透明導(dǎo)電性膜的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供在構(gòu)成為多層的透明導(dǎo)電性膜中，提高了視認性的透明導(dǎo)電性膜。透明導(dǎo)電性膜(10)具備：由膜狀高分子樹脂形成的透明的基材(11)；層疊于基材(11)的一面上的第1硬涂層(12)；層疊于第1硬涂層(12)的上側(cè)的第1透明導(dǎo)電體層(14)?；?11)具有2μm～250μm的膜厚。第1硬涂層(12)由含有無機氧化物的硬化性樹脂形成，具有0.01μm以上且小于0.5μm、或超過6μm且10μm以下的膜厚。第1透明導(dǎo)電體層(14)由選自由無機氧化物、金屬、碳所組成的組群中的至少1種形成，具有10nm～2μm的膜厚，且經(jīng)圖案化而形成有圖案部與非圖案部。
【專利說明】透明導(dǎo)電性膜【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種透明導(dǎo)電性膜，尤其涉及在由透明塑料膜形成的基材上，層疊硬涂層、透明介電層、透明導(dǎo)電體層等而成的多層透明導(dǎo)電性膜。
【背景技術(shù)】
[0002]在透明的塑料膜的基材上層疊透明且具有導(dǎo)電性的薄膜而成的透明導(dǎo)電性膜，可廣泛用于利用其導(dǎo)電性的用途，例如液晶顯示器等平板、或者智能型手機(smartphone)或汽車導(dǎo)航(car navigat1n)及數(shù)碼相機(digital camera)等所搭載的觸控面板、或者遮蔽由液晶顯示器或電漿顯示器的顯示畫面釋放的電磁波或由移動電話產(chǎn)生的電磁波的電磁波屏蔽用膜等。
[0003]觸控面板根據(jù)位置檢測的方式,有光學式、超音波式、電磁感應(yīng)式、靜電電容式、電阻膜式等。電阻膜式觸控面板成為以下結(jié)構(gòu):層疊有透明導(dǎo)電性膜、與透明導(dǎo)電體層(氧化銦錫，以下簡記為“ΙΤ0”)的玻璃，隔著點間隔物(dot spacer)而對向。通過按壓透明導(dǎo)電性膜，對向玻璃基板上的透明導(dǎo)電體層(ITO)、與透明導(dǎo)電性膜所具有的透明導(dǎo)電體層(ITO)，以無點間隔物的點進行導(dǎo)通而確定位置。因此，因點間隔物或ITO的強度降低而導(dǎo)致壽命成為問題。另一方面，靜電電容式觸控面板在基材上具有經(jīng)圖案化的透明導(dǎo)電體層，通過手指等進行接觸，而檢測手指所具有的靜電電容，通過接觸的設(shè)置點與經(jīng)圖案化的透明導(dǎo)電體層的電阻值發(fā)生變化，而準確地檢測二維的位置信息。由于該結(jié)構(gòu)，無可動部分成為其特征，而且可靠性高，高壽命，透明度等光學性特征優(yōu)異。
[0004]如上所述，在觸控面板中，為了檢測輸入位置，有時對透明導(dǎo)電性膜的透明導(dǎo)電體層等進行特定的圖案化。但是通過圖案化，圖案部(透明導(dǎo)電體層等所具有的部分)與非圖案部(除去了透明導(dǎo)電體層等的圖案開口部分)的光學特性變得明顯，而有作為顯示組件的外觀性變差的擔憂。特別是在靜電電容式觸控面板中，由于透明導(dǎo)電體層形成于顯示部的前面，因此要求即便在將透明導(dǎo)電體層圖案化(圖案(pattern)化)的情況下外觀性亦佳者。
[0005]而且，由于由液晶顯示器產(chǎn)生電磁波，而有造成觸控面板錯誤運作的擔憂，因此在靜電電容式觸控面板中，在觸控面板與液晶顯示器之間提供透明導(dǎo)電性膜，進行電磁干涉(Electromagnetic Interference, EMI)處理。對于此種透明導(dǎo)電性膜,亦要求抑制或除去對作為顯示組件的外觀性造成影響的其他因素(例如干涉條紋的產(chǎn)生、透光率的降低等)。
[0006]例如專利文獻I中揭示如下的透明導(dǎo)電性層疊體，其在膜基材上設(shè)置有導(dǎo)電性薄膜，且透明性、導(dǎo)電性薄膜的耐擦傷性優(yōu)異，且耐彎曲性亦優(yōu)異(參照專利文獻1、段落0005)。
[0007][現(xiàn)有技術(shù)文獻]
[0008][專利文獻]
[0009][專利文獻I]日本專利特開2002-326301號公報
【發(fā)明內(nèi)容】
[0010]如上所述，經(jīng)多層構(gòu)成的透明導(dǎo)電性膜，存在使視認性降低的各種因素。
[0011]因此，本發(fā)明的課題是在經(jīng)多層構(gòu)成的透明導(dǎo)電性膜中，提供提高了視認性的透明導(dǎo)電性膜。
[0012]本
【發(fā)明者】等人，為了解決上述課題而進行銳意研究。其結(jié)果發(fā)現(xiàn)，在透明導(dǎo)電性膜的硬涂層的厚度(膜厚)處于某固定范圍時，可抑制透明導(dǎo)電性膜所產(chǎn)生的干涉條紋的產(chǎn)生，從而完成了本發(fā)明。
[0013]本發(fā)明的第I形態(tài)的透明導(dǎo)電性膜例如如圖1 (a)、圖1(b)所示，具備:由膜狀高分子樹脂形成的透明的基材11 ;層疊于基材11的一面上的第I硬涂層12 ;層疊于第I硬涂層12的上側(cè)的第I透明導(dǎo)電體層14 ;基材11具有2 μ m?250 μ m的膜厚，第I硬涂層12由含有無機氧化物的硬化性樹脂形成，具有0.01 μ m以上且小于0.5 μ m、或超過6 μ m且10 μ m以下的膜厚，第I透明導(dǎo)電體層14由選自由無機氧化物、金屬、碳所組成的組群中的至少I種形成，具有1nm?2μπι的膜厚，且經(jīng)圖案化而形成有圖案部與非圖案部。
[0014]另外，所謂“第I硬涂層的上側(cè)”，在以第I硬涂層為上的方式載置基材時，包括:與第I硬涂層接觸而成為上側(cè)的情形(例如參照圖1(b)的第I透明導(dǎo)電體層14);及在第I硬涂層上以非接觸成為上側(cè)的情形(例如參照圖1(a)的第I透明導(dǎo)電體層14)這兩種。
