有適于食品包裝等的阻隔特性的涂布紙和紙板。在典型的造紙工序中，通過本領(lǐng)域中公知的任何合適的化學(xué)或機(jī)械處理或其組合來制備含纖維素的紙漿。紙漿可以衍生自任何合適的來源，如木材、禾草(例如，甘蔗、竹)或碎布(例如，紡織廢物、棉花、大麻或亞麻)。紙漿可以根據(jù)本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的工藝漂白，并且適合用于本發(fā)明的某些實(shí)施方式的那些方法將是顯而易見的。漂白的纖維素紙漿可以被打漿、精制或兩者，直至預(yù)定的游離度(在本領(lǐng)域中稱為加拿大標(biāo)準(zhǔn)游離度(CSF)，以cm3計(jì))。然后從漂白和打漿的紙漿制備合適的紙料。除了包含微纖化纖維素和(當(dāng)存在時)無機(jī)顆粒材料的組合物以外，造紙組合物通常還包括紙料和本領(lǐng)域已知的其它常規(guī)添加劑。例如，造紙組合物可以包括基于造紙組合物的總干含量的、直至大約50重量％的衍生自包含微纖化纖維素和無機(jī)顆粒材料的組合物的無機(jī)顆粒材料。例如，造紙組合物可以包含基于造紙組合物的總干含量的至少大約2重量％，或至少大約5重量％，或至少大約10重量％，或至少大約15重量％，或至少大約20重量％，或至少大約25重量％，或至少大約30重量％，或至少大約35重量％，或至少大約40重量％，或至少大約45重量％，或至少大約50重量％，或至少大約60重量％，或至少大約70重量％，或至少大約80重量％，或至少大約90重量％的衍生自包含微纖化纖維素和無機(jī)顆粒材料的組合物的無機(jī)顆粒材料。造紙組合物還可以包含非離子、陽離子或陰離子助留劑或微粒保持體系，其量為基于包含微纖化纖維素和無機(jī)酸的水懸浮液的干重的大約0.1重量％至2重量％。其還可以含有上漿劑(sizingagent)，其例如可以是長鏈烷基烯酮二聚體、蠟乳液或丁二酸衍。該組合物還可以包含染料和/或光學(xué)增亮劑。該組合物還可以包含干和濕強(qiáng)度助劑，例如，如淀粉或表氯醇共聚物。根據(jù)本發(fā)明的某些實(shí)施方式的紙產(chǎn)品可以通過包括以下步驟的工序制造：(i)獲取或制備包含采用適于制造紙產(chǎn)品的紙漿形式的纖維素的纖維基質(zhì)；(ii)從步驟(i)中的紙漿制備造紙組合物以及其它可選添加劑(舉例來說，如助留劑，和諸如上述那些的其它添加劑)，本發(fā)明的某些實(shí)施方式的組合物包含微纖化纖維素和(當(dāng)存在時)無機(jī)顆粒材料；以及(iii)從所述造紙組合物形成紙產(chǎn)品。如上所述，形成紙漿的步驟可以在研磨容器中通過將干燥狀態(tài)(例如，干紙碎或廢物形式)下的包含纖維素的纖維基質(zhì)直接添加至研磨容器中來進(jìn)行。然后，研磨容器中的水環(huán)境將促進(jìn)紙漿形成?？梢韵蛟诓襟E(ii)中制備的造紙組合物中加入另外的填料組分(即，除了無機(jī)顆粒材料之外的填料組分，其可以與包含纖維素的纖維基質(zhì)共研磨)。示例性填料組分是PCC、GCC、高嶺土或其混合物。與通過對比工序制造的包含微纖化纖維素的紙產(chǎn)品相比，由這種造紙組合物制造的紙產(chǎn)品可以表現(xiàn)出更高的強(qiáng)度(例如，改進(jìn)的耐破強(qiáng)度)，其中，在該對比工序中使用的顆粒研磨介質(zhì)在研磨開始時具有不太粗糙的表面粗糙度和/或(ii)比本發(fā)明第一方面的方法所需的平均摩擦系數(shù)小的平均摩擦系數(shù)。類似地，由包含無機(jī)顆粒的、根據(jù)本發(fā)明某些實(shí)施方式的造紙組合物制備的紙產(chǎn)品可以表現(xiàn)出與包含較少無機(jī)顆粒材料的紙產(chǎn)品相當(dāng)?shù)膹?qiáng)度。換句話說，紙產(chǎn)品可以由根據(jù)本發(fā)明的某些實(shí)施方式的造紙組合物，以更高的填料加入量(fillerloading)制備而不損失強(qiáng)度。