硅基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明是關(guān)于一種硅基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層設(shè)置于玻璃基片的表面，且鍍膜層從底層向上依次包括：氮化硅膜層、鎳鉻膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氧化錫膜層、氮化硅膜層。本發(fā)明的硅基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃可見光透過率為50%，具有生產(chǎn)成本低、耐磨性能好、耐高溫、不褪色、玻璃面反射色中性的優(yōu)點。
【專利說明】
硅基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明是有關(guān)于一種鍍膜玻璃，尤其是關(guān)于一種含有用氮化硅薄膜作為附著層的硅基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃。

【背景技術(shù)】
[0002]低輻射鍍膜玻璃是指在浮法玻璃表面沉積一層金屬銀作為功能層，對太陽光中的近紅外線和生活環(huán)境中的遠紅外線起反射作用，從而降低玻璃對紅外線的吸收和輻射率，所以稱之為低輻射鍍膜玻璃。此種玻璃既可用于家庭窗戶，也可用于商店、寫字樓和高檔賓館的玻璃幕墻及其它需要的場所。夏天它可以有效阻止太陽光中的近紅外線進入室內(nèi)，避免室內(nèi)溫度升高，節(jié)約空調(diào)費用；冬天它可阻止室內(nèi)暖氣等產(chǎn)生的遠紅外線逸出室外，保持室內(nèi)溫度，節(jié)約取暖費用。
[0003]現(xiàn)在市場上已經(jīng)有很多低輻射鍍膜玻璃，有單銀低輻射鍍膜玻璃，也有雙銀和三銀低輻射鍍膜玻璃。所用的薄膜材料除功能層用金屬銀之外，附著層材料有采用氧化錫、氧化鈦、氧化鋅等。氮化硅材料結(jié)構(gòu)與玻璃材料結(jié)構(gòu)相近，其薄膜更易于和玻璃結(jié)合，其薄膜光學(xué)折射率高，玻璃面反射顏色選擇性好、靶材成本低廉。用氮化硅作為附著層材料是行業(yè)發(fā)展趨勢。
[0004]由此可見，上述現(xiàn)有的低輻射鍍膜玻璃在結(jié)構(gòu)與使用上，顯然仍存在有不便與缺陷，而亟待加以進一步改進。為了解決上述存在的問題，相關(guān)廠商莫不費盡心思來謀求解決之道，但長久以來一直未見適用的設(shè)計被發(fā)展完成，而一般產(chǎn)品又沒有適切結(jié)構(gòu)能夠解決上述問題，此顯然是相關(guān)業(yè)者急欲解決的問題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種以氮化硅薄膜作為附著層的硅基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其可見光透過率為50%，具有生產(chǎn)成本低、耐磨性能好、耐高溫的特點。
[0006]本發(fā)明的目的是采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的。本發(fā)明提出一種硅基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層設(shè)置于玻璃基片表面，且鍍膜層從底層向上依次包括:氮化硅膜層、鎳鉻膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氧化錫膜層、氮化硅膜層。
[0007]本發(fā)明的目的還可采用以下技術(shù)措施進一步實現(xiàn)。
[0008]較佳的，前述的硅基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其中所述的氮化硅膜層的厚度為20?40納米；所述的鎳鉻膜層的厚度為3?6納米；所述的銀膜層的厚度為8?12納米；所述的氧化錫膜層的厚度為20?40納米。
[0009]借由上述技術(shù)方案，本發(fā)明硅基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃至少具有下列優(yōu)點及有益效果:本發(fā)明的硅基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃可見光透過率為50%，具有生產(chǎn)成本低、耐磨性能好、耐高溫、不褪色、玻璃面反射色中性的優(yōu)點。
[0010]上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠+更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，并配合附圖，詳細說明如下。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]圖1是本發(fā)明的硅基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]【主要元件符號說明】