[0015]若以上述方式構(gòu)成，則第I硬涂層的厚度為0.01 μ m以上且小于0.5 μ m、或超過6 μ m且10 μ m以下，可抑制在透明導(dǎo)電性膜上產(chǎn)生干涉條紋。另外，硬涂層由于由硬化性樹脂形成，因此通過制造步驟中的熱處理等，可防止寡聚物等低分子物質(zhì)自由高分子樹脂形成的基材溶出，而且可抑制對所層疊的層的影響。
[0016]本發(fā)明的第2形態(tài)的透明導(dǎo)電性膜，如上述本發(fā)明的第I形態(tài)的透明導(dǎo)電性膜，其中第I硬涂層12所含有的無機氧化物的粒徑是體積平均粒徑為1nm?10nm的微粒子，在第I硬涂層12中含有5重量％?95重量％的無機氧化物。
[0017]若以上述方式構(gòu)成，則在第I硬涂層的厚度為0.01 μ m以上時，可抑制以下情況:第I硬涂層中所含有的無機氧化物的穩(wěn)定分散狀態(tài)受損，而引起凝聚，或者在靠近表面的部位分散，而在第I硬涂層的表面出現(xiàn)凹凸，或者第I硬涂層的透明性降低。
[0018]本發(fā)明的第3形態(tài)的透明導(dǎo)電性膜，如上述本發(fā)明的第I形態(tài)或第2形態(tài)的透明導(dǎo)電性膜，其中例如如圖1(a)所示，具備層疊于第I硬涂層12與第I透明導(dǎo)電體層14之間的第I透明介電層13 ;第I透明介電層13由無機物形成,具有1nm?10nm的膜厚。
[0019]若以上述方式構(gòu)成，則在對第I透明導(dǎo)電體層使用酸溶液進行通過蝕刻的圖案化時，由于具有第I透明介電層，且由耐酸性高的材料形成，故可防止第I硬涂層的劣化。
[0020]本發(fā)明的第4形態(tài)的透明導(dǎo)電性膜，如上述本發(fā)明的第I形態(tài)?第3形態(tài)中任一形態(tài)的透明導(dǎo)電性膜，其中第I硬涂層12的折射率為1.40?1.90，在具有第I透明介電層13的情況下，第I透明介電層13的折射率為1.30?1.50。
[0021]若以上述方式構(gòu)成，則由于硬涂層、根據(jù)需要而層疊的透明介電層具有恰當?shù)恼凵渎逝c膜厚，因此形成于透明導(dǎo)電體層上的圖案形狀并不顯著，兼顧抑制干涉條紋的產(chǎn)生，而可獲得視認性良好的透明導(dǎo)電性膜。而且，硬涂層由于由含有無機氧化物的硬化性樹脂形成，因此通過調(diào)整所含有的無機氧化物的種類或數(shù)量，而可容易獲得所期望的折射率。
[0022]本發(fā)明的第5形態(tài)的透明導(dǎo)電性膜，如上述本發(fā)明的第I形態(tài)?第4形態(tài)中任一種形態(tài)的透明導(dǎo)電性膜，其中基材11由選自由聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、三乙酰纖維素(triacetyl cellulose)、及聚碳酸酯所組成的組群中的至少I種形成,形成第I硬涂層12的硬化性樹脂為紫外線硬化性樹脂，第I透明導(dǎo)電體層14由選自由氧化銦錫、氧化銦鋅、添加鎵的氧化鋅、添加鋁的氧化鋅、銀、銅、碳所組成的組群中的至少I種形成。在具有第I透明介電層13的情況下，第I透明介電層13由二氧化硅形成。
[0023]在對第I透明導(dǎo)電體層使用酸溶液進行通過蝕刻的圖案化時，由于具備第I透明介電層，且由耐酸性特別高的二氧化硅形成，故可防止第I硬涂層的劣化。另外，在第I透明導(dǎo)電體層使用包含選自由氧化銦錫、氧化銦鋅、添加鎵的氧化鋅、添加鋁的氧化鋅所組成的組群中的至少I種的金屬氧化物時，由于具備第I透明介電層，故可進一步提高第I透明導(dǎo)電體層的密接性。而且，若具備第I透明介電層，則由于透明導(dǎo)電性膜的層數(shù)增加，因此會更容易地調(diào)整整個透明導(dǎo)電性膜的折射率。
[0024]本發(fā)明的第6形態(tài)的圖像顯示裝置例如如圖5所示，具備:具有上述本發(fā)明的第I形態(tài)?第5形態(tài)中任一形態(tài)的透明導(dǎo)電性膜的觸控面板43;以及設(shè)置于透明導(dǎo)電性膜的基材側(cè)的圖像面板41。
[0025]若以上述方式構(gòu)成，則可獲得觸控面板中干涉條紋的產(chǎn)生得到抑制，并提高了圖像面板的顯示的視認性的圖像顯示裝置。
[0026]本發(fā)明的第7形態(tài)的圖像顯示裝置例如如圖5所示，具備:通過接觸進行輸入的觸控面板；顯示影像的圖像面板41 ;具有申請專利范圍I?申請專利范圍5中任一項所述的透明導(dǎo)電性膜、且載置于所述觸控面板與圖像面板41之間的電磁波屏蔽層42。
[0027]若以上述方式構(gòu)成，則通過抑制了干涉條紋的產(chǎn)生的電磁波屏蔽層，而可進行電磁干涉(EMI)處理，即防止因由圖像面板產(chǎn)生的電磁波而造成觸控面板錯誤運作。
[0028][發(fā)明的效果]
[0029]本發(fā)明的透明導(dǎo)電性膜通過使第I硬涂層的膜厚成為恰當?shù)暮穸?，而可抑制干涉條紋的產(chǎn)生。因此，可獲得視認性良好的多層結(jié)構(gòu)的透明導(dǎo)電性膜。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0030]圖1 (a)是說明具有透明介電層13的透明導(dǎo)電性膜10的層構(gòu)成的剖面圖。圖1 (b)是說明不具有透明介電層13的透明導(dǎo)電性膜10'的層構(gòu)成的剖面圖。
[0031]圖2(a)及圖2(b)是表示形成于透明導(dǎo)電體層上的圖案形狀的一例的圖。