由造紙組合物形成最終紙產(chǎn)品的步驟是常規(guī)的，并且是本領(lǐng)域公知的，并且通常包括根據(jù)所制造的紙的類型來形成具有目標(biāo)基重的紙張。示例示例1將表1所述的原料組合物分別填充到配備有銷型葉輪的Eirich混合器型RV02E中，并以3000rpm的葉輪速度解聚和均質(zhì)化達(dá)4分鐘。在第二步中，在每種情況下，葉輪速度降低至2200rpm，并在3分鐘的時段內(nèi)加入粘合劑溶液(0.5重量％PVA水溶液)。在混合步驟(即，制粒)中，葉輪速度逐步降低至最終速度以形成珠粒。在表2A和表2B中提供混合每種組合物的最終步驟的細(xì)節(jié)。從混合器中除去珠粒并在60℃下干燥1小時。將干燥的材料過篩。在每種情況下，使用粒級(sizefraction)用于燒結(jié)。對于100％的氧化鋁珠(樣品2A)，燒結(jié)溫度為1600℃，并且停留時間為4小時。對于二氧化鈰/氧化釔/氧化鋁珠(樣品2B和2C)，燒結(jié)溫度為1450℃，并且停留時間為4小時。表1、*15.5wt.％的Ce203、84wt.％的Zr02、0.5wt.％的Fe203表2A、葉輪速度rpm-樣品2A時間，分鐘175021500211002表2B、葉輪速度rpm-樣品2B&2C時間，分鐘1750215002100057505樣品2B的調(diào)配珠粒具有5.57的比重；樣品2C的調(diào)配珠粒具有4.74的比重。示例2使用珠粒樣品2B和2C以及對比氧化鋯介質(zhì)制備微纖化纖維素。用于生產(chǎn)微纖化纖維素的配料：·未精制的Botnia紙漿·研磨碳酸鈣，其具有使得大約60wt.％的顆粒具有小于2μm的p.s.d.的顆粒尺寸分布·研磨介質(zhì)2B和2C·具有小于0.5μm的表面粗糙度的對比氧化鋯研磨介質(zhì)研磨條件：·目標(biāo)總固體和POP(紙漿的百分比-作為紙漿的填料干重的百分比)：分別為9％和20％的POP·目標(biāo)總固體和POP：分別為15％和20％POP·目標(biāo)MVC(介質(zhì)體積濃度)：45％·1000rpm·能量輸入-2000、2500及3500kWh/t每個介質(zhì)類型分成3個相等部分。然后將每一部分用于針對8個批次僅按一個比能量級進(jìn)行研磨，而不混合不同部分。所生產(chǎn)的微纖化纖維素樣品分析如下：·根據(jù)上述方法，利用Malvern'S'儀器確定顆粒尺寸分布，·測量樣品的總固體含量和POP將根據(jù)上述過程制備的產(chǎn)品在手抄紙中評價為填料。通常，包含70份桉樹和30份北部漂白軟木漿的一批漂白化學(xué)紙漿在谷打漿機(jī)(valleybeater)中打漿，得到520cm3的CSF。在分解和稀釋至2％厚漿料之后，將纖維稀釋至0.3重量％稠度用于片材制造。將填料漿料(包含微纖化纖維素和碳酸鈣顆粒)與助留劑(Ciba，Percol292，提供時0.02重量％)一起加入。根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)方法(例如，SCANC26:76(M5:76))，利用英國手抄紙模具將手抄紙制成基重為80gm-2。按大約15和25份無機(jī)顆粒裝載量和從這些數(shù)據(jù)內(nèi)插的20％無機(jī)顆粒裝載量下的耐破強(qiáng)度值來制備片材。在20％裝載量下的耐破度被表達(dá)為未填充值的百分比，然后歸一化以進(jìn)行比較。紙耐破強(qiáng)度根據(jù)SCANP24，利用MessemerBuchnel耐破試驗(yàn)機(jī)加以確定。圖1中概括了結(jié)果?？梢钥闯觯c利用氧化鋯介質(zhì)生產(chǎn)的微纖化纖維素相比，利用介質(zhì)樣品2B和2C生產(chǎn)的微纖化纖維素在并入紙中時獲得更好的強(qiáng)度改進(jìn)。此外，利用介質(zhì)樣品2B和2C在2000kWh/t的能量輸入下生產(chǎn)的微纖化纖維素，比利用氧化鋯介質(zhì)在2500kWh/t的更高能量輸入下生產(chǎn)的微纖化纖維素獲得更好的強(qiáng)度改進(jìn)。