[0013]1:玻璃基片2:鍍膜層
[0014]21:氮化硅膜層22:鎳鉻膜層
[0015]23:銀膜層24:鎳鉻膜層
[0016]25:氧化錫膜層26:氮化硅膜層

【具體實施方式】
[0017]為更進一步闡述本發(fā)明為達成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合附圖及較佳實施例，對依據(jù)本發(fā)明提出的一種硅基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃的【具體實施方式】、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細說明如后。
[0018]請參閱圖1，為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖，本發(fā)明的硅基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃包括:玻璃基板I和鍍膜層2，鍍膜層2設(shè)置于玻璃基片I的表面，且鍍膜層2從底層向上依次包括:氮化硅膜層21、鎳鉻膜層22、銀膜層23、鎳鉻膜層24、氧化錫膜層25、氮化硅膜層26，從而構(gòu)成六層膜結(jié)構(gòu)的硅基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃。
[0019]本發(fā)明是在高真空環(huán)境下，用磁控濺射鍍膜機在浮法玻璃表面上鍍制六層納米材料膜的方法，生產(chǎn)一種具有低輻射率、高透光性、包含有一個銀層的硅基低輻射鍍膜玻璃。
[0020]本發(fā)明的硅基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃是在工廠鍍膜機上按如下方法完成:首先鍍膜室抽真空至本底真空度5 X 10 _ 4Pa以下，充入工藝氣體(氬氣、氮氣、氧氣)，使鍍膜室內(nèi)工藝氣體壓力穩(wěn)定在2.5 X 10 _ 1Pa左右，接通濺射電源，靶材開始濺射，玻璃經(jīng)清洗機清洗合格后進入真空室，經(jīng)過靶材時，靶材原子或其化合物就會沉積到玻璃基片I的表面。第一個祀祀材為娃，工藝氣體為氮氣，將氮化娃膜層21沉積到玻璃基片I的表面成為第一層膜，厚度20至40納米；第二個靶靶材為鎳鉻合金，工藝氣體為氬氣，將鎳鉻膜層22沉積到氮化硅膜層21表面成為第二層膜，厚度3至6納米；第三個靶靶材為金屬銀，工藝氣體為氬氣，將銀膜層23沉積到鎳鉻膜層22的表面成為第三層膜，厚度8至12納米；第四個靶靶材為鎳鉻合金，工藝氣體為氬氣，將鎳鉻膜層24沉積到銀膜層23表面成為第四層膜，厚度3至6納米；第五個靶靶材為金屬錫，工藝氣體為氬氣，將氧化錫膜層25沉積到鎳鉻膜層24表面成為第五層膜，厚度20至40納米；第六個靶靶材為氮化硅，工藝氣體為氬氣，將氮化硅膜層26沉積到氧化錫膜層25的表面成為第六層膜，厚度20至40納米。
[0021]第一層氮化硅膜層21會增加膜與玻璃基片I的結(jié)合力，起到減反射、調(diào)節(jié)玻璃面反射色的作用，第三層銀膜層23主要起降低玻璃輻射率的作用，第二層鎳鉻膜層22和第四層鎳鉻膜層24起到鋼化過程中保護銀膜層23的作用，第五層氧化錫膜層25和第六層氮化硅膜層26起到保護銀膜層23不被大氣氧化的作用。
[0022]以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種硅基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基片(I)和鍍膜層(2)，鍍膜層(2)設(shè)置于玻璃基片(I)的表面，且鍍膜層(2)從底層向上依次包括:氮化硅膜層(21)、鎳鉻膜層(22)、銀膜層(23)、鎳鉻膜層(24)、氧化錫膜層(25)、氮化硅膜層(26)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述的氮化硅膜層(21)的厚度為20?40納米；所述的鎳鉻膜層(22)的厚度為3?6納米；所述的銀膜層(23)的厚度為8?12納米；所述的鎳鉻膜層(24)的厚度為3?6納米；所述的氧化錫膜層(25)的厚度為20?40納米；所述的氮化硅膜層(26)的厚度為20?40納米。
【文檔編號】B32B9/04GK104210169SQ201410477632
【公開日】2014年12月17日 申請日期:2014年9月18日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月18日
【發(fā)明者】孟怡敏, 白留森, 耿學(xué)文, 謝培才 申請人:洛陽新晶潤工程玻璃有限公司