[0032]圖3是說明經(jīng)多層構(gòu)成的透明導(dǎo)電性膜20 (具有透明介電層13時)的層構(gòu)成的剖面圖。
[0033]圖4是說明經(jīng)多層構(gòu)成的透明導(dǎo)電性膜30(具有透明介電層13、透明介電層13'時)的層構(gòu)成的剖面圖。
[0034]圖5是具備具有透明導(dǎo)電性膜30的觸控面板的圖像顯示裝置40的剖面圖。
[0035]圖6是表示制造透明導(dǎo)電性膜(具有透明介電層時)的步驟的流程圖。
[0036]圖7是表示參考例I?參考例6、比較例I?比較例4的層構(gòu)成的圖。
[0037]圖8是表示實施例1?實施例7、比較例5?比較例7的層構(gòu)成的圖。
[0038]圖9是表示在參考例I及實施例3的透明導(dǎo)電性膜上，貼合附著有黏著劑的黑色聚對苯二甲酸乙二酯膜后，對該膜進行拍照，并且在該照片中可目視確認的干涉條紋的圖?！揪唧w實施方式】
[0039]該申請案是基于在日本于2012年I月6日申請的日本專利特愿2012-001120號，其內(nèi)容作為本申請案的內(nèi)容而形成其一部分。本發(fā)明通過以下的詳細的說明應(yīng)可更完全地理解。本發(fā)明的進一步的應(yīng)用范圍通過以下的詳細的說明應(yīng)可明白。然而，詳細的說明及特定的實例為本發(fā)明的較理想的實施形態(tài)，僅為了說明的目的而記載者。原因是，根據(jù)其詳細的說明，各種變更、改變在本發(fā)明的精神與范圍內(nèi)可為業(yè)者所明白。 申請人:亦無意向公眾獻上所記載的實施形態(tài)的任一種，在改變、代替案中，在文字上可能未包括在專利申請案范圍內(nèi)者，亦成為均等論下的發(fā)明的一部分。
[0040]以下，參照圖式，對本發(fā)明的實施形態(tài)進行說明。另外，對各圖中彼此相同或相當?shù)牟糠仲x予相同或類似的符號，并省略重復(fù)的說明。另外，本發(fā)明并不限定于以下的實施形態(tài)。
[0041 ] 接著，對本發(fā)明進行具體地說明。
[0042][透明導(dǎo)電性膜10]
[0043]參照圖1(a)，對本發(fā)明的第I實施形態(tài)的透明導(dǎo)電性膜10進行說明。另外，圖1是說明經(jīng)多層構(gòu)成的透明導(dǎo)電性膜10的層構(gòu)成的圖，而且各層的厚度被夸大。透明導(dǎo)電性膜10具備:作為基材的透明塑料基材11、硬涂層12、透明介電層13、以及透明導(dǎo)電體層14。如圖1(a)所示，在透明塑料基材 11的一面(圖1中為透明塑料基材11的上側(cè))，層疊硬涂層12。在硬涂層12上進一步根據(jù)需要而層疊透明介電層13。在透明介電層13上進一步層疊透明導(dǎo)電體層14。如此，透明導(dǎo)電性膜10被構(gòu)成為多層。
[0044][透明導(dǎo)電性膜10']
[0045]參照圖1(b)，對透明導(dǎo)電性膜10'進行說明。透明導(dǎo)電性膜10'是不具備透明介電層13而構(gòu)成的透明導(dǎo)電性膜。
[0046][透明塑料基材11]
[0047]透明塑料基材11是指由膜狀高分子樹脂形成的透明的基材11。透明塑料基材11中，可使用具有透明性的各種塑料膜作為膜狀高分子樹脂。具有透明性的塑料膜的材料例如可列舉:聚酷系樹脂、乙Ife酷系樹脂、聚釀諷系樹脂、聚碳Ife酷系樹脂、聚酸胺系樹脂、聚酰亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹月旨、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚苯硫醚系樹脂、降冰片烯系樹脂等樹脂。具體而言，較佳為聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate,PET)、聚萘二甲酸乙二酯、三乙酰纖維素、聚醚砜、聚碳酸酯、聚芳酯、聚醚醚酮等。另外，聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯由于機械強度、尺寸穩(wěn)定性、耐熱性、耐藥品性、光學特性等、及膜表面的平滑性或操作性優(yōu)異，因此更佳。聚碳酸酯由于透明性、耐沖擊性、耐熱性、尺寸穩(wěn)定性、燃燒性優(yōu)異，因此更佳。若亦考慮到價格、獲得的容易性，特佳為聚對苯二甲酸乙二酯。
[0048]透明塑料基材11的膜厚為2μπι~250μL?，較佳為10 μ m~200 μ m，特佳為20 μ m~190 μ m。若透明塑料基材11的膜厚為2 μ m以上，則可維持基材的機械強度，而且透明導(dǎo)電性膜10的透明導(dǎo)電體層14的形成及圖案形成等的作業(yè)變得容易。另外，若膜厚為250μπι以下，則可使觸控面板的厚度變薄，并適于移動電話或隨身聽等移動裝置等。
[0049]透明塑料基材11較佳為實施:易接著處理(將透明塑料基材制膜時，為在線內(nèi)涂布易接著劑的處理，并提高透明塑料基材與硬涂層的密接性)、底涂(primer coat)處理(將透明塑料基材制膜后，為脫機涂布底涂劑的處理，并提高透明塑料基材與硬涂層的密接性)、電暈放電處理、火焰處理、紫外線照射處理、電子束照射處理、臭氧處理、輝光放電處理、濺鍍處理等表面活化處理。通過表面活化處理，可提高硬涂層12對透明塑料基材11的密接性。
[0050]在透明塑料基材11上層疊以硬化性樹脂為主成分的硬涂層12。通過硬涂層12，可實現(xiàn)透明塑料基材11的光學干涉對策、彎曲對策、賦予耐藥品性、防止寡聚物等低分子物質(zhì)的析出。
[0051][硬涂層12]