示例3-研磨后介質(zhì)的分析每隔一次研磨后收集珠粒，并根據(jù)下文附錄1和2中所述的方法利用干涉儀和摩擦計(jì)進(jìn)行分析/特征化。使用干涉儀來特征化介質(zhì)表面粗糙度，并且使用摩擦計(jì)來確定當(dāng)在干纖維墊(由軟木，Botniapine制成)上相擦?xí)r介質(zhì)的摩擦系數(shù)。所使用的干涉儀是相移干涉儀，其使用單色光(OmniscanMicroXAM2)來測量介質(zhì)表面粗糙度和形貌。使用LongshoreSystems工程摩擦計(jì)確定珠粒樣品的摩擦系數(shù)。表3中概括了結(jié)果。表3Sa＝平均表面粗糙度(算術(shù)平均值)附錄1干涉儀操作(OmniscanMicroXAM2)1、開關(guān)接通2、引導(dǎo)PC3、將5個試樣顆粒粘在載玻片上(測量每個顆粒的兩個位置的粗糙度)4、將每個樣品顆粒直接定位在光束下，優(yōu)選地直接聚焦在顆粒的頂部。圖像將出現(xiàn)在屏幕/監(jiān)視器上，圖像將不清晰(模糊)5、改變光強(qiáng)度，以使在圖片的中間有一個紅點(diǎn)(紅點(diǎn)不應(yīng)覆蓋屏幕上的整個圖像)6、檢查在將鏡頭朝向顆粒向下移動(逆時針旋轉(zhuǎn))時紅點(diǎn)是否變小。圖像變得更加失焦。7、然后使鏡頭向上放回到之前的位置，接著將光強(qiáng)度降低，使紅點(diǎn)小得多并且不太明顯。8、然后慢慢保持鏡頭向上移動(順時針旋轉(zhuǎn))，直到圖像聚焦(顆粒表面變得更明顯)為止。如果需要，降低光強(qiáng)度，以使紅光更稀疏，并且不太鮮明9、當(dāng)圖像對焦時，將鏡頭位置注視在控制箱上10、接著，運(yùn)行樣品(在輸入正確的文件名后)，當(dāng)明確該圖片完全失焦時，中止該過程11、利用顯示的圖像，可以利用左側(cè)的裁剪按鈕裁剪出任何異常，然后右鍵點(diǎn)擊以選擇“制作主圖像”。接著保存。12、從圖像讀取所需的值13、針對顆粒的第二個區(qū)域重復(fù)。14、針對每一個顆粒重復(fù)。15、隊(duì)所獲得的10個讀數(shù)求平均。附錄2摩擦計(jì)操作過程平面上球體摩擦測量1、打開PC、顯示器和摩擦計(jì)的電源。2、引導(dǎo)PC。3、按下摩擦計(jì)觸摸屏界面(TSI)上的[開始]。4、按下摩擦計(jì)控制器背面的開始按鈕。5、按下TSI上的[進(jìn)行]。6、按下TSI上的[線性]。7、打開DSC工具包軟件。8、在DSC工具包中，選擇作為摩擦計(jì)的裝置(正常載荷應(yīng)變計(jì))。9、打開DSC工具包軟件。10、在DSC工具包中，選擇作為摩擦計(jì)的裝置(橫向載荷應(yīng)變計(jì))。11、根據(jù)球體直徑，將探頭粘附至具有公制螺紋M2、M3、M4、M5或M6的螺桿。12、經(jīng)由適當(dāng)?shù)倪m配器將螺桿接合至摩擦計(jì)梁。13、添加黃銅重量，直到達(dá)到目標(biāo)正常載荷。14、使基底(其為由軟木、Botniapine制成的干燥纖維墊)固定在下板上。將纖維墊修剪成適于利用內(nèi)置系統(tǒng)來固定樣品的尺寸。15、利用TSI，輸入開始位置和結(jié)束位置；這些應(yīng)該是相同的值，對應(yīng)于希望在樣品上開始摩擦測量的地方。16、利用TSI，輸入所需的滑動速度。17、利用TSI，將循環(huán)數(shù)設(shè)置為1。18、按下在DSC工具包軟件上的[記錄]。19、將記錄間隔設(shè)置為10ms。20、指定文件名和目錄。21、降低十字頭，直到球體與基底有壓力地接觸，正常載荷達(dá)到零。22、利用TSI，按[開始移動]。23、按下在DSC工具包軟件上的[開始]。24、利用TSI，按[運(yùn)行]。25、一旦循環(huán)完成，按下DSC工具包軟件上的[停止]。26、抬起十字頭，直到球體擺脫基底。當(dāng)前第1頁1 2 3