[0052]硬涂層12通過在透明塑料基材11上涂布硬化性樹脂，并使所得的涂膜硬化而形成。硬化性樹脂的涂布較佳為使用均勻地涂布溶解于溶劑中的樹脂的濕式涂布法。濕式涂布法可使用凹版涂布法或模涂法等。凹版涂布法是如下的方式:將對表面實施了凸凹的雕刻加工的凹版輥浸潰于涂布液中，通過刮刀(doctor blade)刮落附著于凹版輥表面的凸凹部的涂布液，而在凹部儲存涂布液，而藉此準確地計量，并轉(zhuǎn)移至基材。通過凹版涂布法，可薄薄地涂布低黏度的涂布液。模涂法是如下的方式:一邊自被稱為模(die)的涂布用頭，將涂布液加壓而擠出一邊涂布。通過模涂法可實現(xiàn)高精度的涂布。而且，由于涂布時涂布液不暴露于外部氣體，因此難以引起因干燥所造成的涂布液的濃度變化等。其他濕式涂布法可列舉:旋涂法、棒涂法、反向涂布法、輥涂法、狹縫涂布法、浸潰法、噴涂法、吻合涂布法、反轉(zhuǎn)吻合涂布法(reverse kiss coat)、氣刀涂布法、淋幕式涂布法、桿涂法等。層疊的方法可根據(jù)使用這些方法所需要的膜厚進行適當選擇。而且，通過使用濕式涂布法，而能以每分鐘數(shù)十米的線速度(例如約20m/分鐘)進行層疊，因此可大量且廉價地制造，并可提高生產(chǎn)效率。
[0053]此處，硬化性樹脂是通過加熱、紫外線照射、電子束照射等而硬化的樹脂。硬化性樹脂可列舉:硅酮(silicone)樹脂、丙烯酸系樹脂、甲基丙烯酸系樹脂、環(huán)氧樹脂、三聚氰胺樹脂、聚酯樹脂、氨基甲酸酯(urethane)樹脂等。這些硬化性樹脂中就生產(chǎn)性上的觀點而言，較佳為紫外線硬化性樹脂。紫外線硬化性樹脂通常添加光聚合起始劑而使用。光聚合起始劑例如可列舉:各種安息香衍生物、二苯甲酮衍生物、苯基酮衍生物等。光聚合起始劑的添加量相對于紫外線硬化性樹脂100重量份，較佳為設(shè)為I重量份?5重量份。另外，硬化性樹脂就用作涂布液而言，較佳為硬化前為液狀。
[0054]涂布液(硬涂層涂布液)的硬化性樹脂成分的濃度，例如可調(diào)整為與濕式涂布法等層疊方法相對應(yīng)的黏度而恰當選擇。上述濃度較佳為5重量％?80重量％，更佳為10重量％?60重量％的范圍。稀釋溶劑例如可使用甲基異丁基酮等。另外，該涂布液中，根據(jù)需要可添加公知的其他添加劑，例如界面活性劑等均化劑。若添加均化劑，則可控制涂布液的表面張力，并且可抑制收縮(cissing)、凹坑(crater)等硬涂層形成時所產(chǎn)生的表面缺陷。
[0055]在硬涂層涂布液中，為了調(diào)整硬化后的硬涂層12的折射率，而添加無機氧化物。硬涂層所含有的無機氧化物的材料可列舉:Si02、Al203、Sn02、Zr02、Ti02等，及這些的復(fù)合氧化物等。另外，亦可使用將多種無機氧化物加以混合而成的材料。為了防止硬涂層12的透明性的降低，較佳為無機氧化物的粒徑是體積平均粒徑為Inm?10nm的范圍的微粒子，特佳為1nm?lOOnm。無機氧化物的添加量會因比重等而受到影響，但較佳為樹脂固體成分的5重量％?95重量％。如此，由于硬涂層中添加無機氧化物，因此為了提高折射率,而添加折射率高的無機氧化物、或增加無機氧化物的添加量，而可容易地獲得具有所期望的折射率的硬涂層。另外，無機氧化物的粒徑較佳為小于硬涂層的膜厚。
[0056]硬涂層12的折射率為1.40?1.90，較佳為1.55?1.80。若折射率為1.40以上，則與透明介電層13的折射率差不會變得過小，在將透明導(dǎo)電體層14圖案化時，圖案部與非圖案部的光學特性不會變大，而有難以見到圖案部的傾向。另一方面，若折射率為1.90以下，則例如于透明塑料基材11使用PET時，與透明塑料基材11的折射率差不會變得過大，而可抑制透明導(dǎo)電性膜10的視認性因干涉等而降低。
[0057]硬涂層12的膜厚為0.01 μ m?10 μ m。另外，通過將硬涂層12的膜厚設(shè)定為特定的范圍內(nèi)，而可抑制透明導(dǎo)電性膜所產(chǎn)生的干涉條紋。所謂特定的范圍內(nèi)，將硬涂層12制成較薄時，為0.01 μ m?0.5 μ m,更佳為0.15 μ m?0.35 μ m,特佳為0.15 μ m?0.25 μ m。將硬涂層12制成較厚時，為6 μ m?10 μ m，更佳為7 μ m?8 μ m。若硬涂層12的膜厚為10 μ m以下，則不會發(fā)生總透光率等透明性降低，而可在用于觸控面板等時實現(xiàn)輕量化。
[0058]用以使硬化性樹脂硬化的硬化處理可列舉:加熱、紫外線照射、電子束照射等硬化處理。另外，在涂膜含有稀釋溶劑時，通常較佳為:在70°C?200°C的范圍內(nèi)將涂膜加熱數(shù)十分鐘，將殘留于涂膜中的稀釋溶劑除去后，進行硬化處理。通過加熱的硬化例如通常以80°C?250°C、較佳為100°C?200°C的加熱溫度進行加熱即可。此時，在使用烘箱時，加熱30分鐘?90分鐘即可，在使用加熱板時，加熱5分鐘?30分鐘即可。另外，通過紫外線照射的硬化，由紫外線(ultrav1let，UV)燈(例如高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、高功率金屬鹵化物燈)對涂布液以短時間(數(shù)秒?數(shù)十秒的范圍內(nèi))照射200nm?400nm的波長的紫外線即可。另外，通過電子束照射的硬化，從300keV以下的自遮蔽型低能量電子加速器對涂布液照射低能量電子束即可。
[0059]如此形成的硬涂層12具有減小透明導(dǎo)電體層14的圖案部與非圖案部的光學特性差的功能。因此，具有硬涂層12的本申請案的透明導(dǎo)電性膜，與現(xiàn)有的模內(nèi)(In-Mold，IM)膜相比，可減少層構(gòu)成。
[0060][透明介電層13]
[0061]通過于在透明導(dǎo)電體層14上使用酸溶液形成因蝕刻所致的圖案時，具備透明介電層13，而可防止硬涂層12的劣化。另外，在透明導(dǎo)電體層14由氧化銦錫、氧化銦鋅、添加鎵的氧化鋅、添加鋁的氧化鋅等金屬氧化物形成時，通過具備透明介電層13，而可進一步提高透明導(dǎo)電體層14的密接。
[0062]透明介電層13的材料可列舉:NaF、BaF2、LiF、MgF2、CaF2、Si02等無機物。這些中，較佳為Si02。S12由于耐酸性特別高，因此在通過酸溶液等對透明導(dǎo)電體層14進行蝕刻而圖案化時，可防止硬涂層12的劣化。
[0063]透明介電層13的形成方法具體可列舉:濺鍍法、真空蒸鍍法、離子電鍍法等干式制程，或者通過涂敷硅溶膠等而形成透明介電層的濕式法。根據(jù)所需要的膜厚，可適當選擇上述方法。若使用干式制程，則可由數(shù)nm的膜厚進行制作，并可制作均質(zhì)且平滑性優(yōu)異的膜，因此較佳。特別是通過選擇純度佳的濺鍍靶(成膜材料)，而可制作灰塵或顆粒少的膜，因此較佳。另外，若使用硅溶膠，則容易成膜，因此較佳。[0064]透明介電層13的折射率為1.30?1.50，較佳為1.40?1.50。若折射率為1.30以上，則膜不會變?yōu)槎嗫仔裕趯盈B透明導(dǎo)電體層14時，透明導(dǎo)電體層14變?yōu)榫鶆虻哪?，電氣特性不會降低。另一方面，若折射率?.50以下，則與透明導(dǎo)電體層14的折射率差不會變得過小，在將透明導(dǎo)電體層14圖案化時，容易使圖案部與非圖案部的光學特性接近。另夕卜，透明介電層13的折射率較佳為小于硬涂層12的折射率。
[0065]透明介電層13的膜厚為1nm?10nm,較佳為15nm?80nm,特佳為20nm?60nm。若膜厚為1nm以上，則不會成為不連續(xù)膜，而可維持膜的穩(wěn)定性。另一方面，若膜厚為10nm以下，則難以引起透明性降低等。另外，透明介電層13的膜厚較佳為與硬涂層12的膜厚相同或比其薄。
[0066][透明導(dǎo)電體層14]
[0067]透明導(dǎo)電體層14的材料可列舉:氧化鋅、氧化錫、氧化鋁、氧化鈦、氧化銦、氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、添加鎵的氧化鋅、添加氟的氧化錫、添加銻的氧化錫、添加鋁的氧化鋅(AZO)、添加硅的氧化鋅、銀、銅、碳等。
[0068]透明導(dǎo)電體層14的膜厚較佳為1nm?2μπι。另外，透明導(dǎo)電體層14的膜厚較佳為比硬涂層12及透明介電層13的膜厚薄。
[0069]透明導(dǎo)電體層14的表面電阻值較佳為1Ω / □?1000 Ω/ □的范圍內(nèi)，更佳為5Ω/ □?500Ω/ □的范圍內(nèi)。為了成為具有該表面電阻值的連續(xù)膜，透明導(dǎo)電體層14的膜厚較佳為1nm?300nm,更佳為20nm?200nm。
[0070]透明導(dǎo)電體層14的形成方法具體可列舉:通過以無機氧化物為主成分的涂布液的濕式法，或派鍍法、離子電鍍法、電子束蒸鍍法、化學氣相沉積法(Chemical VaporDeposit1n, CVD)等干式制程。若使用干式制程，則可由數(shù)nm的膜厚進行制作，并可制作均質(zhì)且平滑性優(yōu)異的膜，因此較佳。特別是通過于濺鍍靶(成膜材料)選擇純度佳者，而可制作灰塵或顆粒少的膜，因此較佳。特別是在將ITO成膜時，在干式制程中，通過改變靶材料的氧化錫與氧化銦的比率，而可改變所成膜的ITO的錫與銦的比率，其結(jié)果可容易改變ITO的折射率(光學特性)等。若使用濕式制程，則通過將ΙΤΟ、ΙΖ0、銀、銅、碳等進行涂料化，而進行涂布、加熱干燥、融著，而可通過印刷等簡便地成膜，因此較佳。
[0071]在形成透明導(dǎo)電體層14后，透明導(dǎo)電體層14受到蝕刻而圖案化。圖案化可根據(jù)應(yīng)用透明導(dǎo)電性膜10的用途，而形成各種圖案。在透明導(dǎo)電體層14的表面形成具有所期望的圖案形狀的屏蔽部，通過蝕刻液等除去露出部分后，通過堿性液等使屏蔽部溶解而圖案化。蝕刻液可較佳地使用酸。酸例如可列舉:氯化氫、溴化氫、硝酸、硫酸、磷酸等無機酸，乙酸、草酸等有機酸，及這些的混合物、以及這些的水溶液。但圖案化的方法并不限定于此，亦可使用雷射剝蝕(laser ablat1n)法、網(wǎng)版印刷法等方法。
[0072]圖案形狀例如可制成如圖2(a)及圖2(b)所示的菱形(diamond)形狀。但形狀并不限定于此，亦可為三角形或四角形。另外，圖2(a)及圖2(b)所示的圖案，分別在箭頭的方向電性連接。特別是若以網(wǎng)狀或線狀形態(tài)形成透明導(dǎo)電體層14，則不會損及透明性而可獲得優(yōu)異的電磁波屏蔽(shield)特性，因此較佳。透明導(dǎo)電體層的線寬度較佳為Iym?40 μ m的范圍,更佳為5μηι?30μηι的范圍內(nèi)。線間隔較佳為50 μ m?500 μ m的范圍,更佳為100 μ m?400 μ m的范圍內(nèi)。
[0073]在透明導(dǎo)電體層14使用選自由氧化銦錫、氧化銦鋅、添加鎵的氧化鋅、添加鋁的氧化鋅所組成的組群中的至少I種金屬氧化物時，在圖案化后，為了提高導(dǎo)電性，可在100°C?150°C的范圍內(nèi)實施退火處理而提聞結(jié)晶化。透明導(dǎo)電體層14的結(jié)晶性越聞則導(dǎo)電性越良好。因此，透明塑料基材11較佳為具有150°c以上的耐熱性。
[0074][透明導(dǎo)電性膜20]
[0075]參照圖3，對本發(fā)明的第2實施形態(tài)的透明導(dǎo)電性膜20進行說明。透明導(dǎo)電性膜20在圖1(a)所示的透明塑料基材11的與硬涂層12側(cè)相反側(cè)的面上進一步具備硬涂層12'。藉此，成為透明塑料基材11被硬涂層12與硬涂層12'夾持的構(gòu)成，因此可進一步抑制透明塑料基材11彎曲。
[0076]硬涂層12'的材料、膜厚、折射率、所含有的無機氧化物，分別可與硬涂層12相同，或者亦可不同。而且亦可不含無機氧化物。例如若使材料及含有物與硬涂層12相同，使膜厚比硬涂層12厚，則容易成膜而提高作業(yè)性。
[0077][透明導(dǎo)電性膜30]
[0078]參照圖4，對本發(fā)明的第3實施形態(tài)的透明導(dǎo)電性膜30進行說明。透明導(dǎo)電性膜30在圖1所示的透明塑料基材11的與硬涂層12側(cè)相反側(cè)的面上進一步具備硬涂層12'、根據(jù)需要具備透明介電層13'、透明導(dǎo)電體層14'。如圖4所示，硬涂層12'層疊于透明塑料基材11的另一面(圖4中為透明塑料基材11的下側(cè))。在硬涂層12'之下，根據(jù)需要進一步層疊透明介電層13'。在透明介電層13'之下，進一步層疊透明導(dǎo)電體層14'。如此，在透明塑料基材11的兩面以成為對稱的方式構(gòu)成各層。
[0079]形成于透明塑料基材11的兩側(cè)的透明導(dǎo)電體層14及透明導(dǎo)電體層14'的各圖案可相同，但更佳為不同的形狀。例如，在透明導(dǎo)電體層14上形成圖2(a)所示的圖案。在透明導(dǎo)電體層14'上，以不與圖2(a)的圖案重疊的方式形成圖2(b)所示的圖案。此時，圖2(a)與圖2(b)的圖案以電性連接的方向交叉(包括正交)的方式形成。如此，通過組合透明導(dǎo)電體層14與透明導(dǎo)電體層14'的圖案而構(gòu)成，而適合于投影型靜電電容方式觸控面板，因此較佳。
[0080]另外，透明介電層13與透明介電層13'根據(jù)需要可具備兩層，亦可僅具備某I層，還可不具備。另外，透明介電層13'的材料、膜厚、折射率分別可與透明介電層13相同，或亦可不同。而且，透明導(dǎo)電體層14'的材料、膜厚、折射率分別可與透明導(dǎo)電體層14相同，或亦可不同。
[0081]另外，各層的構(gòu)成并不限定于透明導(dǎo)電性膜10、透明導(dǎo)電性膜20、透明導(dǎo)電性膜30，亦可設(shè)為其他構(gòu)成。
[0082][圖像顯示裝置4O]
[0083]參照圖5，對本發(fā)明的第4實施形態(tài)的圖像顯示裝置40進行說明。圖像顯示裝置40具備:顯示通過機械處理而映出的影像的圖像面板41、具有本發(fā)明的透明導(dǎo)電性膜10的電磁波屏蔽層42、具有本發(fā)明的透明導(dǎo)電性膜30的觸控面板43、以及保護層44。如圖5所示，在液晶顯示器等的圖像面板41上以經(jīng)圖案化的透明導(dǎo)電體層14(參照圖3)成為下側(cè)的方式，層疊電磁波屏蔽層42，而且以經(jīng)圖案化的透明導(dǎo)電體層14(參照圖4)成為上側(cè)的方式，載置觸控面板43。而且，在觸控面板43上載置保護觸控面板43的保護層44。另外，使用本發(fā)明的透明導(dǎo)電性膜的圖像顯示裝置，并不限定于圖像顯示裝置40，亦可為其他構(gòu)成的顯示裝置。例如可使用本發(fā)明的透明導(dǎo)電性膜10及透明導(dǎo)電性膜20。而且，亦可分別層疊多層透明導(dǎo)電性膜10、或多層透明導(dǎo)電性膜20而使用。例如可在以透明導(dǎo)電體層14為上的狀態(tài)下重疊2片透明導(dǎo)電性膜10而使用。此時，在位于上方的透明導(dǎo)電體層14上，可形成圖2(a)所示的圖案。而且在位于下方的透明導(dǎo)電體層14上，能以不與圖2(a)的圖案重疊的方式形成圖2(b)所示的圖案。此時，較佳為以電性連接的方向交叉(包括正交)的方式形成圖2(a)與圖2(b)的圖案。如此，可將2片透明導(dǎo)電性膜10重疊，組合2層的透明導(dǎo)電體層14的圖案而構(gòu)成。
[0084]而且,觸控面板根據(jù)位置檢測的方式,有光學式、超音波式、電磁感應(yīng)式、靜電電容式、電阻膜式等。本發(fā)明的透明導(dǎo)電性膜在任一種方式的觸控面板中均可使用。其中，由于對透明導(dǎo)電體層實施的圖案形狀不顯著，因此適合于靜電電容式的觸控面板。
[0085][透明導(dǎo)電性膜的制造方法]
[0086]參照圖6，對本發(fā)明的第5實施形態(tài)的透明導(dǎo)電性膜的制造方法進行說明。首先，在由膜狀高分子樹脂形成的透明的基材11的一面上，通過濕式涂布法層疊硬涂層12 (SOl)0接著，在硬涂層12的與基材11側(cè)相反側(cè)的面上，根據(jù)需要層疊透明介電層13(S02)。接著，在透明介電層13的與硬涂層12側(cè)相反側(cè)的面上，層疊透明導(dǎo)電體層14(S03)。最后，將透明導(dǎo)電體層14圖案化(S04)?；?1是使用具有2 μ m~250 μ m的膜厚的膜。另外，本制造方法進一步包括使硬化性樹脂含有無機氧化物的步驟。因此，硬涂層12是由含有無機氧化物的硬化性樹脂，以具有1.40~1.90的折射率及0.01 μ m~1ym的膜厚的方式形成。透明介電層13由無機物以具有1.30~1.50的折射率及1nm~10nm的膜厚的方式形成。透明導(dǎo)電體層14由選自由氧化鋅、氧化錫、氧化鋁、氧化鈦、氧化銦、氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、添加鎵的氧化鋅、添加氟的氧化錫、添加銻的氧化錫、添加鋁的氧化鋅(AZO)、添加硅 的氧化鋅等無機氧化物、銀及銅等金屬、碳所組成的組群中的至少I種，以具有1nm~2μπι的膜厚的方式形成。然后，圖案化成特定的形狀。另外，本制造方法是通過濕式涂布法層疊硬涂層，因此能以每分鐘數(shù)十米的線速度(例如約20m/分鐘)且廉價地層疊，并可提高生產(chǎn)效率。而且，硬涂層由含有無機氧化物的硬化性樹脂形成，因此通過調(diào)整所含有的無機氧化物的種類或數(shù)量而可容易調(diào)整硬涂層的折射率。如此，硬涂層具有減小透明導(dǎo)電體層的圖案部與非圖案部的光學特性差的功能，因此本申請案的透明導(dǎo)電性膜與現(xiàn)有的頂膜相比，可減少層構(gòu)成。
[0087][實施例]
[0088]以下，通過實施例對本發(fā)明進行詳細地說明，但本發(fā)明并不限定于這些實施例。
[0089][特性的測定方法及效果的評價方法]
[0090]本發(fā)明中的特性的測定方法及效果的評價方法如下所述。
[0091](總透光率)
[0092]依據(jù)JIS-K7361，使用日本電色工業(yè)(股)制造的NDH-5000，測定總透光率。
[0093](色差)
[0094]依據(jù)JIS-Z8729，使用日本電色工業(yè)(股)制造的SD5000，測定圖案部與非圖案部的透射光的L'a'b*值，并算出色差ΛΕ'色差ΛΕ*是將圖案部與非圖案部的L'a'b*值之差即AL'Aa'Ab*進行自乘而相加，取其平方根，從而算出(ΛΕ≥O)。該ΛΕ*的值越小則越難以見到圖案部。
[0095](表面電阻值)[0096]通過四端子法，使用三菱化學分析技術(shù)(Mitsubishi Chemical Analytech)(股)制造的MCP-T610，測定ITO膜的表面電阻值(Ω / □)。
[0097](各層的厚度)
[0098]透明塑料基材11的膜厚是通過尼康(Nikon)制造的微計測器(microgauge)式厚度計MF-501進行測定。其他層的厚度是通過日立制作所制造的掃描型電子顯微鏡SU70進行剖面觀察而測定。
[0099](各層的折射率)
[0100]各層的折射率是使用愛宕(Atago)公司制造的阿貝(Abbe)折射率計進行測定。
[0101](視認性評價)
[0102]在黑板上以透明導(dǎo)電體層側(cè)為上的方式放置透明導(dǎo)電性膜的樣品，通過下述基準評價是否可目視判別圖案部與非圖案部(圖案開口部)。
[0103]〇:難以判別圖案部與非圖案部(圖案開口部)。
[0104]Λ:稍可判別圖案部與非圖案部(圖案開口部)。
[0105]X:可清楚判別圖案部與非圖案部(圖案開口部)。
[0106](粒度分布)
[0107]粒度分布是使用日機裝(股)制造的NANOTRAC UPA-UT151，通過動態(tài)光散射法進行測定。另外，表示以1-甲氧基-2-丙醇將固體成分濃度稀釋為10%的體積平均粒徑。
[0108]PELTRON XJA-0189:42nm
[0109]PELTRON XJA-0190:37nm
[0110]L1duras TYZ74:95nm
[0111][硬涂層涂布液的制備]
[0112](硬涂層涂布液(al)的制備)
[0113]將丙烯酸系紫外線硬化性樹脂(大日本油墨化學(Dainippon Ink and Chemicals,DIC)(股)制造:UNIDIC17-824-9) 100重量份、膠體氧化鋯(日產(chǎn)化學(股)制造=NanoUse0Z-S30K)63重量份與甲基異丁基酮460重量份進行混合，而制備硬涂層涂布液(al)。
[0114](硬涂層涂布液(a2)的制備)
[0115]將丙烯酸系紫外線硬化性樹脂(DIC (股)制造:UNIDIC17-824-9) 100重量份、膠體氧化鋯(日產(chǎn)化學(股)制造=NanoUse 0Z-S30K) 150重量份與甲基異丁基酮420重量份進行混合，而制備硬涂層涂布液(a2)。
[0116](硬涂層涂布液(a3)的制備)
[0117]將丙烯酸系紫外線硬化性樹脂(DIC (股)制造:UNIDIC17-824-9) 100重量份、甲基異丁基酮150重量份進行混合，而制備硬涂層涂布液(a3)。涂布液(a3)不含膠體氧化鋯。
[0118][參考例I]
[0119](硬涂層(Al)的形成)
[0120]在膜厚125μπι的包含聚對苯二甲酸乙二酯膜(以下稱為PET膜)的透明塑料基材的一面上，以UV硬化后膜厚為0.8μπι的方式，使用棒涂機涂布硬涂層涂布液(al)。將所得的涂膜以80°C干燥30秒后，使用附帶有高壓水銀燈(H08-L41、額定值(rating) 120ff/cm,巖崎電氣(股)制造)的輸送帶式UV照射裝置(艾衣古拉菲(EYE GRAPHICS)公司制造的ECS-801G1)，以照度200mW/cm2、曝光量500mJ/cm2照射紫外線，而形成硬涂層(Al)。曝光量是通過照度計(UVPF-Al/ro-365，巖崎電氣(股)制造)進行測定。
[0121](硬涂層(BI)的形成)
[0122]在形成有硬涂層(Al)的PET膜的與形成有硬涂層(Al)的面相反側(cè)的面，以UV硬化后膜厚為1.2μπι的方式，使用棒涂機涂布硬涂層涂布液(al)。以下，通過與硬涂層(Al)的形成相同的方法形成。
[0123][參考例2]
[0124](硬涂層(A2)的形成)
[0125]將硬涂層涂布液(al)變更為硬涂層涂布液(a2)，除此以外，進行與參考例I的硬涂層(Al)相同的操作，而形成硬涂層(A2)。硬涂層(A2)的膜厚為0.9 μ m。
[0126](硬涂層(B2)的形成)
[0127]將硬涂層涂布液(al)變更為硬涂層涂布液(a2)，除此以外，進行與參考例I的硬涂層(BI)相同的操作，而形成硬涂層(B2)。硬涂層(B2)的膜厚為1.4μπι。
[0128][參考例3]
[0129](硬涂層(A3)的形成)
[0130]將硬涂層涂布液(al)中所用的丙烯酸系紫外線硬化性樹脂變更為丙烯酸酯系紫外線硬化性樹脂(朋諾(Pelnox)(股)制造:PELTR0N XJC-0563-FL)，除此以外，進行與參考例I的硬涂層(Al)相同的操作，而形成硬涂層(A3)。硬涂層(A3)的膜厚為0.8 μ m。
[0131](硬涂層(B3)的形成)
[0132]將硬涂層涂布液(al)中所用的丙烯酸系紫外線硬化性樹脂變更為丙烯酸酯系紫外線硬化性樹脂(朋諾(股)制造:PELTR0N XJC-0563-FL)，除此以外，進行與參考例I的硬涂層(BI)相同的操作，而形成硬涂層(B3)。硬涂層(B3)的膜厚為1.3μπι。
[0133][參考例4]
[0134](硬涂層(Α4)的形成)
[0135]將硬涂層涂布液(al)中所用的丙烯酸系紫外線硬化性樹脂變更為丙烯酸酯系紫外線硬化性樹脂(東洋油墨(Τ0Υ0 INK)制造(股)制造=L1duras TYT80-01)，除此以外，進行與參考例I的硬涂層(Al)相同的操作，而形成硬涂層(A4)。硬涂層(A4)的膜厚為
0.8 μ m0
[0136](硬涂層(B4)的形成)
[0137]將硬涂層涂布液(al)中所用的丙烯酸系紫外線硬化性樹脂變更為丙烯酸酯系紫外線硬化性樹脂(東洋油墨制造(股)制造=L1duras TYT80-01)，除此以外，進行與參考例I的硬涂層(BI)相同的操作，而形成硬涂層(B4)。硬涂層(B4)的膜厚為1.5μπι。
[0138][比較例I]
[0139](硬涂層(Β5)的形成)
[0140]在參考例I中不設(shè)置硬涂層(Al)，除此以外，進行與參考例I相同的操作，而形成硬涂層(Β5)。硬涂層(Β5)的膜厚為1.5μπι。
[0141][比較例2]
[0142](硬涂層(Α6)的形成)
[0143]將硬涂層涂布液(al)變更為硬涂層涂布液(a3)，除此以外，進行與參考例I的硬涂層(Al)相同的操作，而形成硬涂層(A6)。硬涂層(A6)的膜厚為0.8 μ m。
[0144](硬涂層(B6)的形成)
[0145]將硬涂層涂布液(al)變更為硬涂層涂布液(a3)，除此以外，進行與參考例I的硬涂層(BI)相同的操作，而形成硬涂層(B6)。硬涂層(B6)的膜厚為1.3μπι。
[0146][參考例I~參考例4、比較例I~比較例2共通]
[0147](S12/透明介電層的形成)
[0148]參考例I~參考例4及比較例I~比較例2的透明介電層，是在硬涂層(Al)~硬涂層(Α6)上，使用Si靶材料在氬氣及氧氣的混合氣體環(huán)境下，通過反應(yīng)性濺鍍法而形成。而獲得膜厚30nm、折射率1.45的S12的薄膜。
[0149](ΙΤ0/透明導(dǎo)電體層的形成)
[0150]接著，在透明介電層上使用氧化銦98質(zhì)量％、氧化錫2質(zhì)量％的靶，通過濺鍍法而形成透明導(dǎo)電體層。獲得膜厚30nm的ITO膜。接著，在ITO膜上形成經(jīng)特定圖案化的光阻膜后，浸潰于鹽酸(muriatic acid)溶液中，進行ITO膜的蝕刻，而進行圖案的形成。在ITO膜的圖案化后，將該ITO膜在150°C、90分鐘的條件下進行加熱處理，而使ITO膜部分結(jié)晶化，而獲得參考例1~參考例4、比較例I~比較例2的透明導(dǎo)電性膜。
[0151]圖7表示參考例1~參考例4、比較例1~比較例2的ITO透明導(dǎo)電性膜的層構(gòu)成。另外，表1表示參考例I~參考例4、比較例1~比較例2的ITO透明導(dǎo)電性膜的實驗結(jié)果。
[0152][表 1]
[0153]
【權(quán)利要求】
1.一種透明導(dǎo)電性膜，其具備:由膜狀高分子樹脂形成的透明的基材； 層疊于所述基材的一面上的第I硬涂層；以及 層疊于所述第I硬涂層的上側(cè)的第I透明導(dǎo)電體層， 所述基材具有2 μ m?250 μ m的膜厚， 所述第I硬涂層是由含有無機氧化物的硬化性樹脂形成，且具有0.01 μ m以上且小于0.5 μ m、或超過6 μ m且10 μ m以下的膜厚， 所述第I透明導(dǎo)電體層是由選自由無機氧化物、金屬、碳所組成的組群中的至少I種形成，具有1nm?2μπι的膜厚，且經(jīng)圖案化而形成有圖案部與非圖案部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電性膜，其中所述第I硬涂層所含有的無機氧化物的粒徑是體積平均粒徑為1nm?10nm的微粒子，所述第I硬涂層中含有5重量％?95重量％的無機氧化物。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的透明導(dǎo)電性膜，其中具備層疊于所述第I硬涂層與所述第I透明導(dǎo)電體層之間的第I透明介電層； 所述第I透明介電層是由無機物形成，且具有1nm?10nm的膜厚。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的透明導(dǎo)電性膜，其中所述第I硬涂層的折射率為1.40?1.90 ;在具有所述第I透明介電層的情況下，所述第I透明介電層的折射率為1.30 ?1.50。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項所述的透明導(dǎo)電性膜，其中所述基材是由選自由聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、三乙酰纖維素、及聚碳酸酯所組成的組群中的至少I種形成， 形成所述第I硬涂層的硬化性樹脂為紫外線硬化性樹脂， 所述第I透明導(dǎo)電體層是由選自由氧化銦錫、氧化銦鋅、添加鎵的氧化鋅、添加鋁的氧化鋅、銀、銅、碳所組成的組群中的至少I種形成； 在具有所述第I透明介電層的情況下，所述第I透明介電層是由二氧化硅形成。
6.一種圖像顯示裝置，其具備:具有如權(quán)利要求1-5中任一項所述的透明導(dǎo)電性膜的觸控面板； 設(shè)置于所述透明導(dǎo)電性膜的基材側(cè)的圖像面板。
7.一種圖像顯示裝置，其具備:通過接觸而進行輸入的觸控面板； 顯示影像的圖像面板； 具有如權(quán)利要求1-5中任一項所述的透明導(dǎo)電性膜，且載置于所述觸控面板與所述圖像面板之間的電磁波屏蔽層。
【文檔編號】B32B9/00GK104040644SQ201280065821
【公開日】2014年9月10日 申請日期:2012年12月21日 優(yōu)先權(quán)日:2012年1月6日
【發(fā)明者】森本芳孝, 田仲拓郎, 大熊康之, 黒松亜紀 申請人:捷恩智株式會社